JP2020107912A - 光電変換膜の製造方法と光電変換素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
組成式:ABX3
(式中、Aはアミン化合物の1価陽イオンであり、Bは金属元素の2価陽イオンであり、Xはハロゲン元素の1価陰イオンである。)
で表される組成を有し、実質的に全て、前記光電変換材料分散液中で平均粒径が10nm以上10000nm以下である結晶粒子の形態で存在するペロブスカイト材料と、前記ペロブスカイト材料に対する貧溶媒からなり、前記ペロブスカイト材料が結晶粒子の形態で分散され、かつ実質的に溶解されない分散媒とを含有する。
組成式:ABX3
(式中、Aはアミン化合物の1価陽イオンであり、Bは金属元素の2価陽イオンであり、Xはハロゲン元素の1価陰イオンである。)
で表される組成を有し、平均粒径が10nm以上10000nm以下である結晶粒子の形態で存在するペロブスカイト材料と、前記ペロブスカイト材料に対する貧溶媒からなり、前記ペロブスカイト材料が前記結晶粒子の形態で分散され、かつ実質的に溶解されない分散媒とを含有する光電変換材料分散液を付着させて、前記ペロブスカイト材料を含む膜を光電変換膜として製膜する工程と、前記光電変換膜上に第2の電極を配置する工程とを具備する。
図1は実施形態の光電変換材料分散液の状態を模式的に示す図である。図1に示す光電変換材料分散液1は、分散媒2と、分散媒2中に分散されたペロブスカイト結晶粒子3とを備えている。ペロブスカイト結晶粒子3は、下記の式(1)で表される組成を有し、3次元結晶構造を持つものである。
組成式:ABX3 …(1)
式(1)において、Aはアミン化合物の1価陽イオンであり、Bは金属元素の2価陽イオンであり、Xはハロゲン元素の1価陰イオンである。
t=(Aサイトイオン半径+Xサイトイオン半径)/{21/2×(Bサイトイオン
半径+Xサイトイオン半径)}…(2)
次に、光電変換膜の製造方法および製造装置の実施形態について、図面を参照して説明する。以下では、光電変換膜の製造工程に、塗布製膜法を適用した第1の実施形態、電着製膜法を適用した第2の実施形態、電子写真方式を適用した第3の実施形態について主として述べる。ただし、光電変換膜の製造方法は、これらに限定されるものではない。実施形態の光電変換膜の製造方法は、実施形態の光電変換材料分散液1を製膜対象物に付着させて、光電変換膜としてペロブスカイト結晶粒子3を含む膜を形成する工程を具備する方法であればよい。また、実施形態の光電変換膜の製造装置は、実施形態の光電変換材料分散液1を製膜対象物に付着させる製膜機構を具備する装置であればよい。
図4は第1の実施形態による光電変換膜の製造工程を模式的に示している。図4(a)に示すように、製膜対象物として第1の電極11を有する基板12を用意する。基板12の第1の電極11上に光電変換材料分散液1を塗布する。光電変換材料分散液1の塗布法(および塗布機構)は、光電変換材料分散液1を製膜対象物上に均一な膜厚で供給できる方法(および機構)であればよく、例えばスピンコート法、スリットコート法、スクリーン印刷法、スプレー法、メニスカス塗布法等の液体塗布法が適用される。
図10は第2の実施形態による光電変換膜の製造工程を模式的に示している。図10(a)に示すように、基板12の第1の電極11と対向させて電着用電極17を配置する。第1の電極11と電着用電極17との間に光電変換材料分散液1を存在させ、この状態で第1の電極11と電着用電極17に電源18から電圧を印加する。図10(a)では図示を省略したが、光電変換材料分散液1を保持し得るような液槽や密閉構造等が適用される。印加された電圧によって、光電変換材料分散液1中のペロブスカイト結晶粒子3は第1の電極11上に電着される。光電変換材料分散液1に含まれるイオン性の不純物の存在によりペロブスカイト結晶粒子3が電気泳動する。また、ペロブスカイト結晶粒子3が誘電性を持つ場合、いわゆる誘電泳動によって粒子が泳動する。あるいは、電圧を印加することによって、ペロブスカイト結晶粒子3に電荷が注入されて電気泳動する。
図11は第3の実施形態による光電変換膜の製造装置(製膜装置)111とそれを用いた光電変換膜の製造工程を示している。製膜装置111およびそれを用いた製膜工程は、複写機やプリンタ等で用いられる、いわゆる電子写真方式を用いている。電子写真方式を用いることで、製膜対象物上に短冊状に限らず、任意のパターンで光電変換膜を製膜できる。製膜装置111は、静電パターン担持体として感光層112を有する感光体ドラム113と、感光層112を帯電させる帯電器114と、感光層112を露光する露光器115と、感光体ドラム113と所定の間隙を持って配置された電着部材116と、電着部材116に供給される光電変換材料分散液1を収容する容器117と、電着部材116に電圧を印加する電源118と、転写部材119と、転写バイアス印加部材120と、転写バイアス印加部材120に電圧を印加する電源121とを備えている。電極11を有する基板(電極付き基板)12は、感光体ドラム113と転写部材119との間に挿入される。
次に、光電変換素子の実施形態について、図面を参照して説明する。以下では、光電変換素子を太陽電池モジュールに適用した実施形態について主として述べる。ただし、実施形態の光電変換素子は、これに限定されるものではない。実施形態の光電変換素子は太陽電池以外に、光センサ、発光素子、光ダイオード、光メモリ等に適用することができる。また、以下では短冊状のセルを複数並べて形成すると共に、これら複数のセル間を直列に接続した太陽電池モジュールについて主として述べるが、1つの大面積セルを有する太陽電池モジュールであってもよい。他の光電変換素子も同様である。
実施例1では、図6および図7に示した製膜装置101を用いて、発電部面積が10mm×10mmのペロブスカイト光電変換膜を形成し、それを用いてペロブスカイト太陽電池を作製した。まず、透明電極付き支持基板としてITO膜を有する100mm×100mmの無アルカリガラス基板を用意し、前処理としてUVオゾン洗浄を行った。
ペロブスカイト層の製膜プロセス以外は、実施例1と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。ジメチルホルムアミド(DMF)1mLにCH3NH3I185mgとPbI2538mgと加えて撹拌し、さらに孔径5μmのフィルタに通すことでペロブスカイト材料溶液を調製した。メニスカス製膜装置を用いてペロブスカイト層の製膜を行った。製膜は窒素雰囲気下で行った。被処理基板と塗布ヘッドの間隔を0.88mmに設定し、ステージの移動速度を10mm/sに設定して被処理基板上にペロブスカイト溶液を塗布し、液膜に窒素ブローを吹きかけることで強制乾燥させた。自然乾燥に比べて均質なペロブスカイト層が製膜できる。この後、80℃で2時間加熱することでペロブスカイト層の結晶化を進行させた。さらに、実施例1と同様に窒素雰囲気下において90℃で2時間加熱することでペロブスカイト層のパッキング処理を行った。ペロブスカイト層の厚さは実施例1と同様に約400nmであった。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で5.5%であった。比較例1に対する実施例1の変換効率の向上比は1.04であった。
ペロブスカイト層のパッキング処理法以外は、実施例1と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。パッキング処理には溶媒蒸気暴露法を用いた。窒素雰囲気内で容器にDMFを少量滴下し、さらにペロブスカイト材料分散液を塗布および自然乾燥させた基板を入れ、容器を密閉して10分間放置することで、溶媒蒸気暴露によるパッキング処理を行った。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で6.4%であり、実施例1よりも高い効率であった。
ペロブスカイト層の製膜プロセス以外は、実施例2と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。ペロブスカイト層の製膜は、比較例1と同様にして実施した。その後、実施例2と同様に溶媒蒸気暴露によるパッキング処理を行ってペロブスカイト層の製膜を行った。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で5.9%であった。比較例2に対する実施例2の変換効率の向上比は1.08であった。さらに、この値は実施例1と比較例1で用いた加熱によるパッキング処理よりも高い向上比であった。
ペロブスカイト層のパッキング処理法以外は、実施例1と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。パッキング処理には加圧を用いた。窒素雰囲気内でペロブスカイト結晶層側に保護シートとしてPTFEシートを挿入して2枚の金属板で基板を挟んで加圧することによりパッキング処理を行った。加圧時の圧力は、基板の面積1cm2あたり約30kg重となる圧力に調整した。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で6.5%であり、実施例1、2よりも高い効率であった。
ペロブスカイト層の製膜プロセス以外は、実施例3と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。ペロブスカイト層の製膜は、比較例1と同様にして実施した。その後、実施例3と同様に加圧によるパッキング処理を行ってペロブスカイト層の製膜を行った。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で5.9%であった。比較例3に対する実施例3の変換効率の向上比は1.10であった。この値は実施例1と比較例1で用いた加熱によるパッキング処理や実施例2と比較例2で用いた溶媒蒸気暴露によるパッキング処理よりも高い向上比であった。
ペロブスカイト層のパッキング処理法以外は、実施例1と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。パッキング処理には、溶媒蒸気暴露と加熱と加圧の3つを併用した。実施例2と同様の条件で溶媒蒸気暴露を施した後、溶媒蒸気容器から基板を取り出して、すぐに90℃に加熱した2枚の金属板で基板を加圧した。加圧条件は実施例3と同様とした。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で7.2%であり、実施例1〜3よりも高い効率であった。
ペロブスカイト層の製膜プロセス以外は、実施例4と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。ペロブスカイト層の製膜は、比較例1と同様にして実施した。その後、実施例4と同様に溶媒蒸気暴露と加熱と加圧の3つを併用したパッキング処理を行った。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル個の平均値で5.9%であった。比較例4に対する実施例4の変換効率の向上比は1.22であった。この値は実施例1と比較例1で用いた加熱によるパッキング処理、実施例2と比較例2で用いた溶媒蒸気暴露によるパッキング処理、実施例3と比較例3で用いた加圧よるパッキング処理よりも高い向上比であった。
発電部面積を12×50mmにする以外は、実施例4と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で6.7%であった。
ペロブスカイト層の製膜プロセス以外は、実施例5と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。ペロブスカイト層の製膜は、比較例1と同様にして実施した。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で2.3%であった。比較例5に対する実施例5の変換効率の向上比は2.91であった。この値は実施例4と比較例4で説明した発電部面積が小さい太陽電池セルを用いた場合に比べて顕著に高い向上比であった。すわなち、ペロブスカイト材料溶液を用いる製膜方法の場合、膜質の均一性が低いため、製膜面積が大きくなるほど急激に光電変換効率が低下する。これに対して、ペロブスカイト材料分散液を用いる製膜方法の場合、膜質の均一性が高いため、製膜面積が大きくなっても光電変換効率が低下しにくい。
素子タイプをセルから直列モジュールに変えると共に、それに伴って製膜方法をパターン製膜に変更する以外は、実施例5と同様にしてペロブスカイト太陽電池モジュールの作製・評価を行った。第1の中間層のPEDOT・PSS層とペロブスカイト結晶層は、図8および図9に示した製膜装置101を用いてパターン製膜した。太陽電池モジュールの構造は図12に示したように、隣接セル間を直列接続したものである。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で5.5%であった。直列モジュールの単セルの発電部面積は、実施例5と同じく12×50mmとし、光照射面積に対する発電部面積の比、すなわち開口率は94%である。
ペロブスカイト層の製膜プロセス以外は、実施例6と同様にしてペロブスカイト太陽電池モジュールの作製・評価を行った。ペロブスカイト層の製膜プロセスには、ペロブスカイト材料溶液を用いる方法を適用した。ペロブスカイト材料溶液を用いる方法でパターン製膜した場合、塗布膜が拡がってしまう現象が起き、直列接続部にもペロブスカイト層が製膜されてしまった。光電変換効率は0.1%であり、やはりほとんど太陽電池として動作しないものであった。ペロブスカイト材料分散液を用いる方法に比べて、溶液を用いる方法のパターン精度は低い。塗布膜が拡がってしまう現象の原因として、製膜対象物に対する塗布液の濡れ性の違い、塗布液中のイオンの有無の違い、結晶成長現象の有無の違い、塗布液の粘度の違い、塗布液の溶媒の乾燥速度の違い等が考えられる。
ペロブスカイト層の製膜に電着を用いる以外は、実施例1と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。電着プロセスは図14に示す製膜装置を用いて実施した。第1の中間層25を製膜した電極(24)付き支持基板23と、電着用対向電極31を有する電着用基材32とを、スペーサ33を挟んで対向させた。ペロブスカイト材料分散液1をその間隙に注入し、第1の電極24と電着用対向電極31との間に電源34から電圧を印加することでペロブスカイト結晶粒子3を第1の中間層25上に電着した。
ペロブスカイト材料分散液に電荷付与剤を添加する以外は、実施例7と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。電荷付与剤としては、ナフテン酸ジルコニウムのミネラルスピリット溶液(金属含有量6%)を用いた。電荷付与剤の添加量は、ペロブスカイト材料分散液中のペロブスカイト材料97質量部に対して、ナフテン酸ジルコニウムのミネラルスピリット溶液が3重量部となるように設定した。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で6.4%であった。この値は実施例1に比べて高いことはもちろんのこと、ペロブスカイト材料分散液に電荷付与剤を添加していない実施例7よりもさらに高い値であった。電着プロセスの際、第1の電極24が負極になるように電圧を印加することで、ペロブスカイト結晶粒子3を第1の電極24側に電着した。すなわち、ペロブスカイト結晶粒子3は電荷付与剤を添加したことにより正に帯電していると推測される。
ペロブスカイト層のパッキング処理法以外は、実施例8と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。パッキング処理には、実施例2と同様に溶媒蒸気暴露を適用した。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で6.9%であった。比較例2に対する実施例9の変換効率の向上比は1.17であった。この値は実施例2と比較例2で説明したペロブスカイト材料分散液を用いた塗布製膜による向上比よりもさらに高い向上比であった。
ペロブスカイト層のパッキング処理法以外は、実施例8と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。パッキング処理には、実施例3と同様に加圧を適用した。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で7.1%であった。比較例3に対する実施例10の変換効率の向上比は1.20であった。この値は実施例3と比較例3で説明したペロブスカイト材料分散液を用いた塗布製膜による向上比よりもさらに高い向上比であった。
ペロブスカイト層のパッキング処理法以外は、実施例8と同様にしてペロブスカイト太陽電池セルの作製・評価を行った。パッキング処理には、実施例4と同様に溶媒蒸気暴露と加熱と加圧の3つを併用した。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で7.4%であった。比較例4に対する実施例11の変換効率の向上比は1.25であった。この値は実施例4と比較例4で説明したペロブスカイト材料分散液を用いた塗布製膜による向上比よりもさらに高い向上比であった。
素子タイプをセルから直列モジュールに変えると共に、それに伴ってペロブスカイト結晶層の電着方法を変更する以外は、実施例11と同様にしてペロブスカイト太陽電池モジュールの作製・評価を行った。まず、第1の中間層のPEDOT・PSS層は実施例6と同様にメニスカス塗布によるパターン製膜を適用した。ペロブスカイト結晶層の電着には、図15に示すようなパターン電着プロセスを用いた。第1の中間層25を製膜した電極(24)付き支持基板23と、電着用対向電極31を有する電着用基材32とを、スペーサ33を挟んで対向させた。このとき、第1の電極24と電着用対向電極31の大きさや位置の関係を適宜設定することによって、第1の電極24の一部にはペロブスカイト結晶粒子3が電着しないように、すなわち第1の電極24または第1の中間層25の一部を露出させることが可能であるため、複数のセルを直列接続することができる。
ペロブスカイト結晶層のパターン製膜を大気中の電子写真方式に変えると共に、パッキング処理を大気中で行う以外は、実施例12と同様にしてペロブスカイト太陽電池モジュールの作製・評価を行った。ペロブスカイト結晶層は、図11に示した製膜装置111を用いてパターン製膜した。感光体には、アモルファスシリコン感光体を用いた。コロナ帯電には正帯電タイプを用い、感光体の表面電位が900Vになるように設定した。露光器にはレーザ方式を用い、露光部の感光体の表面電位が100Vになるように設定した。電着ローラと感光体とのギャップは0.5mmとし、電着ローラに印加する電圧は600Vとした。転写バイアスローラに印加する電圧は−800Vとした。
モジュールの形状を図13に示す異形状とする以外は、実施例13と同様にしてペロブスカイト太陽電池モジュールの作製・評価を行った。図13に示す異形直列モジュールは、腕時計向けの太陽電池モジュールをモチーフとしたものであり、扇型の単セルが4つ直列に接続されたものである。このようにして作製したペロブスカイト太陽電池の光電変換効率は、サンプル3個の平均値で5.1%であり、太陽電池として十分に動作するものであることが確認された。扇型のような異形のパターン製膜は、メニスカス塗布法のような製膜方法では困難である。電子写真方式は異形のパターン製膜にも適合する。
Claims (13)
- 光電変換材料分散液を製膜対象物に付着させて、前記製膜対象物上に光電変換膜としてペロブスカイト結晶粒子を含む膜を形成する製膜工程を具備する光電変換膜の製造方法であって、
前記光電変換材料分散液は、
組成式:ABX3
(式中、Aはアミン化合物の1価陽イオンであり、Bは金属元素の2価陽イオンであり、Xはハロゲン元素の1価陰イオンである。)
で表される組成を有し、実質的に全て、前記光電変換材料分散液中で平均粒径が10nm以上10000nm以下である結晶粒子の形態で存在するペロブスカイト材料と、前記ペロブスカイト材料に対する貧溶媒からなり、前記ペロブスカイト材料が結晶粒子の形態で分散され、かつ実質的に溶解されない分散媒とを含有する、光電変換膜の製造方法。 - さらに、前記膜を前記ペロブスカイト材料の良溶媒に暴露する工程、前記膜を加熱する工程、および前記膜を加圧する工程の少なくとも1つを具備する、請求項1に記載の光電変換膜の製造方法。
- 前記製膜工程は、前記製膜対象物上に塗布ヘッドを配置する工程と、前記製膜対象物と前記塗布ヘッドとの間に前記光電変換材料分散液のメニスカス柱を形成する工程と、前記製膜対象物および前記塗布ヘッドの少なくとも一方を移動させ、前記メニスカス柱から前記光電変換材料分散液を前記製膜対象物に塗布する工程とを具備する、請求項1または請求項2に記載の光電変換膜の製造方法。
- 前記製膜工程は、前記製膜対象物と電着用対向電極との間に前記光電変換材料分散液を供給する工程と、前記製膜対象物および前記電着用対向電極に電圧を印加し、前記光電変換材料分散液中の前記ペロブスカイト材料を前記製膜対象物に電着させる工程とを具備する、請求項1または請求項2に記載の光電変換膜の製造方法。
- 前記製膜工程は、静電パターン担持体に静電パターンを形成する工程と、前記静電パターン担持体に前記光電変換材料分散液を供給し、前記静電パターンに応じた前記ペロブスカイト材料を含む膜のパターンを形成する工程と、前記ペロブスカイト材料を含む膜のパターンを前記製膜対象物に転写する工程とを具備する、請求項1または請求項2に記載の光電変換膜の製造方法。
- 前記光電変換材料分散液は、さらに、前記ペロブスカイト材料の前記組成に含まれず、かつ前記結晶粒子の形態で存在する前記ペロブスカイト材料に付着している電荷付与剤を含有する、請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の光電変換膜の製造方法。
- 前記電荷付与剤は、ナフテン酸、オレイン酸、オクチル酸、スルホン酸、ドデシル酸、デドシルベンゼンスルホン酸、および2−エチルヘキサン酸から選ばれる少なくとも1つの有機酸と、ジルコニウム、コバルト、銅、ニッケル、鉄、亜鉛、ランタン、ガドリニウム、ナトリウム、およびカルシウムから選ばれる少なくとも1つの金属との塩を含む、請求項6に記載の光電変換膜の製造方法。
- 前記製膜工程は、さらに前記光電変換材料分散液を作製する工程を有し、
前記前記光電変換材料分散液の作製工程は、
前記ペロブスカイト材料の原料を用意する工程と、
前記貧溶媒からなる第1の液体と、前記ペロブスカイト材料の溶解度が前記第1の液体より高く、かつ前記第1の液体より蒸気圧が高い溶媒からなる第2の液体とを用意する工程と、
前記原料を前記第2の液体に溶解させて、第1の混合液を調製する工程と、
前記第1の混合液と前記第1の液体とを混合し、第2の混合液を調製する工程と、
前記第2の混合液から前記第2の液体を蒸発させることによって、前記第2の液体に溶解させた前記原料を結晶化させて生成した前記結晶粒子の形態で存在する前記ペロブスカイト材料を前記第1の液体に分散させた分散液を得る工程と
を具備する、光電変換膜の製造方法。 - 基板上に配置された第1の電極上に、
組成式:ABX3
(式中、Aはアミン化合物の1価陽イオンであり、Bは金属元素の2価陽イオンであり、Xはハロゲン元素の1価陰イオンである。)
で表される組成を有し、平均粒径が10nm以上10000nm以下である結晶粒子の形態で存在するペロブスカイト材料と、前記ペロブスカイト材料に対する貧溶媒からなり、実質的に全て、前記ペロブスカイト材料が前記結晶粒子の形態で分散され、かつ実質的に溶解されない分散媒とを含有する光電変換材料分散液を付着させて、前記ペロブスカイト材料を含む膜を光電変換膜として製膜する工程と、
前記光電変換膜上に第2の電極を配置する工程と
を具備する光電変換素子の製造方法。 - 前記光電変換膜の製膜工程は、さらに前記光電変換膜を前記ペロブスカイト材料の良溶媒に暴露する工程、前記光電変換膜を加熱する工程、および前記光電変換膜を加圧する工程の少なくとも1つを具備する、請求項9に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記光電変換材料分散液は、さらに、前記ペロブスカイト材料の前記組成に含まれず、かつ前記結晶粒子の形態で存在する前記ペロブスカイト材料に付着している電荷付与剤を含有する、請求項9又は請求項10に記載の光電変換膜の製造方法。
- 前記電荷付与剤は、ナフテン酸、オレイン酸、オクチル酸、スルホン酸、ドデシル酸、デドシルベンゼンスルホン酸、および2−エチルヘキサン酸から選ばれる少なくとも1つの有機酸と、ジルコニウム、コバルト、銅、ニッケル、鉄、亜鉛、ランタン、ガドリニウム、ナトリウム、およびカルシウムから選ばれる少なくとも1つの金属との塩を含む、請求項11に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記光電変換膜の製膜工程は、さらに前記光電変換材料分散液を用意する工程を具備し、前記光電変換材料分散液を用意する工程は、
前記ペロブスカイト材料の原料を用意する工程と、
前記貧溶媒からなる第1の液体と、前記ペロブスカイト材料の溶解度が前記第1の液体より高く、かつ前記第1の液体より蒸気圧が高い溶媒からなる第2の液体とを用意する工程と、
前記原料を前記第2の液体に溶解させて、第1の混合液を調製する工程と、
前記第1の混合液と前記第1の液体とを混合し、第2の混合液を調製する工程と、
前記第2の混合液から前記第2の液体を蒸発させることによって、前記第2の液体に溶解させた前記原料を結晶化させて生成した前記結晶粒子の形態で存在する前記ペロブスカイト材料を前記第1の液体に分散させた分散液を得る工程と
を具備する、請求項9ないし請求項12のいずれか1項に記載の光電変換素子の製造方法。
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