JP2020116599A - レーザ加工装置およびレーザ加工方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 加工速度を速くしたり変えたりしても、加工不良の部位の発生を防止または低減させることができる、レーザ加工装置およびレーザ加工方法を提供すること。【解決手段】 薄膜が形成されたワークにレーザビームを集光させたビームスポットを照射して、当該薄膜を加工するレーザ加工装置およびレーザ加工方法において、レーザビームを出射するレーザ発振器と、レーザビームを通過させる領域の空間光位相分布を変調させるホログラムパターンを表示させて、所定のビームスポットを生成させる位相変調器と、位相変調器を通過させたレーザビームを集光させる集光レンズとを用い、ワークの厚み方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットを連続的に配置させたビームスポット群を、薄膜の表面位置を含むように照射して当該薄膜を加工する。【選択図】 図1
Description
本発明は、薄膜が形成されたワークにレーザビームを集光させたビームスポットを照射して、当該薄膜を加工する、レーザ加工装置およびレーザ加工方法に関する。
金属、樹脂、ガラス、或いはこれらの表面や内面に成膜された薄膜にレーザビームを照射し、アブレーション(蒸散ともいう)や改質加工により、アライメントマークや識別コードなど、所定のマーキングパターン等を形成したり、配線の切断や所定領域の除去加工等を行う技術が知られている。
そして、アブレーション加工では、レーザ発振器から出射されたレーザビームを集光レンズにて集光させ、エネルギー密度の高いビームスポットを形成して加工対象となる薄膜をアブレーションさせている。
このとき、ワーク表面がうねっていても、ビームスポットの焦点位置がワーク表面に倣うように、焦点位置を調節しながらアブレーション加工する技術(いわゆる、倣い制御)が知られている。(例えば、特許文献1,2)
しかし、実際に倣い制御を行う場合、加工速度を速くしたり変えたりすると、応答遅れなどの影響で焦点位置がずれてしまい、加工不良の部位が発生するおそれがある。
そこで本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、加工速度を速くしたり変えたりしても、加工不良の部位の発生を防止または低減させることができる、レーザ加工装置およびレーザ加工方法を提供することを目的としている。
以上の課題を解決するために、本発明に係る一態様は、
薄膜が形成されたワークにレーザビームを集光させたビームスポットを照射して、当該薄膜を加工するレーザ加工装置において、
レーザビームを出射するレーザ発振器と、
レーザビームを通過させる領域の空間光位相分布を変調させるホログラムパターンを表示させて、所定のビームスポットを生成させる位相変調器と、
位相変調器を通過させたレーザビームを集光させる集光レンズと、
ワークの厚み方向に直交する方向に、当該ワークとレーザビームとの相対位置を移動させる相対移動部とを備え、
ワークの厚み方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットを連続的に配置させたビームスポット群が薄膜の表面位置を含むように、位相変調器にホログラムパターンを表示させて、当該薄膜を加工する制御部を備えたことを特徴とする。
薄膜が形成されたワークにレーザビームを集光させたビームスポットを照射して、当該薄膜を加工するレーザ加工装置において、
レーザビームを出射するレーザ発振器と、
レーザビームを通過させる領域の空間光位相分布を変調させるホログラムパターンを表示させて、所定のビームスポットを生成させる位相変調器と、
位相変調器を通過させたレーザビームを集光させる集光レンズと、
ワークの厚み方向に直交する方向に、当該ワークとレーザビームとの相対位置を移動させる相対移動部とを備え、
ワークの厚み方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットを連続的に配置させたビームスポット群が薄膜の表面位置を含むように、位相変調器にホログラムパターンを表示させて、当該薄膜を加工する制御部を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係る別の一態様は、
薄膜が形成されたワークにレーザビームを集光させたビームスポットを照射して、当該薄膜を加工するレーザ加工方法において、
レーザビームを出射するレーザ発振器と、
レーザビームを通過させる領域の空間光位相分布を変調させるホログラムパターンを表示させて、所定のビームスポットを生成させる位相変調器と、
位相変調器を通過させたレーザビームを集光させる集光レンズとを用い、
ワークの厚み方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットを連続的に配置させたビームスポット群を、薄膜の表面位置を含むように照射して当該薄膜を加工することを特徴とする。
薄膜が形成されたワークにレーザビームを集光させたビームスポットを照射して、当該薄膜を加工するレーザ加工方法において、
レーザビームを出射するレーザ発振器と、
レーザビームを通過させる領域の空間光位相分布を変調させるホログラムパターンを表示させて、所定のビームスポットを生成させる位相変調器と、
位相変調器を通過させたレーザビームを集光させる集光レンズとを用い、
ワークの厚み方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットを連続的に配置させたビームスポット群を、薄膜の表面位置を含むように照射して当該薄膜を加工することを特徴とする。
上記のレーザ加工装置およびレーザ加工方法によれば、加工速度を速くしたり変えたりしても、加工不良の部位の発生を防止または低減させることができる。
以下に、本発明を実施するための形態について、図を用いながら説明する。なお、以下の説明では、直交座標系の3軸をX、Y、Zとし、XY平面を水平面、Z方向を鉛直方向とする。特に、Z方向は矢印の方向を上、その逆方向を下と表現する。
図1は、本発明を具現化する形態の一例の全体構成を示す概略図である。
レーザ加工装置1は、加工対象となる薄膜Fが形成されたワークWにレーザビームBを集光させたビームスポットを照射して、薄膜Fを加工するものである。具体的には、レーザ加工装置1は、ワーク保持部H、レーザ照射部L、相対移動部5、制御部9等を備えている。より具体的には、ワークWに導電性を有する金属の薄膜Fが形成されており、レーザ加工装置1にて当該薄膜にレーザビームを照射して所定パターンで除去加工(つまり、アブレーション加工)する例を示す。図中では、除去加工された部位をF’で示す。
ワーク保持部Hは、ワークWを保持するものである。
具体的には、ワーク保持部Hは、ワークWを下面側から水平状態を保ちつつ支えるものである。より具体的には、ワーク保持部Hは、クランプ機構や負圧吸引手段、静電密着手段等を備え、ワークWの下面や外縁部等を保持する。
具体的には、ワーク保持部Hは、ワークWを下面側から水平状態を保ちつつ支えるものである。より具体的には、ワーク保持部Hは、クランプ機構や負圧吸引手段、静電密着手段等を備え、ワークWの下面や外縁部等を保持する。
レーザ照射部Lは、レーザ発振器2、位相変調器3、集光レンズ4等を備え、レーザ発振器2から出射されたレーザビームBを、薄膜Fの除去加工に足りるエネルギー密度のビームスポット群Pに集光させてワークWに照射するものである。
図2は、本発明を具現化する形態の一例の要部を示す断面図である。図2には、ワークWに成膜された薄膜Fに向けて、ビームスポット群Pが照射されている様子(つまり、加工イメージ)が示されている。なお、除去加工された部位はF’で示されている。
具体的には、レーザ照射部Lは、詳細を後述する制御部9からの制御指令に基づいて、ワークWの厚み方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットP1〜P4を連続的に配置させたビームスポット群Pを、薄膜Fの表面位置を含むように照射して、薄膜Fを加工する。
ビームスポット群Pは、複数のビームスポットP1〜P4の中心ないし隣り合うビームスポット(P1とP2、P2とP3、P3とP4)の間でも薄膜Fが加工できる程度に、複数のビームスポットP1〜P4を隣接配置したり、オーバーラップ状態で配置したり、離隔配置したり(つまり、連続的に配置)したものである。換言すれば、ビームスポット群Pは、よりも光軸方向(Z方向)に1つのビームスポット分よりも加工焦点深度が深い(つまり、加工可能範囲が長い)ビームスポットである。そのため、ビームスポット群Pのどこかに薄膜Fの表面位置が含まれれば、薄膜Fが除去加工される。この様なビームスポット群Pと薄膜Fとの位置関係は、上述の様な「ビームスポット群Pが薄膜Fの表面位置を含む」という表現のほか、「ビームスポット群Pが薄膜Fを貫通する」、「ビームスポット群Pが薄膜Fを横切る」等とも言う。
より具体的には、レーザ照射部Lは、所定のホログラムパターンを表示させた位相変調器3にレーザビームBを照射し、位相変調器3を通過したレーザビームを集光レンズ4で集光させることで、ビームスポット群Pを形成し、薄膜Fに向けて照射する。
さらに、ビームスポット群Pについて言及すると、後述する相対移動部5にてワークWとレーザ照射部Lとの相対位置を移動させた際に当該ワークWに形成された薄膜Fが厚みt方向にうねる範囲Rfが、ビームスポット群Pに含まれる。つまり、レーザ照射部Lは、薄膜Fのうねる範囲Rfが、ビームスポット群Pの厚みt方向(Z方向)の長さRbに含まれるよう、ビームスポット群Pを形成し、薄膜Fに向けて照射する。
なお、レーザビームBは、レーザ発振器2から出射されたレーザビームB1、位相変調器3を通過したレーザビームB2、集光レンズ4を通過したレーザビームB3に区別することができるが、これらを総じてレーザビームBと呼ぶ。
レーザ発振器2は、パルス状のレーザビームを連続的に出射するものである。具体的には、レーザ発振器2は、制御部9から出力されるトリガ信号を受けて、パルス状のレーザビームB1を連続的に出射する構成をしている。より具体的には、レーザビームB1は、光軸と直交する断面方向に着目すると、円形ないし楕円形状のスポット形状をしており、概ねガウス分布のエネルギー分布(ガウシアンなビームプロファイルとも言う)を有している。
位相変調器3は、レーザビームBを通過させる領域の空間光位相分布を変調させるホログラムパターンを表示させて、所定のビームスポット群Pを生成させるものである。具体的には、位相変調器3は、ホログラムパターン表示部を備え、ホログラムパターン生成機能を有するコンピュータや制御部9等により生成された、所定のホログラムパターンを表示させるものである。より具体的には、位相変調器3は、レーザビームBを通過させる領域の微小区画毎に所定の屈折率を設定して、ホログラムパターンを表示させるものである。
集光レンズ4は、位相変調器3を通過させたレーザビームB2を集光させるものである。
なお、ホログラムパターンは、位相変調器3に入射するレーザビームB1のビーム径やビームプロファイル、位相変調器3と集光レンズ4との距離、集光レンズ4と薄膜Fまでの距離、ビームスポット群Pを構成するビームスポットの個数や間隔等に基づいて、予め生成しておく。
なお、レーザ照射部Lは、必要に応じて、レーザビームBの光路中にミラー21やビームエキスパンダ22、アッテネータなど(不図示)を備えた構成としても良い。
相対移動部5は、ワークWの厚み方向(Z方向)に直交する方向(XY方向)に、ワークWとレーザビームBとの相対位置を移動させるものである。具体的には、相対移動部5は、ワークWに照射するビームスポット群Pの位置をXY方向に変更するものである。より具体的には、相対移動部5は、XYステージ機構50等を備えて構成されている。
XYステージ機構50は、ワークWを保持したワーク保持部HをX方向やY方向に移動させるものである。具体的には、XYステージ機構50は、X軸アクチュエータ50x、Y軸アクチュエータ50y等を備えている。
X軸アクチュエータ50xは、ワーク保持部HをX方向に所定の速度で移動させ、所定の位置で静止させるものである。Y軸アクチュエータ50yは、ワーク保持部HをY方向に所定の速度で移動させ、所定の位置で静止させるものである。X軸アクチュエータ50xとY軸アクチュエータ50yは、制御部9から出力される制御信号に基づいて駆動制御される。
そのため、相対移動部5は、ワークWに対して矢印Vで示す方向にビームスポット群Pを相対移動させることができる。
制御部9は、ワークWの厚みt方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットを連続的に配置させたビームスポット群Pが薄膜Fの表面位置を含むように、位相変調器3にホログラムパターンを表示させて、薄膜Fを加工するものである。
具体的には、制御部9は、以下の機能を備えている。
1)レーザ発振器2に対してパルス状のレーザビームBを照射するためのトリガ信号を送信する機能。
2)位相変調器3に表示させるホログラムパターンを取得または生成する機能。
3)位相変調器3に対して所定のホログラムパターンを表示させる機能。
4)X軸アクチュエータ50x、Y軸アクチュエータ50y等の現在位置情報を把握し、X軸アクチュエータ50x、Y軸アクチュエータ50y等の移動速度や位置等を制御する機能。
5)予め登録された加工パターン情報に基づいて、相対移動部5を制御してワークWに対するビームスポット群Pの照射位置をXY方向に相対移動させる。
1)レーザ発振器2に対してパルス状のレーザビームBを照射するためのトリガ信号を送信する機能。
2)位相変調器3に表示させるホログラムパターンを取得または生成する機能。
3)位相変調器3に対して所定のホログラムパターンを表示させる機能。
4)X軸アクチュエータ50x、Y軸アクチュエータ50y等の現在位置情報を把握し、X軸アクチュエータ50x、Y軸アクチュエータ50y等の移動速度や位置等を制御する機能。
5)予め登録された加工パターン情報に基づいて、相対移動部5を制御してワークWに対するビームスポット群Pの照射位置をXY方向に相対移動させる。
より具体的には、制御部9は、レーザ発振器2、位相変調器3、相対移動部5に対して制御信号やデータ等を出力し、各部を制御するものである。より具体的には、制御部9は、コンピュータ、プログラマブルロジックコントローラ、制御用コントローラなど(ハードウェア)と、その実行プログラム(ソフトウェア)で構成されており、信号入出力手段やデータ通信手段などを介して各部を制御することができる。
この様な構成をしているので、本発明に係るレーザ加工装置1は、薄膜Fの除去加工に足りるエネルギー密度の複数のビームスポットP1〜P4を連続的に配置させたビームスポット群Pを、薄膜Fの表面位置を含むように照射してレーザ加工を行うことができる。換言すれば、本発明に係るレーザ加工装置1は、加工焦点深度が深くなったようなビームスポット群Pを形成してレーザ加工することが可能となる。
よって、レーザ加工装置1は、相対移動部5でワークWとレーザビームBとの相対位置を移動させた際に、ワークWに形成された薄膜Fが光軸方向(Z方向)にうねりがあっても、レーザ加工できる範囲Rb内に薄膜Fのうねる範囲Rfを収めながら、XY方向に加工位置を変更(つまり、相対移動)することができる。
そのため、本発明に係るレーザ加工装置およびレーザ加工方法によれば、加工速度を速くしたり変えたりしても、確実に薄膜Fを除去加工することができ、加工不良の部位の発生を防止または低減させることができる。
1 レーザ加工装置
2 レーザ発振器
3 位相変調器
4 集光レンズ
5 相対移動部
9 制御部
H ワーク保持部
L レーザ照射部
B レーザビーム
P ビームスポット群
P1〜P4 ビームスポット
21 ミラー
22 ビームエキスパンダ
50 XYステージ機構
50x X軸アクチュエータ
50y Y軸アクチュエータ
W ワーク(加工対象物)
F 薄膜
F’ 除去加工された部位
V ビーム進行方向
Rb ビームスポット群Pの長さ
Rf 薄膜Fのうねる範囲
2 レーザ発振器
3 位相変調器
4 集光レンズ
5 相対移動部
9 制御部
H ワーク保持部
L レーザ照射部
B レーザビーム
P ビームスポット群
P1〜P4 ビームスポット
21 ミラー
22 ビームエキスパンダ
50 XYステージ機構
50x X軸アクチュエータ
50y Y軸アクチュエータ
W ワーク(加工対象物)
F 薄膜
F’ 除去加工された部位
V ビーム進行方向
Rb ビームスポット群Pの長さ
Rf 薄膜Fのうねる範囲
Claims (4)
- 薄膜が形成されたワークにレーザビームを集光させたビームスポットを照射して、当該薄膜を加工するレーザ加工装置において、
前記レーザビームを出射するレーザ発振器と、
前記レーザビームを通過させる領域の空間光位相分布を変調させるホログラムパターンを表示させて、所定のビームスポットを生成させる位相変調器と、
前記位相変調器を通過させた前記レーザビームを集光させる集光レンズと、
前記ワークの厚み方向に直交する方向に、当該ワークと前記レーザビームとの相対位置を移動させる相対移動部とを備え、
前記ワークの厚み方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットを連続的に配置させたビームスポット群が前記薄膜の表面位置を含むように、前記位相変調器に前記ホログラムパターンを表示させて、当該薄膜を加工する制御部を備えた
ことを特徴とする、レーザ加工装置。 - 前記相対移動部で前記ワークと前記レーザビームとの相対位置を移動させた際に当該ワークに形成された前記薄膜が厚み方向にうねる範囲が、前記ビームスポット群に含まれることを特徴とする、請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記位相変調器は、前記レーザビームを通過させる領域の微小区画毎に所定の屈折率を設定して、前記ビームスポット群が形成されるような前記ホログラムパターンを表示させることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のレーザ加工装置。
- 薄膜が形成されたワークにレーザビームを集光させたビームスポットを照射して、当該薄膜を加工するレーザ加工方法において、
前記レーザビームを出射するレーザ発振器と、
前記レーザビームを通過させる領域の空間光位相分布を変調させるホログラムパターンを表示させて、所定のビームスポットを生成させる位相変調器と、
前記位相変調器を通過させた前記レーザビームを集光させる集光レンズとを用い、
前記ワークの厚み方向に焦点位置の異なる複数のビームスポットを連続的に配置させたビームスポット群を、前記薄膜の表面位置を含むように照射して当該薄膜を加工する
ことを特徴とする、レーザ加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019008730A JP2020116599A (ja) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019008730A JP2020116599A (ja) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 |
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JP2019008730A Pending JP2020116599A (ja) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP2020116599A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112021002662T5 (de) | 2020-07-06 | 2023-03-16 | Omron Healthcare Co., Ltd. | Niederfrequenzbehandlungsvorrichtung, steuerverfahren und steuerprogramm |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63154280A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-27 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | レ−ザ加工装置 |
WO2014156689A1 (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
-
2019
- 2019-01-22 JP JP2019008730A patent/JP2020116599A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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JPS63154280A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-27 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | レ−ザ加工装置 |
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DE112021002662T5 (de) | 2020-07-06 | 2023-03-16 | Omron Healthcare Co., Ltd. | Niederfrequenzbehandlungsvorrichtung, steuerverfahren und steuerprogramm |
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