JP2020126221A - プリズム、光デバイス、プリズムの製造方法及びパッケージデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係るプリズムの断面図である。図1に示すように、プリズム1はプリズム本体2と、密着膜3と、反射膜4とを備える。プリズム本体2は、略台形の断面形状を有する。プリズム本体2は、底面2aと、底面2aに接続されている斜面2bと、底面2aに対向し、かつ斜面2bに接続されている上面2cとを有する。なお、プリズム本体2の断面形状は略台形には限定されず、略三角形等であってもよい。本実施形態においては、プリズム本体2は適宜のガラス材料からなる。
図3は、本発明の第2の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。図3に示すように、本実施形態のプリズム11は、密着膜13の第2の層部分16において外側に位置する層ほど薄い点で、第1の実施形態と異なる。具体的には、第1の層16aの厚みをTa、第2の層16bの厚みをTb、第3の層16cの厚みをTc、第4の層16dの厚みをTd、第5の層16eの厚みをTeとしたときに、Ta>Tb>Tc>Td>Teである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム11は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
図4は、本発明の第3の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。密着膜の各層の厚みは、第1の実施形態における厚みから下記のように変更してもよい。例えば、本実施形態のプリズム21は、密着膜23の第2の層部分26において複数のAu層の厚みが互いに同一であり、かつ複数のSn層の厚みが外側に位置するほど厚い構成としてもよい。具体的には、第1の層26aの厚みをTa、第2の層26bの厚みをTb、第3の層26cの厚みをTc、第4の層26dの厚みをTd、第5の層26eの厚みをTeとしたときに、Au層の厚みはTa=Tc=Te、Sn層の厚みはTb<Tdである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム21は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
図5は、本発明の第4の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。密着膜の各層の厚みは、第1の実施形態における厚みから下記のように変更してもよい。例えば、本実施形態のプリズム31は、密着膜33の第2の層部分36において複数のAu層の厚みが外側に位置するほど薄く、かつ複数のSn層の厚みが互いに同一である構成としてもよい。具体的には、第1の層36aの厚みをTa、第2の層36bの厚みをTb、第3の層36cの厚みをTc、第4の層36dの厚みをTd、第5の層36eの厚みをTeとしたときに、Au層の厚みはTa>Tc>Te、Sn層の厚みはTb=Tdである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム31は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
図6は、本発明の第5の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。図6に示すように、本実施形態のプリズム41は、密着膜43が、第1の層部分5と第2の層部分6との間に積層された中間層部分47を有する点において第1の実施形態と異なる。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム41は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
図7は、本発明の第6の実施形態に係るプリズムの断面図である。図7に示すように、本実施形態のプリズム51は、反射膜4がプリズム本体2の斜面2b及び上面2cに設けられている点において第1の実施形態と異なる。具体的には、反射膜4は斜面2bから上面2cにかけて連続的に設けられている。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム51は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(第7の実施形態)
図9は、本発明の第7の実施形態に係る光デバイスの断面図である。図9に示すように、光デバイス70は、第1の実施形態のプリズム1と、光学素子74と、プリズム1及び光学素子74を収容するパッケージ75とを備える。
(第8の実施形態)
図10は、第8の実施形態に係るプリズムの断面図である。図10に示すように、本実施形態のプリズムは、密着膜83Aの第2の層部分86Aが応力緩和層87Aを有する点において、第1の実施形態と異なる。具体的には、応力緩和層87Aは、複数のAu層のうちの一層である第3の層に相当する。上記以外の点においては、本実施形態のプリズムは第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
図11は、第9の実施形態に係るプリズムの断面図である。図11に示すように、本実施形態においても、密着膜83Bの第2の層部分86Bにおける応力緩和層87Bは、複数のAu層のうちの一層である第3の層に相当する。応力緩和層87Bの厚みは、第2の層部分86Aにおける、応力緩和層87B以外のAu層の厚みの平均よりも薄い。
図12は、第10の実施形態に係るプリズムの断面図である。図12に示すように、本実施形態の密着膜83Cの第2の層部分86Cにおける応力緩和層87Cは、複数のSn層のうちの一層である第4の層に相当する。応力緩和層87Cの厚みは、第2の層部分86Cにおける、応力緩和層87C以外のSn層の厚みの平均よりも厚い。
図13は、第11の実施形態に係るプリズムの断面図である。図13に示すように、本実施形態においても、密着膜83Dの第2の層部分86Dにおける応力緩和層87Dは、複数のSn層のうちの一層である第4の層に相当する。応力緩和層87Dの厚みは、第2の層部分86Dにおける、応力緩和層87D以外のSn層の厚みの平均よりも薄い。
図14は、第12の実施形態に係るプリズムの断面図である。図14に示すように、本実施形態は、第2の層部分96がAu及びSnの合金からなるAu−Sn層である点及び密着膜93が最外層部分98を有する点において、第1の実施形態と異なる。最外層部分98は第2の層部分96上に積層されている。最外層部分98はAu層である。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム91は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
図15は、第13の実施形態に係るプリズムの断面図である。図15に示すように、本実施形態は、プリズム本体2の底面2aと斜面2bとの稜線に、保護膜105が設けられている点において、第1の実施形態と異なる。上記以外の点においては、本実施形態のプリズムは第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
図1に示す第1の実施形態のプリズム1において、密着膜3の最外層としての、第2の層部分6の最外層の算術平均粗さRaを異ならせて、パッケージとの接合性を確認した。なお、密着膜3の最外層はAu層とした。具体的には、最外層の算術平均粗さRaをRaとしたときに、Ra≦0.05、0.05<Ra≦0.09、0.09<Ra≦0.15、0.15<Ra≦0.20とした。なお、本明細書における算術平均粗さRaはJIS B 0601:2013に基づく。
プリズム密着膜の、応力の大きさを評価した。図16に示す、両側面が対向する方向において延びているプリズムの母材91Aをダイシングシートに貼り付けた。次に、一点鎖線I−Iに沿ってプリズムの母材91Aを切断し、個片化した。なお、個片化後のプリズムは、図14に示す第12の実施形態のプリズムと同様の構成を有する。密着膜93のパッケージに対する応力が大きい場合には、個片化時に応力が解放されるときの衝撃が大きいため、プリズムが剥離し易い。よって、剥離する割合が大きいほど、密着膜93の応力が大きい。
2…プリズム本体
2a…底面
2b…斜面
2c…上面
3,13,23,33,43,83A〜83D,93…密着膜
4…反射膜
5…第1の層部分
6,16,26,36,86A〜86D,96…第2の層部分
6a,16a,26a,36a…第1の層
6b,16b,26b,36b…第2の層
6c,16c,26c,36c…第3の層
6d,16d,26d,36d…第4の層
6e,16e,26e,36e…第5の層
47…中間層部分
70…光デバイス
74…光学素子
75…パッケージ
76…底部
76a…実装面
77…側壁部
77a…内面
78…金属膜
79…蓋体
87A〜87D…応力緩和層
98…最外層部分
91A…プリズムの母材
105…保護膜
Claims (28)
- 底面及び前記底面に接続されている斜面を有するプリズム本体と、
前記底面に設けられている密着膜と、
を備え、
前記密着膜が、前記プリズム本体側に位置する第1の層部分と、前記第1の層部分上に直接的または間接的に積層された第2の層部分とを有し、
前記第2の層部分がAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含む、プリズム。 - 前記第2の層部分において、前記Au層及び前記Sn層が交互に積層されている、請求項1に記載のプリズム。
- 前記第2の層部分が前記Au層及び前記Sn層の双方を有し、前記Au層と前記Sn層との間に、Au及びSnの合金からなるAu−Sn層が設けられている、請求項1または2に記載のプリズム。
- 前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記第2の層部分の最外層が前記Au層である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプリズム。
- 前記第2の層部分が複数の前記Au層及び複数の前記Sn層の双方を有し、前記Au層及び前記Sn層が交互に積層されており、
前記第2の層部分が応力緩和層を有し、
前記応力緩和層が前記複数のAu層のうちの一層である場合には、前記応力緩和層の厚みが、他の前記Au層の平均の厚みと異なり、
前記応力緩和層が前記複数のSn層のうちの一層である場合には、前記応力緩和層の厚みが、他の前記Sn層の平均の厚みと異なる、請求項2〜4のいずれか一項に記載のプリズム。 - 前記応力緩和層の厚みが、他の前記Au層または他の前記Sn層の平均の厚みの1/2以上、5倍以下である、請求項5に記載のプリズム。
- 前記応力緩和層の厚みが、他の前記Au層または他の前記Sn層の平均の厚みの1/5以上、1/2以下である、請求項5に記載のプリズム。
- 前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記第2の層部分の最外層が、前記第2の層部分において最も薄い層である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプリズム。
- 前記第2の層部分において、外側に位置する層ほど薄い、請求項8に記載のプリズム。
- 前記第2の層部分が複数の前記Au層及び複数の前記Sn層の双方を有し、
前記複数のAu層の厚みが互いに同一であり、且つ前記複数のSn層の厚みが外側に位置するほど厚い、請求項4に記載のプリズム。 - 前記第2の層部分が複数の前記Au層及び複数の前記Sn層の双方を有し、
前記複数のAu層の厚みが外側に位置するほど薄く、且つ前記複数のSn層の厚みが互いに同一である、請求項4に記載のプリズム。 - 前記第2の層部分における前記Au層及び前記Sn層の合計の層数が3層以上、99層以下である、請求項1〜11のいずれか一項に記載のプリズム。
- 前記第2の層部分における前記Au層及び前記Sn層の合計の層数が15層以上、35層以下である、請求項12に記載のプリズム。
- 前記密着膜の全体の厚みが1μm以上、10μm以下である、請求項1〜13のいずれか一項に記載のプリズム。
- 前記第2の層部分が前記Au層及び前記Sn層の双方を有し、
前記第2の層部分におけるAuの重量の合計をMA、Snの重量の合計をMS、Au及びSnの重量の合計に対するAuの重量の比率をMA/(MA+MS)としたときに、比率MA/(MA+MS)が0.60以上、0.78以下である、請求項1〜14のいずれか一項に記載のプリズム。 - パッケージに実装されるプリズムであって、
底面及び前記底面に接続されている斜面を有するプリズム本体と、
前記底面に設けられている密着膜と、
を備え、
前記密着膜が、前記プリズム本体側に位置する第1の層部分と、前記第1の層部分上に直接的または間接的に積層された第2の層部分とを有し、
前記第2の層部分がAu及びSnの合金からなるAu−Sn層であり、
前記密着膜の前記第2の層部分の厚みが2.5μm以上、5.9μm以下である、プリズム。 - 前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記密着膜が、前記密着膜の最外層であり、前記第2の層部分上に積層されている最外層部分を有し、
前記最外層部分がAu層である、請求項16に記載のプリズム。 - 前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記密着膜の最外層の算術平均粗さRaが0.20μm以下である、請求項1〜17のいずれか一項に記載のプリズム。
- 前記第1の層部分がCr層またはTi層またはTa層である、請求項1〜18のいずれか一項に記載のプリズム。
- 前記密着膜が、前記第1の層部分と前記第2の層部分との間に積層された中間層部分をさらに有する、請求項1〜19のいずれか一項に記載のプリズム。
- 前記中間層部分がNi層、Pt層、Pd層、Ni−Cr混合層またはこれらを組み合わせた合金層である、請求項20に記載のプリズム。
- 前記プリズム本体が、上面を有し、
前記上面は、前記底面に対向し、かつ前記斜面に接続されている、請求項1〜21のいずれか一項に記載のプリズム。 - 前記プリズム本体の前記斜面に反射膜が設けられている、請求項1〜22のいずれか一項に記載のプリズム。
- 前記プリズム本体の前記斜面及び前記上面に反射膜が設けられている、請求項22に記載のプリズム。
- 請求項1〜24のいずれか一項に記載のプリズムと、
前記プリズムに光を出射し、または前記プリズムからの光を受光する光学素子と、
前記プリズム及び前記光学素子を収容するパッケージと、
を備え、
前記パッケージに前記プリズムが前記密着膜により接合されている、光デバイス。 - 底面及び前記底面に接続されている斜面を有するプリズム本体の、前記底面に密着膜を設ける工程を備えたプリズムの製造方法であって、
前記密着膜を設ける工程は、前記底面に金属材料からなる第1の層部分を形成する工程と、前記第1の層部分上に直接的または間接的に金属材料からなる第2の層部分を積層する工程とを含み、
前記第1の層部分と前記第2の層部分とは互いに異なる成分の金属材料から構成され、
前記第2の層部分がAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含む、プリズムの製造方法。 - 請求項1〜24のいずれか一項に記載のプリズムを準備する工程と、
前記プリズムとの接着面を有するパッケージを準備する工程と、
前記密着膜が前記パッケージの前記接着面に当接するよう、前記プリズムと前記パッケージとを当接させる工程と、
前記密着膜を加熱し、前記プリズムと前記パッケージとを接合させる工程と、
を備える、パッケージデバイスの製造方法。 - 前記パッケージの前記接着面には、Au膜が形成されており、
前記密着膜全体が溶融しない温度で前記加熱を行い、前記プリズムと前記パッケージとを接合させる、請求項27に記載のパッケージデバイスの製造方法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0335213A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Tokin Corp | 光アイソレータ、及びその製造方法 |
JPH0553033A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-05 | Mitsubishi Electric Corp | 光受信器 |
JP2001284696A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Kyocera Corp | 光実装基板および光モジュール |
JP2003014987A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-15 | Kyocera Corp | 光路変換体及びその実装構造並びに光モジュール |
JP2007133375A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-05-31 | Konica Minolta Opto Inc | 無偏光ビームスプリッタ |
JP2009045514A (ja) * | 2007-08-14 | 2009-03-05 | Stanley Electric Co Ltd | 光触媒素子 |
JP2013239614A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Seiko Epson Corp | 発光装置の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005217095A (ja) | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Kyocera Corp | 光半導体素子用のサブマウント |
KR101946914B1 (ko) | 2012-06-08 | 2019-02-12 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자, 발광소자 패키지 및 라이트 유닛 |
KR20140099399A (ko) | 2013-02-01 | 2014-08-12 | 삼성전자주식회사 | 광원 모듈 및 이를 포함하는 조명 장치 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0335213A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Tokin Corp | 光アイソレータ、及びその製造方法 |
JPH0553033A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-05 | Mitsubishi Electric Corp | 光受信器 |
JP2001284696A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Kyocera Corp | 光実装基板および光モジュール |
JP2003014987A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-15 | Kyocera Corp | 光路変換体及びその実装構造並びに光モジュール |
JP2007133375A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-05-31 | Konica Minolta Opto Inc | 無偏光ビームスプリッタ |
JP2009045514A (ja) * | 2007-08-14 | 2009-03-05 | Stanley Electric Co Ltd | 光触媒素子 |
JP2013239614A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Seiko Epson Corp | 発光装置の製造方法 |
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