JP2020118498A - 電界センサ - Google Patents
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Abstract
Description
これに対して、電気光学効果を用いた電界測定は、センサエレメントが金属製ではないため測定対象の電界を乱さずに測ることができ、さらに高空間分解の測定が可能である。このため、電気光学効果を用いた電界測定は、色々な用途で使われ始めている。なお、電気光学効果とは、電気光学結晶に電界が印加されると、電界強度に応じて電気光学結晶を透過する光の屈折率が変化する効果である。また、屈折率の変化は、光学結晶を通過する光波の位相変化を与える。電気光学効果を用いた電界測定では、位相の変化を測定することで、電気光学結晶に印加されている電界を測定することができる(例えば、特許文献1、2参照)。
図7は、従来技術に係る電気光学効果を利用した電界センサ900の構成例と動作例を示す図である。図7に示すように、電界センサ900は、レーザ光源901と、検光子902と、λ/4波長板903と、電界発生源904と、電気光学結晶905と、λ/2波長板906と、偏光ビームスプリッタ907と、フォトディテクタ908と、フォトディテクタ909と、差動増幅器910を有している。
しかしながら、現実的には電気光学結晶905を含む光学部品の旋光性や偏差や波長板の角度偏差等により、図9のように位相がずれてくる。図9は、TP(t)とTS(t)の差動バランスがずれている場合の動作を説明するための図である。図9の符号g931が示すグラフにおいて、横軸は位相差Γであり、縦軸は透過率Tである。また、符号g932はP波による変化を表し、符号g933はS波による変化を表している。符号g934のグラフは、位相差にオフセットΓ0が加わったP波とS波の光強度の変化を表している。符号g935は、位相差にオフセットΓ0が加わった位相差の変化を表している。
電気光学結晶905に電界が印加されていないときにおいても、光学的なバランス点のずれにより、フォトディテクタ908とフォトディテクタ909の両方の出力に差が生じて、差動増幅器910の出力が0にならない。このため、電界センサ900aでは、λ/4波長板903aとλ/2波長板906aを回転させてP波とS波のバランスを光学的に調整する。
図1は、本実施形態に係る電界センサ100の構成例を示す図である。図1に示すように、電界センサ100は、レーザ光源101(光源)と、検光子104と、λ/4波長板105(波長板)と、電界発生源106と、電気光学結晶107と、λ/2波長板108と、偏光ビームスプリッタ109(分離手段)と、受光回路110(第1受光手段)と、受光回路111(第2受光手段)と、差動増幅器112(差動増幅手段)と、DCレベル測定器113(制御部)と、温度制御部114(制御部)を備えている。また、レーザ光源101は、半導体レーザ102(光源)と、温度調整器103(制御部)を備えている。なお、符号g111に示すように、図1において、レーザ光源101から出射された光は進行方向に振動成分を持たない横波であり、進行方向に対し磁界振動方向をx軸とし、電界振動方向をy軸とする。
検光子104は、レーザ光源101とλ/4波長板105との間に配置される。λ/4波長板105は、検光子104と電気光学結晶107との間に配置される。電気光学結晶107は、λ/4波長板105とλ/2波長板108との間に配置される。λ/2波長板108は、電気光学結晶107と偏光ビームスプリッタ109との間に配置される。偏光ビームスプリッタ109は、λ/2波長板108と受光回路110との間、かつλ/2波長板108と受光回路111との間に配置される。
受光回路110の出力端は、差動増幅器112の第1入力端子に接続されている。受光回路111の出力端は、差動増幅器112の第2入力端子に接続されている。差動増幅器112の出力端は、不図示の信号処理装置に処理した信号を出力する。
電界センサ100は、センサ内に実装している電気光学結晶107に印加される電界強度に誘起される位相変化量を光学的手段で得ている。なお、電界センサ100は、被測定対象が発生する電界を電気光学結晶107に与えることで、差動増幅器112の出力値を不図示の信号処理装置によって測定することで、被測定対象が発生する電界の大きさを測定する。
温度調整器103は、半導体レーザ102に取り付けられている。温度調整器103は、例えばペルチェ素子である。温度調整器103は、温度制御部114の制御に応じて半導体レーザ102の温度を調整する。
λ/4波長板105は、光軸の方位をx軸に対して45度傾けて配置されている。λ/4波長板105は、検光子104から入射した光線を円偏光(符号g102、g112)に偏光して出射する。換言すると、λ/4波長板105は、電気光学結晶107に入射する光に対して光学的にバイアスをかけている。
電気光学結晶107は、電界発生源106によって印加される電界強度に応じた複屈折の変化により偏光状態を変化させる。電気光学結晶107は、楕円軸の方位が45度に傾いた楕円偏光(符号g103、g113)の光線を出射する。なお、楕円偏光の楕円率は、電界の強度によって変化する。電気光学結晶107は、例えばLiNbO3、LiTaO3、Bi12SiO20(BSO)、Bi12GeO20(BGO)、ADP、KDP等である。
温度制御部114は、DCレベル測定器113が出力するDCレベルを示す値または情報を取得する。温度制御部114は、DCレベルを示す値が0Vを含む所定の値の範囲に入るように温度調整器103を制御する。
図2は、レーザの周囲温度と発振波長の関係を示す図である。横軸は温度(度)であり、縦軸は発振波長(μm)である。図2に示したように、レーザの周囲温度が変化すると、発振波長も変化する。例えば、レーザの周囲温度が上昇すると、発振波長が上昇前より大きくなる。
図3は、本実施形態に係るレーザ光源101の構成例を示す図である。図3に示すレーザ光源101は、サーミスタ102aと、PD(フォトディテクタ)102bと、LD(レーザ)チップ102cと、レンズ102dと、ペルチェ素子103aを含んで構成されている。
PD102bは、LDチップ102cによって発光された光強度を測定し、測定した測定値を不図示のレーザ駆動部に出力する。レーザ駆動部は、PD102bが出力する測定値に基づいてLDチップ102cが出射する光強度を所定値に制御する。
レンズ102dは、LDチップ102cが出射した光線を集光する。レンズ102dは、集光された光線を光ファイバ120に入射する。
複屈折を持つ電気光学結晶の通過後の光学的位相差Γ(λ)は、次式(7)のように表される。
ここで、屈折率nは、次式(8)である。
本実施形態では、電界センサが縦型構造の例を説明する。
図4は、本実施形態に係る電界センサ100Aの構成例を示す図である。図4に示すように、電界センサ100Aは、レーザ光源101と、電界発生源106と、電気光学結晶107と、偏光ビームスプリッタ109と、受光回路110と、受光回路111と、差動増幅器112と、DCレベル測定器113と、温度制御部114と、偏光ビームスプリッタ115と、ITO(Indium Tin Oxide)116と、ミラー117と、λ/4波長板118を備えている。また、レーザ光源101は、半導体レーザ102と、温度調整器103を備えている。なお、第1実施形態の電界センサ100と同様の機能を有する構成要素には、同じ符号を用いて説明を省略する。
偏光ビームスプリッタ115は、レーザ光源101とITO116の第1面との間に配置される。λ/4波長板118は、偏光ビームスプリッタ115と偏光ビームスプリッタ109との間に配置される。電気光学結晶107は、ITO116の第2面と、ミラー117の第1面に接して構成されている。偏光ビームスプリッタ109は、λ/4波長板118と受光回路110との間、かつλ/4波長板118と受光回路111との間に配置される。
電界センサ100Aは、センサ内に実装している電気光学結晶107に印加される電界強度に誘起される位相変化量を光学的手段で得ている。なお、電界センサ100Aは、被測定対象が発生する電界を、ミラー117側から電気光学結晶107に与えることで、差動増幅器112の出力値を不図示の信号処理装置によって測定することで、被測定対象が発生する電界の大きさを測定する。
ミラー117は、第1面が鏡面である。
偏光ビームスプリッタで分離されるP波の成分とS波の成分それぞれの光は、受光回路が有するフォトディテクタで電気信号に変換されるが、偏光ビームスプリッタの分岐比のばらつきや、2個の受光回路それぞれが有するフォトディテクタの受光感度にもばらつきがある場合がある。このような場合も、P波による雑音成分の大きさとS波による雑音成分の大きさが異なるため、差動増幅器112によって雑音をキャンセルできない。
図5に示すように、電界センサ100Bは、レーザ光源101と、検光子104と、λ/4波長板105と、電界発生源106と、電気光学結晶107と、λ/2波長板108と、偏光ビームスプリッタ109と、受光回路110と、受光回路111と、差動増幅器112と、DCレベル測定器113と、温度制御部114Bと、利得可変増幅器121と、利得可変増幅器122を備えている。また、レーザ光源101は、半導体レーザ102と、温度調整器103を備えている。なお、第1実施形態の電界センサ100と同様の機能を有する構成要素には、同じ符号を用いて説明を省略する。
この構成においても、第1実施形態と同様にλ/4波長板105は、電気光学結晶107に入射する光に対して光学的にバイアスをかけている。
受光回路110の出力端は、利得可変増幅器121の入力端子に接続されている。利得可変増幅器121の出力端子は、差動増幅器112の第1入力端子に接続されている。利得可変増幅器121の制御端子は、温度制御部114Bに接続されている。
受光回路111の出力端は、利得可変増幅器122の入力端子に接続されている。利得可変増幅器122の出力端子は、差動増幅器112の第2入力端子に接続されている。利得可変増幅器122の制御端子は、温度制御部114Bに接続されている。
差動増幅器112の出力端は、不図示の信号処理装置に処理した信号を出力する。
この場合、温度制御部114Bは、レーザ光源101を発光させ電界発生源106によって電界を発生させていない状態で、差動増幅器112の出力が0Vを含む第2の所定の範囲になるように、第1の光アッテネータと第2の光アッテネータそれぞれの減衰率を調整することで光学的に調整するようにしてもよい。
第3実施形態で説明した利得可変増幅器を、第2実施形態で説明した縦型構造の電界センサに適用することもできる。
図6は、本実施形態に係る電界センサ100Cの構成例を示す図である。図6に示すように、電界センサ100Cは、レーザ光源101と、電界発生源106と、電気光学結晶107と、偏光ビームスプリッタ109と、受光回路110と、受光回路111と、差動増幅器112と、DCレベル測定器113と、温度制御部114Bと、偏光ビームスプリッタ115と、ITO116と、ミラー117と、λ/4波長板118と、利得可変増幅器121と、利得可変増幅器122を備えている。また、レーザ光源101は、半導体レーザ102と、温度調整器103を備えている。なお、第1実施形態の電界センサ100、第2実施形態の電界センサ100A、および第3実施形態の電界センサ100Bと同様の機能を有する構成要素には、同じ符号を用いて説明を省略する。
なお、電界センサ100Cは、電界センサ100Aと同様に、被測定対象が発生する電界を、ミラー117側から電気光学結晶107に与えることで、差動増幅器112の出力値を不図示の信号処理装置によって測定することで、被測定対象が発生する電界の大きさを測定する。
この場合、温度制御部114Bは、レーザ光源101を発光させ電界発生源106によって電界を発生させていない状態で、差動増幅器112の出力が0Vを含む第2の所定の範囲になるように、第1の光アッテネータと第2の光アッテネータそれぞれの減衰率を調整することで光学的に調整するようにしてもよい。
Claims (4)
- 電気光学効果を利用した被対象物が発する電界を測定する電界センサであって、
光源と、
前記光源が出射した光に基づく所定の偏光状態の光が入射され、前記被対象物が発する電界を受ける電気光学結晶と、
前記電気光学結晶から出射される光をP波とS波とに分離する分離手段と、
前記分離手段の前段で、光の位相を変化させる波長板と、
前記P波の光を受光し、受光した光を電気信号に変換する第1受光手段と、
前記S波の光を受光し、受光した光を電気信号に変換する第2受光手段と、
前記第1受光手段が変換した電気信号と、前記第2受光手段が変換した電気信号との差動信号を生成する差動増幅手段と、
前記光源から光が出射され前記電気光学結晶に電界を印加した状態の前記差動増幅手段の直流成分の出力値を所定の値の範囲になるように、前記光源の波長を調整する制御部と、
を備える電界センサ。 - 前記制御部は、前記光源から光が出射され前記電気光学結晶に電界を印加した状態の前記差動増幅手段の直流成分の出力値を所定の値の範囲になるように、前記光源の温度を調整することで前記光源の波長を調整する、請求項1に記載の電界センサ。
- 透明電極と、ミラーと、を備え、
前記電気光学結晶は、一方の面に前記透明電極が対向して配置され、他方の面に前記ミラーが配置され、
前記光源が出射した光に基づく所定の偏光状態の光が前記透明電極から入射され、前記透明電極から入射した光を前記ミラーによって反射し、反射した光を前記透明電極から出射し、前記透明電極から出射された光が前記分離手段に入射する、請求項1または請求項2に記載の電界センサ。 - 前記第1受光手段の電気信号の利得を変更する第1利得可変手段と、
前記第2受光手段の電気信号の利得を変更する第2利得可変手段と、
をさらに備え、
前記制御部は、前記光源から光が出射され前記電気光学結晶に電界が印加されていない状態の前記差動増幅手段の直流成分の出力値を所定の値の範囲になるように、前記第1利得可変手段の利得と前記第2利得可変手段の利得を調整する、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電界センサ。
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