JP2020148659A - 計測装置 - Google Patents

計測装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2020148659A
JP2020148659A JP2019047109A JP2019047109A JP2020148659A JP 2020148659 A JP2020148659 A JP 2020148659A JP 2019047109 A JP2019047109 A JP 2019047109A JP 2019047109 A JP2019047109 A JP 2019047109A JP 2020148659 A JP2020148659 A JP 2020148659A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
loading
measurement
principal component
unit
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2019047109A
Other languages
English (en)
Inventor
太郎 塩川
Taro Shiokawa
太郎 塩川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kioxia Corp
Original Assignee
Kioxia Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kioxia Corp filed Critical Kioxia Corp
Priority to JP2019047109A priority Critical patent/JP2020148659A/ja
Priority to US16/561,473 priority patent/US11506536B2/en
Publication of JP2020148659A publication Critical patent/JP2020148659A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0205Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0208Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using focussing or collimating elements, e.g. lenses or mirrors; performing aberration correction
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0205Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0224Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using polarising or depolarising elements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0264Electrical interface; User interface
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21Polarisation-affecting properties
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/314Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry with comparison of measurements at specific and non-specific wavelengths
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F11/00Error detection; Error correction; Monitoring
    • G06F11/30Monitoring
    • G06F11/3003Monitoring arrangements specially adapted to the computing system or computing system component being monitored
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/18Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
    • G01J2003/1828Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating with order sorter or prefilter
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21Polarisation-affecting properties
    • G01N21/211Ellipsometry
    • G01N2021/213Spectrometric ellipsometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/129Using chemometrical methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Computing Systems (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

【課題】一つの実施形態は、計測の信頼性を容易に向上できる計測装置を提供することを目的とする。【解決手段】一つの実施形態によれば、計測部と制御部とを有する計測装置が提供される。計測部は、サンプルから応答を得る。制御部は、ローディングと評価用ローディングとを比較する。ローディングは、予め主成分分析して求められている。評価用ローディングは、サンプルから得た応答を主成分分析して求められる。制御部は、比較結果に応じて、主成分分析を用いた計測に対する信頼性指標を生成する。【選択図】図3

Description

本実施形態は、計測装置に関する。
計測装置では、予め主成分分析してローディング及び回帰係数を求めておき、サンプルを計測して応答を得た際に、そのローディング及び回帰係数(回帰モデル)を用いて計測値を得ることがある。このとき、計測の信頼性を向上することが望まれる。
米国特許出願公開2015/0219446号明細書 米国特許5121337号明細書 米国特許6268226号明細書
一つの実施形態は、計測の信頼性を容易に向上できる計測装置を提供することを目的とする。
一つの実施形態によれば、計測部と制御部とを有する計測装置が提供される。計測部は、サンプルから応答を得る。制御部は、ローディングと評価用ローディングとを比較する。ローディングは、予め主成分分析して求められている。評価用ローディングは、サンプルから得られた応答を主成分分析して求められる。制御部は、比較結果に応じて、主成分分析を用いた計測に対する信頼性指標を生成する。
図1は、実施形態にかかる計測装置の構成を示す図である。 図2は、実施形態にかかる計測部の構成及び動作を示す図である。 図3は、実施形態における計測方法を示すシーケンス図である。 図4は、実施形態の一例におけるローディングの比較処理を示す図である。 図5は、実施形態における信頼性判定処理を示す図である。 図6は、実施形態における計測方法を示すフローチャートである。 図7は、実施形態の変形例におけるローディングの比較処理を示す図である。 図8は、実施形態の変形例における計測方法を示すフローチャートである。
以下に添付図面を参照して、実施形態にかかる計測装置を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではない。
(実施形態)
実施形態にかかる計測装置は、例えば、サンプルに光、X線、電子線等を入射しての計測により応答(例えば、サンプルから観測されるスペクトル)を取得し、リファレンスデータを用いてその応答に応じた計測値を求める装置である。この応答は相対的な情報を示しているので、計測値として絶対的な情報を得るために、基準値を示すリファレンスデータが用いられる。このリファレンスデータは、一般に物理解析等により得ることが多く、取得するために時間と費用がかかることが多い。
効率的な計測を行うためには、物理解析によるリファレンスデータの代わりに数値シミュレーションの結果を用いることが考えられる。数値シミュレーションによって得られた応答と、実際のサンプルから得られた応答を比較し、実際のサンプルから得られた応答と最も近い数値シミュレーションの応答を与えるシミュレーション上のパラメータ(例えば、寸法の計測であれば、寸法)が実際のサンプルのパラメータと近いと推測される。これにより、物理解析によるリファレンスデータの数を減らすことが出来る。
数値シミュレーションを用いる計測と比較し、精度を向上させる手段として、多変量解析の分野で利用される主成分分析(PCA:Principal Component Analysis)及び主成分回帰(PCR:Principal Component Regression)を計測に適用することが考えられる。主成分分析(PCA)では、応答、例えばスペクトルのデータに乗算して主成分を求めるための係数ベクトルとしてローディングを求め、主成分回帰(PCR)では、ローディングにより求められる主成分とリファレンスデータとを用いて回帰係数(回帰モデル)を求める。実際の計測では、そのローディング及び回帰係数(回帰モデル)を用いて、計測スペクトルから計測値を得る。この計測値を求めるまでの一連の流れの中に、計測値の信頼性を確認するための指標が原理的に存在しない。そのため、計測装置による計測が誤測であるかどうかの判断が困難である。
そこで、本実施形態では、計測装置において、モデル作成時に予め求めたローディングと計測サンプルのスペクトルから求めた評価用ローディングとを比較し、比較結果に応じて信頼性指標を生成することで、主成分分析を用いた計測における信頼性評価を可能にする。
具体的には、計測装置1は、図1に示すように構成され得る。図1は、計測装置1の構成を示す図である。
計測装置1は、入力部10、計測部20、出力部30、制御部40、及び記憶部50を有する。
制御部40は、計測装置1が起動されると、記憶部50に格納された計測プログラム54を読み出し、計測プログラム54に従って、計測装置1の各部を統括的に制御する。
入力部10は、外部から情報を取得するためのインターフェースであり、キーボード・マウスなどの入力インターフェースを含んでもよいし、ディスク媒体又はメモリカードなどが着脱可能な媒体インターフェースを含んでもよいし、通信回線を経由して情報を受信するための受信インターフェースを含んでもよい。
出力部30は、所定の情報を出力するためのインターフェースであり、ディスプレイなどの視覚的手段で出力する出力インターフェースを含んでもよいし、スピーカなどの聴覚的手段で出力する出力インターフェースを含んでもよいし、通信回線を経由して情報を送信するための送信インターフェースを含んでもよい。
計測部20は、制御部40による制御のもと、計測を行い、サンプルの応答を取得する。計測部20は、リファレンスデータを用いるような計測を行う。計測部20が行う計測として、OCD(Optical Critical Dimension)計測、X線回折などを挙げることができる。例えば、計測部20は、図2(a)に示すように構成される。図2(a)は、計測部20の構成を示す図であり、OCD計測を行う場合の構成を例示している。
計測部20は、ステージ21、投射器22、及び検出器23を有する。ステージ21は、計測サンプル(例えば、基板)MSを載置する。ステージ21は、制御部40による制御のもと、図示しない駆動機構によって載置面21aに平行な方向に移動可能であり、載置面21aに平行な面内で回転可能である。
計測サンプルMSには、所定の形状を有する構造部(パターン)が二次元的に周期的に配置されていてもよい。構造部は、周期構造を構成する単位構造である。構造部として、ホールパターン、ピラーパターンなどが例示される。
投射器22は、光源及び偏光子を有する。投射器22は、制御部40による制御のもと、波長(又は位相)を変化させながら光源で光を発生させ、発生した光を偏光子で所定の偏光状態に調整して計測サンプル(例えば、基板)MSに入射させる。その入射光は、計測サンプル(例えば、基板)MSの表面等で反射する。
検出器23は、検光子及び分光器を有する。検出器23は、制御部40による制御のもと、検光子で所定の偏光成分を透過させ分光器で分光することなどにより、光強度をスペクトルとして検出する。
計測部20で取得されるスペクトルは、図2(b)に示すように、スペクトル強度が多数の装置パラメータ(例えば、多数の波長)に関連付けられた形で得られる。図2(b)は、計測部20の動作を示す図であり、このスペクトルからサンプルMSの形状寸法が算出され得る。
図1に戻って、制御部40は、計測部20による計測を制御することに加えて、主成分分析(PCA)及び主成分回帰(PCR)に関連した処理を行う。制御部40は、第1の分析部41、第2の分析部42、比較部43、判定部44、エラー報知部45、及び計算部46を有する。
主成分分析(PCA)とは、多数の装置パラメータを主成分と呼ばれる少数の変数に集約する分析である。第1の分析部41は、計測部20を制御して、図3にSQ1として示すように、モデル作成用のサンプル(例えば、基板)MS’における複数箇所について装置パラメータ(波長)毎のスペクトルを取得する。図3は、計測方法を示すシーケンス図である。第1の分析部41は、図3にSQ2として示すように、その複数のスペクトルに対して主成分分析(PCA)を行い、装置パラメータ(波長)毎のスペクトル強度に対して例えば、最もばらつきが大きくなるように係数を求め、求められた係数を乗算して線形結合させた変数を第1主成分とする。第1主成分について求められた各係数を含む係数ベクトル(第1ローディング)は、予め、計測装置に設定され得る。
例えば、nを任意の3以上の整数とするとき、装置パラメータλ,λ,・・・,λのそれぞれについて、モデル作成用のサンプルMS’における複数箇所に対するスペクトル強度を変数x’,x’,・・・,x’で表す。このスペクトル強度の集まりをデータベクトルx’と呼ぶことにする。第1の分析部41は、複数箇所の各スペクトル強度x’,x’,・・・,x’に対してできるだけ情報を多く含むように線形結合させるための係数p1,1,p1,2,・・・,p1,nを求める。この係数の集まり(すなわち、係数ベクトル)を第1ローディングpと呼ぶことにする。第1の分析部41は、求められた第1ローディングpを第1ローディング情報51として記憶部50に格納する。
このとき、第1主成分をPCとすると、第1主成分PCは、次の数式1にしめすように、第1ローディングpをデータベクトルx’に乗算させて表され得る。
PC=p・x’=p1,1’+p1,2’+・・・+p1,n’・・・数式1
第1の分析部41は、第1主成分PCと相関しないように(すなわち、第1主成分PCに直交するように)しながら、複数箇所の各スペクトル強度x’,x’,・・・,x’に対してできるだけ情報を多く含むように線形結合させるための係数p2,1,p2,2,・・・,p2,nを求める。この係数の集まり(すなわち、係数ベクトル)を第2ローディングpと呼ぶことにする。第1の分析部41は、求められた第2ローディングpを第2ローディング情報52として記憶部50に格納する。
このとき、第2主成分をPCとすると、第2主成分PCは、次の数式2にしめすように、第2ローディングpをデータベクトルx’に乗算させて表され得る。
PC=p・x’=p2,1’+p2,2’+・・・+p2,n’・・・数式2
この例では、n個のスペクトル強度の変数x’,x’,・・・,x’が2個の主成分PC,PCに変数変換される場合(すなわち、変数x’,x’,・・・,x’のn次元座標空間が主成分PC,PCの2次元座標空間に座標変換される場合)を例示している。
主成分回帰(PCR)とは、主成分の値と実際の値を示すリファレンスデータとを用いて重回帰分析を行い、回帰モデルを作成することである。実際の値を示すリファレンスデータは、予め、入力部10を介して外部から取得され、リファレンスデータ53として記憶部50に格納され得る。第1の分析部41は、計測部20を制御して、図3にSQ3として示すように、実際の値を示すリファレンスデータを記憶部50から読み出して取得する。例えば計測部20の計測がOCD計測である場合、リファレンスデータは、モデル作成用のサンプルMS’に対して断面SEM解析を行って求めた実際の形状寸法であってもよい。第1の分析部41は、リファレンスデータを目的変数yとし、モデル作成用サンプルの主成分PC,PCの値を説明変数として、重回帰分析を行い、回帰係数c、cを求める。例えば、主成分PC,PCの2次元座標空間上に、サンプルMS’における複数箇所のそれぞれを示す点をプロットし、最小二乗法等により近似して得られる直線に対応した値として回帰係数c、cを求める。これにより作成される回帰モデルは、次の数式3で表され得る。第1の分析部41は、作成された回帰モデルを回帰モデル情報55として記憶部50に格納する。
y=c・PC+c・PC・・・数式3
これにより、計測装置1における主成分分析(PCA)及び主成分回帰(PCR)を用いた計測の準備ができたことになる。例えば、計算部46は、図3にSQ4として示すように、計測サンプルMSにおける注目箇所について装置パラメータ(波長)毎のスペクトルを取得する。装置パラメータλ,λ,・・・,λのそれぞれについて、サンプルMSにおける注目箇所に対するスペクトル強度を変数x,x,・・・,xで表す。このスペクトル強度の集まりをデータベクトルxと呼ぶことにする。計算部46は、図3にSQ5として示すように、SQ2で求めたローディングpを用いてデータベクトルxを主成分PCに変数変換する。計算部46は、図3にSQ6として示すように、SQ3で求めた回帰モデルを適用して計測値を求める。これにより、計算部46は、図3にSQ7として示すように、計測値yを得る。図3に示されるように、SQ4〜SQ7までの一連の流れの中に、計測値の信頼性を確認するための指標が原理的に存在しない。そのため、計測装置1による計測が誤測であるかどうかの判断が困難である。
それに対して、第2の分析部42は、図3にSQ11として示すように、計測サンプルMSにおける複数個所について装置パラメータ(波長)毎のスペクトルを取得する。第2の分析部42は、図3にSQ12として示すように、その複数のスペクトルに対して主成分分析(PCA)を行い、装置パラメータ(波長)毎のスペクトル強度に対して例えば、最もばらつきが大きくなるように係数を求め、求められた係数を乗算して線形結合させた変数を第1主成分とする。
例えば、装置パラメータλ,λ,・・・,λのそれぞれについて、サンプルMSにおける複数箇所に対するスペクトル強度を変数xe1,xe2,・・・,xenで表す。このスペクトル強度の集まりをデータベクトルxと呼ぶことにする。第2の分析部42は、複数箇所の各スペクトル強度xe1,xe2,・・・,xenに対してできるだけ情報を多く含むように線形結合させるための係数pe1,1,pe1,2,・・・,pe1,nを求める。この係数の集まり(すなわち、係数ベクトル)を評価用第1ローディングpe1と呼ぶことにする。第2の分析部42は、求められた評価用第1ローディングpe1を比較部43へ供給する。
このとき、第1主成分をPCe1とすると、第1主成分PCe1は、次の数式4にしめすように、評価用第1ローディングpe1をデータベクトルxに乗算させて表され得る。
PC=pe1・x=pe1,1e1+pe1,2e2+・・・+pe1,nen・・・数式4
第2の分析部42は、第1主成分PCe1と相関しないように(すなわち、第1主成分PCe1に直交するように)しながら、複数箇所の各スペクトル強度xe1,xe2,・・・,xenに対してできるだけ情報を多く含むように線形結合させるための係数pe2,1,pe2,2,・・・,pe2,nを求める。この係数の集まり(すなわち、係数ベクトル)を評価用第2ローディングpe2と呼ぶことにする。第2の分析部42は、求められた評価用第2ローディングpe2を比較部43へ供給する。
このとき、第2主成分をPCe2とすると、第2主成分PCe2は、次の数式5にしめすように、評価用第2ローディングpe2をデータベクトルxに乗算させて表され得る。
PCe2=pe2・x=pe2,1e1+pe2,2e2+・・・+pe2,nen・・・数式5
比較部43は、第1の分析部41から取得されたローディングpと第2の分析部42から取得された評価用ローディングpeiとを比較し、比較結果に応じて、主成分分析を用いた計測に対する信頼性指標を生成する。比較部43は、ローディングpと評価用ローディングpeiとの一致度を信頼性指標として求める。例えば、比較部43は、次の数式6に示すように、ローディングpと評価用ローディングpeiとの間の平均平方二乗誤差RMSE(Root Mean Square Error)を、両者の一致度として求めてもよい。
Figure 2020148659
数式6において、nは、図3のSQ1又はSQ11で取得された装置パラメータ(波長)の数を表す。
あるいは、比較部43は、次の数式7に示すように、ローディングpと評価用ローディングpeiとの間の相関係数CC(Correlation Coefficient)を、両者の一致度として求めてもよい。
Figure 2020148659
数式7において、nは、図3のSQ1又はSQ11で取得された装置パラメータ(波長)の数を表す。pei ̄は、評価用ローディングpeiの各要素の平均を表す。p ̄は、ローディングpの各要素の平均を表す。
図4は、例えば平均平方二乗誤差RMSEを使用した場合について、実施形態の一例におけるローディングの比較処理を示す図である。比較部43は、図4(a)に示すモデル作成時の第1ローディングpと図4(b)に示す計測サンプル(1)の計測で得られた評価用第1ローディングpe1とを比較し、比較結果に応じて、図4(d)の左図に示される一致度を信頼性指標として求める。
また、比較部43は、図4(a)に示すモデル作成時の第1ローディングpと図4(c)に示す計測サンプル(2)の計測で得られた評価用第1ローディングpe1とを比較し、比較結果に応じて、図4(d)の右図に示される一致度を信頼性指標として求める。
図4(d)に示されるように、計測サンプル(1)による評価では、モデル作成時の第1ローディングpにより計測の信頼性が比較的高いのに対して、計測サンプル(2)による評価では、モデル作成時の第1ローディングpにより計測の信頼性が比較的低くなっている。すなわち、計測サンプル(2)による評価が行われた時点で、計測の信頼性が低下していることを判定して、モデルを作成し直すトリガーとすることが考えられる。
そのため、比較部43は、求められた信頼性指標(すなわち、一致度)を判定部44へ供給する。判定部44は、信頼性指標(すなわち、一致度)が閾値より低いか否か判定する。
この閾値は、例えば、図5に示すように決められ判定部44に設定され得る。図5は、信頼性判定処理を示す図である。図5において、縦軸は、計測値と実際の値との一致度を示し、横軸は、信頼性指標(すなわち、モデル作成時のローディングと計測サンプルの計測で得られた評価用ローディングとの一致度)を示す。計測値と実際の値との一致度は、例えば、断面SEM解析を行って求めた実際の形状寸法と計算部46で求められた計測値yとの間の相関係数CC’により求められ得る。nを任意の2以上の整数とし、実際の値と計測値との組を(x,y),(x,y),・・・(x,y)とすると、相関係数CC’は、次の数式8で求められ得る。
Figure 2020148659
数式8において、Nは、計測値と実際の値とのそれぞれの個数を表す。x ̄は、実際の値の平均を表す。y ̄は、計測値の平均を表す。
図5では、評価を行いプロットされた点に対して近似的に求められた曲線が実線で示されている。この曲線の変化に基づき、試作段階等のマージンを緩く設けるべき場合に、緩めの閾値RMth2が判定部44に設定され得る。また、量産段階等のマージンを厳しく設けるべき場合に、厳しめの閾値RMth1が判定部44に設定され得る。
判定部44は、信頼性指標(すなわち、一致度)が閾値より低いか否か判定し、判定結果をエラー報知部45及び計算部46へ供給する。
判定部44の判定結果により信頼性指標(すなわち、一致度)が閾値より低いことが示される場合、エラー報知部45は、出力部30を介して、エラー情報を報知する。エラー情報の報知は、視覚的な手段で行われてもよいし、聴覚的な手段で行われてもよい。視覚的な手段は、例えば、出力部30のディスプレイ上にエラーメッセージを表示することでもよいし、アラームランプを点灯又は点滅させることでもよい。聴覚的な手段は、例えば、出力部30のスピーカからエラーメッセージを音声で出力させることでもよいし、ブザーを鳴らすことでもよい。これにより、ユーザは計測の信頼性が低下していることを認識でき、モデルを作成し直すようにユーザに促すことができる。
判定部44の判定結果により信頼性指標(すなわち、一致度)が閾値以上であることが示される場合、計算部46は、図3のSQ4〜SQ7の手順で計測値yを計算する。これにより、信頼性が許容範囲内に確保された状態で計測値yを得ることができる。
次に、計測装置1による計測の流れについて図6を用いて説明する。図6は、計測方法を示すフローチャートである。
計測装置1は、図3のSQ1〜SQ3の手順で主成分回帰モデルを作成し(S1)、ローディングの情報と回帰モデルの情報とを記憶部50に記憶する(S2)。計測装置1は、計測サンプルを計測すべきタイミングまで待機し(S3でNo)、計測サンプルを計測すべきタイミングになると(S3でYes)、計測部20により計測スペクトルを取得する(S4)。計測装置1は、計測スペクトルに対して主成分分析を行い、評価用ローディングを求める(S5)。計測装置1は、S2で記憶したローディングとS5で求めた評価用ローディングとを比較し(S6)、比較結果に応じて、両者の一致度を信頼性指標として求める。計測装置1は、その一致度が閾値より低ければ(S7でYes)、モデルを作成し直すものとして、処理をS1に戻す。計測装置1は、その一致度が閾値以上であれば(S7でNo)、計測の信頼性が許容範囲内に確保されているとして、S2で記憶したローディングを用いてS4で取得された計測スペクトルを変数変換して主成分の値を求め(S8)、主成分の値に主成分回帰モデルを適用して(S9)、計測値yを得る(S10)。
以上のように、実施形態では、計測装置1において、モデル作成時に予め求めたローディングと計測サンプルのスペクトルから求めた評価用ローディングとを比較し、比較結果に応じて信頼性指標を生成する。これにより、主成分分析を用いた計測における信頼性評価が可能である。したがって、計測装置による計測が誤測であるかどうかの判断が可能であるため、主成分分析を用いた計測の信頼性を容易に向上できる。
なお、実施形態では、主として、2つの主成分(第1主成分及び第2主成分)を用いて主成分分析を行う場合について例示しているが、実施形態の考え方は、第1主成分のみを用いて主成分分析を行う場合にも適用可能である。あるいは、実施形態の考え方は、3以上の主成分(例えば、第1主成分、第2主成分、・・・、第k主成分、kは、任意の3以上の整数)を行う場合にも適用可能である。
あるいは、図7に示すように、計測トレンドについて、計測値の信頼性を評価する場合、評価サンプルから算出したローディングと、直前に計測されたサンプルから算出したローディングを比較して整合性を評価してもよい。図7は、実施形態の変形例におけるローディングの比較処理を示す図である。
例えば、図7(a)に示す計測トレンドでは、二点鎖線で囲って示す時点でモデルが作成されてから破線で囲って示す計測時点まで長期間が経過すると、計測値の傾向が大幅に変わっている可能性がある。大幅に変わっている場合、そのことが計測装置1の異常発生の予兆を示している可能性がある。そのため、一点鎖線で囲って示す計測直前の複数回の時点の複数のスペクトルから得た図7(b)に示す直前の評価用ローディングを記憶しておくことが考えられる。すなわち、破線で囲って示す計測時点の複数のスペクトルから図7(c)に示す評価用ローディングが求められた際に、図7(b)に示す評価用ローディングと図7(c)に示す評価用ローディングとを比較する。
この場合、計測装置1による計測の流れは、図8に示すように、次の点で実施形態と異なる。図8は、実施形態の変形例における計測方法を示すフローチャートである。計測装置1は、S1〜S7の処理を行った後、前回の評価用ローディングとS5で求めた評価用ローディングとを比較し(S11)、比較結果に応じて、両者の一致度を計測トレンド用の信頼性指標として求める。また、計測装置1は、S5で求めた評価用ローディングを、次回のS11の比較のために、記憶部50に記憶する(S12)。そして、計測装置1は、S11で求めた一致度が予兆閾値より低ければ(S13でYes)、計測装置1の異常発生の予兆があるとして、ユーザに向けて予兆ありのアラームの発報を行う(S14)。計測装置1は、S11で求めた一致度が予兆閾値以上であれば(S14でNo)、装置の異常発生の予兆がないとして、S8以降の処理を行い、計測値yを得る(S10)。
このように、直前の評価用ローディングと現在の評価用ローディングとを比較することで計測トレンド用の信頼性指標(一致度)を精度よく求めることができ、計測装置1の異常発生の予兆を検知できる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1 計測装置、20 計測部、40 制御部、50 記憶部。

Claims (5)

  1. サンプルから応答を得る計測部と、
    予め主成分分析して求められたローディングと前記サンプルから得た応答を主成分分析して求められた評価用ローディングとを比較し、比較結果に応じて、主成分分析を用いた計測に対する信頼性指標を生成する制御部と、
    を備えた計測装置。
  2. 前記ローディングを記憶する記憶部をさらに備え、
    前記制御部は、前記サンプルから得た応答を主成分分析して前記評価用ローディングを求め、前記記憶されたローディングと前記求められた評価用ローディングとを比較する
    請求項1に記載の計測装置。
  3. 前記ローディングは、予め主成分分析して求められた第1の係数ベクトルを含み、
    前記評価用ローディングは、前記サンプルから得た応答を主成分分析して求められた第2の係数ベクトルを含み、
    前記制御部は、前記第1の係数ベクトルと前記第2の係数ベクトルとの一致度を前記信頼性指標として求める
    請求項1又は2に記載の計測装置。
  4. 前記制御部は、前記一致度が閾値より低いことに応じて、エラー情報を報知する
    請求項3に記載の計測装置。
  5. 前記制御部は、前記一致度が閾値以上であることに応じて、前記第1の係数ベクトルと回帰係数とを用いて、前記サンプルから得た応答に対応した計測値を求める
    請求項3に記載の計測装置。
JP2019047109A 2019-03-14 2019-03-14 計測装置 Pending JP2020148659A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019047109A JP2020148659A (ja) 2019-03-14 2019-03-14 計測装置
US16/561,473 US11506536B2 (en) 2019-03-14 2019-09-05 Measuring apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019047109A JP2020148659A (ja) 2019-03-14 2019-03-14 計測装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2020148659A true JP2020148659A (ja) 2020-09-17

Family

ID=72422391

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019047109A Pending JP2020148659A (ja) 2019-03-14 2019-03-14 計測装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US11506536B2 (ja)
JP (1) JP2020148659A (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001060585A (ja) * 1999-07-07 2001-03-06 Applied Materials Inc 主成分分析を用いてプロセスをモニタするための方法と装置
JP2004335841A (ja) * 2003-05-09 2004-11-25 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置の予測装置及び予測方法
JP2014514533A (ja) * 2011-03-04 2014-06-19 東京エレクトロン株式会社 ライブラリベースで限界寸法(cd)を計測するための正確かつ高速なニューラルネットワークの訓練
JP2017187820A (ja) * 2016-03-31 2017-10-12 株式会社東芝 プロセス診断装置、プロセス診断方法及びコンピュータプログラム

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5121337A (en) 1990-10-15 1992-06-09 Exxon Research And Engineering Company Method for correcting spectral data for data due to the spectral measurement process itself and estimating unknown property and/or composition data of a sample using such method
US6268226B1 (en) 1999-06-30 2001-07-31 International Business Machines Corporation Reactive ion etch loading measurement technique
AU2006241076B2 (en) * 2005-04-25 2011-11-24 University Of Massachusetts Systems and methods for correcting optical reflectance measurements
KR20150092936A (ko) 2014-02-06 2015-08-17 삼성전자주식회사 광학 측정 방법 및 광학 측정 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001060585A (ja) * 1999-07-07 2001-03-06 Applied Materials Inc 主成分分析を用いてプロセスをモニタするための方法と装置
JP2004335841A (ja) * 2003-05-09 2004-11-25 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置の予測装置及び予測方法
JP2014514533A (ja) * 2011-03-04 2014-06-19 東京エレクトロン株式会社 ライブラリベースで限界寸法(cd)を計測するための正確かつ高速なニューラルネットワークの訓練
JP2017187820A (ja) * 2016-03-31 2017-10-12 株式会社東芝 プロセス診断装置、プロセス診断方法及びコンピュータプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
US11506536B2 (en) 2022-11-22
US20200292387A1 (en) 2020-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6727124B2 (ja) ランダム波長計測器
JP6731294B2 (ja) 動的なスペクトル強度の補償機能を備えたクロマティック測距センサ
JP6181878B2 (ja) 厚さ測定装置およびこれを用いた厚さ測定方法
TW201732243A (zh) 圖案化結構中基於拉曼光譜之測量
US10532432B2 (en) Machine learning device, machine learning system, and machine learning method
WO2016132452A1 (ja) テラヘルツ波計測装置、テラヘルツ波計測方法及びコンピュータプログラム
CN105066889B (zh) 一种便携式薄膜测厚仪及其膜厚测量方法
US20230023634A1 (en) Combining physical modeling and macine learning
CN104487896B (zh) 包括光学距离测量系统的用于微光刻的投射曝光设备
JP2009098106A (ja) 光周波数の測定方法および装置
JP2020148659A (ja) 計測装置
JP6288945B2 (ja) ノイズ源位置推定装置及びノイズ源位置推定プログラム
JP5282599B2 (ja) 分光感度特性測定装置、および分光感度特性測定方法
JP6061031B2 (ja) 分光分析システムおよび該方法
CN114930154B (zh) 检测ocd计量机器学习的离群值和异常
Algazinov et al. Methods of measuring the spectral characteristics and identifying the components of grain mixtures in real-time separation systems
JP6339333B2 (ja) ドライエッチング装置およびエッチング量測定方法
US10768361B1 (en) System for monitoring grating formation
JP6085101B2 (ja) 膜厚測定装置および膜厚測定方法
JP6324201B2 (ja) 分光データ処理装置、及び分光データ処理方法
CN114930153B (zh) 用于ocd数据解释的自我监督表征学习
JP2018132390A (ja) 膜厚測定方法および膜厚測定装置
WO2021075344A1 (ja) 電磁波信号解析装置および電磁波信号解析用プログラム
JP5456053B2 (ja) 色処理装置および色処理方法
WO2019235391A1 (ja) ビーム品質評価方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210913

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220720

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220726

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20230131