JP2020169153A5 - - Google Patents
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Claims (9)
- 下記一般式（１）
下記一般式（２）
次いで、該ビフェニル誘導体と、下記一般式（４）：
（Ｒ６）（Ｒ７）ＰＸ３ （４）
（式中、Ｒ６〜Ｒ７はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基又はヘテロアラルキル基を示し、Ｒ６〜Ｒ７は同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。該アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基は、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。Ｘ３はハロゲン原子を示す。）で表されるハロゲン化ホスフィンとを反応させる第Ｂ工程
とを、有する下記一般式（５）
- 下記一般式（１）
下記一般式（２）
次いで、該ビフェニル誘導体と、臭素化剤又はヨウ素化剤とを反応させて、下記一般式（６）
次いで、該ハロゲン化ビフェニル誘導体をリチオ化し、得られるリチオ化物と、下記一般式（４）：
（Ｒ６）（Ｒ７）ＰＸ３ （４）
（式中、Ｒ６〜Ｒ７はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基又はヘテロアラルキル基を示し、Ｒ６〜Ｒ７は同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。該アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基は、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン基、アルコキシ基で置換されていてもよい。Ｘ３はハロゲン原子を示す。）で表されるハロゲン化ホスフィンとを反応させる第Ｄ工程
とを、有する下記一般式（５）
- 第Ｂ工程は、第Ａ工程からの連続反応で行う請求項１に記載の請求項１に記載のビアリールホスフィンの製造方法。
- 式中のＲ１〜Ｒ３が同一の基であり、且つＲ４〜Ｒ５が同一の基である請求項１乃至３の何れか一項に記載のビアリールホスフィンの製造方法。
- 式中のＲ１〜Ｒ３がｉｓｏ−プロピル基である請求項４に記載のビアリールホスフィンの製造方法。
- 式中のＲ４〜Ｒ５がメトキシ基又はメチル基である請求項４又は５に記載のビアリールホスフィンの製造方法。
- 式中のＲ６〜Ｒ７が同一の基である請求項４記載のビアリールホスフィンの製造方法。
- 式中のＲ６〜Ｒ７が、アダマンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基又はシクロヘキシル基である請求項７に記載のビアリールホスフィンの製造方法。
- 下記一般式（１）
下記一般式（２）
次いで、該ビフェニル誘導体と、臭素化剤又はヨウ素化剤とを反応させる第Ｃ工程とを、
有する下記一般式（６）
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| US17/600,251 US11453687B2 (en) | 2019-04-05 | 2020-03-30 | Production method of biarylphosphine |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2019072470A JP7041092B2 (ja) | 2019-04-05 | 2019-04-05 | ビアリールホスフィンの製造方法 |
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2019
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