JP2020169359A - 水素生成システム並びにその運転方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】外部から供給する水の量を低減でき、これによりイオン交換樹脂の量を削減し、水素生成システムのコストを削減した、水素生成システムの提供。【解決手段】水素生成システム100は、原料ガスから水素含有ガスを生成する改質器2と、電解質膜4cの一方の面にアノード4a、他方の面にカソード4bが配置された電解質膜−電極接合体を有し、アノード4aに水素含有ガスを供給し、アノード4aとカソード4bとの間に所定方向の電流を流すことで、カソード4bにおいて精製水素ガスを生成する電気化学デバイス4とを有する。電気化学デバイス4にて精製水素ガスを生成する際に、加湿手段9によって精製水素ガスまたは水素含有ガスに含まれる水蒸気を原料ガスへと供給することにより、外部から供給する水の量を低減できた。【選択図】図1
Description
本発明は、原料ガスから水素含有ガスを生成する改質器と、水素含有ガスから高純度の精製水素ガスを精製する電気化学デバイスとを備える水素生成システム並びにその運転方法に関するものである。
従来、この種水素生成システム(特許文献1では、水素製造発電システムと記載)は、改質器に原料ガス(特許文献1では、原燃料と記載)と水とを供給する。改質器では、水を水蒸気の状態で原料ガスと改質反応させることで生成した水素含有ガス(特許文献1では、改質ガスと記載)を電気化学デバイス(特許文献1では、燃料電池−イオンポンプ結合体と記載)に導入し、電気化学デバイスに電力を加えることで、カソードに高純度の精製水素ガス(特許文献1では、水素ガスと記載)を精製している(例えば、特許文献1参照)。改質器に供給する水は水素生成システムの外部から供給している。この水には不純物が含まれるため、改質器に供給する前にイオン交換樹脂などで不純物を除去する必要がある。外部からの水の供給量が多いほど、イオン交換樹脂の量が増加する。
図4は、前記公報に記載された従来の水素生成システムのブロック図を示すものである。
図4に示すように、水素生成システム400は、原料ガス供給器1、原料ガス供給経路1a、改質器2、水素含有ガス排出経路3、電気化学デバイス4、アノード4a、カソード4b、電解質膜4c、アノードオフガス経路5、燃焼排ガス経路6、精製水素ガス排出経路7、水供給器50、水供給経路50a、電源70、浄水器80から構成されている。
水素生成システム400において、水素含有ガスから精製水素ガスを精製する方法として、電気化学反応を利用する電気化学デバイス4が用いられている。電気化学デバイス4は、例えば、プロトンを選択的に輸送する電解質膜4cの両側に、それぞれアノード4a及びカソード4bを設けた電解質膜−電極接合体(MEA)をセパレータによって挟持している。
アノード4aに水素含有ガスを供給し、アノード4aからカソード4bへ電流を流すことで、アノード4aでは(化1)の酸化反応が、カソード4bでは(化2)の還元反応が起こる。
しかしながら、前記従来の構成では、改質反応を維持するために必要な水のほとんどを外部から水素生成システムへ供給しなければならないため、多くのイオン交換樹脂が必要となり、水素生成システムのコストが高くなるという課題を有していた。
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、加湿手段によって精製水素ガス、または水素含有ガスに含まれる水蒸気を原料ガスへと供給することで、水を外部から供給する量を低減する構成とした水素生成システム並びにその運転方法を提供することを目的とする。
前記従来の課題を解決するために、本発明の水素生成システムは、原料ガスと、水と、から水素含有ガスを生成する改質器と、改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給器と、改質器に水を供給する水供給器と、電解質膜と電解質膜を挟んで一方の面に配置されるアノードと他方の面に配置されるカソードとで構成される電解質膜−電極接合体を有し、アノードに水素含有ガスを供給し、アノードとカソードとの間に所定方向の電流を流すことで、カソードにおいて精製水素ガスを精製する電気化学デバイスと、改質器から生成した水素含有ガスを電気化学デバイスに排出する水素含有ガス排出経路と、電気化学デバイスのアノードとカソードとの間に電流を流すための電源と、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器に供給する加湿手段と、を備えたものである。
これによって、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器に供給する加湿手段を備えることで、精製水素ガス、または水素含有ガスに含まれる水蒸気を原料ガスへと供給し、水を外部から供給する量を低減することとなり、イオン交換樹脂の量を削減し、水素生成システムのコストを低減することとなる。
本発明の水素生成システムは、加湿手段によって精製水素ガス、または水素含有ガスに含まれる水蒸気を改質器へ供給することで、水を外部から供給する量を低減でき、これによって、イオン交換樹脂の量を削減し、水素生成システムのコストを低減できる。さらに、イオン交換樹脂の量を削減することで、水素生成システムを小型化することができる。
第1の発明は、原料ガスと、水と、から水素含有ガスを生成する改質器と、改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給器と、改質器に水を供給する水供給器と、電解質膜と電解質膜を挟んで一方の面に配置されるアノードと他方の面に配置されるカソードとで構成される電解質膜−電極接合体を有し、アノードに水素含有ガスを供給し、アノードとカソードとの間に所定方向の電流を流すことで、カソードにおいて精製水素ガスを精製する電気化学デバイスと、改質器から生成した水素含有ガスを電気化学デバイスに排出する水素含有ガス排出経路と、電気化学デバイスのアノードとカソードとの間に電流を流すための電源と、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器に供給する加湿手段と、を備えたものである。これによって、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器に供給するため、水を外部から供給する量を低減することができる。
第2の発明は、特に、第1の発明の水素生成システムを、改質器に接続され加湿手段から水蒸気を供給する水蒸気供給部と、電気化学デバイスのカソードから精製水素ガスを排出する精製水素ガス排出経路と、を備え、加湿手段は精製水素ガス排出経路に設けられ、加湿手段を流通する精製水素ガスと水蒸気供給部との圧力差を調整する圧力調整手段を有しているものである。これによって、精製水素ガス排出経路から改質器に供給する水蒸気量を制御することで、改質反応において必要な水の一部を水素生成システム内部で賄う量を調整することができる。
第3の発明は、特に、第1の発明の水素生成システムを、改質器に接続され加湿手段から水蒸気を供給する水蒸気供給部を備え、加湿手段は水素含有ガス排出経路に設けられ、加湿手段を流通する水素含有ガスと水蒸気供給部との圧力差を調整する圧力調整手段を有しているものである。これによって、水素含有ガスから改質器に供給する水蒸気量を制御することで、改質反応において必要な水の一部を水素生成システム内部で賄う量を調整することができる。さらに、水素含有ガスは精製水素ガスよりも高温高露点であるため、精製水素ガス排出経路から改質器に水蒸気を供給するよりも、多くの水蒸気を改質器に供給することができる。
第4の発明は、原料ガスと、水と、から水素含有ガスを生成する改質器と、改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給器と、改質器に水を供給する水供給器と、電解質膜と電解質膜を挟んで一方の面に配置されるアノードと他方の面に配置されるカソードとで構成される電解質膜−電極接合体を有し、アノードに水素含有ガスを供給し、アノードとカソードとの間に所定方向の電流を流すことで、カソードにおいて精製水素ガスを精製する電気化学デバイスと、改質器から生成した水素含有ガスを電気化学デバイスに排出する水素含有ガス排出経路と、電気化学デバイスのアノードとカソードとの間に電流を流すための電源と、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器に供給する加湿手段と、を備えた水素生成システムの運転方法であって、加湿手段において精製水素ガスまたは水素含有ガスに含有された水蒸気を改質器に供給する工程、を備えるものである。これによって、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器に供給するため、水を外部から供給する量を低減することができる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、本実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における水素生成システムのブロック図を示すものである。図1において、水素生成システム100は、原料ガス供給器1と、原料ガス供給経路1aと、改質器2と、水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4と、アノードオフガス経路5と、燃焼排ガス経路6と、精製水素ガス排出経路7と、制御部8と、加湿手段9と、圧力計10と、圧力計測器11と、水供給器50と、水供給経路50aと、電源70と、浄水器80と、を備える。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における水素生成システムのブロック図を示すものである。図1において、水素生成システム100は、原料ガス供給器1と、原料ガス供給経路1aと、改質器2と、水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4と、アノードオフガス経路5と、燃焼排ガス経路6と、精製水素ガス排出経路7と、制御部8と、加湿手段9と、圧力計10と、圧力計測器11と、水供給器50と、水供給経路50aと、電源70と、浄水器80と、を備える。
原料ガス供給器1は、所定の圧力の供給圧を有する原料ガスインフラである。原料ガスは、メタンを主成分とした都市ガスを用いる。
原料ガス供給経路1aは、原料ガス供給器1から原料ガスを改質器2へと供給する経路である。
改質器2は、原料ガスおよび水を用いて改質反応により水素含有ガスを生成する。改質器2の内部には改質触媒および加熱器(図示せず)が搭載されている。水は改質器2内部において加熱され、水蒸気となり、改質触媒において原料ガスと反応して水素含有ガスを生成する。
水素含有ガス排出経路3は改質器2によって生成された水素含有ガスを電気化学デバイス4へと供給する経路である。
電気化学デバイス4は、電解質膜4cを挟んでアノード4aとカソード4bとが配置されている。アノード4aに水素含有ガスを供給し、アノード4aからカソード4bへ電流を流すことで、(化1)、(化2)の反応により、アノード4aに供給された水素含有ガスから、水素をカソード4bに移動する。
アノードオフガス経路5は、電気化学デバイス4から排出される未使用の水素含有ガスを改質器2の加熱器の燃焼バーナ―(図示せず)へと供給する経路である。
燃焼排ガス経路6は、改質器2の加熱器の燃焼バーナ―(図示せず)で燃焼した後の燃焼排ガスを水素生成システム100外へ排気する経路である。燃焼排ガス経路6の下流端は水素生成システム100の筐体外に大気開放される。
精製水素ガス排出経路7は、電気化学デバイス4によって精製された精製水素ガスを排出する経路である。
制御部8は、制御機能を有するものであればよく、演算処理部(図示せず)と、制御プログラムを記憶する記憶部(図示せず)とを備える。演算処理部としては、CPUが例示される。記憶部としては、メモリーが例示される。
加湿手段9は、精製水素ガス排出経路7から精製水素ガスに含まれる水蒸気を原料ガス供給経路1aへと供給する中空糸膜の加湿器である。
圧力計10は、精製水素ガス排出経路7において、加湿手段9よりも上流の精製水素ガスが流通する部分の精製水素ガス圧力を計測し、制御部8へ圧力情報を返す。制御部8によって、精製水素ガス排出経路7において、加湿手段9内の精製水素ガスが流通する部分の精製水素ガス圧力を推定する。
圧力計測器11は、原料ガス供給経路1aにおいて、加湿手段9よりも上流の原料ガスが流通する部分の原料ガス圧力を計測し、制御部8へ圧力情報を返す。制御部8によって、原料ガス供給経路1aにおいて、加湿手段9内の原料ガスが流通する部分の原料ガス圧力を推定する。
水供給器50は、水を水素生成システムに供給するための供給器である。
水供給経路50aは、水供給器50から水を改質器2へと供給する経路である。
電源70は、電気化学デバイス4へ所定方向の電流を流してアノード4aの水素をカソード4bへと移動する。所定方向の電流とは、アノード4aから電解質膜4cを介してカソード4bへ流れる電流である。電源70には直流電源を用いる。
浄水器80は、水供給経路50aを流れる水に含まれる不純物を除去するためのイオン交換樹脂である。
以上のように構成された水素生成システム100について、以下その動作、作用を説明する。
まず、水素生成システム100における水素精製動作について説明する。原料ガス供給器1から改質器2に供給された原料ガスは、改質器2において、水供給器50から供給された水が加熱されて変化した水蒸気と混合され、改質器2内部の改質反応により、水素含有ガスとなる。水が加熱されて変化した水蒸気の内、改質器2において、原料ガスと反応しなかった水蒸気は水素含有ガスに含まれることになる。
水素含有ガスは水素含有ガス排出経路3を経て電気化学デバイス4のアノード4aに供給される。アノード4aとカソード4bには電源70から電流が供給され、アノード4aでは(化1)の酸化反応が、カソード4bでは(化2)の還元反応が起こり、水素含有ガスに含まれている水素が精製され、カソード4bの水素純度が所定の水素純度まで高められた精製水素ガスとなり、精製水素ガス排出経路7を経て水素生成システム100外へと排出される。
(化1)、(化2)の反応において水素が電解質膜4cを移動する際、水素含有ガスに含まれる水蒸気も水素に同伴されてカソード4bへ運ばれるため、精製水素ガスには水蒸気が含まれることとなる。
次に加湿手段9を介して精製水素ガスから原料ガスへと移動する水蒸気移動量について述べる。
精製水素ガスの水蒸気分圧をPn(kPa)、原料ガスの水蒸気分圧をPn1(kPa)とする。単位時間当たりに加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気移動量をSn(kg/s)、加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気の透過係数をλn(s)とする。また、加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する際の加湿手段9面積をAn(m2)、加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する際の加湿手段9厚みをLn(m)とする。単位時間当たりに加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気移動量Sn(kg/s)は以下の(数1)で表される。「*」は、乗算を表す記号である。
以上のように、本実施の形態においては水素生成システム100の構成を、原料ガスと、水と、から水素含有ガスを生成する改質器2と、改質器2に原料ガスを供給する原料ガス供給器1と、改質器2に水を供給する水供給器50と、電解質膜4cと電解質膜4cを挟んで一方の面に配置されるアノード4aと他方の面に配置されるカソード4bとで構成される電解質膜−電極接合体を有し、アノード4aに水素含有ガスを供給し、アノード4aとカソード4bとの間に所定方向の電流を流すことで、カソード4bにおいて精製水素ガスを精製する電気化学デバイス4と、改質器2から生成した水素含有ガスを電気化学デバイス4に排出する水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4のアノード4aとカソード4bとの間に電流を流すための電源70と、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器2に供給する加湿手段9と、を備え、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器2に供給することとなり、水を外部から供給する量を低減することができる。
なお、制御部8は、集中制御を行う単独の制御器で構成されていてもよく、互いに協働して、分散制御を行う複数の制御器で構成されていてもよい。
なお、改質器2は改質触媒の後段にCO低減触媒を備えてもよい。
(実施の形態2)
図2は、本発明の実施の形態2における水素生成システムのブロック図を示すものである。図2において、水素生成システム200は、原料ガス供給器1と、原料ガス供給経路1aと、改質器2と、水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4と、アノードオフガス経路5と、燃焼排ガス経路6と、精製水素ガス排出経路7と、制御部8と、加湿手段9と、圧力計10と、圧力計測器11と、圧力調整手段20と、露点温度計30と、水蒸気供給部40と、水供給器50と、水供給経路50aと、電源70と、浄水器80と、を備える。
図2は、本発明の実施の形態2における水素生成システムのブロック図を示すものである。図2において、水素生成システム200は、原料ガス供給器1と、原料ガス供給経路1aと、改質器2と、水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4と、アノードオフガス経路5と、燃焼排ガス経路6と、精製水素ガス排出経路7と、制御部8と、加湿手段9と、圧力計10と、圧力計測器11と、圧力調整手段20と、露点温度計30と、水蒸気供給部40と、水供給器50と、水供給経路50aと、電源70と、浄水器80と、を備える。
実施の形態1と同一構成には同一符号を付与し、その説明は省略する。
圧力調整手段20は、背圧弁であり、精製水素ガス排出経路7における加湿手段9の流通部分よりも下流に設けられ、精製水素ガス排出経路7における加湿手段9の圧力を調整する。
露点温度計30は、精製水素ガス排出経路7における加湿手段9の流通部分の精製水素ガスの露点と温度を計測し、制御部8へ露点と温度の情報を返す。
水蒸気供給部40は、原料ガス供給経路1aの下流端と、改質器2とに接続され、原料ガスと、原料ガスに含まれる水蒸気と、が供給される。
以上のように構成された水素生成システム200について、以下その動作、作用を説明する。
まず、水素生成システム200における水素精製動作について説明する。原料ガス供給器1から水蒸気供給部40を介して改質器2に供給された原料ガスは、改質器2において、水供給器50から供給された水が加熱されて変化した水蒸気と混合され、改質器2の内部の改質触媒の改質反応により、水素含有ガスとなる。改質器2の改質反応において、水が加熱されて変化した水蒸気の内、原料ガスと反応しなかった水蒸気は水素含有ガスに含まれることになる。
水素含有ガスは水素含有ガス排出経路3を経て電気化学デバイス4のアノード4aに供給される。アノード4aとカソード4bには電源70から電流が供給され、アノード4aでは(化1)の酸化反応が、カソード4bでは(化2)の還元反応が起こり、水素含有ガスに含まれている水素が精製され、カソード4bの水素純度が所定の水素純度まで高められた精製水素ガスとなり、精製水素ガス排出経路7を経て水素生成システム200外へと排出される。
(化1)(化2)の反応において発生した水素が電解質膜4cを移動する際、水素含有ガスに含まれる水蒸気も水素に同伴されてカソード4bへ運ばれるため、精製水素ガスには水蒸気が含まれることとなる。
次に加湿手段9を介して精製水素ガスから原料ガスへと移動する水蒸気移動量について述べる。
精製水素ガスの水蒸気分圧をPw(kPa)、原料ガスの水蒸気分圧をPw1(kPa)とする。単位時間当たりに加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気移動量をS(kg/s)、加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気の透過係数をλ(s)とする。また、加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する際の加湿手段9面積をA(m2)、加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する際の加湿手段9厚みをL(m)とする。単位時間当たりに加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気移動量S(kg/s)は以下の(数2)で表される。
さらに、精製水素ガスの水蒸気分圧Pw(kPa)の調整方法について述べる。
圧力計10で計測した精製水素ガスの圧力をPT(kPa)、精製水素ガスに含まれる水蒸気以外のガス成分の分圧をPg(kPa)とすると、精製水素ガスの圧力PT(kPa)はドルトンの法則から、以下の(数3)で表される。
圧力計10で計測した精製水素ガスの圧力をPT(kPa)、精製水素ガスに含まれる水蒸気以外のガス成分の分圧をPg(kPa)とすると、精製水素ガスの圧力PT(kPa)はドルトンの法則から、以下の(数3)で表される。
ドルトンの法則から、圧力調整手段20を用いて、精製水素ガスの圧力PT(kPa)を変化すると、水蒸気を含む全ての気体成分の分圧が影響を受ける。例えば、精製水素ガスの圧力PT(kPa)が2倍になれば、精製水素ガスに含まれる水蒸気以外のガス成分の分圧Pg(kPa)と、精製水素ガスの水蒸気分圧Pw(kPa)と、がそれぞれ2倍となる。ただし、精製水素ガスの水蒸気分圧Pw(kPa)は精製水素ガスの水蒸気分圧の最大圧力Pws(kPa)以下の値となり、精製水素ガスの水蒸気分圧Pw(kPa)が精製水素ガスの水蒸気分圧の最大圧力Pws(kPa)に達すると、精製水素ガスに含まれる水蒸気は凝結して水になる。
例えば、精製水素ガスの圧力PT=101.3(kPa)、露点温度計30で計測した精製水素ガスの温度T1=80℃、露点温度計30で計測した精製水素ガスの露点Tw1=60℃とすると、精製水素ガスの水蒸気分圧Pw(kPa)=19.9(kPa)となる。原料ガスの水蒸気分圧をPw1(kPa)=0(kPa)と仮定すると、単位時間当たりに加湿手段9を介して精製水素ガス排出経路7から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気移動量S(kg/s)は(数2)から以下の(数4)で表される。
以上のように、本実施の形態においては水素生成システム200の構成を、原料ガスと、水と、から水素含有ガスを生成する改質器2と、改質器2に原料ガスを供給する原料ガス供給器1と、改質器2に水を供給する水供給器50と、電解質膜4cと電解質膜4cを挟んで一方の面に配置されるアノード4aと他方の面に配置されるカソード4bとで構成される電解質膜−電極接合体を有し、アノード4aに水素含有ガスを供給し、アノード4aとカソード4bとの間に所定方向の電流を流すことで、カソード4bにおいて精製水素ガスを精製する電気化学デバイス4と、改質器2から生成した水素含有ガスを電気化学デバイス4に排出する水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4のアノード4aとカソード4bとの間に電流を流すための電源70と、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器2に供給する加湿手段9と、を備え、精製水素ガスまたは水素含有ガスと、原料ガスと、の水蒸気分圧差を調整することにより、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器2に供給することとなり、水を外部から供給する量を低減することができる。
なお、制御部8は、集中制御を行う単独の制御器で構成されていてもよく、互いに協働して、分散制御を行う複数の制御器で構成されていてもよい。
なお、改質器2は改質触媒の後段にCO低減触媒を備えてもよい。
なお、水蒸気供給部40は、水が流通してもよく、水配管であってもよい。
(実施の形態3)
図3は、本発明の実施の形態3における水素生成システムのブロック図を示すものである。図3において、水素生成システム300は、原料ガス供給器1と、原料ガス供給経路1aと、改質器2と、水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4と、アノードオフガス経路5と、燃焼排ガス経路6と、精製水素ガス排出経路7と、制御部8と、加湿手段9と、圧力計10と、圧力計測器11と、圧力調整手段21と、露点温度計30と、水蒸気供給部40と、水供給器50と、水供給経路50aと、電源70と、浄水器80と、を備える。
(実施の形態3)
図3は、本発明の実施の形態3における水素生成システムのブロック図を示すものである。図3において、水素生成システム300は、原料ガス供給器1と、原料ガス供給経路1aと、改質器2と、水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4と、アノードオフガス経路5と、燃焼排ガス経路6と、精製水素ガス排出経路7と、制御部8と、加湿手段9と、圧力計10と、圧力計測器11と、圧力調整手段21と、露点温度計30と、水蒸気供給部40と、水供給器50と、水供給経路50aと、電源70と、浄水器80と、を備える。
実施の形態1と同一構成には同一符号を付与し、その説明は省略する。
圧力調整手段21は、水素含有ガスを昇圧するポンプであり、制御部8によって調整した所定圧の水素含有ガスを水素含有ガス排出経路3における加湿手段9の流通部分に供給する。
以上のように構成された水素生成システム300について、以下その動作、作用を説明する。
まず、加湿手段9を介して水素含有ガスから原料ガスへと移動する水蒸気移動量について述べる。
水素含有ガスの水蒸気分圧をPwH(kPa)、原料ガスの水蒸気分圧をPw2(kPa)とする。単位時間当たりに加湿手段9を介して水素含有ガス排出経路3から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気移動量をS2(kg/s)、加湿手段9を介して水素含有ガス排出経路3から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気の透過係数をλ2(s)とする。また、加湿手段9を介して水素含有ガス排出経路3から原料ガス供給経路1aへと移動する際の加湿手段9面積をA2(m2)、加湿手段9を介して水素含有ガス排出経路3から原料ガス供給経路1aへと移動する際の加湿手段9厚みをL2(m)とする。単位時間当たりに加湿手段9を介して水素含有ガス排出経路3から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気移動量S2(kg/s)は以下の(数6)で表される。
さらに、水素含有ガスの水蒸気分圧PwH(kPa)の調整方法について述べる。
圧力計10で計測した水素含有ガスの圧力をPT2(kPa)、水素含有ガスに含まれる水蒸気以外のガス成分の分圧をPg2(kPa)とすると、水素含有ガスの圧力PT2(kPa)はドルトンの法則から、以下の(数7)で表される。
圧力計10で計測した水素含有ガスの圧力をPT2(kPa)、水素含有ガスに含まれる水蒸気以外のガス成分の分圧をPg2(kPa)とすると、水素含有ガスの圧力PT2(kPa)はドルトンの法則から、以下の(数7)で表される。
ドルトンの法則から、圧力調整手段21を用いて、水素含有ガスの圧力PT2(kPa)が変化すると、水蒸気を含む全ての気体成分の分圧が影響を受ける。例えば、水素含有ガスの圧力PT2(kPa)が2倍になれば、水素含有ガスに含まれる水蒸気以外のガス成分の分圧Pg2(kPa)と、水素含有ガスの水蒸気分圧PwH(kPa)と、がそれぞれ2倍となる。ただし、水素含有ガスの水蒸気分圧PwH(kPa)は水素含有ガスの水蒸気分圧の最大圧力Pws2(kPa)以下の値となり、水素含有ガスの水蒸気分圧PwH(kPa)が水素含有ガスの水蒸気分圧の最大圧力Pws2(kPa)に達すると、水素含有ガスに含まれる水蒸気は凝結して水になる。
例えば、水素含有ガスの圧力PT2=101.3(kPa)、露点温度計30で計測した水素含有ガスの温度T2=80℃、露点温度計30で計測した水素含有ガスの露点Tw2=60℃とすると、水素含有ガスの水蒸気分圧PwH(kPa)=19.9(kPa)となる。原料ガスの水蒸気分圧Pw2(kPa)=0(kPa)と仮定すると、単位時間当たりに加湿手段9を介して水素含有ガス排出経路3から原料ガス供給経路1aへと移動する水蒸気移動量S2(kg/s)は(数6)から以下の(数8)で表される。
以上のように、本実施の形態においては水素生成システム300の構成を、原料ガスと、水と、から水素含有ガスを生成する改質器2と、改質器2に原料ガスを供給する原料ガス供給器1と、改質器2に水を供給する水供給器50と、電解質膜4cと電解質膜4cを挟んで一方の面に配置されるアノード4aと他方の面に配置されるカソード4bとで構成される電解質膜−電極接合体を有し、アノード4aに水素含有ガスを供給し、アノード4aとカソード4bとの間に所定方向の電流を流すことで、カソード4bにおいて精製水素ガスを精製する電気化学デバイス4と、改質器2から生成した水素含有ガスを電気化学デバイス4に排出する水素含有ガス排出経路3と、電気化学デバイス4のアノード4aとカソード4bとの間に電流を流すための電源70と、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器2に供給する加湿手段9と、を備え、精製水素ガスまたは水素含有ガスと、原料ガスと、の水蒸気分圧差を調整することにより、精製水素ガスまたは水素含有ガスから水蒸気を改質器2に供給することとなり、水を外部から供給する量を低減することができる。
なお、制御部8は、集中制御を行う単独の制御器で構成されていてもよく、互いに協働して、分散制御を行う複数の制御器で構成されていてもよい。
なお、改質器2は改質触媒の後段にCO低減触媒を備えてもよい。
なお、水蒸気供給部40は、水が流通してもよく、水配管であってもよい。
以上のように、本発明にかかる水素生成システムは、加湿手段によって精製水素ガス、または水素含有ガスに含まれる水蒸気を原料ガスへと供給することにより、水を外部から供給する量を低減することが可能となるので、水に含まれる不純物を除去するために必要なイオン交換樹脂の量を削減できる水素生成システムとして有用であり、水素生成システムの低コスト化等の用途にも適用できる。
100 水素生成システム
200 水素生成システム
300 水素生成システム
400 水素生成システム
1 原料ガス供給器
1a 原料ガス供給経路
2 改質器
3 水素含有ガス排出経路
4 電気化学デバイス
4a アノード
4b カソード
4c 電解質膜
5 アノードオフガス経路
6 燃焼排ガス経路
7 精製水素ガス排出経路
8 制御部
9 加湿手段
10 圧力計
11 圧力計測器
20 圧力調整手段
21 圧力調整手段
30 露点温度計
40 水蒸気供給部
50 水供給器
50a 水供給経路
70 電源
80 浄水器
200 水素生成システム
300 水素生成システム
400 水素生成システム
1 原料ガス供給器
1a 原料ガス供給経路
2 改質器
3 水素含有ガス排出経路
4 電気化学デバイス
4a アノード
4b カソード
4c 電解質膜
5 アノードオフガス経路
6 燃焼排ガス経路
7 精製水素ガス排出経路
8 制御部
9 加湿手段
10 圧力計
11 圧力計測器
20 圧力調整手段
21 圧力調整手段
30 露点温度計
40 水蒸気供給部
50 水供給器
50a 水供給経路
70 電源
80 浄水器
Claims (4)
- 原料ガスと、水と、から水素含有ガスを生成する改質器と、
前記改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給器と、
前記改質器に前記水を供給する水供給器と、
電解質膜と前記電解質膜を挟んで一方の面に配置されるアノードと他方の面に配置されるカソードとで構成される電解質膜−電極接合体を有し、前記アノードに前記水素含有ガスを供給し、前記アノードと前記カソードとの間に所定方向の電流を流すことで、前記カソードにおいて精製水素ガスを精製する電気化学デバイスと、
前記改質器から生成した水素含有ガスを前記電気化学デバイスに排出する水素含有ガス排出経路と、
前記電気化学デバイスの前記アノードと前記カソードとの間に電流を流すための電源と、
前記精製水素ガスまたは前記水素含有ガスから水蒸気を前記改質器に供給する加湿手段と、
を備えた水素生成システム。 - 前記改質器に接続され前記加湿手段から水蒸気を供給する水蒸気供給部と、
前記電気化学デバイスの前記カソードから前記精製水素ガスを排出する精製水素ガス排出経路と、を備え、前記加湿手段は前記精製水素ガス排出経路に設けられ、前記加湿手段を流通する前記精製水素ガスと前記水蒸気供給部との圧力差を調整する圧力調整手段を有している請求項1記載の水素生成システム。 - 前記改質器に接続され前記加湿手段から水蒸気を供給する水蒸気供給部を備え、
前記加湿手段は前記水素含有ガス排出経路に設けられ、前記加湿手段を流通する前記水素含有ガスと前記水蒸気供給部との圧力差を調整する圧力調整手段を有している請求項1記載の水素生成システム。 - 原料ガスと、水と、から水素含有ガスを生成する改質器と、
前記改質器に原料ガスを供給する原料ガス供給器と、
前記改質器に前記水を供給する水供給器と、
電解質膜と前記電解質膜を挟んで一方の面に配置されるアノードと他方の面に配置されるカソードとで構成される電解質膜−電極接合体を有し、前記アノードに前記水素含有ガスを供給し、前記アノードと前記カソードとの間に所定方向の電流を流すことで、前記カソードにおいて精製水素ガスを精製する電気化学デバイスと、
前記改質器から生成した水素含有ガスを前記電気化学デバイスに排出する水素含有ガス排出経路と、
前記電気化学デバイスの前記アノードと前記カソードとの間に電流を流すための電源と、
前記精製水素ガスまたは前記水素含有ガスから水蒸気を前記改質器に供給する加湿手段と、を備えた水素生成システムの運転方法であって、
前記加湿手段において前記精製水素ガスまたは前記水素含有ガスに含有された水蒸気を前記改質器に供給する工程、を備えた水素生成システムの運転方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019071415A JP2020169359A (ja) | 2019-04-03 | 2019-04-03 | 水素生成システム並びにその運転方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019071415A JP2020169359A (ja) | 2019-04-03 | 2019-04-03 | 水素生成システム並びにその運転方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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ID=72747041
Family Applications (1)
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JP2019071415A Pending JP2020169359A (ja) | 2019-04-03 | 2019-04-03 | 水素生成システム並びにその運転方法 |
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Country | Link |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7122545B1 (ja) * | 2021-04-20 | 2022-08-22 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 圧縮装置および圧縮装置の制御方法 |
JP7122546B1 (ja) * | 2021-04-20 | 2022-08-22 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 圧縮装置および圧縮装置の制御方法 |
-
2019
- 2019-04-03 JP JP2019071415A patent/JP2020169359A/ja active Pending
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JP7142230B1 (ja) * | 2021-04-20 | 2022-09-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 圧縮装置および圧縮装置の制御方法 |
JP7142232B1 (ja) * | 2021-04-20 | 2022-09-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 圧縮装置および圧縮装置の制御方法 |
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