JP2020107803A - 基板処理装置、搬送モジュール、および連結モジュール - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、第1実施形態に係る基板処理装置1の内部のレイアウトを説明するための図解的な平面図である。図2は、図1に示すII−II線に沿う位置における基板処理装置1の内部を示す図解的な側断面図である。図3は、図1に示すIII−III線に沿う位置における基板処理装置1の内部を示す図解的な側断面図である。図4は、図1に示すIV−IV線に沿う位置における基板処理装置1の内部を示す図解的な側断面図である。
処理セクション3の第1処理モジュール3Aは、インデクサセクション2から供給される基板Wを一時的に保持する第1受渡部PS1、および基板Wに規定処理を行う液処理ユニットP1〜P6を有する。第1処理モジュール3Aは、直方体の各辺に対応する外枠をなすフレーム3FAを備えており、第1受渡部PS1および液処理ユニットP1〜P6は、フレーム3FAに固定される。フレーム3FAは、第1処理モジュール3Aの外形を規定する部材である。
図7に示すように、第2処理モジュール3BのY軸方向中央の下部には、隔壁851Bで囲まれた配管室861Bが設けられている。配管室861Bは、処理タワーTW3,TW4の間に配されている。第3処理モジュール3CのY軸方向中央の下部には、隔壁851Cで囲まれた配管室861Cが設けられている。配管室861Cは、処理タワーTW5,TW6の間に配されている。
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
2 インデクサセクション(基板供給部)
20 基板収容器
21 インデクサロボット
302T メンテナンス室
303T 出入口部
304T ドア
32 基板保持部
36 シャトル搬送装置
3A,3AH 第1処理モジュール
3B 第2処理モジュール
3C 第3処理モジュール
3FT フレーム
3S 上面FL5S,FL
3T 搬送モジュール
41 基台部
42 水平駆動部
43 鉛直駆動部
44A,44B ハンド
50 処理室
51 スピンチャック
52 薬液ノズル
7 制御部
81A〜81C,82A〜82C,83A,83C,84A〜84C 配管接続口群
831A 配管(供給配管)
861A 配管室(第1配管室)
86T 配管室(第2配管室)
91 ジャバラ部材
CR1 第1搬送ロボット(第1搬送装置)
CR2 第2搬送ロボット(第2搬送装置)
FL1 第1床部
FL2 第2床部
FL1S,FL2S 上面
HP1〜HP10 加熱処理ユニット
IR インデクサロボット
P1〜P6 液処理ユニット(第1規定処理ユニット)
P7〜P12 液処理ユニット(第2規定処理ユニット)
P13〜P18 液処理ユニット(第3規定処理ユニット)
PS1 第1受渡部
PS2 第2受渡部
TW1〜TW6,TW1a,TW2a 処理タワー
W 基板
Claims (11)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
基板に対して規定処理を行う第1規定処理ユニット、および前記基板を一時的に保持する第1受渡部を有する第1処理モジュールと、
前記第1処理モジュールの第1方向側に配され、前記第1受渡部に対して前記第1方向側から前記基板を供給する基板供給部と、
前記第1処理モジュールの前記第1方向とは反対の第2方向側に配され、前記第1受渡部から前記第2方向に前記基板を搬出して前記第1規定処理ユニットに搬入する第1搬送装置を有する搬送モジュールと、
を備え、
前記搬送モジュールは、
前記第1搬送装置が内部に載置される載置空間を規定するフレームと、
前記載置空間の内側に配置され、前記第1搬送装置の基台部が設置される第1床部と、
前記載置空間の内側において、前記第1床部よりも前記第1方向に直交する水平方向である第3方向側に配置される第2床部と、
前記第2床部よりも前記第3方向側に設けられ、前記載置空間を前記フレームの外部に連通させる出入口部と、
を含む、基板処理装置。 - 請求項1の基板処理装置であって、
前記第1搬送装置は、
前記基板を保持するハンドと、
前記ハンドを鉛直方向に移動させる鉛直モータを含む鉛直駆動部と、
を備える、基板処理装置。 - 請求項2の基板処理装置であって、
前記第1床部が、前記第2床部よりも鉛直方向の下方に設けられている、基板処理装置。 - 請求項2または請求項3の基板処理装置であって、
前記第1搬送装置は、前記ハンドを基台部に対して水平方向に離間または接近する方向に移動させる移動モータを含む水平移動駆動部を含み、
前記第1床部が前記第1受渡部よりも前記第3方向とは反対側に設けられている、基板処理装置。 - 請求項4の基板処理装置であって、
前記第1規定処理ユニットは、前記基板に流体を供給するノズルを有する、基板処理装置。 - 請求項5の基板処理装置であって、
前記搬送モジュールおよび前記第1処理モジュールにまたがって配置され、前記ノズルに前記流体を供給する供給配管、
をさらに備える、基板処理装置。 - 請求項6の基板処理装置であって、
前記供給配管が内側に挿通される筒状のジャバラ部材、
をさらに備え、
前記第1処理モジュールは、前記供給配管が配設される第1配管室を有し、
前記搬送モジュールは、前記供給配管が配設される第2配管室を有し、
前記ジャバラ部材の一端側の開口部が前記第1配管室に連結され、他端側の開口部が前記第2配管室に連結されている、基板処理装置。 - 請求項5から請求項7のいずれか1項の基板処理装置であって、
前記第2床部よりも下方に、前記流体を供給される配管接続口が設けられている、基板処理装置。 - 請求項1から請求項8のいずれか1項の基板処理装置であって、
前記搬送モジュールの前記第2方向側に配され、前記第1方向側から前記第1搬送装置が搬入する前記基板を一時的に保持する第2受渡部および前記基板に規定処理を行う第2規定処理ユニットを有する第2処理モジュールと、
前記第2処理モジュールの前記第2方向側に配され、前記基板に規定処理を行う第3規定処理ユニットを有する第3処理モジュールと
前記第2受渡部と前記第2規定処理ユニットとの間および前記第2受渡部と前記第3規定処理ユニットとの間で前記基板を搬送する第2搬送装置と、
を含む、基板処理装置。 - 基板に対して規定処理を行う第1規定処理ユニットを有する第1処理モジュールを含む基板処理装置において前記基板を搬送する搬送モジュールであって、
前記第1規定処理ユニットに対して第2方向側から前記基板を搬送する第1搬送装置と、
前記第1搬送装置が内部に載置される載置空間を規定するフレームと、
前記載置空間の内側に配置されて前記第1搬送装置の基台部が設置される第1床部と、
前記載置空間の内側において、前記第1床部よりも前記第2方向に直交する水平方向の第3方向側に配置される第2床部と、
前記第2床部を通じて前記載置空間を前記フレームの外部に連通させる出入口部と、
を備える、搬送モジュール。 - 基板を処理する基板処理装置に設けられた連結モジュールであって、
第1処理モジュールと、
前記第1処理モジュールに対して第2方向側に連結される搬送モジュールと、
を備え、
前記第1処理モジュールは、
基板に対して規定処理を行う第1規定処理ユニットと、
前記基板を一時的に保持する第1受渡部と、
を有し、
前記搬送モジュールは、
前記第1受渡部に対して前記第2方向側へ前記基板を搬出するとともに、前記第1規定処理ユニットに対して前記第2方向側から前記基板を搬入する第1搬送装置、
を有する、連結モジュール。
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