JP2020100620A - フルオロエタンの製造方法及びフルオロオレフィンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
項1
下記一般式(1)
CX1X2FCX3X4X5 (1)
(式(1)中、X1、X2、X3、X4及びX5は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、X1、X2、X3、X4及びX5のうちの少なくとも一つは水素原子を示す)
で表されるフルオロエタンの製造方法であって、
触媒の存在下での反応により、下記一般式(3)
CX9F=CX10X11 (3)
(式(3)中、X9、X10及びX11は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示す)
で表されるフルオロエチレンから前記フルオロエタンを含む生成物を得る工程を含み、前記触媒は、担体に貴金属が担持されて形成されており、
前記反応が行われる反応器内には、前記触媒全体に対する貴金属の濃度がC1質量%である触媒と前記触媒全体に対する貴金属の濃度がC2質量%である触媒とを充填してそれぞれ上流部及び下流部を形成し、かつ、C1<C2であり、
前記反応は、前記式(3)で表されるフルオロエチレン及び水素ガスを、前記上流部及び前記下流部の順に接触させて行う、フルオロエタンの製造方法。
項2
前記貴金属はパラジウムである、項1に記載のフルオロエタンの製造方法。
項3
前記式(3)で表されるフルオロエチレンは,クロロトリフルオロエチレンを含む,項1又は2に記載のフルオロエタンの製造方法。
項4
前記フルオロエタンは、1,1,2−トリフルオロエタンを含む、項1〜3のいずれか1項に記載のフルオロエタンの製造方法。
項5
前記生成物は、該生成物の全量を基準として1,1,2−トリフルオロエタンを60モル%以上含む、項4に記載の製造方法。
項6
前記生成物は、該生成物の全量を基準としてトリフルオロエチレンを40モル%以下含む、項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
項7
項1〜6のいずれか1項に記載された製造方法で得られたフルオロエタンの脱フッ化水素反応によりフルオロオレフィンを得る工程を備える、フルオロオレフィンの製造方法。
本開示の製造方法では、下記一般式(1)
CX1X2FCX3X4X5 (1)
(式(1)中、X1、X2、X3、X4及びX5は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、X1、X2、X3、X4及びX5のうちの少なくとも一つは水素原子を示す)
で表されるフルオロエタンを製造する。
CX9F=CX10X11 (3)
(式(3)中、X9、X10及びX11は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示す)
で表されるフルオロエチレンから前記フルオロエタンを含む生成物を得る工程を含む。
CX6F=CX7X8 (2)
式(2)中、X6、X7及びX8は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、X6、X7及びX8のうちの少なくとも一つは水素原子を示す)で表されるフルオロエチレンである。
本開示の製造方法1において、生成物に含まれる前記フルオロエタンは、本開示の製造方法1の主生成物であって目的物である。ここでいう主生成物とは、生成物中に50モル%以上含まれる成分であることを意味する。
本開示の製造方法1において、式(3)で表されるフルオロエチレンは、目的の生成物を得るための原料であって、本開示の製造方法1で行う反応の原料である。式(3)で表されるフルオロエチレンは、目的とする前記フルオロエタンの構造式に応じて適宜選択することができる。
本開示の製造方法1では、触媒の存在下で、式(3)で表されるフルオロエチレンを反応に付す。後述するが、当該反応は、例えば、水素化反応及びそれに同伴する脱塩化水素反応、並びに塩化水素付加反応である。
本開示の製造方法1において、反応は、例えば、水素化反応である。また、本開示の製造方法1において、反応は前記水素化反応に加え、脱塩化水素反応及び塩化水素付加反応の一方又は両方を含むこともある。
本開示のフルオロオレフィンの製造方法は、前述のフルオロエタンの製造方法(製造方法1)で得られたフルオロエタンの脱フッ化水素反応によりフルオロオレフィンを得る工程を備える。以下、当該工程を「脱フッ化水素工程」と略記し、本開示のフルオロオレフィンの製造方法を「本開示の製造方法2」と表記する。
CX11X21=CX31X41 (4)
(式(4)中、X11、X21、X31及びX41は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、X11、X21、X31及びX41のうちの少なくとも一つは水素原子を示し、X11、X21、X31及びX41のうちの少なくとも一つはフッ素原子を示す)
で表されるフルオロオレフィンを得ることができる。
CF2HCFH2 → CHF=CHF + HF
50A反応管を1個準備し、この反応管に670gの触媒を充填した。触媒は、活性炭を担体とし、貴金属をパラジウムとして形成した。反応管に触媒を充填するにあたっては、パラジウムの担持量が触媒全質量に対して0.3質量%である触媒を上流部として、パラジウムの担持量が触媒全質量に対して3質量%である触媒を下流部として形成した。このように触媒を充填した反応管の原料供給口から、クロロトリフルオロエチレン(以下、CTFE)を500Nml/minの流量で、水素を1800Nml/minの流量で供給し、上流部及び下流部の順に触媒を通過させた。このとき、上流部の温度は320℃、下流部の温度は230℃とした。以上の反応では、反応管内の触媒の充填量をW(g)、反応管に流入させるフルオロエチレン及び水素ガスの全流量をFoとして、W/Foで表される接触時間を17g・sec/ccとした。
50A反応管を1個準備し、この反応管に670gの触媒を充填した。触媒は、活性炭を担体とし、貴金属をパラジウムとして形成した。反応管に触媒を充填するにあたっては、パラジウムの担持量が触媒全質量に対して0.3質量%である触媒を上流部として、パラジウムの担持量が触媒全質量に対して3質量%である触媒を下流部として形成した。このように触媒を充填した反応管の原料供給口から、クロロトリフルオロエチレン(以下、CTFE)を500Nml/minの流量で、水素を1800Nml/minの流量で供給し、上流部及び下流部の順に触媒を通過させた。このとき、上流部の温度は250℃、下流部の温度は160℃とした。以上の反応では、反応管内の触媒の充填量をW(g)、反応管に流入させるフルオロエチレン及び水素ガスの全流量をFoとして、W/Foで表される接触時間を17g・sec/ccとした。
25L容量の反応管を1個準備し、この反応管に810gの触媒を充填した。触媒は、活性炭を担体とし、貴金属をパラジウムとして形成し、パラジウムの担持量は、触媒全質量に対して0.6質量%とした。この反応管の原料供給口からCTFEを555Nml/minの流量で、水素を1945Nml/minの流量で供給し、触媒を通過させた。以上の反応では、反応管内の触媒の充填量をW(g)、反応管に流入させるフルオロエチレン及び水素ガスの全流量をFoとして、W/Foで表される接触時間を19g・sec/ccとした。
Claims (7)
- 下記一般式(1)
CX1X2FCX3X4X5 (1)
(式(1)中、X1、X2、X3、X4及びX5は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、X1、X2、X3、X4及びX5のうちの少なくとも一つは水素原子を示す)
で表されるフルオロエタンの製造方法であって、
触媒の存在下での反応により、下記一般式(3)
CX9F=CX10X11 (3)
(式(3)中、X9、X10及びX11は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示す)
で表されるフルオロエチレンから前記フルオロエタンを含む生成物を得る工程を含み、前記触媒は、担体に貴金属が担持されて形成されており、
前記反応が行われる反応器内には、前記触媒全体に対する貴金属の濃度がC1質量%である触媒と前記触媒全体に対する貴金属の濃度がC2質量%である触媒とを充填してそれぞれ上流部及び下流部を形成し、かつ、C1<C2であり、
前記反応は、前記式(3)で表されるフルオロエチレン及び水素ガスを、前記上流部及び前記下流部の順に接触させて行う、フルオロエタンの製造方法。 - 前記貴金属はパラジウムである、請求項1に記載のフルオロエタンの製造方法。
- 前記式(3)で表されるフルオロエチレンは,クロロトリフルオロエチレンを含む,請求項1又は2に記載のフルオロエタンの製造方法。
- 前記フルオロエタンは、1,1,2−トリフルオロエタンを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載のフルオロエタンの製造方法。
- 前記生成物は、該生成物の全量を基準として1,1,2−トリフルオロエタンを60モル%以上含む、請求項4に記載の製造方法。
- 前記生成物は、該生成物の全量を基準としてトリフルオロエチレンを40モル%以下含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載された製造方法で得られたフルオロエタンの脱フッ化水素反応によりフルオロオレフィンを得る工程を備える、フルオロオレフィンの製造方法。
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