JP2020106579A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光走査装置及び画像形成装置の光学性能を維持しつつ小型化を達成する。【解決手段】本発明に係る光走査装置は、光束を偏向して被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された光束を被走査面に導光する結像光学系とを備え、被走査面における軸上像高と軸外像高とで光束の走査速度が互いに異なり、結像光学系は、偏向器に最も近い第１の結像素子と被走査面に最も近い第２の結像素子とを有し、主走査断面において、第１の結像素子の入射面における最軸外主光線と結像光学系の光軸とのなす角度をα、第１の結像素子の出射面における最軸外主光線と該光軸とのなす角度をα´、第２の結像素子と被走査面との該光軸上での距離をＳｋ、結像光学系の該光軸上の焦点距離をｆとするとき、０．９０≦ｓｉｎα´／ｓｉｎα≦１．２００．８０≦１−Ｓｋ／ｆ≦１．３０なる条件式を満たすことを特徴とする。【選択図】 図１

Description

本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ（ＭＦＰ）等の画像形成装置に好適なものである。

近年、光走査装置の小型化を達成するために、結像光学系が一枚の結像素子のみで構成された光走査装置が用いられている。
特許文献１は、一枚の結像素子のみで構成された結像光学系において歪曲補正量を低減できるように非等速走査を採用することによって、更なる小型化を達成した光走査装置を開示している。

特開２０１５−３１８２４号公報

しかしながら、特許文献１に開示されている光走査装置において、偏向器から被走査面までの距離をさらに短縮しようとする場合、走査画角をより大きくすることが必要になり、偏向器の偏向面において光束がけられてしまう可能性が生じる。
そこで本発明は、光走査装置及び画像形成装置の光学性能を維持しつつ小型化を達成することを目的とする。

本発明に係る光走査装置は、光束を偏向して被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された光束を被走査面に導光する結像光学系とを備え、被走査面における軸上像高と軸外像高とで光束の走査速度が互いに異なり、結像光学系は、結像光学系において偏向器に最も近い第１の結像素子と被走査面に最も近い第２の結像素子とを有し、主走査断面において、第１の結像素子の入射面における最軸外主光線と結像光学系の光軸とのなす角度をα、第１の結像素子の出射面における最軸外主光線と該光軸とのなす角度をα´、第２の結像素子と被走査面との該光軸上での距離をＳｋ、結像光学系の該光軸上の焦点距離をｆとするとき、
０．９０≦ｓｉｎα´／ｓｉｎα≦１．２０
０．８０≦１−Ｓｋ／ｆ≦１．３０
なる条件式を満たすことを特徴とする。

本発明によれば、光走査装置及び画像形成装置の光学性能を維持しつつ小型化を達成することができる。

実施例１に係る光走査装置の模式的主走査断面図。 実施例１に係る光走査装置の主走査断面内における像面湾曲及びｆθ特性と像高との関係を示した図。 実施例２に係る光走査装置の模式的主走査断面図。 実施例２に係る光走査装置の主走査断面内における像面湾曲及びｆθ特性と像高との関係を示した図。 実施形態に係る画像形成装置の要部副走査断面図。 実施例１に係る光走査装置の模式的主走査断面拡大図。

以下に、本実施形態に係る光走査装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。

なお、以下の説明において、主走査方向とは、偏向器の回転軸及び光学系の光軸に垂直な方向（回転多面鏡で光束が偏向走査される方向）である。副走査方向とは、偏向器の回転軸に平行な方向である。主走査断面とは、副走査方向に垂直な断面である。副走査断面とは、主走査方向に垂直な断面である。
従って、以下の説明において、主走査方向及び副走査断面は、入射光学系と結像光学系とで異なることに注意されたい。

光走査装置及び搭載される画像形成装置双方の小型化を図るためには、光走査装置に設けられる結像光学系を構成する結像レンズの枚数を少なくすると共に、光路長、すなわち偏向器から被走査面までの距離を短く設計する必要がある。
しかしながら、そのように結像光学系を設計すると、結像光学系の屈折力が強くなってしまい、結像光学系によって生じる像面湾曲や歪曲収差の悪化に繋がる。

そこで、従来の光走査装置の結像光学系において設定されている、像高Ｙと走査角度θとの間においてＹ＝ｆθの式で表される等速走査の関係を要請しないことにより、結像光学系によって生じる歪曲収差をある程度許容するように設計する事で、更なる小型化が可能となる。
この場合、像面湾曲等の諸収差への影響を最小限にするために、結像光学系の焦点距離は長くなり、その結果、結像光学系は偏向器側に近づく傾向となる。

また、搭載される画像形成装置を小型化させるために偏向器から被走査面までの距離を短くしようとすると、被走査面上の必要印字領域を走査するためには、偏向器によって走査する角度幅を広くする、所謂広角化の必要が生じる。
この結果、偏向する光束の角度幅に対して偏向器の反射面の幅が足りなくなり、光束がけられてしまう問題が生じる。
この問題を回避するためには、主走査断面内において入射光学系の光軸が結像光学系の光軸に対してなす角度を小さくする必要が生じる。

以上のように、光走査装置及び搭載される画像形成装置双方の小型化を図ろうとすると、偏向器、結像光学系及び入射光学系それぞれにおいて、互いの間隔が狭くなり、結像光学系のレイアウトが困難な傾向となる。

上記の問題を解決するために、本願出願人は、結像光学系における等速走査の関係を要請しない上で、入射光学系及び結像光学系それぞれにおける適切な屈折力配置を見出した。
これにより、結像光学系を被走査面側に移動させることができ、また主走査断面内において入射光学系の光軸が結像光学系の光軸に対してなす角度を大きくすることができる。
そして、結像光学系のレイアウト性を確保しながら、光走査装置及び搭載される画像形成装置双方の小型化と光走査装置の高性能化との両立を達成することができる。

具体的には、図６に示されているように、入射光学系１０の屈折力を強くすることによって結像光学系５に収束光束を入射させると共に、結像光学系５において第１の結像レンズＬ１の周辺部の正の屈折力を弱める事で、軸外像高に向かう光束を光軸から離れる方向に屈折させている。
これにより、被走査面６上の必要印字領域を走査するために必要な偏向器４の走査角度幅を小さくすることが可能となり、入射光学系１０の光軸が結像光学系５の光軸Ｐに対してなす角度を大きくすることができる。
このように設計することで、上述したような光束が偏向器の偏向面でけられてしまう問題を解消することができる。

また、さらに結像光学系を被走査面側に移動させる事で、結像光学系のレイアウト性を確保することができるが、その際、結像光学系のバックフォーカスが短くなるため、結像光学系の屈折力は強くなる傾向となる。
その場合、結像光学系の軸上像高に対応する光軸近傍と最軸外像高に対応する走査端部との間で性能のバランスを取るために、結像光学系を２枚の結像レンズで構成する必要が生じる。

［実施例１］
図１は、実施例１に係る光走査装置１００の模式的主走査断面図を示している。

光走査装置１００は、光源１、開口絞り２、アナモフィックコリメーターレンズ３、偏向器４、第１の結像レンズＬ１（第１の結像素子）及び第２の結像レンズＬ２（第２の結像素子）を備えている。

光源１としては、半導体レーザー等が用いられる。なお、光源１の発光点の数は、一つでも複数でも構わない。
開口絞り２は、光源１から出射した光束の主走査方向及び副走査方向の光束径を制限する。
アナモフィックコリメーターレンズ３は、副走査断面内に有限のパワー（屈折力）を有しており、開口絞り２を通過した光束を平行光束に変換すると共に、副走査方向に集光する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。

このようにして、光源１から出射した光束は、偏向器４の偏向面の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。

偏向器４は、不図示のモータ等の駆動手段により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転することにより、偏向器４に入射した光束を偏向する。なお、偏向器４は、例えばポリゴンミラー等で構成される。
第１及び第２の結像レンズＬ１及びＬ２は、偏向器４の偏向面によって偏向された光束を被走査面６上に集光（導光）する。
なお、第１の結像レンズＬ１は、主走査断面内の光軸上において負の屈折力を有しており、第２の結像レンズＬ２は、主走査断面内の光軸上において正の屈折力を有しており、共に主走査断面内と副走査断面内とで異なる曲率を有するトーリックレンズである。

光源１から出射した光束は、開口絞り２を通過し、アナモフィックコリメーターレンズ３によって平行光束に変換されると共に副走査方向に集光され、偏向器４の偏向面に入射する。
光源１から出射し、偏向器４の偏向面に入射した光束は、偏向器４により偏向された後、第１及び第２の結像レンズＬ１及びＬ２によって被走査面６上に集光される。そして、偏向器４により偏向された光束は、被走査面６を等速度で走査する。
なお、偏向器４は図中Ａ方向に回転しているため、偏向走査された光束は、被走査面６を図中Ｂ方向に走査する。

本実施例に係る光走査装置１００では、開口絞り２及びアナモフィックコリメーターレンズ３によって、入射光学系１０が構成される。
また、本実施例に係る光走査装置１００では、第１の結像レンズＬ１及び第２の結像レンズＬ２によって、結像光学系５が構成される。

なお、本実施例では、アナモフィックコリメーターレンズ３、第１の結像レンズＬ１及び第２の結像レンズＬ２はそれぞれプラスチックで作製されており、また被走査面６としては、感光ドラム６を用いている。
また、感光ドラム６上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、感光ドラム６を副走査方向に回転させることによって達成している。

表１及び表２は、本実施例に係る光走査装置１００の諸元値を示している。
なお、表１中の回転中心座標は、偏向器４と軸上主光線との交点を原点として示されている。

また、表２において、各レンズ面と各レンズの光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、「Ｅ−ｘ」は、「×１０^−ｘ」を意味している。

本実施例に係る光走査装置１００の第１及び第２の結像レンズＬ１及びＬ２の各レンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、以下の式（１）で表される。

ここで、Ｒは曲率半径、Ｋは離心率、Ｂｉ（ｉ＝４、６、８、…、１６）は非球面係数である。なお、Ｙに関してプラス側（ｕｐｐｅｒ）とマイナス側（ｌｏｗｅｒ）とで係数Ｂｉが異なっていることに注意されたい。

また、第１及び第２の結像レンズＬ１及びＬ２の各レンズ面の副走査断面内における非球面形状（子線形状）は、上線及び下線共に、以下の式（２）で表される。

で与えられる。
なお、ここでｒ´は、副走査断面内における曲率半径であり、レンズ面のＹ座標に従って、以下の式（３）のように連続的に変化する。

ここで、ｒは光軸上における曲率半径、Ｅｉ（ｉ＝１〜１６）は変化係数である。

また、本実施例に係る光走査装置１００は、以下の条件式（４）及び（５）を満たすことによって、小型化と良好な光学性能とを両立させている。
０．９０≦ｓｉｎα´／ｓｉｎα≦１．２０ ・・・（４）
０．８０≦１−Ｓｋ／ｆ≦１．３０ ・・・（５）

次に、上記の各条件式がとるべき値の範囲とその意味について説明する。
条件式（４）は、被走査面６上の最軸外像高に到達する光束において、偏向器４側の第１の結像レンズＬ１を通過する角度を適切に設定し、結像光学系５のレイアウト性と光学性能とを両立するための条件式である。
なお、ここでレイアウト性に関しては、特に、結像光学系５を被走査面６側に配置することができることによって、結像光学系５と入射光学系１０との間の干渉を回避することができる。

図６に示されているように、αは、被走査面６上の光源１側の最軸外像高に到達する主光線（以下、「最軸外主光線」と称する。）が、結像光学系５の最も偏向器４側の第１の結像レンズＬ１の入射面Ｌ１１に入射する際に、主走査断面内において結像光学系５の光軸Ｐに対してなす角度である。また、α´は、被走査面６上の光源１側の最軸外主光線が、結像光学系５の最も偏向器４側の第１の結像レンズＬ１の出射面Ｌ１２から出射する際に、主走査断面内において結像光学系５の光軸Ｐに対してなす角度である。

条件式（４）の下限値を下回るほど最も偏向器４側の第１の結像レンズＬ１の屈折力が強い正の値になると、走査画角が広がってしまい、結像光学系５のレイアウトが困難となる。
一方、条件式（４）の上限値を上回るほど最も偏向器４側の第１の結像レンズＬ１の屈折力が強い負の値になると、結像光学系５の光学性能を維持することが困難となる。

なお、本実施例に係る光走査装置１００では、光源１の反対側（反光源側）については、光源側に比べて光学系のレイアウト空間に余裕があるため、条件式（４）を満たしている必要は無いが、反光源側においても条件式（４）が満たされていることが好ましい。

また、本実施例に係る光走査装置１００は、さらに以下の条件式（４ａ）を満足することが好ましい。
０．９０≦ｓｉｎα´／ｓｉｎα≦１．０６ ・・・（４ａ）
さらに、本実施例に係る光走査装置１００は以下の条件式（４ｂ）を満足することがより好ましい。
０．９０≦ｓｉｎα´／ｓｉｎα≦１．０５ ・・・（４ｂ）

条件式（５）は、結像光学系５のバックフォーカスと焦点距離との関係を示しており、結像光学系５に入射する光束を収束光にすると共に結像光学系５の屈折力を適切に設定する事で結像光学系５のコンパクト化を達成するための条件である。
条件式（５）において、Ｓｋは、最も被走査面６側の第２の結像レンズＬ２の出射面Ｌ２２から被走査面６までの光軸上の距離、ｆは結像光学系５の主走査断面内における光軸上の焦点距離を示している。

条件式（５）の上限値を上回るほど強い収束光に変換してしまうと、結像スポット径を始めとする諸性能を維持することが困難となる。
一方、条件式（５）の下限値を下回るほど収束光への変換が不十分だと、装置のコンパクト化を達成することが困難となる。

なお、本実施例に係る光走査装置１００は、さらに以下の条件式（５ａ）を満足することが好ましい。
０．８０≦１−Ｓｋ／ｆ≦１．２０ ・・・（５ａ）

また、本実施例に係る光走査装置１００は、以下の条件式（６）〜（８）の少なくとも一つを満足することが望ましい。
０．３≦Ｂ≦０．６ ・・・（６）
０．２≦｜ｆ１／ｆ２｜≦１．０ ・・・（７）
０．９≦Ｈ／Ｔｃ≦１．１ ・・・（８）

条件式（６）は、以下の式（９）で表される結像光学系５の走査特性を決定するための係数Ｂ（以下、走査特性係数と称する）に関する条件式である。
Ｙ＝Ｋ／Ｂ×ｔａｎ（Ｂθ） ・・・（９）
ここで、結像係数Ｋは、結像光学系５に入射する光が平行光であるか非平行光であるかにかかわらず、主走査断面内において像高（集光位置）Ｙと走査角度θとの間に比例関係をもたせる係数である。すなわち、結像係数Ｋは、結像光学系５に平行光が入射する場合の走査特性（ｆθ特性）Ｙ＝ｆθにおけるｆに相当する係数であり、結像光学系５に平行光以外の光束が入射する場合に、ｆθ特性と同様に像高Ｙと走査角度θとを比例関係にするための係数である。
換言すると、本実施例に係る光走査装置１００では、被走査面６上における軸上像高と軸外像高とで光束の走査速度が互いに異なることとなる。
なお、表１に示されているように、本実施例に係る光走査装置１００では、軸上像高における結像係数Ｋは、１０４．９５である。

そして、Ｂが０に近づくと、式（９）はＹ＝Ｋθとなり、従来の光走査装置に用いられる結像光学系の走査特性Ｙ＝ｆθに相当することとなる。一方、Ｂ＝１になると、Ｙ＝Ｋｔａｎθとなるため、撮像装置（カメラ）などに用いられるレンズの射影特性Ｙ＝ｆｔａｎθに相当することとなる。
すなわち、式（９）において走査特性係数Ｂを０≦Ｂ≦１の範囲で設定することで、射影特性Ｙ＝ｆｔａｎθからｆθ特性Ｙ＝ｆθまで任意の走査特性を得ることができる。

表１に示されているように、本実施例に係る光走査装置１００では、Ｂ＝０．５７である。
条件式（６）の下限値を下回ると、部分倍率ずれが小さくなり過ぎてしまい、結像光学系５を偏向器４に近づけた際に、良好な結像性能を確保することが難しくなる。
一方、条件式（６）の上限値を上回ると、部分倍率ずれが大きくなり過ぎてしまい、電気的な走査位置の補正が難しくなる。

条件式（７）は、結像光学系５において、最も偏向器４側の第１の結像レンズＬ１の主走査断面内における光軸上の焦点距離ｆ１と、最も被走査面６側の第２の結像レンズＬ２の主走査断面内における光軸上の焦点距離ｆ２との比、すなわち結像光学系５の屈折力配置に関する式である。
条件式（７）の上限値を上回るほど第２の結像レンズＬ２の主走査断面内における光軸上の焦点距離ｆ２が短くなると、結像スポット径を始めとする諸性能を維持することが難しくなる。
一方、条件式（７）の下限値を下回るほど第２の結像レンズＬ２の主走査断面内における光軸上の焦点距離ｆ２が長くなると、結像光学系５の配置が難しくなる。

なお、本実施例に係る光走査装置１００は、さらに以下の条件式（７ａ）を満足することが好ましい。
０．２≦｜ｆ１／ｆ２｜≦０．５ ・・・（７ａ）
さらに、本実施例に係る光走査装置１００は以下の条件式（７ｂ）を満足することがより好ましい。
０．２≦｜ｆ１／ｆ２｜≦０．４ ・・・（７ｂ）

条件式（８）は、偏向器４から被走査面６までの距離と印字領域との関係を示した式である。条件式（８）において、Ｔｃは、偏向器４の軸上偏向点から被走査面６までの距離、Ｈは、主走査断面内における被走査面６上の軸上像高から最軸外像高までの距離を示している。

条件式（８）の上限値を上回るほどＴｃが小さくなると、走査画角が大きくなってしまい、レンズの大型化に繋がる。さらに、レンズの屈折力の増大に繋がり、結像スポットを始めとする諸性能を維持することが難しくなる。
一方、条件式（８）の下限値を下回るほどＴｃが大きくなると、結像光学系５の小型化が難しくなる。

なお、本実施例に係る光走査装置１００は、さらに以下の条件式（８ａ）を満足することが好ましい。
０．９≦Ｈ／Ｔｃ≦１．０５ ・・・（８ａ）

図２（ａ）は、本実施例に係る光走査装置１００における、主走査断面内における像面湾曲と像高との関係を示している。また、図２（ｂ）は、本実施例に係る光走査装置１００における、ｆθ特性と像高との関係を示している。
図２（ａ）及び（ｂ）に示されているように、本実施例に係る光走査装置１００は、何れの関係においても良好な収差特性が得られている。

本実施例に係る光走査装置１００では、以上のように構成することで、光学性能を維持しつつ、光走査装置及び搭載される画像形成装置双方の小型化を達成することができる。
特に、偏向器４の走査画角を小さくすることができ、偏向する光束のけられを回避することができる。

なお、本実施例に係る光走査装置１００のように、結像光学系５をコンパクトにするために二枚の結像レンズで構成することが望ましいが、これに限らず、三枚以上で構成されていても構わない。

［実施例２］
図３は、実施例２に係る光走査装置２００の模式的主走査断面図を示している。
なお、本実施例に係る光走査装置２００は、諸元値を除いて、実施例１に係る光走査装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

表３及び表４は、本実施例に係る光走査装置２００の諸元値を示している。
なお、表３中の回転中心座標は、偏向器４と軸上主光線との交点を原点として示されている。

また、表４において、各レンズ面と各レンズの光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、「Ｅ−ｘ」は、「×１０^−ｘ」を意味している。

本実施例に係る光走査装置２００の第１及び第２の結像レンズＬ１及びＬ２の各レンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、上記の式（１）で表される。
また、第１及び第２の結像レンズＬ１及びＬ２の各レンズ面の副走査断面内における非球面形状（子線形状）は、上線及び下線共に、上記の式（２）及び（３）で表される。

図４（ａ）は、本実施例に係る光走査装置２００における、主走査方向断面内における像面湾曲と像高との関係を示している。また、図４（ｂ）は、本実施例に係る光走査装置２００における、ｆθ特性と像高との関係を示している。
図４（ａ）及び（ｂ）に示されているように、本実施例に係る光走査装置２００は、何れの関係においても良好な収差特性が得られている。

本実施例に係る光走査装置２００では、以上のように構成することで、光学性能を維持しつつ、光走査装置及び搭載される画像形成装置双方の小型化を達成することができる。

実施例１及び実施例２に係る光走査装置１００及び２００それぞれにおける諸元値を用いた各条件式の値を以下の表５に示す。

以上、好ましい実施例について説明したが、これらの実施例に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

［画像形成装置］
図５は、本実施例に係る光走査装置が設けられた画像形成装置１０４の要部副走査断面図を示している。

図５に示されているように、画像形成装置１０４にはパーソナルコンピュータ等の外部機器１１７から出力されたコードデータ（信号）Ｄｃが入力される。
入力されたコードデータＤｃは、装置内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドットデータ）Ｄｉに変換される。
変換された画像データＤｉは、本実施例に係る光走査装置３００に入力される。
そして、光走査装置３００からは、画像データＤｉに応じて変調された光ビーム１０３が射出され、光ビーム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方向に走査される。

静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させられる。
そして、感光ドラム１０１の回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。
感光ドラム１０１の上方には、感光ドラム１０１の感光面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１０２が感光面に当接するように設けられている。
そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラム１０１の感光面上に、光走査装置３００によって走査される光ビーム１０３が照射されるようになっている。

上述したように、光ビーム１０３は、画像データＤｉに基づいて変調されており、光ビーム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の感光面に静電潜像を形成せしめる。
そして、形成された静電潜像は、光ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するように配設された現像器１０７によってトナー像として現像される。
現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対向するように配設された転写ローラ１０８（転写器）によって被転写材たる用紙１１２上に転写される。
用紙１１２は、感光ドラム１０１の前方（図５において右側）に設けられた用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。
用紙カセット１０９の端部には、給紙ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内の用紙１１２が搬送路へ送り込まれる。

以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙１１２は、さらに感光ドラム１０１の後方（図５において左側）に設けられた定着器１２０へと搬送される。
定着器１２０は、内部に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３と定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とで構成されている。そして、転写部から搬送されてきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４の圧接部とで加圧しながら加熱することにより用紙１１２上の未定着トナー像を定着せしめる。
さらに定着ローラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されており、定着された用紙１１２を画像形成装置１０４の外部に排出せしめる。

なお、図示してはいないが、プリンタコントローラ１１１は、上述したデータの変換だけでなく、モータ１１５を始めとした画像形成装置１０４内の各部や、光走査装置３００内のポリゴンモータ等の制御も行っている。

１ 光源
４ 偏向器
５ 結像光学系
６ 被走査面
１００ 光走査装置
Ｌ１ 第１の結像レンズ（第１の結像素子）
Ｌ２ 第２の結像レンズ（第２の結像素子）

Claims (8)

1. 光束を偏向して被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、
   該偏向器によって偏向された光束を前記被走査面に導光する結像光学系とを備え、
   前記被走査面における軸上像高と軸外像高とで光束の走査速度が互いに異なり、
   前記結像光学系は、該結像光学系において前記偏向器に最も近い第１の結像素子と前記被走査面に最も近い第２の結像素子とを有し、
   主走査断面において、前記第１の結像素子の入射面における最軸外主光線と前記結像光学系の光軸とのなす角度をα、前記第１の結像素子の出射面における前記最軸外主光線と前記光軸とのなす角度をα´、前記第２の結像素子と前記被走査面との前記光軸上での距離をＳｋ、前記結像光学系の前記光軸上の焦点距離をｆとするとき、
   ０．９０≦ｓｉｎα´／ｓｉｎα≦１．２０
   ０．８０≦１−Ｓｋ／ｆ≦１．３０
   なる条件式を満たすことを特徴とする光走査装置。
2. 主走査断面において、前記結像光学系の光軸上での結像係数をＫ、前記偏向器により角度θで偏向された光束が入射する、前記被走査面での像高をＹ＝（Ｋ／Ｂ）×ｔａｎ（Ｂ×θ）とするとき、最軸外像高において
   ０．３≦Ｂ≦０．６
   なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記結像光学系は、前記第１及び第２の結像素子からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の光走査装置。
4. 前記第１の結像素子は主走査断面の光軸上において負の屈折力を有し、前記第２の結像素子は主走査断面の光軸上において正の屈折力を有することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の光走査装置。
5. 前記第１及び第２の結像素子の主走査断面における光軸上の焦点距離をそれぞれｆ１及びｆ２とするとき、
   ０．２≦｜ｆ１／ｆ２｜≦１．０
   なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の光走査装置。
6. 前記偏向器の軸上偏向点から前記被走査面までの距離をＴｃ、前記被走査面における軸上像高から最軸外像高までの距離をＨとするとき、
   ０．９≦Ｈ／Ｔｃ≦１．１
   なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の光走査装置。
7. 請求項１乃至６の何れか一項に記載の光走査装置と、該光走査装置により前記被走査面に形成される静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器とを備えることを特徴とする画像形成装置。
8. 請求項１乃至６の何れか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力された信号を画像データに変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラとを備えることを特徴とする画像形成装置。

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