JP2020151920A - 単結晶の押さえ治具、ワイヤソー装置、及び、単結晶の切断方法 - Google Patents

単結晶の押さえ治具、ワイヤソー装置、及び、単結晶の切断方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2020151920A
JP2020151920A JP2019051759A JP2019051759A JP2020151920A JP 2020151920 A JP2020151920 A JP 2020151920A JP 2019051759 A JP2019051759 A JP 2019051759A JP 2019051759 A JP2019051759 A JP 2019051759A JP 2020151920 A JP2020151920 A JP 2020151920A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
cutting
saw device
wire saw
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019051759A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7302213B2 (ja
Inventor
安宏 大保
Yasuhiro Oyasu
安宏 大保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP2019051759A priority Critical patent/JP7302213B2/ja
Publication of JP2020151920A publication Critical patent/JP2020151920A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7302213B2 publication Critical patent/JP7302213B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Abstract

【課題】切断中の単結晶の振動を抑制することにより、得られるウエハのうねり、反り、及び厚みのばらつきを抑制すること。【解決手段】単結晶と所定の間隔に配置されるワイヤ列とを相対的に移動させることにより単結晶を複数のウエハに切断するワイヤソー装置を用いて単結晶を切断する際に用いる治具であって、ワイヤソー装置による単結晶の切断中に、切断により形成された複数のウエハ状の部分のそれぞれにおける単結晶の移動方向側の端部に当接する当接部と、弾性体を有し、弾性体の弾性力により当接部を単結晶の移動方向と反対方向に加圧する加圧部と、加圧部を支持する支持部と、を備える単結晶押さえ治具等を提供する。【選択図】図1

Description

本発明は、単結晶の押さえ治具、ワイヤソー装置、及び、単結晶の切断方法に関する。
従来から、単結晶(単結晶インゴット)をウエハに切断する方法としてマルチワイヤソー装置(ワイヤソー装置とも呼ぶ)が知られている。例えば、下記の特許文献1に記載のワイヤソー装置による切断方法においては、3本(もしくは2本)の主軸ローラを有し、主軸ローラ外周には目標とするウエハの厚みに合わせたピッチで溝が形成されていて、一本のワイヤを主軸ローラの溝に沿って巻き回しされたワイヤソー装置を用いる。そして、主軸ローラを回転させてワイヤを走行させるとともに、複数本の単結晶が固定された本体テーブルを動作させて単結晶をワイヤに押し付けることにより、複数本の単結晶を、同時に多数のウエハに切断する。
上記の加工方法では、一定ピッチで並行する複数の極細ワイヤの列(ワイヤ列)に被加工物を押し当て、ワイヤを線方向に送りながら、被加工物とワイヤとの間に砥粒を含む加工液(スラリーともいう)を供給することによって研磨切断する方式と、ダイヤモンドを電着もしくは接着剤によって固定したワイヤを線方向に送りながら、被加工物を研磨切断する方式がある。これらの方法を用いて単結晶から一定の厚さのウエハを多数同時に形成する。
従来の単結晶をウエハに切断する手順では、まず、ワイヤソー装置のスライス台に台座を介して単結晶を接着剤で固定する。その後、単結晶を固定したスライス台をワイヤソー装置に設置する。次に、ワイヤソー装置による単結晶の切断加工を開始し、単結晶を固定したスライス台が加工部へ移動され、単結晶がワイヤにて切断される。この切断では、単結晶に加えて台座を5mm程度まで切断する。切断されたウエハの厚みは0.2〜2mm程度になり、ウエハの端面部分が接着剤のみで保持されている。
特開2001−001248号公報 特開2004−001409号公報 特開2011−009590号公報
上記ワイヤソー装置を用いて単結晶からウエハに切断する際、単結晶の切断が進むと複数のウエハ状の部分が徐々に形成され、単結晶が完全に切断されることにより複数のウエハが形成される。切断中、切断により形成されるウエハ状の部分に振動(ブレ)が生じると、最終的に得られるウエハのうねりや反りの量が大きくなるという問題や、ウエハの厚さ(板厚)にもばらつきが生じるという問題があった。単結晶の切断では、徐々にウエハ状の部分が形成されるが、単結晶は台座側の一方のみで固定されているため、切断により形成されるウエハ状の部分は振動しやすい状態となっている。その結果、得られるウエハのうねり及び反りの量が大きくなり、また、厚さのバラツキが大きくなると考えられる。ウエハのうねり・反りの量が大きくなり、厚さのバラツキが大きくなると、うねり・反り、板厚等が規格外となり、製品として出荷することができず、生産性を悪化させる原因の一つとなっていた。また、上記の単結晶の切断時に振動(ブレ)が生じると、ウエハは小さい接着面積で台座に接着された状態で保持されるため、ウエハの落下や倒れが生じやすくなることもある。
上記したうねり及び反りの量の増加(悪化)、厚みのばらつきを抑制するには、上記した切断中の単結晶の振動を抑制する必要があり、各種の切断方法が開発されている。例えば、下記の特許文献2には、円柱状の単結晶の両端面にダミー板材を当接し、切断する方法が提案されている。この切断方法は、ダミーの板材を当接している近傍では切断中の単結晶の振動を抑制することは可能であるが、切断する単結晶が長尺の場合、ダミーの板材から離れた単結晶の中央付近における振動を抑制することが困難であるという欠点がある。
また、特許文献3においては、切断する単結晶の切断開始する側に樹脂等の補助治具を貼付し、補助治具側から単結晶を切断することで、上記した切断中の単結晶の振動を抑制する方法が提案されている。しかし、この方法では、切断の初期段階における単結晶の振動を抑制することは可能だが、補助治具ごと切断しているため、補助治具を切断した以降は、切断中の単結晶の振動を抑制できないという欠点がある。
そこで、本発明は、上述の問題を解決しようとするもので、切断中の単結晶の振動を抑制することにより、得られるウエハのうねり、反り、及び厚みのばらつきを抑制することを目的とする。
本発明の態様によれば、単結晶と所定の間隔に配置されるワイヤ列とを相対的に移動させることにより単結晶を複数のウエハに切断するワイヤソー装置を用いて単結晶を切断する際に用いる治具であって、ワイヤソー装置による単結晶の切断中に、切断により形成された複数のウエハ状の部分のそれぞれにおける単結晶の移動方向側の端部に当接する当接部と、弾性体を有し、弾性体の弾性力により当接部を単結晶の移動方向と反対方向に加圧する加圧部と、加圧部を支持する支持部と、を備える単結晶押さえ治具が提供される。
また、当接部は、複数のウエハ状の部分に当接する部位が弾性体により形成されてもよい。また、単結晶押さえ治具は、ワイヤソー装置に対して着脱可能に構成されてもよい。また、加圧部による加圧力を所定値以下に規制する規制部を備えてもよい。また、当接部は、単結晶が所定の開始位置前は単結晶に当接せず、単結晶が所定の開始位置より切断された時から切断が完了するまで単結晶に当接して加圧し、所定の開始位置は、単結晶の直径の2/3以下に設定されてもよい。
また、本発明の態様によれば、単結晶と所定の間隔に配置されるワイヤ列とを相対的に移動させることにより単結晶を複数のウエハに切断するワイヤソー装置であって、上記した単結晶押さえ治具を備える、ワイヤソー装置が提供される。
また、本発明の態様によれば、単結晶と所定の間隔に配置されるワイヤ列とを相対的に移動させることにより単結晶を複数のウエハに切断するワイヤソー装置を用いて単結晶を切断する単結晶の切断方法であって、ワイヤソー装置による単結晶の切断中に、切断により形成された複数のウエハ状の部分のそれぞれにおける単結晶の移動方向側の端部を、上記した単結晶押さえ治具により移動方向と反対側に加圧することを含む、単結晶の切断方法が提供される。
本発明の態様によれば、ワイヤソー装置による単結晶の切断中に、切断により形成されたウエハ状の部分を加圧して押さえるため、切断中におけるウエハ状の部分の振動が抑制され、得られるウエハのうねり、反り、及び、厚みのバラツキを抑制することができる。また、本発明の態様によれば、切断後のウエハの落下(もしくは倒れ)を抑制することができる。また、本発明の態様によれば、上記の効果により、ウエハの回収率(歩留まり)を向上させることができる。また、本発明の態様によれば、構成が単純であるので容易に実施することができ、且つ容易に使用することができる。
実施形態に係るワイヤソー装置の一例の概略を示す斜視図である。 ワイヤソー装置の一例の概略を示す正面図である。 単結晶の切断前の状態であり、単結晶が治具に接触する前の状態のワイヤソー装置の動作を示す正面図である。 単結晶の切断中の状態であり、単結晶が治具に接触した直後のワイヤソー装置の動作を示す正面図である。 単結晶の切断後の状態のワイヤソー装置の動作を示す正面図である。 変形例に係る治具の動作の一例を示す側面図であり、単結晶が治具に接触する前の状態を示す。 図6に続いて、単結晶が治具に接触した時の状態を示す。 図7に続いて、規制部が作動した時の状態を示す。 図8に続いて、規制部が作動した後の状態を示す。
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。また、図面においては実施形態を説明するため、一部分を大きく又は強調して記載するなど適宜縮尺を変更して表現している。また、以下の各図において、XYZ座標系を用いて図中の方向を説明する。このXYZ座標系においては、鉛直方向をZ方向とし、水平方向をX方向、Y方向とする。また、X方向、Y方向、及びZ方向のそれぞれについて、適宜、矢印の先の側(方向)を+側(方向)(例、+X側(方向))と称し、その反対側(方向)を−側(方向)(例、−X側(方向))と称す。また、本明細書において、数値等の範囲を「A〜B」と記載した場合、「A以上、B以下」であることを意味する。
[実施形態]
以下、本実施形態の単結晶の切断方法、ワイヤソー装置、及び、単結晶の押さえ治具(以下、「治具」と略す。)について、図面を参照して説明する。
まず、本実施形態に用いるワイヤソー装置の概略について説明する。図1及び図2は、本実施形態に係るワイヤソー装置1の一例の概略を示す図である。図1は斜視図である。図2は−Y側から見た正面図である。
本実施形態に係るワイヤソー装置1は、所定の間隔に配置されるワイヤ列2を備え、円柱状の単結晶Cとワイヤ列2とを相対的に移動させることにより単結晶Cを複数のウエハWに切断する装置である。なお、ワイヤソー装置1において、後述する治具10以外の構成は、公知のワイヤソー装置の構成を用いることができる。以下、ワイヤソー装置1の一例を説明する。
ワイヤソー装置1は、図1及び図2に示すように、スライス台ホルダ3と、スライス台4と、複数のローラR(本例では3つ)と、複数のローラR間に互いに所定の間隔を介して張設されたワイヤ列2と、治具10と、を備える。ワイヤソー装置1は、図1に示すように、単結晶Cを+Z方向又は−Z方向に移動させることにより、ワイヤ列2と単結晶Cとを相対方向に移動させる。ワイヤソー装置1は、ワイヤ列2と単結晶Cとを相対方向に移動させ、単結晶Cをワイヤ列2に押し付けながらワイヤ列2を一方向あるいは往復方向へ走行させることにより、単結晶Cを同時に複数のウエハW(図5参照)に切断加工する。なお、ワイヤソー装置1は、固定された単結晶Cに対してワイヤ列2を移動する構成でもよいし、単結晶C及びワイヤ列2を移動する構成でもよい。
ワイヤソー装置1により加工する単結晶Cは、スライス台ホルダ3とスライス台4を固定したものに、台座5を介して固定される。単結晶Cは、例えば円柱状のインゴットである。単結晶Cは任意のものを用いることができ、例えば、単結晶Cの大きさ、組成等は、特に限定されない。
スライス台ホルダ3は、ワイヤソー装置1に対して着脱可能である。ワイヤソー装置1からスライス台ホルダ3を外すことにより、スライス台ホルダ3に単結晶Cを固定したり、ワイヤソー装置1から切断されたウエハWを取り外すことができる。なお、単結晶Cは、識別のために、この外周面の一部を平面状に研削してオリエンテーションフラット(オリフラとも呼ぶ)の加工が施されてもよい。台座5は、単結晶Cを切断して複数のウエハWに加工する際、単結晶Cを確実に切断するために、ウエハWを切断するとともに、台座5の一部まで切断する。このため、台座5の材質は、樹脂もしくはガラス等が好ましい。台座5の厚み(Z方向の寸法)は、上記したように台座5は切断されるため、5mm程度以上であり、10mm以上の厚さが好ましく、より好ましくは20mm前後である。
スライス台4と台座5との固定、及び、台座5と単結晶Cとの固定は、それぞれ、接着剤にて接着して固定することができる。この際に用いる接着剤は、特に限定されないが、切断後に容易に剥離できるエポキシ系の接着剤を使用することが好ましい。単結晶Cにオリフラがある場合、台座5と単結晶Cとを固定する際、オリフラの面を台座5に接着することにより固定してもよい。オリフラの面を台座5に合わせ接着する場合、単結晶Cの円周面を台座5に接着する場合と比べて、接着する面積が増加するので、より接着が強固となる。
ワイヤソー装置1により単結晶Cを切断加工する際、上記のように単結晶Cを固定したスライス台ホルダ3をワイヤソー装置1に設置し、切断加工をする。単結晶Cは、スライス台ホルダ3、スライス台4、及び台座5を介してワイヤソー装置1に装着される。ワイヤソー装置1では、単結晶Cの中心軸(Y方向と平行な軸)が、ワイヤ列2が走行する方向(X方向)と直交する方向に配置される。
ワイヤソー装置1では、上述のように、駆動装置(図示せず)によりスライス台4が−Z方向(下方)に移動することにより、単結晶CをローラRの駆動によりX方向に走行するワイヤ列2に押し付けることにより、単結晶Cは複数のウエハWに同時に切断される。ワイヤソー装置1では、単結晶Cを徐々に−Z方向に移動させてワイヤ列2により切断する。切断中、単結晶Cには、複数のウエハ状の部分Waが形成される。ウエハ状の部分Waは、後述する図4の状態では、単結晶Cにおけるワイヤ列2よりも−Z側の部分である。ウエハ状の部分Waは、薄板状となる。図4の状態から、さらに単結晶Cを徐々に−Z方向に移動させてワイヤ列2により切断することにより、後述する図5の状態となり単結晶Cは複数のウエハWに切断される。ウエハWの厚さは、例えば0.2mmから1.0mmである。ワイヤ6の径やワイヤ6間のピッチ(図1のY方向におけるワイヤ6間の間隔)等を適宜調整することで、単結晶Cを所定の厚さのウエハWに切断することができる。
次に、治具10について説明する。図3から図5は、ワイヤソー装置1における治具10の部分の拡大図である。図3から図5は、−Y方向から見た正面図である。図3は、単結晶Cの切断前の状態であり、単結晶Cが治具10に接触する前の状態を示す。図4は、単結晶Cの切断中の状態であり、単結晶Cが治具10に接触した直後の状態を示す。図5は、単結晶Cの切断後の状態を示す。
治具10は、ワイヤソー装置1に設置される(図1参照)。治具10は、図3から図5に示すように、ワイヤソー装置1により単結晶Cを切断する際における単結晶Cの移動経路上に設置される。治具10は、ワイヤ列2に対して、切断前の単結晶Cと反対側(図3では−Z側)に設置される。治具10は、切断中の単結晶Cが移動する方向において、ワイヤ列2を超えて設置される。治具10は、ワイヤソー装置1に対して着脱可能である。
治具10は、当接部11と、加圧部12と、支持部13と、を備える。当接部11は、図4及び図5に示すように、ワイヤソー装置1による単結晶Cの切断中に、切断により形成された複数のウエハ状の部分Waのそれぞれにおける単結晶Cの移動方向側(切断時にワイヤ列2に対して移動する方向側、図3では−Z側)の端部に当接する。
当接部11は、切断された単結晶Cの全長(Y方向の全長)を支持するように構成されている。当接部11は、単結晶Cが切断されて形成される複数のウエハ状の部分Waのそれぞれに当接するように構成されている。
当接部11におけるウエハ状の部分Waに当接する当接部位11a(単結晶Cと対向する側の面、図3では+Z側の面)は、平面状、又は、単結晶Cに対応するR形状に形成されている。当接部位の形状がR形状である場合、平面状の構成と比べて、切断されて形成されたウエハ状の部分Waとの接触面積を増加させることができるので、より効果的に保持し、これらの位置ずれ、ブレ、振動(以下、「振動等」と称する場合もある)を抑制することができる。
当接部11の素材(形成材料)は、特に限定されないが、本体部分(当接部以外の部分)は、切断時に研削液など水を使用するので、ステンレスなど錆びにくいものが好ましい。また、上記の当接部位11aは弾性体11bであるのが好ましい。当接部位11aが弾性体11bにより構成される場合、ウエハ状の部分Waが当接部11と接触する際のダメージ(衝撃)を軽減することができる。また、当接部位11aが弾性体11bにより構成される場合、切断されて形成されたウエハ状の部分Waの滑りを抑制して押さえることができ、上記の振動等をさらに効果的に抑制することができる。弾性体11bの素材(形成材料)は、特に限定されないが、例えばシリコンゴムや軟質ゴムである。弾性体11bは、ウエハ状の部分Waに押された時に、各ウエハ状の部分Waを挟み込む(ウエハ状の部分Wa同士の間に挟み込まれる)ことが可能な弾力性を有することが好ましい。このような弾性力としては、例えば、弾性体11bがシリコンゴム等のゴム材料の場合、その硬度が30度から40度であるのが好ましい。
加圧部12は、当接部11に接続され、当接部11を支持する。加圧部12は、弾性体12aを有する。加圧部12は、弾性体12aの弾性力により、当接部11を単結晶Cの移動方向(図5では−Z方向)と反対方向(+Z方向)に加圧する。これにより、本実施形態のワイヤソー装置1(治具10)は、ワイヤソー装置1による単結晶Cとワイヤ列2との相対的な移動により、単結晶Cの切断中に、切断により形成される複数のウエハ状の部分Waにおける単結晶Cの移動方向側の端部に当接部11が当接して単結晶Cの移動方向と反対方向に加圧する。
弾性体12aは例えばバネである。弾性体12aは、当接部11が複数のウエハ状の部分Waを均等な加圧力で加圧するように、当接部11に対して偏りなく配置される。例えば、本実施形態では、図1に示すように、弾性体12aはX方向に2個、Y方向に3個の6個が当接部11に対して均等に配置されている。なお、弾性体12aの数及び配置位置は、上記の例に限定されず、他の態様でもよい。例えば、X方向に3以上の弾性体12aが、Y方向に2列以上設けられてもよい。
加圧部12は、当接部11を支持すると共に、切断により形成されたウエハ状の部分Waと当接部11との密着性を向上させるため、切断終了まで適度な加圧が必要となる。この加圧は、例えば、本実施形態のように、バネの伸縮力(弾性力)を利用することができる。加圧部12がバネ等で構成される場合、徐々に強くなる加圧力でウエハ状の部分Wa押さえることができる。これにより、単結晶Cの切断が進むにつれて大きくなるウエハ状の部分Waのブレ(振動)を、徐々に強くなる加圧力でウエハ状の部分Wa押さえることで、効果的に抑制することができる。弾性体12a(バネ)の素材は、特に限定されないが、当接部11と同様に、錆びにくいものが好ましい。
本実施形態の当接部11は、単結晶Cが所定の開始位置前では単結晶Cに当接せず、単結晶Cが所定開始位置からから切断が完了するまで単結晶Cに当接して加圧して押さえる。上記所定の開始位置は、単結晶Cの直径の2/3以下に設定されるのが好ましく、単結晶Cの直径の1/2以下に設定されるのがより好ましく、単結晶Cの直径の1/3以上1/2以下であるのがさらに好ましい。すなわち、上記当接部11による切断中の単結晶Cの押さえの開始のタイミングは、単結晶Cの直径の2/3が切断される前であるのが好ましく、単結晶Cの直径の1/2が切断される前であるのが好ましい。中でも、単結晶Cが直径の1/3〜1/2の量まで切断される間に、当接部11による押さえを開始するのがより好ましい。直径の2/3を超えて切断された単結晶Cに対して当接部11による押さえを開始した場合、すでに切断された部分に反り等が発生していることがある。単結晶Cが直径の2/3の量、好ましくは直径の1/2の量を超えて切断される前に押さえることで、単結晶Cの切断量が少なく、ウエハ状の部分Waのブレ(振動)が少ない状態で押さえることができるので、安定して単結晶Cの切断を行うことが可能となる。
当接部11による加圧力(単結晶Cを押さえる力)は、切断中のウエハ状の部分Waのブレを抑制する程度であればよい。この加圧力は、切断する単結晶Cの材質、単結晶Cの直径、切断により形成するウエハWの厚み等により適宜設定することができる。例えば、脆性材料であるタンタル酸リチウム(以下LT)単結晶Cのインゴットで、直径がφ100mm、長さ250mm、切断するウエハの厚みが0.3mmの場合、上記の加圧力は5〜20Nであるのが好ましい。
支持部13は、治具10の各部を支持する。支持部13は、ワイヤソー装置1に固定される。本実施形態では、支持部13は、当接部11及び加圧部12を支持する。支持部13は、切断時に位置ずれがないようにワイヤソー装置1に固定される。支持部13(治具10)は、ワイヤソー装置1における切断中に可動しない部分に固定される。この構成の場合、支持部13(治具10)がワイヤソー装置1における切断中に可動する部分に接続(支持)される構成と比べて、構成を簡単にすることができる。例えば、支持部13(治具10)は、本実施形態のように、落下したウエハWを回収するウエハ回収容器8内等に固定されてもよい。支持部13(治具10)をワイヤソー装置1に固定する方法(構成)は、ワイヤソー装置の構成により異なるが、通常、ワイヤソー装置の構成に応じて実施することが可能である。支持部13の素材(形成材料)は、特に限定されないが、当接部11及び加圧部12と同様に、錆びにくいものが好ましい。
上述のように、本実施形態のワイヤソー装置1(治具10)は、ワイヤソー装置1による単結晶Cとワイヤ列2との相対的な移動により、単結晶Cの切断中に、切断により形成される複数のウエハ状の部分Waにおける単結晶Cの移動方向側の端部に当接部11が当接して単結晶Cの移動方向と反対方向に加圧する。本構成により、単結晶Cの切断中に、ウエハ状の部分Waを保持し、これらの振動(ブレ)を抑制することができる。
また、本実施形態のワイヤソー装置1(治具10)は、切断中に、切断により形成されたウエハ状の部分Waの単結晶Cの移動方向側の端部を押さえる(加圧する)ことで、ウエハ状の部分Waは台座5と当接部11との間に挟まれて保持されるので、切断中に落下することを防止できる。また、本実施形態のワイヤソー装置1(治具10)では、単結晶Cの切断後においても、図5に示すように、切断により形成されたウエハWが、上記と同様に台座5と当接部11との間に挟まれて保持されるので、落下や転倒を防止することができる。
本実施形態の治具10は、上述の当接部11、加圧部12、及び支持部13により構成されるので、構成が単純であり容易に実施することができ、また、上述のようにワイヤソー装置1に取り付けて固定するだけで使用できるので、容易に使用することができる。また、本実施形態の治具10は、上述のように、ワイヤソー装置1に対して着脱可能である。この構成により、本実施形態の治具10は、既存のワイヤソー装置に対して取り付けることにより容易に実施及び使用することができ、本実施形態のワイヤソー装置1と独立させて治具10のみの構成として流通させることもできる。
以上の説明のように、本実施形態の治具10は、単結晶Cと所定の間隔に配置されるワイヤ列2とを相対的に移動させることにより単結晶Cを複数のウエハWに切断するワイヤソー装置1を用いて単結晶Cを切断する際に用いる治具であって、ワイヤソー装置1による単結晶Cの切断中に、切断により形成された複数のウエハ状の部分Waのそれぞれにおける単結晶Cの移動方向側の端部に当接する当接部11と、弾性体12aを有し、弾性体12aの弾性力により当接部11を単結晶Cの移動方向と反対方向に加圧する加圧部12と、加圧部12を支持する支持部13と、を備える。また、本実施形態のワイヤソー装置1は、上記の治具10を備える。上述の治具10(ワイヤソー装置1)の構成によれば、上記したように、切断中の単結晶の振動(ブレ)を抑制することができ、得られるウエハのうねり、反り、及び厚みのばらつきの発生を抑制することができる。
次に、本実施形態の単結晶の切断方法について説明する。本実施形態の単結晶の切断方法は、上述の治具10(ワイヤソー装置1)を用いて実施する方法であり、単結晶Cとワイヤ列2とを相対的に移動させることにより単結晶Cを複数のウエハWに切断するワイヤソー装置を用いて単結晶Cを切断する単結晶の切断方法であって、ワイヤソー装置による単結晶Cの切断中に、切断により形成された複数のウエハ状の部分Waのそれぞれにおける単結晶Cの移動方向側の端部を、上記の治具10により、単結晶Cの移動方向と反対側に加圧することを含む。この単結晶の切断方法は、上述の治具10(ワイヤソー装置1)を用いるので、上記したように、切断中の単結晶の振動(ブレ)を抑制することができ、得られるウエハのうねり、反り、及び厚みのばらつきの発生を抑制することができる。
また、本実施形態の治具10、ワイヤソー装置1、及び単結晶の切断方法によれば、切断後のウエハの落下(もしくは倒れ)を抑制することができる。本実施形態の治具10、ワイヤソー装置1、及び単結晶の切断方法によれば、上記の効果により、ウエハの回収率(歩留まり)を向上させることができる。また、本実施形態の治具10、ワイヤソー装置1、及び単結晶の切断方法は、簡単な構成で容易に実施することができ、且つ、容易に使用することができる。また、本実施形態の治具10、ワイヤソー装置1、及び単結晶の切断方法は、タンタル酸リチウム又はニオブ酸リチウムのような脆性の単結晶Cの切断用に好適に用いることができる。
なお、上述の例のように、加圧部12にバネを使用した場合、単結晶Cの切断が進むにつてウエハ状の部分Waに掛かる上記の加圧力は大きくなる。小径の単結晶Cや、ウエハWの厚さが厚い場合は問題ないが、大口径の単結晶CやウエハWの厚さが薄い場合、上記の加圧力が強すぎると倒れや割れ等の不具合が生じることがある。このため、所定以上の加圧力がウエハ状の部分Waに加わらない機構(加圧力が規制される機構)を設けてもよい。この機構が設けられる場合、上記の不具合を抑制することができる。以下、上記の加圧力が規制される機構の一例を説明する。
図6から図9は、変形例に係る治具10Aの一例を示す+X側から見た時の側面図である。図6から図9は、図1のワイヤソー装置1を+X側から見た方向に相当する。図6は、単結晶Cが治具10Aに接触する前の状態の状態を示す。図7は、図6に続く状態であり、単結晶Cが治具10Aに接触した時の状態を示す。図8は、図7に続く状態であり、規制部が作動した時の状態を示す。図9は、図8に続く状態であり、規制部が作動した後の状態を示す。
例えば、変形例に係る治具10Aは、上記した治具10Aに対して、支持部13(第1支持部)、当接部11、加圧部12A、第2支持部16、及び、規制部15を備える。当接部11は、治具10と同様である。加圧部12Aは、治具10と同様に当接部11を加圧する弾性体12aと、弾性体12bと、を備える。弾性体12bはバネで構成される。加圧部12Aは、弾性体12a及び弾性体12bの2段構造により構成されている。弾性体12aは、第2支持部16に設けられ、当接部11に接続される。第2支持部16は、弾性体12bを介して支持部13に接続され、弾性体12bの弾性力により、単結晶Cの移動方向(−Z方向)と反対方向(+Z方向)に、ウエハ状の部分Waを加圧する加圧力を付与する。図7に示す状態において、ウエハ状の部分Waは、弾性体12a及び弾性体12bの弾性力により加圧される。図7に示す状態からさらに切断を進めると、図8に示すように、第2支持部16に設けられてスライス台4の方向に延びる規制部15の先端がスライス台4に当接する。これにより、弾性体12aは、図8に示す状態よりも収縮しなくなくなり、弾性体12aからのウエハ状の部分Waに対する加圧力は規制される。すなわち、規制部15は、弾性体12aの収縮量を所定値以下に規制することにより、上記の加圧力を所定値以下に規制する。図8に示す状態からさらに切断が進むと、図9に示すように、規制部15等の作用により、弾性体12aが収縮せずに、弾性体12bのみが収縮する。この状態において、弾性体12aからのウエハ状の部分Waに対する加圧力は、図8に示す状態と同様となる。なお、加圧力が規制される機構は、上述の例に限定されず、他の構成でもよい。例えば、加圧力が規制される機構は、上記した規制部15がスライス台4側に接続され、第2支持部16に当接するように構成されてもよい。本例の治具10Aは、上述の支持部13(第1支持部)、当接部11、加圧部12A、第2支持部16、及び、規制部15により構成されるので、構成が単純であり容易に実施することができ、また、上述のようにワイヤソー装置1に取り付けて固定するだけで使用できるので、容易に使用することができる。
以下、本発明の実施例について具体的に説明する。なお、本発明は実施例によって何ら限定されるものではない。
[実施例1]
実施例1は、図1に示すワイヤソー装置1(治具10)を用いて、上記した実施形態に係る単結晶の切断方法を実施した。タンタル酸リチウム(以下LT)の大きさφ100mm長さ250mmの単結晶Cを用意した。この単結晶Cをスライス台4に、厚さ20mmの台座5をエポキシ系の接着剤により固定した。その台座5の上に単結晶Cのオリフラ部を台座5の面に合わせて接着剤により固定した。
次に、ワイヤソー装置1のウエハ回収容器8に治具10を設置した。治具10は、ウエハ回収容器8内に、治具10の支持部13をネジ止めすることにより固定した。治具10は、当接部11、加圧部12(バネ)、支持部13の素材(形成材料)はステンレスとし、支持部13の大きさはウエハ回収容器8に収まるように、幅150mm、長さ300mmとした。当接部11の弾性体はシリコンゴムを使用した。
その後、単結晶Cを固定したスライス台4をワイヤソー装置1に取り付け、単結晶Cの切断を開始した。この切断は、得られるウエハWの厚みが0.29mm、ウエハW間のピッチが0.43mmの条件とした。単結晶Cの直径の1/2が切断された時点で、当接部11の弾性体11bが切断により形成されたウエハ状の部分Waに接触させることにより、当接部11による押さえを開始し、この押さえを切断終了まで継続して行った。この時の押さえの力(加圧力)は、10〜20Nであった。
切断終了後、ワイヤソー装置1からスライス台4を取り外し、接着剤を除去し、ウエハWを1枚ずつ回収した。この間、ウエハWの落下は確認されなかった。
ウエハWを回収した後、洗浄作業を行い、ウエハWの反り状態(A方向:切断方向(図1ではZ方向):B方向:ワイヤ列2の走行方向(図1ではX方向))並びに厚さのばらつき(厚み差=「ウエハの最大厚さ」−「ウエハの最小厚さ」)を確認した。ウエハWの反りの量、及び、厚さのばらつき(厚み差)の測定結果を、表1及び表2に示す。なお、表1及び表2に示す結果は、切断された複数のウエハWより18枚抜き取りして測定した結果を示している。
[比較例1]
治具10を使用しない以外は、実施例1と同様に試験を実施した。単結晶Cの切断は問題なく終了した。ただし、単結晶Cの切断後に、ワイヤソー装置1からスライス台4を取り外した際に数枚のウエハWの落下が確認された。その後、接着剤を除去し、ウエハWを回収し、実施例1と同様にウエハWの評価を実施した。この結果を表1及び表2に示す。
Figure 2020151920
Figure 2020151920
上述の実施例及び比較例の結果から、治具10を使用しない場合(比較例1)に対し、治具10を使用した場合(実施例1)の、ウエハWの反りの量は、A方向で25%、B方向で21%の低減が確認された。また、「厚み差」も、標準偏差で比較すると24%の低減が確認された。以上のように、本実施形態の治具10(ワイヤソー装置1)及び単結晶の切断方法は、切断中の単結晶Cの振動(ブレ)を抑制することができ、得られるウエハWのうねり、反り、及び厚みのばらつきを抑制することができる効果が確認された。
なお、本発明の技術範囲は、上述の実施形態などで説明した態様に限定されるものではない。上述の実施形態などで説明した要件の1つ以上は、省略されることがある。また、上述の実施形態などで説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、上述の実施形態などで説明した要件は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において各部材の改良、構造の変更を行ってもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態などで引用した全ての文献の開示を援用して本文の記載の一部とする。
1…ワイヤソー装置
2…ワイヤ列
3…スライス台ホルダ
4…スライス台
5…台座
6…ワイヤ
8…ウエハ回収容器
R…ローラ
C…単結晶
W…ウエハ
Wa…ウエハ状の部分
10、10A…治具
11…当接部
11a…当接部位
11b…弾性体
12、12A…加圧部
12a…弾性体
13…支持部
15…規制部
16…第2支持部

Claims (7)

  1. 単結晶と所定の間隔に配置されるワイヤ列とを相対的に移動させることにより前記単結晶を複数のウエハに切断するワイヤソー装置を用いて前記単結晶を切断する際に用いる治具であって、
    前記ワイヤソー装置による前記単結晶の切断中に、切断により形成された複数のウエハ状の部分のそれぞれにおける前記単結晶の移動方向側の端部に当接する当接部と、
    弾性体を有し、前記弾性体の弾性力により前記当接部を前記単結晶の移動方向と反対方向に加圧する加圧部と、
    前記加圧部を支持する支持部と、を備える単結晶押さえ治具。
  2. 前記当接部は、前記複数のウエハ状の部分に当接する部位が弾性体により形成される、請求項1に記載の単結晶押さえ治具。
  3. 前記単結晶押さえ治具は、前記ワイヤソー装置に対して着脱可能である、請求項1又は請求項2に記載の単結晶押さえ治具。
  4. 前記加圧部による加圧力を所定値以下に規制する規制部を備える、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の単結晶押さえ治具。
  5. 前記当接部は、前記単結晶が所定の開始位置前は前記単結晶に当接せず、前記単結晶が前記所定の開始位置より切断された時から切断が完了するまで前記単結晶に当接して加圧し、
    前記所定の開始位置は、前記単結晶の直径の2/3以下に設定される、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の単結晶押さえ治具。
  6. 単結晶と所定の間隔に配置されるワイヤ列とを相対的に移動させることにより前記単結晶を複数のウエハに切断するワイヤソー装置であって、
    請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の単結晶押さえ治具を備える、ワイヤソー装置。
  7. 単結晶と所定の間隔に配置されるワイヤ列とを相対的に移動させることにより前記単結晶を複数のウエハに切断するワイヤソー装置を用いて前記単結晶を切断する単結晶の切断方法であって、
    前記ワイヤソー装置による前記単結晶の切断中に、切断により形成された複数のウエハ状の部分のそれぞれにおける前記単結晶の移動方向側の端部を、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の単結晶押さえ治具により前記移動方向と反対側に加圧することを含む、単結晶の切断方法。
JP2019051759A 2019-03-19 2019-03-19 単結晶の押さえ治具、ワイヤソー装置、及び、単結晶の切断方法 Active JP7302213B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019051759A JP7302213B2 (ja) 2019-03-19 2019-03-19 単結晶の押さえ治具、ワイヤソー装置、及び、単結晶の切断方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019051759A JP7302213B2 (ja) 2019-03-19 2019-03-19 単結晶の押さえ治具、ワイヤソー装置、及び、単結晶の切断方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020151920A true JP2020151920A (ja) 2020-09-24
JP7302213B2 JP7302213B2 (ja) 2023-07-04

Family

ID=72557231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019051759A Active JP7302213B2 (ja) 2019-03-19 2019-03-19 単結晶の押さえ治具、ワイヤソー装置、及び、単結晶の切断方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7302213B2 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5422829Y2 (ja) * 1975-11-18 1979-08-08
JPH09272122A (ja) * 1996-04-05 1997-10-21 Sumitomo Metal Ind Ltd マルチワイヤソーによる切断方法
JPH11198017A (ja) * 1998-01-14 1999-07-27 Tokyo Seiko Co Ltd ワイヤ式切断加工装置におけるウエハの隙間維持装置および方法
JP2004216549A (ja) * 2003-01-13 2004-08-05 Hct Shaping Systems Sa ワイヤのこ引き装置
JP2011245601A (ja) * 2010-05-28 2011-12-08 Noritake Co Ltd ワイヤソー装置およびワイヤソーによる切断加工方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5422829Y2 (ja) * 1975-11-18 1979-08-08
JPH09272122A (ja) * 1996-04-05 1997-10-21 Sumitomo Metal Ind Ltd マルチワイヤソーによる切断方法
JPH11198017A (ja) * 1998-01-14 1999-07-27 Tokyo Seiko Co Ltd ワイヤ式切断加工装置におけるウエハの隙間維持装置および方法
JP2004216549A (ja) * 2003-01-13 2004-08-05 Hct Shaping Systems Sa ワイヤのこ引き装置
US20040159316A1 (en) * 2003-01-13 2004-08-19 Andreas Muller Wire sawing device
JP2011245601A (ja) * 2010-05-28 2011-12-08 Noritake Co Ltd ワイヤソー装置およびワイヤソーによる切断加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP7302213B2 (ja) 2023-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7284548B2 (en) Cutting method by wire saw and cut workpiece receiving member in wire saw
JP5707889B2 (ja) 半導体基板の切断方法及び半導体基板の切断装置
US9437439B2 (en) Processing method for wafer having chamfered portion along the outer circumference thereof followed by thinning and separating
KR20130092375A (ko) 원기둥 형상 부재의 연마 장치 및 그 연마 방법
JP5541657B2 (ja) 目立てボード
KR102471435B1 (ko) 워크의 절단방법
JP5530815B2 (ja) ドレスボード保持テーブル
JP5636213B2 (ja) 切削加工装置
JP6315471B2 (ja) 板状被加工物の分割方法
JP5806082B2 (ja) 被加工物の切断方法
JP7302213B2 (ja) 単結晶の押さえ治具、ワイヤソー装置、及び、単結晶の切断方法
JP7176327B2 (ja) ウエハの製造方法、及び、ウエハの押さえ治具
JPH09272122A (ja) マルチワイヤソーによる切断方法
JP2003159642A (ja) ワーク切断方法およびマルチワイヤソーシステム
JP6953788B2 (ja) ウエハの製造方法、及び押さえ治具
KR101040811B1 (ko) 연마패드 압착장치
JP5417894B2 (ja) インゴット切断装置、インゴット切断方法及びインゴット切断装置の切断テーブルの管理方法
JP6926864B2 (ja) 単結晶の切断方法、固定冶具、及び、単結晶基板の製造方法
JP7302295B2 (ja) 薄板の製造方法、マルチワイヤソー装置、及びワークの切断方法
JP6617721B2 (ja) インゴット切断装置
JP4106130B2 (ja) 硬脆材料の切断方法及び内周刃切断装置
JP2551229B2 (ja) マルチワイヤソーによる切断方法およびその装置
EP4191640A1 (en) Wafer production method and wafer production machine
JPH0596461A (ja) マルチワイヤソーによる切断方法
JP6454454B2 (ja) クランプ治具及びワーク研磨方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220303

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221115

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20221116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221122

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20221128

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230118

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230523

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230605

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7302213

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150