JP2020143333A - 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム - Google Patents
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Abstract
Description
基板を収容する処理室と、
処理室内を加熱する加熱部と、
設定されたプロセスパラメータに基づいて基板上に膜を形成することが可能なよう制御する制御部と、
処理室内に付着する膜厚を算出する算出部と、
算出部により算出された膜厚の累積値を累積膜厚として記憶する記憶部と、を備え、
制御部は、記憶部に記憶された累積膜厚に応じて、プロセスパラメータの温度以外の設定値を決定することが可能なよう構成される技術が提供される。
以下、本開示の一実施形態について説明する。基板処理装置10は半導体装置の製造工程において使用される装置の一例として構成されている。
基板処理装置10は、加熱部(加熱手段、加熱機構、加熱系)としてのヒータ207が設けられた処理炉202を備える。ヒータ207は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース(図示せず)に支持されることにより垂直に据え付けられている。
半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、ウエハ200上に、例えばゲート電極を構成する金属膜を形成する工程の一例について、図4を用いて説明する。金属膜を形成する工程は、上述した基板処理装置10の処理炉202を用いて実行される。以下の説明において、基板処理装置10を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。また、図4に示す一連の処理が、1回のバッチ処理である。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、図1に示されているように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内に搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219はOリング220を介してアウタチューブ203の下端開口を閉塞した状態となる。
処理室201内が所望の圧力(真空度)となるように真空ポンプ246によって真空排気される。この際、処理室201内の圧力は、圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づき、APCバルブ243がフィードバック制御される(圧力調整)。真空ポンプ246は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201内が所望の温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電量がフィードバック制御される(温度調整)。ヒータ207による処理室201内の加熱は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。
続いて、金属膜として例えば金属窒化膜であるTiN膜を形成するステップを実行する。
バルブ314を開き、ガス供給管310内に原料ガスであるTiCl4ガスを流す。TiCl4ガスは、MFC312により流量調整され、ノズル410のガス供給孔410aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してTiCl4ガスが供給されることとなる。このとき同時にバルブ514を開き、ガス供給管510内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管510内を流れたN2ガスは、MFC512により流量調整され、TiCl4ガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。なお、このとき、ノズル420内へのTiCl4ガスの侵入を防止するために、バルブ524を開き、ガス供給管520内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管320、ノズル420を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
Ti含有層が形成された後、バルブ314を閉じ、TiCl4ガスの供給を停止する。このとき、排気管231のAPCバルブ243は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留する未反応もしくはTi含有層形成に寄与した後のTiCl4ガスを処理室201内から排除する。このときバルブ514,524は開いたままとして、N2ガスの処理室201内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、処理室201内に残留する未反応もしくはTi含有層形成に寄与した後のTiCl4ガスを処理室201内から排除する効果を高めることができる。
処理室201内の残留ガスを除去した後、バルブ324を開き、ガス供給管320内に、反応ガスとしてN含有ガスであるNH3ガスを流す。NH3ガスは、MFC322により流量調整され、ノズル420のガス供給孔420aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このときウエハ200に対して、NH3ガスが供給されることとなる。このとき同時にバルブ524を開き、ガス供給管520内にN2ガスを流す。ガス供給管520内を流れたN2ガスは、MFC522により流量調整される。N2ガスはNH3ガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ノズル410内へのNH3ガスの侵入を防止するために、バルブ514を開き、ガス供給管510内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管310、ノズル410を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
TiN層を形成した後、バルブ324を閉じて、NH3ガスの供給を停止する。そして、ステップS11と同様の処理手順により、処理室201内に残留する未反応もしくはTiN層の形成に寄与した後のNH3ガスや反応副生成物を処理室201内から排除する。
上記したステップS10〜ステップS13を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(n回))行うことにより、ウエハ200上に、所定の厚さ(例えば0.1〜2nm)のTiN膜を形成する。上述のサイクルは、複数回であって例えば200回程度繰り返すのが好ましい。ここで、上述のサイクルのように、1つのサイクルを繰り返した回数をサイクル数とする。
ガス供給管510,520のそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するガスや副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降されて、アウタチューブ203の下端が開口される。そして、処理済ウエハ200がボート217に支持された状態でアウタチューブ203の下端からアウタチューブ203の外部に搬出(ボートアンロード)される。その後、処理済のウエハ200は、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)。
次に、本実施形態におけるコントローラ121のパラメータ制御について説明する。
本実施形態によれば、以下に示す1つまたは複数の効果を得ることができる。
(a)基板上に形成される膜厚をバッチ処理間において均一にすることができる。
(b)処理室内累積膜厚を自動で加算し、累積膜厚毎にプロセスパラメータを自動で切替えることにより、処理時間を短くし、ヒューマンエラーによる不良生産のリスクを低減することができる。
次に、第2の実施形態について、図9を用いて説明する。
第2の実施形態では、上述した実施形態におけるウエハ200上に形成されたTiN膜上に、金属膜として例えばタングステン(W)膜を形成する。第2の実施形態では、上述した基板処理装置10の処理室201内に六フッ化タングステン(WF6)ガスを供給するWF6ガス供給系と、処理室201内に水素(H2)ガスを供給するH2ガス供給系を設ける。そして、図9に示すように、同一処理炉202内において、上述したTiN膜形成工程であるステップS10〜ステップS13を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(n回))行った後、W膜形成工程であるWF6ガス供給(ステップS20)、残留ガス除去(ステップS21)、H2ガス供給(ステップS22)、残留ガス除去(ステップS23)を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(m回))行って、ステップS10〜ステップS13及びステップS20〜ステップS23を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(p回))行う。本実施形態においては、図9に示す一連の処理が、1回のバッチ処理であって、1バッチ処理にTiN膜形成工程とW膜形成工程の2つのサイクルが含まれている。
なお、上記実施形態では、処理室内累積膜厚に応じて、バッチ処理毎のプロセスパラメータを決定する例を用いて説明したが、これに限らず、本開示は、処理室内累積膜厚以外の他の条件を用いて、バッチ処理毎のプロセスパラメータを決定する場合においても適用することが可能である。具体的には、1バッチ処理当たりのウエハ200の枚数やウエハ200の表面積に応じてサイクル数が設定された補正テーブルを記憶装置121cに記憶し、これらの条件を用いて、バッチ処理毎のプロセスパラメータを決定する場合においても適用することが可能である。
121 コントローラ
200 ウエハ(基板)
201 処理室
Claims (5)
- 基板を収容する処理室と、
前記処理室内を加熱する加熱部と、
設定されたプロセスパラメータに基づいて前記基板上に膜を形成することが可能なよう制御する制御部と、
前記処理室内に付着する膜厚を算出する算出部と、
前記算出部により算出された膜厚の累積値を累積膜厚として記憶する記憶部と、を備え、
前記制御部は、前記記憶部に記憶された累積膜厚に応じて、前記プロセスパラメータの温度以外の設定値を決定することが可能なように構成される基板処理装置。 - 前記制御部は、予め用意されたテーブル又は計算式を用いて、前記記憶部に記憶された累積膜厚に応じた、前記プロセスパラメータの温度以外の設定値を決定することが可能なように構成される請求項1記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、累積膜厚以外の他の条件も用いて、前記プロセスパラメータの温度以外の設定値を決定することが可能なように構成される請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 処理室内に基板を収容する工程と、
前記処理室内を加熱する工程と、
設定されたプロセスパラメータに基づいて前記基板上に膜を形成する工程と、
前記処理室内に付着する膜厚を算出する工程と、
算出された膜厚の累積値を累積膜厚として記憶する工程と、
記憶された累積膜厚に応じて、前記プロセスパラメータの温度以外の設定値を決定する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 基板処理装置の処理室内に基板を収容する手順と、
前記処理室内を加熱する手順と、
設定されたプロセスパラメータに基づいて前記基板上に膜を形成する手順と、
前記処理室内に付着する膜厚を算出する手順と、
算出された膜厚の累積値を累積膜厚として記憶する手順と、
記憶された累積膜厚に応じて、前記プロセスパラメータの温度以外の設定値を決定する手順と、
をコンピュータにより前記基板処理装置に実行させるプログラム。
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