JP2020099086A - 撮像素子、計測装置および計測方法 - Google Patents

撮像素子、計測装置および計測方法 Download PDF

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Abstract

【課題】撮像素子により、複数の光を分離して解析する。【解決手段】撮像素子は、第1基板に設けられ、状態が異なる複数の光が照射された対象物からの光を受光する受光部であって、それぞれが異なる偏光を光電変換する複数の第1光電変換部を有する受光部と、第1基板に積層された第2基板に設けられ、複数の第1光電変換部からそれぞれ出力される信号が上記複数の光のいずれに由来する信号かを弁別する弁別部とを備える。【選択図】図6

Description

本発明は、撮像素子、計測装置および計測方法に関する。
対象物に光を照射し、反射した光を撮像し解析することで、対象物の特性を調べる方法が従来から行われている。特許文献1には、偏光状態の異なる複数の偏光光の、被検体からの反射光による複数の光強度画像情報に偏光変換処理を行って、偏光特性の異なる複数の偏光特性画像情報に変換する偏光画像計測表示システムが記載されている。
日本国特開2015−33587号公報
しかしながら、特許文献1の偏光画像計測表示システムでは、1枚の偏光特性画像を得るために偏光状態の異なる複数の偏光光を順次照射するため、1枚の偏光特性画像の当該複数の偏光光についてのデータが異なる時刻に取得されている。また、これにより、フレームレートや露光時間が制限されるという問題点があった。
本発明の第1の態様によると、撮像素子は、第1基板に設けられ、状態が異なる複数の光が照射された対象物からの光を受光する受光部であって、それぞれが異なる偏光を光電変換する複数の第1光電変換部を有する受光部と、前記第1基板に積層された第2基板に設けられ、前記複数の第1光電変換部からそれぞれ出力される信号が前記複数の光のいずれに由来する信号かを弁別する弁別部とを備える。
本発明の第2の態様によると、計測装置は、第1の態様の撮像素子を備える。
本発明の第3の態様によると、計測方法は、撮像素子の第1基板に設けられた受光部であって、それぞれが異なる偏光を光電変換する複数の第1光電変換部を有する受光部により、状態が異なる複数の光が照射された対象物からの光を光電変換することと、前記撮像素子において前記第1基板に積層された第2基板に設けられた弁別部により、前記複数の第1光電変換部からそれぞれ出力される信号が前記複数の光のいずれに由来する信号かを弁別することとを含む。
第1の実施形態における偏光特性画像計測装置の概略図である。 第1の実施形態における光源照射部の概略図である。 積層型撮像素子の断面図である。 積層型撮像素子での検波を説明するための図である。 一実施形態における偏光変数演算処理系の概略図である。 一実施形態における偏光状態の弁別を説明するための図である。 画素シフト法による画像処理を説明するための図である。 第1の実施形態における撮像面の画素配列を例示する図である。 第1の実施形態における対物部の構成を例示する図である。 第1の実施形態における偏光特性画像の作成の流れを説明するためのフローチャートである。 第2の実施形態における偏光特性画像計測装置の概略図である。 第2の実施形態における撮像面の画素配列を例示する図である。 第2の実施形態における対物部の構成を例示する図である。 第2の実施形態における偏光特性画像の作成の流れを説明するためのフローチャートである。 第3の実施形態における偏光特性画像計測装置の概略図である。 第3の実施形態における撮像面の画素配列を例示する図である。 第3の実施形態における対物部の構成を例示する図である。 第3の実施形態における偏光特性画像の作成の流れを説明するためのフローチャートである。 第4の実施形態における偏光特性画像計測装置の概略図である。 第4の実施形態における撮像面の画素配列を例示する図である。 第4の実施形態における対物部の構成を例示する図である。 第4の実施形態における合成動画の作成の流れを説明するためのフローチャートである。 一実施形態における対物部の構成を例示する図である。 一実施形態における画素内の機能ブロックを示す概略図である。 一実施形態における複数の画素内での機能ブロックの配置を例示する図である。 一実施形態における光源照射部の概略図である。
図1は、第1の実施形態の偏光特性画像計測装置10の機能ブロックを示す図である。偏光特性画像計測装置10は、撮像系1と、偏光変数演算処理系2と、表示系3と、カラー画像合成処理系4とを備える。撮像系1は、光源照射部11と、撮像部12と、弁別部13とを備える。偏光変数演算処理系2は、ミュラー行列演算処理部21と、偏光素子特性補正処理部22と、表示調整部23とを備える。表示系3は、表示部31を備える。カラー画像合成処理系4は、カラー画像作成処理部41と、カラー画像表示調整部42と、合成画像処理部43とを備える。図中の矢印は、撮像された画像情報の流れを示すものである。
撮像系1は、対象物の偏光特性を示すミュラー行列を計測することができるミュラー行列撮像系を構成する。光源照射部11と、撮像部12と、弁別部13とは必ずしも物理的に近接している必要は無く、光ファイバー等の通信回線を用いて距離的に分離して配置されうる。弁別部13の機能の一部は演算処理系に含まれ得るものであるが、本実施形態では撮像素子100が好適にその機能を担うことができるため、ここでは撮像系1に分類している。
光源照射部11は、偏光状態の異なる複数の光をそれぞれ異なる周波数で強度変調して対象物に照射する。ここで、偏光状態とは、直線偏光の角度(向き)の状態や、円偏光の回転方向の状態を示す。光源照射部11は、偏光状態の異なる複数の光をそれぞれ独立して制御し任意の時刻に照射することができる。従って、光源照射部11は、それぞれの偏光状態を有する光を同時に照射することができる。光源照射部11は、偏光状態の異なる複数の光を複数の照射口からそれぞれ照射する構成にしてもよいし、1つの照射口から多重化して照射する構成にしてもよい。光源照射部11については、後に詳述する。
撮像部12には、光源照射部11から対象物に照射され、その対象物の散乱光、つまり対象物で散乱して反射された光や対象物で散乱して対象物を通り抜けた光を、複数の異なる偏光状態ごとに光電変換する撮像素子100が配置されている。ここで、撮像素子100は、各偏光状態の光を受光する複数の偏光検出画素を備え、それぞれの偏光検出画素は、光源照射部11で照射された光の偏光状態のいずれか1つについて光電変換する。つまり撮像素子100では、異なる偏光状態ごとにそれぞれ異なる偏光検出画素が光電変換する。偏光検出画素で検出した画素信号は、弁別部13に送られる。
撮像素子100は、さらに、対象物からの可視光を光電変換する複数のカラー画素を備える。カラー画素は、対象物の色彩や形状等を検出し、対象物の外観の画像を作成するための画素でありまた、適宜カラー画素の値を基に計算によって特徴づけられた外観の画像を作成するための画素である。カラー画素からの画素信号に基づいて、対象物のカラー画像が生成される。
なお、カラー画素からの画素信号に基づいて、適宜計算処理により、対象物の表面または内部の特定の生体構造を含んで表示する画像が生成される構成にしてもよい。この場合の照射光としては、関心のある生体構造において強く吸収または散乱される狭帯域の波長域の光が好適に用いられる。特に好適には、毛細血管および深部血管を表示するため、照射光としてヘモグロビンにより吸収されるように狭帯域化された青色および緑色の光が用いられる。また、カラー画素(単色で構成される場合も含む)は、可視光以外にも対象物の形状検出が可能な電磁波を光電変換する構成にしてもよい。この場合、モノクロや疑似カラーにより対象物の画像が生成されうる。撮像素子100については、後に詳述する。
カラー画素からの画素信号は、カラー画像合成処理系4のカラー画像作成処理部41に送られる。
なお、偏光状態の検出と同様に、強度変調と復調とを組み合わせてカラー画素からの画素信号を弁別してもよい。この場合、カラー画素からの画素信号は、撮像部12から弁別部13に送られ弁別された後、カラー画像作成処理部41に送られる構成としてもよい(図1破線矢印)。
弁別部13は、撮像素子100のそれぞれの偏光検出画素から出力される信号を、光源照射部11が強度変調した周波数で検波し、複数の異なる偏光状態の光の信号に弁別して出力する。光源照射部11では、各偏光状態の光に対し、異なる周波数で強度変調している。従って、弁別部13は、強度変調された周波数で検波することにより、撮像素子100の1つの偏光検出画素から出力される信号の成分が、光源照射部11から照射されたいずれの偏光状態を有する光に由来するかを弁別することができる。このとき、弁別部13は、撮像素子100のそれぞれの偏光検出画素から出力される信号に対する検波を並行して行う。以下、照射側および検出側のそれぞれの偏光状態の組み合わせで定まる、弁別された画素信号の成分を偏光特性信号と呼ぶ。弁別部13は、それぞれの偏光特性信号を、ミュラー行列演算処理部21に出力する。弁別部13での弁別方法については後に詳述する。
偏光変数演算処理系2は、撮像系1から出力された偏光特性信号から、ミュラー行列を算出し、算出したミュラー行列に基づいて偏光特性画像を生成する。
ミュラー行列演算処理部21は、入力された各画素についての各偏光状態ごとの偏光特性信号から、その偏光特性信号に対応する偏光状態の光の振幅を復元し、4×4のミュラー行列の各要素を算出する。本実施形態のミュラー行列演算処理部21は、0度、45度、90度、右回り円偏光(以下、右円偏光と呼ぶ)の4つの異なる偏光状態をそれぞれ選択的に受光する画素を含む画素単位ブロック81(図7参照)について、ミュラー行列を算出する。所望のミュラー行列を算出可能であれば、偏光状態の種類と数とは限定されない。撮像素子100の偏光検出画素の種類と、種類の数も限定されない。各画素単位ブロック81ごとに算出されたミュラー行列のデータは偏光素子特性補正処理部22に送られる。
偏光特性信号の振幅からのミュラー行列の算出は、公知の方法を利用することができるが、以下に簡潔に述べる。
対象物の偏光特性を示すミュラー行列Mは、i行j列の成分mijをもつ以下の4×4の行列で表現される(式(1))。
Figure 2020099086

…(1)
光源照射部11から照射された0度、45度、90度、右円偏光の各偏光状態の光は、以下の式(2)のS1〜S4(以下、数式中ではベクトルを表す矢印を付記する)のストークスベクトルに対応する。
Figure 2020099086

…(2)
上記のストークスベクトルで表される各偏光状態の光は、対象物により散乱され、対象物のミュラー行列との積で計算される以下のストークスベクトルMS1〜MS4に変換される(式(3))。
Figure 2020099086

…(3)
一方で、一般に、偏光計測によりストークスベクトルSは以下の式(4)で得られる。I0、I45、I90、I135、IR、ILはそれぞれ、0度、45度、90度、135度、右円偏光、左回り円偏光(以下、左円偏光と呼ぶ)の光強度に相当する値であり、各偏光状態の光の振幅から計算できる。I0、I45、I90、I135、IR、ILはすべてが独立ではなく、一部について相互に計算可能である。
Figure 2020099086

…(4)
従って、弁別部13で得られた各偏光状態の光の偏光特性信号から振幅を計算し、ストークスベクトルMS1〜MS4を求めれば、以下の式(5)から4×4のミュラー行列の各成分mijが算出できる。
Figure 2020099086

…(5)
偏光素子特性補正処理部22は、ミュラー行列演算処理部21で算出されたミュラー行列の、光源、画素間の偏光パターニングのずれ等の個々の偏光特性画像計測装置に起因する計算結果の値のばらつきを補正する。偏光素子特性補正処理については、後に詳述する。補正されたミュラー行列のデータは表示調整部23に送られる。
表示調整部23は、各画素単位ブロックで算出されたミュラー行列のデータを解析、加工し、表示態様に合わせて偏光特性画像を作成、調整する。偏光特性画像は、撮像により得られた偏光特性の情報を表示する画像である。表示調整部23は、ミュラー行列から対象物の物性を調べるために適切なパラメータを抽出し、そのパラメータについて二次元にマッピングして偏光特性画像を生成する。対象物の物性を調べるためのパラメータは、特に制限されない。好ましくは、対象物の物性を調べるためのパラメータは、可視画像では認識できない、対象物を周囲と区別することができるパラメータである。これにより、偏光特性画像装置30により、対象物においてそのパラメータで規定される特徴を持った部分を特定することができる。
例えば、内視鏡等の画像診断機器の分野においては、生体組織の均一性、異方性または線維の配向等に基づいて、偏光分析により、生体組織の区別が可能なことが知られている。繊維の配向性を持つ等、一定の秩序をもって細胞が並んでいる組織に、ランダムに増殖する腫瘍組織が存在すれば、組織の非等方性等が反映される偏光解消度を調べることで、偏光計測により病変部位を同定し得る。
好ましくは、表示調整部23は、ミュラー行列の対角成分、特に4×4ミュラー行列のM22成分またはM33成分をパラメータとして抽出し、撮像範囲についてマッピングすることができる。4×4ミュラー行列のM22成分またはM33成分は、画像診断においてがん組織を区別するために有用であることが知られている。
表示調整部23は、区別した部位と周囲との境界を強調したスケルトン画像として偏光特性画像を作成してもよい。また、表示調整部23は、疑似カラーを用いて区別した部位を着色してもよい。これらの操作により、偏光特性画像とカラー画像とを合成した際、区別した部位の視認性が向上する。作成された偏光特性画像は、合成画像処理部43に送られる。
表示系3は、表示部31で構成され、表示部31は、ユーザに、対象物の偏光特性画像とカラー画像との合成画像を表示する。表示部31は、本実施形態で作成された画像を表示するものであれば特に限定されない。表示部31は、液晶モニタ等の任意の画像表示装置から構成される。
カラー画像合成処理系4は、カラー画像を作成し、偏光変数演算処理系2から出力される偏光特性画像と合成して合成画像を作成する。カラー画像作成処理部41は、撮像系1から出力された赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のそれぞれのカラー画素信号に基づいて、カラー画像を作成する。作成されたカラー画像は、カラー画像表示調整部42で偏光特性画像との合成に適するよう調整される。調整されたカラー画像は、合成画像処理部43に送られる。
合成画像処理部43は、表示調整部23から送られた偏光特性画像と、カラー画像表示調整部42から送られたカラー画像とを合成し合成画像を作成する。作成された合成画像は、表示部31に送られる。
弁別部13、偏光変数演算処理系2、カラー画像合成処理系4、またはこれらの機能ブロックの一部は、撮像素子100に積層された処理回路により物理的に構成され得る。
図2は、光源照射部11の機能ブロックを示す図である。光源照射部11は、光源部51と、光源分離部52と、強度変調部53と、光学特性変換部54と、伝送部55と、補償データ取得部56と、照射系対物部57とを備える。図中の矢印は光源部51から出射した光の進路を示す。
光源部51は、照射光の基となる光を出射する光源を備える。光源としては、本実施形態の照射光を対象物に照射可能な光源ならば特に制限されない。光源部51は、蛍光灯、水銀灯等の白色灯若しくは白色LED、または所定の狭帯域波長のレーザを出射するレーザ若しくは単色LED等を用いて構成される。偏光計測は、可視光および近赤外光を含む幅広い波長域の、単色光、一定の波長幅の光および白色光で行うことが可能である。光源部51から出射される光の波長は、400nm−700nm等の範囲で定義される可視域から700nm−2500nm等の範囲で定義される近赤外域までの範囲の一部または全部を含んで構成される。好ましくは、光源部51は可視光を出射する。本実施形態では、光源部51から白色光を出射する。光源部51から出射された光は、光源分離部52に入射する。
なお、本実施形態での「白色光」とは、後述する赤色光、緑色光および青色光が含まれそれぞれカラー画素により検出可能な光とするが、発明の内容を限定するものではなく、様々な波長域の光を含む光を用いて適宜構成することができる。たとえば、白色光には、可視帯域の波長ごとに連続して強度を有する光が含まれ、さらに、近赤外帯域などの可視外帯域の波長ごとに連続して強度を有する光なども含みうる。
光源分離部52は、光源部51から出射した光をビームスプリッター等の光学素子により分離する。光源分離部52で分離されたそれぞれの光は、強度変調部53に入射する。
なお、以上では光源部51から出射した白色光を光源分離部52で分離する構成としたが、それぞれの光の振幅等のデータが定量的に比較可能であれば、別々の光源を用いて複数の光を生成してもよい。
強度変調部53は、電気光学変調器(EOM)や音響光学変調器(AOM)等により構成され、それぞれの光を異なる周波数で強度変調する。各周波数の偏光状態の光を同時照射すると、対象物で偏光変換を受けた散乱光が光電変換後の画素信号で重なり合うため、ここで設定したそれぞれの周波数の値の和および差の値となる周波数が、後述の検波における乗算回路での過程で出現することになる。従って、検波において求める偏光状態を正確に抽出するためには、任意の2つの周波数の和または差が、強度変調したいずれかの周波数または、他の検波方法により用いる周波数と同じ値にならないようにすることが好ましい。強度変調部53で強度変調されたそれぞれの光は、光学特性変換部54に入射する。
光学特性変換部54は、光学素子により構成され、入射した光の光学特性を変換する。即ち、光学特性変換部54は、偏光子および/または位相子等により、入射した複数の光のそれぞれを異なる偏光状態に変換する。この偏光状態の変換に用いられる偏光子としては偏光板が、位相子としては位相差板、特にλ/4波長板が用いられうる。また、光学特性変換部54は、カラー画像作成用の光を、波長フィルター等により、より狭い波長域の光、特に単色光に変換する。
本実施形態においては、4×4のミュラー行列を計測するため、光源照射部11は、0度、45度、90度および右円偏光の4種類の異なる偏光状態の光を照射する。光学特性変換部54は、0度、45度および90度の偏光状態の光を、対応する偏光方向の偏光板に強度変調部53から入射したそれぞれの光を通すことにより生成する。光学特性変換部54は、右円偏光の光は、強度変調部53から入射した光を、45度の偏光板および、λ/4波長板に通すことにより生成する。
なお、光学特性変換部54は、右円偏光の代わりに、左円偏光や、135度の偏光状態の光を生成してもよい。135度の偏光状態の光を用いると、ストークスベクトルの第3成分S3(数2)を精度よく測定することができる(数4の数式参照)。特に、円偏光の計測を省き、4つの偏光状態の光を用いて3×3のミュラー行列を精度よく測定したい場合に有用である。
光学特性変換部54で、予め定められた種類の照射光が生成されたら、それぞれの光はビームスプリッター等の光学素子で2つに分けられ、伝送部55と補償データ取得部56とに入射する。
伝送部55は、光ファイバー等の光を伝える伝送路で構成される。伝送部55の長さを調節することにより、照射光を調整する光源部51、光源分離部52、強度変調部53および光学特性変換部54までの部分と、後述する照射系対物部57との距離を変化させることができる。伝送部55を通過した光は、照射系対物部57に入射する。
なお、伝送部55は、光源照射部11の各機能ブロック間に適宜設けることができる。
補償データ取得部56は、照射光をサンプリングし、偏光素子の補償用のデータを取得する。また、照射光から弁別部13での検波において必要なリファレンス信号を生成し、弁別部13に出力する。補償データ取得部56は、たとえば、ラインセンサなどの小型の撮像素子で構成され、各画素には、光学特性変換部54で変換された偏光状態に対応する光学フィルターがそれぞれ設けられている。補償データ取得部56は、偏光状態の異なる光をそれぞれ検出することで、各偏光状態を有する光の強度変調の周波数をサンプリングする。さらに、補償データ取得部56は、光学特性ごとの光の強度ばらつきを検出して、それを補正するための補償データを生成し、後述する偏光素子特性補正処理部23に適宜出力する。
なお、補償データ取得部56および補償データ取得部56へと光をスプリットするビームスプリッター等の光学素子は、伝送部55よりも照射系対物部57側に配置してもよい。これにより、特に、弁別部13が光源部51よりも照射系対物部57に近接して配置されている場合は、補償データやリファレンス信号の通信距離を短くでき、装置をコンパクトな構成にすることができる。また、リファレンス信号は、補償データ取得部56から出力するのではなく、強度変調部53から出力してもよい。この場合、強度変調部53で変調した周波数を示す信号がリファレンス信号となる。
照射系対物部57は、伝送部55を通過した照射光を対象物に向けて出力する。照射系対物部57は、拡散レンズ等で構成され、対象物の特性に合わせて適宜調節される。
なお、以上の説明では、光源分離部52からの光を強度変調してから、光学特性の変換を行ったが、光源分離部52からの光を偏光状態の変換等の光学特性の変換を行った後、強度変調する構成にしてもよい。
<積層型撮像素子の説明>
撮像部12が備える積層型撮像素子100について説明する。なお、この積層型撮像素子100は、本願出願人が先に出願して公開されたWO13/164915号に記載されているものである。図3は、積層型撮像素子100の断面図である。撮像素子100は、入射光に対応した画素信号を出力する裏面照射型撮像チップ113と、画素信号を処理する信号処理チップ111と、画素信号を記憶するメモリチップ112とを備える。これら撮像チップ113、信号処理チップ111およびメモリチップ112は積層されており、Cu等の導電性を有するバンプ109により互いに電気的に接続される。
図示するように、入射光は主に白抜き矢印で示す方向へ向かって入射する。本実施形態においては、撮像チップ113において、入射光が入射する側の面を裏面(撮像面)と称する。
撮像チップ113の一例は、裏面照射型のMOSイメージセンサである。PD層106は、配線層108の裏面側に配されている。PD層106は、二次元的に配され、入射光に応じた電荷を蓄積する複数のPD(フォトダイオード)104、および、PD104に対応して設けられたトランジスタ105を有する。
PD層106における入射光の入射側にはパッシベーション膜103を介してフィルター層102が設けられる。フィルター層102には、必要に応じて偏光フィルターまたはカラーフィルターを配置することができる。偏光フィルターは、偏光パターニング素子等の偏光素子および/または位相差板、特にλ/4波長板等の位相子から構成され、予め定められた基準の方向、向きに対して0度、45度、90度、135度等の偏光状態、または右円偏光、左円偏光等の偏光状態を抽出する。カラーフィルターは、互いに異なる波長領域を透過させる複数の種類を用いることができる。
フィルター層102における入射光の入射側には、それぞれの画素に対応して、マイクロレンズ101が設けられる。マイクロレンズ101は、対応するPD104へ向けて入射光を集光する。
配線層108は、PD層106からの画素信号を信号処理チップ111に伝送する配線107を有する。配線107は多層であってもよく、また、受動素子および能動素子が設けられてもよい。
配線層108の表面には複数のバンプ109が配される。当該複数のバンプ109が信号処理チップ111の対向する面に設けられた複数のバンプ109と位置合わせされて、撮像チップ113と信号処理チップ111とが加圧等されることにより、位置合わせされたバンプ109同士が接合されて、電気的に接続される。
同様に、信号処理チップ111およびメモリチップ112の互いに対向する面には、複数のバンプ109が配される。これらのバンプ109が互いに位置合わせされて、信号処理チップ111とメモリチップ112とが加圧等されることにより、位置合わせされたバンプ109同士が接合されて、電気的に接続される。
なお、バンプ109間の接合には、固相拡散によるCuバンプ接合に限らず、はんだ溶融によるマイクロバンプ結合を採用してもよい。また、バンプ109は、例えば後述する画素単位ブロック等の一つのブロックに対して一つ程度設ければよい。したがって、バンプ109の大きさは、PD104のピッチよりも大きくてもよい。また、画素が配列された画素領域以外の周辺領域において、画素領域に対応するバンプ109よりも大きなバンプを併せて設けてもよい。
信号処理チップ111は、表裏面にそれぞれ設けられた回路を互いに接続するTSV(シリコン貫通電極)110を有する。TSV110は、周辺領域に設けられることが好ましい。また、TSV110は、撮像チップ113の周辺領域、メモリチップ112にも設けられてよい。
上記の撮像素子100は、10kHz以上の高速サンプリングを実現することができ、撮像素子100のそれぞれの画素ごとに出力される信号に対する処理回路を有し、図1の機能ブロックにおける弁別部13の機能の一部または全部の主体として物理的に構成される。
図4は、撮像素子100内で検波を行う際の撮像素子100の機能ブロックの概略を示した図である。撮像素子100は、撮像側光学特性変換部61と、光電変換部62と、信号調節部63と、混合部64と、フィルタリング部65と、サンプリング部66と、読み出し部67とを備える。図中の矢印は、光、信号または情報の流れを示す。
撮像素子100の画素内では、それぞれの画素毎に検波処理が行われ、画素毎に入射した光の画素信号から、強度変調された周波数に対応する成分が取り出される。
光源照射部11からの照射光は、対象物5で散乱した後、撮像側光学特性変換部61に入射する。撮像側光学特性変換部61は、上述の偏光フィルターおよび/または位相差板等で構成され、画素毎に特定の偏光状態の光を入射させるために用いられる。なお、カラー画像用の信号を検波する場合は、撮像側光学特性変換部61において偏光フィルターの代わりにカラーフィルター等を用いることもできる。撮像側光学特性変換部61を通過した光は、光電変換部62に入射する。
光電変換部62は、入射光を電流等の画素信号に変換するもので、PD、アバランシェ・PD、フォトトランジスタ等により構成される。光電変換部62から出力された画素信号は、信号調節部63に入力される。
信号調節部63は、電流電圧変換等を行い、画素信号を周波数分離のため調節する。信号調節部63は、トランスインピーダンスアンプ等に相当する電流−電圧変換回路を含んで構成される。また、検波の方法により、出力信号を分けてそれぞれ適宜位相変換等を行い、複数の混合部64に出力してもよい。
混合部64は、光源照射部11からのリファレンス信号を基に入力信号とは異なる周波数の信号を生成する。混合部64は、乗算回路や位相変換回路を含んで構成される。リファレンス信号は、図2において図示された補償データ取得部56から出力される。リファレンス信号は、検波に必要な周波数の成分を含む信号であれば特に限定されないが、例えば、強度変調した周波数の正弦波、余弦波、または矩形波を含む。
ホモダイン検波の場合、照射光のある成分が周波数F1で強度変調されたとすると、光電変換部62で光電変換された画素信号は、F1あるいはその近傍の周波数(F1+ΔF1)を含んでいる。従って、ロックイン等を用いて、混合部64の乗算回路で画素信号と周波数F1のリファレンス信号との積をとることにより、強度変調した信号成分を、リファレンス信号との周波数の差となる(F1+ΔF1)−F1=ΔF1の低周波数成分として取り出せる。混合部64は、得られた上記低周波数成分等の特定の周波数成分を含む光を周波数フィルタリング部65に出力する。
なお、上記ではホモダイン検波について記載したが、強度変調された周波数の成分を取り出すことができるのであれば検波方法は特に限定されない。
フィルタリング部65は、混合部64で得られた特定の周波数成分を、フィルター処理により取り出す。フィルタリング部65は、バンドパスフィルタやローパスフィルタ等と等価のフィルタリング回路により構成される。フィルタリング部65でフィルター処理された画素信号は、サンプリング部66に出力される。
サンプリング部66は、所定の周波数でサンプリングし、画素信号のアナログ/デジタル変換(以下、A/D変換と呼ぶ)の準備を行う。サンプリング部66は、サンプル回路やホールド回路を含んで構成される。サンプリング部66から出力された画素信号は、読出し部67に入力する。
読み出し部67は、入力された画素信号をA/D変換する。読み出し部67は、A/D変換回路を含んで構成される。読み出し部67でA/D変換された画素信号は、ミュラー行列演算処理部21(図2)に出力される。
読み出し部67は、各偏光検出画素内において、同期して読み出し処理を行うことが好ましい。読み出し部67は、さらに好ましくは、一枚の偏光特性画像を構成するすべての画素信号について、同期して読み出し処理が行われることが好ましい。これにより、撮像素子100の読み出す時間間隔よりも短いずれしか生じない、同時性の高い偏光特性画像を得ることができる。
なお、以上の説明では撮像素子100において検波を行う構成にしたが、撮像素子100の外部で2位相ロックインアンプ等の同等の検波機能を有する機器により検波を行ってもよい。また、A/D変換した後、得られたデジタル信号をフーリエ変換等を利用して周波数分離してもよい。
なお、図4中のフィルタリング部65以降の処理を撮像素子100の外部で行う構成にすることもできる。これにより、光源照射部11と撮像素子100が近接している場合に、リファレンス信号の伝送距離を短くする等、適宜装置を効率的に構成することができる。
図5は、偏光素子特性補正処理の流れを示すブロック図である。ミュラー行列演算処理部21はミュラー行列算出部71と、ミュラー行列保存部72とを備える。偏光素子特性補正処理部22は、補正行列保存部73と、補正行列演算部74とを備える。図中の矢印は、情報の流れを表す。
ミュラー行列演算処理部21のミュラー行列算出部71は弁別部13からの偏光特性信号に基づいて、画素単位ブロックごとにミュラー行列を算出する。算出されたミュラー行列のデータは、ミュラー行列保存部72に画素単位ブロックごとに保存される。ミュラー行列保存部72に保存されたミュラー行列のデータは補正行列演算部74に送られる。
補正行列保存部73には、ミュラー行列演算処理部21で算出されたミュラー行列に補正を加えるための、画素単位ブロック毎に予め設定された補正行列が保存されている。補正行列は、既知のミュラー行列の値を持つ試料を当該偏光特性画像計測装置10で計測し、計測結果と実際のミュラー行列の値との比較に基づいて設定される。さらに、偏光素子特性補正処理部22は、補償データ取得部56から出力された補償データが入力され、補正行列は、補償データに基づいて補正行列が設定されてもよい。この補正行列は、光源側に起因する誤差を補正する行列となる。
好ましくは、補正行列は、ミュラー行列の左側から乗算して補正する行列と、ミュラー行列の右側から乗算して補正する行列とを含む。この場合、左側から乗算する行列に、偏光パターニングの不均一等の検出側に起因する誤差を補正する行列を設定し、右側から乗算する行列に光源側に起因する誤差を補正する行列を設定することができる。左側から乗算する行列の役割と、右側から乗算する行列の役割とを逆にして設定してもよい。
補正行列演算部74は、画素単位ブロックごとに、補正行列保存部73に保存されている補正行列をミュラー行列保存部72から出力されたミュラー行列に乗算することでミュラー行列を補正する。これにより、偏光特性演算処理系2が出力するミュラー行列の値は、個々の偏光特性画像計測装置の製造上のばらつきが考慮されたより正確なものとなる。補正されたミュラー行列のデータは表示調整部23に送られる。
なお、画素単位ブロック毎ではなく、画素毎にミュラー行列の一部の要素について補正する構成にしてもよい。また、本実施形態では補正パラメータとして行列の乗算を用いたが、その他の演算処理により補正してもよい。さらに、ミュラー行列演算処理部21および偏光素子特性補正処理部22の一部または全部は、撮像素子100に配置してもよく、好ましくは、撮像素子100の内部の信号処理チップ111、メモリチップ112(図3)、またはこれらの下方の層もしくは層間に機能を積層してもよい。
図6は、本実施形態の4×4ミュラー行列測定法を模式的に示した図である。図中の矢印は光または画素信号の流れを示す。光源51、光学素子76、サンプル5、画素201〜204等は図6で示した形状・種類に限定されない。
光源51から出射した光は、4つに分けられ、それぞれF1、F2、F3、F4の異なる周波数により変調される。変調されたそれぞれの光が光学素子76で偏光特性変換されてそれぞれ0度、45度、90度、右円偏光の偏光特性を与えられる。各偏光状態の光はここで、それぞれの偏光状態について異なる周波数が対応することになる。変調された光は対象物5に照射される。
対象物5に照射され、対象物5で散乱した光は、4つの偏光状態のいずれか一つを選択的に受光する画素により、それぞれ光電変換される。以下の各実施形態では、0度の向きの偏光状態を選択的に受光する画素201(以下、「0度画素」と呼ぶ)は左右の双方向の矢印で、45度の向きの偏光状態の光を選択的に受光する画素202(以下、「45度画素」と呼ぶ)は45度の双方向の矢印で、90度の向きの偏光状態の光を選択的に受光する画素203(以下、「90度画素」と呼ぶ)は上下方向の双方向の矢印で、右円偏光の偏光状態の光を選択的に受光する画素204(以下、「右円偏光画素」と呼ぶ)は三重の楕円で示されたロゴで示した。光電変換されたそれぞれの検出側偏光状態の画素信号はF1、F2、F3、F4の強度変調時の周波数で周波数分離され、4種類の偏光検出画素から4×4のあわせて16の成分が分離される。画素信号は撮像素子100により高速サンプリングされることで、同時性の高い偏光特性画像や、1Hz以上、好ましくは10Hz以上のフレームレートの偏光特性動画の作成が可能になる。
図7は、解像度を仮想的に高める画像処理の方法を説明する図である。以下の各実施形態では、1つの画素単位ブロックが複数の画素を含むため、解像度を仮想的に高める方法が好適に用いられる。図7の例では、0度、45度、90度、135度の4つの偏光状態の画素を用いて1つの画素単位ブロック81が構成される。本書では、135度の向きの偏光状態の光を選択的に受光する画素209(以下、「135度画素」と呼ぶ)を135度の双方向の矢印で示す。図7中のH1、H2、H3およびV1、V2、V3は、一つの画素に対応するひとまとまりの行または列に対応する。
図7(a)は、各画素単位ブロックを重ならないように配置した場合の画素配置の模式図である。この場合、H1、H2のいずれかとV1、V2のいずれかとの組み合わせ、つまり全部で4つの画素単位ブロック81が定められる。図7(a)の画素単位ブロックの設定方法では、4つの画素に1つの画素単位ブロック81が対応している。
図7(b)は、画素単位ブロック同士を部分的に重ねながら画素単位ブロック81を配置した場合の画素配置の模式図である。この場合、H1、H2、H3のいずれかとV1、V2、V3のいずれかとの組み合わせ、つまり全部で9つの画素単位ブロック81が定められる。図7(b)の画素単位ブロックの設定方法では、1つの画素に1つの画素単位ブロック81が対応しているため、仮想的に図7(a)の4倍の解像度になる。
このように、偏光特性画像の計測において、画素単位ブロック同士を部分的に重ねながら画素単位ブロック81を設定することで、知覚的に解像度を高めることができる。特に、画素単位ブロック81が複数の画素で構成される場合に、横方向または縦方向に1画素分だけずらして隣接画素単位ブロック81を設定することが好ましい。
図8は、本実施形態の偏光特性画像計測装置10の撮像素子100の撮像面200の画素配置の一部を模式的に示した図である。本実施形態の偏光特性画像計測装置10の撮像素子100は、0度、45度、90度、右円偏光の4つの偏光状態の光を受光する偏光検出画素201〜204に加え、赤色光、緑色光、青色光をそれぞれ選択的に受光する画素205〜207を備える。
なお、それぞれのカラー画素は、解析の結果カラー画像で用いる色を再現できるのであれば、任意の波長域の光を選択的に受光する画素の任意の組み合わせを用いることができる。
以下の各実施形態では、赤色光を選択的に受光する画素205(以下、「R画素」と呼ぶ)を「R」の記号で示し、緑色光を選択的に受光する画素206(以下、「G画素」と呼ぶ)を「G」の記号で示し、青色光を選択的に受光する画素207(以下、「B画素」と呼ぶ)を「B」の記号で示す。本実施形態では、R画素は赤色光を選択的に透過させるカラーフィルターを、G画素は緑色光を選択的に透過させるカラーフィルターを、B画素は青色光を選択的に透過させるカラーフィルターを画素の光電変換部62の入射側に配設している。
撮像素子100の画素単位ブロック81aは、4種類の偏光検出画素201〜204と、1つのR画素205、2つのG画素206、1つのB画素207を用いて構成される。1つの画素単位ブロック81aは、対象物または背景(以下、被写体と呼ぶ)の特定の位置に対応する。画素単位ブロック81aに含まれる4種類の偏光検出画素201〜204からの画素信号から4×4の当該位置に対応するミュラー行列が得られる。また、画素単位ブロック81aに含まれるカラー画素の画素信号から当該位置に対応するカラー画像の情報が得られる。好ましくは、画素単位ブロック81aは、前述した画素シフト法により、1画素ずつずらして重ねて定義されることにより、知覚的な解像度を上げることができる。
なお、画素単位ブロックは、撮像面200にある全ての画素を含んで構成されれば、その設定の態様は限定されない。一例として、図8中の破線による矩形81aで示される縦4画素×横2画素とする設定の他、破線による矩形81bで示されるように縦2画素×横4画素に設定してもよい。以下の各実施形態で示される撮像面200における画素配置は、限定的なものではなく、各実施形態の検出側で必要な全ての偏光状態の偏光検出画素およびカラー画素が、対象物5の計測部位を所望の解像度で解析可能に配置されていればよい。
図9は、本実施形態の偏光特性画像計測装置10の対象物5との対物部510における照射口501−504、508および撮像面200の配置を示したものである。偏光特性画像計測装置10の対物部510は、照射口501−504、508および撮像面200が近接して配置され、狭所での撮像も可能なコンパクトな形状となっている。これにより、本実施形態の偏光特性画像計測装置10は、内視鏡等のコンタクトイメージセンサ等を含む撮像装置に好適に用いられる。
4ヶ所の照射口501−504からは、それぞれ異なるF1、F2、F3およびF4の周波数で強度変調された各偏光状態の光が照射される。第1照射口501から、周波数F1で強度変調された0度の偏光状態の光が照射される。第2照射口502から、周波数F2で強度変調された45度の偏光状態の光が照射される。第3照射口503から、周波数F3で強度変調された90度の偏光状態の光が照射される。第4照射口504から、周波数F4で強度変調された右円偏光の偏光状態の光が照射される。4カ所に配置された白色照射口508からは、各偏光状態に分けた照射光の周波数とはさらに異なる周波数F5で強度変調された無偏光の白色光が照射される。白色照射口508から照射される無偏光の白色光が強度変調されているのは、当該白色光の散乱光が偏光検出画素に受光された後、当該白色光由来の成分(周波数F5)を周波数分離して、各偏光状態の照射光由来の成分(周波数F1〜F4)のみを取り出すためである。
撮像面200は、対物部510の中央部に配置され、偏光検出画素およびカラー画素が図8で例示された構成で並んでいる。
なお、以下の各実施形態で示される対物部510における照射口および撮像面の配置や数は、限定的なものではなく、各実施形態の照射光に必要な全ての偏光状態の光が対象物に照射され、その散乱光が撮像面で検出可能であればよい。
図10は、本実施形態の偏光特性画像計測装置10を用いた偏光特性画像計測方法の流れを示すフローチャートである。
ステップS1001において、光源照射部11は、ビームスプリッター等により白色光源からの光を複数の光にスプリットする。白色光がスプリットされたらステップS1003に進む。ステップS1003において、光源照射部11は、スプリットされた光をそれぞれ異なる周波数で強度変調する。強度変調されたそれぞれの光について、偏光状態を割り当てる場合はステップS1005に、カラー画像の作成に割り当てる場合はステップS1030に進む。
ステップS1005において、光源照射部11は、ステップS1003において強度変調された光の偏光特性を、偏光子および/または位相子を用いて変換をする。偏光特性の変換がされると、ステップS1007に進む。ステップS1007において、光源照射部11は、偏光特性の変換がされた、各偏光状態を有する光を対象物に照射する。照射光が対象物5に照射されたら、ステップS1009に進む。
ステップS1009において、撮像部12は、撮像素子100の偏光検出画素で対象物5からの散乱光を異なる偏光状態ごとに光電変換する。光電変換されたら、ステップS1011に進む。ステップS1011において、弁別部13は、光電変換された画素信号を強度変調した周波数で検波する。検波されたらステップS1013に進む。
ステップS1013において、弁別部13は、検波された画素信号の成分を高速サンプリングする。画素信号の成分が高速サンプリングされたら、ステップS1015に進む。ステップS1015において、ミュラー行列演算処理部21は、弁別部13から出力された画素信号、すなわち偏光特性信号から、ミュラー行列の算出に必要なそれぞれの偏光状態の光の振幅を復元する。振幅が復元されたら、ステップS1017に進む。
ステップS1017において、ミュラー行列演算処理部21は、復元された振幅に基づいてミュラー行列を算出する。また、必要に応じて、偏光素子特性補正処理部22がミュラー行列を補正する。ミュラー行列が得られたら、ステップS1019に進む。ステップS1019では、表示調整部23が得られたミュラー行列に基づいて偏光特性画像を作成および調整する。偏光特性画像が作成および調整されたら、ステップS1040に進む。
カラー画像作成については、ステップS1030において、光源照射部11は、強度変調された光を対象物5に照射する。強度変調された光が対象物5に照射されたら、S1032に進む。ステップS1032において、撮像部12は、撮像素子100のカラー画素で対象物5からの散乱光を異なる色の画素ごとに光電変換する。光電変換がされたら、ステップS1034に進む。ステップS1034において、光電変換された画素信号に基づいて、カラー画像作成処理部41がカラー画像を作成し、カラー画像表示調整部42がカラー画像を偏光特性画像との合成のために調整する。カラー画像が調整されたら、ステップS1040に進む。
ステップS1040において、合成画像処理部43は、得られた偏光特性画像とカラー画像とを合成し、合成画像を作成する。合成画像が得られたら、処理を終了する。
上述の第1の実施の形態によれば、次の作用効果が得られる。
(1)本実施形態の偏光特性画像計測装置10は、偏光状態の異なる複数の光をそれぞれ異なる周波数で強度変調して対象物5に照射する光源照射部11と、光源照射部11から対象物5に照射され対象物5によって散乱された光を、異なる偏光状態ごとにそれぞれ光電変換する複数の偏光検出画素201〜204が配置された撮像素子100と、複数の偏光検出画素201〜204からそれぞれ出力される信号を上記異なる周波数で検波し、いずれの上記偏光状態の異なる光由来の信号かを弁別して出力する弁別部13とを備える。これにより、偏光特性画像計測装置10は、偏光状態の異なる光について、複数の照射部から同時に照射された複数の光、または多重化されて照射された複数の光を、それぞれ分離して解析することができる。
(2)本実施形態の偏光特性画像計測装置10において、光源照射部11は、複数の異なる偏光状態を有する光を同時に照射し、撮像素子100は、複数の偏光検出画素201〜204からそれぞれ出力される信号に対する検波を並行して行う。これにより、偏光特性画像計測装置10は、1枚の偏光特性画像のそれぞれの異なる偏光光のデータを同時刻に取得することができる。つまり、同時性の高い偏光特性画像が得られる。また、これにより、フレームレートや露光時間を、照射光を順次照射する場合と比べて高めることができる。
(3)本実施形態の偏光特性画像計測装置10において、撮像素子100は、対象物5からの可視光を光電変換する複数のカラー画素205〜207をさらに備え、複数のカラー画素205〜207からそれぞれ出力される信号を基に対象物5の画像を生成する可視画像生成部をさらに備える。これにより、偏光特性画像計測装置10は、偏光特性画像とカラー画像を合成し、ユーザの視認性の高い画像を作成することができる。
(4)本実施形態の偏光特性画像計測装置10は、白色光を対象物に照射する白色照射口508をさらに備え、撮像素子100は、それぞれのカラー画素205〜207の入射側に配設したカラーフィルターをさらに備える。これにより、カラー画像についての画素信号を復調する必要が無く、カラー画像を作成することができる。
(5)本実施形態の偏光特性画像計測装置10は、異なる周波数に対してさらに異なる可視画像用周波数で強度変調した白色光を対象物5に照射する白色照射口508を備える。これにより、偏光特性画素201〜204に受光された白色光の成分を分離することができる。
(6)本実施形態の偏光特性画像計測装置10は、弁別部13で弁別された信号に基づいて対象物5の物性を表す偏光特性画像や合成画像を生成する表示調整部23をさらに備える。これにより、対象物5の物性を調査したり、対象物5の物性の変化に基づいて、対象物5の一部を他の部分と区別することができる。
(7)本実施形態の偏光特性画像計測装置10は、撮像素子100のそれぞれの画素毎に、出力される信号に対する処理回路111を有し、処理回路111および弁別部13は、複数の偏光検出画素201〜204のそれぞれに対応して、撮像層113とは異なる層に配置される。これにより、画素信号の各成分を高精度に同時に検波することができる。
(8)本実施形態の偏光特性画像計測装置10は、カメラ、顕微鏡および内視鏡等の撮像装置に好適に用いることができる。これにより、コンパクトな装置で同時性の高い偏光計測を行うことができる。
次のような変形も本発明の範囲内であり、上述の実施形態と組み合わせることが可能である。
(変形例1)
上述の実施形態では、偏光特性画像計測装置10の光源照射部11において、光学特性変換部54を通過した複数の光をそれぞれ異なる光ファイバーにより伝送し、異なる照射口501〜504、508からそれぞれ照射したが、1本の光ファイバーに偏波多重し、複数の照射口501〜504、508から照射してもよい。これにより、伝送部55をより細い管で構成することができ、偏光特性画像計測装置10をよりコンパクトにすることができる。
(第2の実施形態)
第2の実施形態に係る偏光特性画像計測装置20は、第1の実施形態に係る偏光特性画像計測装置10と同様の構成を有しているが、カラー画像作成の方法が、第1の実施の形態とは異なっている。第1の実施形態との同一部分については第1の実施形態と同一の符号で参照し、場合に応じ説明を省略する。
図11は、第2の実施形態の偏光特性画像計測装置20の機能ブロックを示す図である。偏光特性画像計測装置20の機能ブロックの構成は、第1の実施形態の偏光特性画像計測装置10の機能ブロックの構成(図1)とほぼ同じとなるが、カラー画素からの画素信号の弁別が、弁別部13で行われる必要がある点が異なる。
図12は、第2の実施形態の偏光特性画像計測装置20における撮像素子100の撮像面200の画素配置の一部を模式的に示した図である。撮像面200には、0度、45度、90度、右円偏光の偏光状態を選択的に受光する画素201〜204と、カラーフィルター等の可視域波長フィルターが光電変換部62の入射側に配設されていない画素208とが配置されている。
図13は、本実施形態の偏光特性画像計測装置20の対象物5との対物部510における照射口501−507および撮像面200の配置を示したものである。
本実施形態の偏光特性画像計測装置20の4つの照射口501−504からは、第1の実施形態の偏光特性画像計測装置10と同様、それぞれ異なるF1、F2、F3およびF4の周波数で強度変調された各偏光状態の光が照射される。赤色光照射口505からは、F1、F2、F3、F4のそれぞれの周波数とさらに異なるF6の周波数で強度変調された赤色光が照射される。緑色光照射口506からは、F1、F2、F3、F4およびF6のそれぞれの周波数とさらに異なるF7の周波数で強度変調された緑色光が照射される。青色光照射口507からは、F1、F2、F3、F4、F6およびF7のそれぞれの周波数とさらに異なるF8の周波数で強度変調された青色光が照射される。
撮像面200は、対物部510の中央部に配置され、偏光検出画素201−204および波長フィルター無しのカラー画素208が図12で例示された構成で並んでいる。
本実施形態の偏光特性画像計測装置20は、赤色光、緑色光、青色光を、カラーフィルターを使わず、各偏光状態の光と同様に、各色の光について異なる周波数による強度変調と復調とにより弁別する。
図14は、本実施形態の偏光特性画像計測装置20を用いた偏光特性画像計測方法の流れを示すフローチャートである。偏光特性画像の作成に関するステップS2001からステップS2019までのステップ(図10のステップS1001−S1019に対応)および合成画像を作成するステップS2050(図10のステップS1040に対応)は第1の実施形態と同じなので説明を省略する。
ステップS2030において、光源照射部11は、ステップS2003で強度変調された3つの白色光について、異なる波長域の三色の光に変換する。三色の光が得られたら、ステップS2032に進む。ステップS2032において、光源照射部11は、得られた三色の光を対象物に照射する。照射が行われたら、ステップS2034に進む。
ステップS2034では、撮像部12の撮像素子100のカラー画素208が対象物5からの散乱光を画素信号に光電変換する。光電変換されたらステップS2036に進む。ステップS2036では、弁別部13が、光電変換された画素信号を強度変調した周波数で検波する。検波が完了したら、ステップS2038に進む。
ステップS2038では、弁別部13が、検波されたそれぞれの色成分の信号を高速サンプリングする。高速サンプリングが完了したら、ステップS2040に進む。ステップS2040では、カラー画像作成処理部41が、分離された画素信号のそれぞれの色成分からそれぞれ撮像された光の振幅を復元する。振幅が復元されたらステップS2042に進む。
ステップS2042において、カラー画像作成処理部41が、復元されたそれぞれの光の振幅の情報から、カラー画像を作成する。また、カラー画像表示調整部42がカラー画像を偏光特性画像との合成のために調整する。カラー画像が調整されたら、ステップS2050に進む。
上述の第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態により得られる作用効果の他に、次の作用効果が得られる。
(1)本実施形態の偏光特性画像計測装置20は、波長帯域の異なる複数のカラー光源から出射される光のそれぞれを、偏光計測用の光のそれぞれ異なる周波数に対してさらに異なる複数の可視画像用周波数で強度変調して対象物に照射する光源照射部11を備える。これにより、1種類のカラー画素からの画素信号により、カラー画像を作成することができる。
次のような変形も本発明の範囲内であり、上述の実施形態と組み合わせることが可能である。
(変形例1)
上述の実施形態では、偏光特性画像計測装置20の光源照射部11において、単一の光源から偏光特性画像作成用の照射光とカラー画像作成用の照射光とをスプリットして生成したが、カラー画像用の照射光は複数の単色LED等を用いて複数の光源を用いてもよい。これにより、各照射光、特に偏光特性画像作成用の照射光とカラー画像作成用の照射光とを今までより独立して制御でき、より適切な撮像条件を設定できる。
(第3の実施形態)
第3の実施形態に係る偏光特性画像計測装置30は、第1の実施形態に係る偏光特性画像計測装置10とほぼ同じ構成を有している。しかし、第1の実施形態より多くの種類の画素を、2つの撮像面に配置し、視差を利用して偏光特性画像およびカラー画像を作成する点が第1の実施形態とは異なっている。第1の実施形態との同一部分については第1の実施形態と同一の符号で参照し、場合に応じ説明を省略する。
図15は、第3の実施形態の偏光特性画像計測装置30の機能ブロックを示す図である。偏光特性画像計測装置30の機能ブロックの構成は、第1の実施形態の偏光特性画像計測装置10の機能ブロックの構成(図1)とほぼ同じとなる。しかし、偏光特性画素からの画素信号の弁別が行われた後、弁別部13で弁別された偏光特性信号と、カラー画像用信号とが、視差ずれ補間部90で解析される点が異なる。さらに、カラー画像合成処理系では、3次元のカラー画像および合成画像を生成する点が異なる。
視差ずれ補間部90は、偏光特性画像計測装置30の対物部510が備える2つの撮像面200で得られた画素情報間の視差を利用して画素情報を補間し、また、視差についての情報を解析して、カラー画像合成処理系4へと送る。
図16は、第3の実施形態の偏光特性画像計測装置30における撮像素子100の2つの撮像面200a、200bの画素配置の一部を模式的に示した図である。撮像面200aと撮像面200bとは、被写体のそれぞれの位置からの光を異なる入射角で受光する。撮像面200aおよび撮像面200bには、0度、45度、90度、135度、右円偏光および左円偏光の偏光状態の光を選択的に受光する画素201〜204,209〜210と、R画素205、G画素206およびB画素207とが配置されている。45度画素202と右円偏光画素204とは、撮像面200aにのみ配置されている。135度画素209と左円偏光を選択的に受光する画素210(以下、左円偏光画素と呼ぶ)とは、撮像面200bにのみ配置されている。左円偏光画素は、右円偏光画素204を示すマークを左右反転させて“L”の文字を加えたマークで示している。
撮像面200aと撮像面200bとには、それぞれの撮像面内の相対的な位置が等しい画素同士で異なる画素が配置され得る。このとき、両撮像面で相対的な位置が等しい画素に、異なる偏光状態の光を選択的に受光する偏光検出画素201〜204,209〜210を配置したり、異なる色のカラー画素を配置したりすることができる。図16において、撮像面aでは45度画素が配置されている撮像面内の相対的な位置には、撮像面bでは135度画素が配置されている。撮像面aでは右円偏光画素が配置されている撮像面内の相対的な位置には、撮像面bでは左円偏光画素が配置されている。
視差ずれ補間部90は、撮像面200aから得られた画素情報と撮像面200bから得られた画素情報との視差によるずれに基づいて、画素情報の補間を行う。視差ずれ補間部90は、それぞれ照射側および検出側の組み合わせで定まる各偏光状態の光の振幅を復元する。視差ずれ補間部90は、得られた各偏光状態の光の振幅から、撮像面200aから得られた画素情報と撮像面200bから得られた画素情報との視差によるずれを算出する。視差ずれ補間部90は、算出した視差によるずれから、対象物5の同じ位置からの光を光電変換する、撮像面200aおよび撮像面200bの対応画素単位ブロック81−1、81−2を決定する。
なお、視差ずれ補間部90は、カラー画素からの画素情報から、撮像面200aと撮像面200bとの視差によるずれを求めてもよい。また、視差ずれ補間部90は、一旦それぞれの画素情報から暫定的な偏光特性画像を作成し、視差によるずれを求めてもよい。この場合の暫定的な画像作成においては、視差によるずれが算出できれば表示調整等は省略してもよい。
図16において、視差ずれ補間部90の視差によるずれの算出により、撮像面200aの単位画素ブロック81−1と撮像面200bの単位画素ブロック81−2とが、対象物の同じ位置からの光を光電変換する対応画素単位ブロックとされたとする。この場合、当該対象物の位置におけるミュラー行列の算出、特にその過程におけるストークスベクトルの成分の算出において、両画素単位ブロックの全ての偏光状態(ここでは6種類)を使用することができる。
ストークスベクトルの第3成分S3(数2の数式参照)は、偏光方向がそれぞれ45度の光と135度の光との光強度の差から導出される。135度の偏光状態についての情報は、0度、45度および90度の偏光状態の光についての偏光計測から求めることができる(数4の数式参照)が、直接135度の光を測定することにより、より正確なデータが得られる。
ストークスベクトルの第4成分S4(数2の数式参照)は、左円偏光の光と右円偏光の光との光強度の差から導出される。左円偏光の偏光状態についての情報は、0度、90度および右円偏光の偏光状態の光についての偏光計測から求めることができる(数4の数式参照)が、直接左円偏光の光を測定することにより、より正確なデータが得られる。
視差ずれ補間部90は、得られたミュラー行列算出のためのデータをミュラー行列演算処理部21に出力する。
なお、所望のミュラー行列、またはストークスベクトルが算出可能ならば、それぞれの偏光状態についての画素を適宜配置可能である。
また、視差ずれ補間部90は、撮像面200aから得られたカラー画素情報と撮像面200bから得られたカラー画素情報との視差によるずれについての情報を、カラー画像作成処理部41に出力する。
本実施形態の偏光特性画像計測装置30のカラー画像作成処理部41は、視差ずれ補間部90からの視差情報に基づいて、3次元カラー画像を作成する。作成された3次元カラー画像は、カラー画像表示調整部42に出力される。カラー画像表示調整部42は、3次元カラー画像を表示用に調整し、合成画像処理部43に出力する。合成画像処理部43は、カラー画像表示調整部42から入力された3次元画像と表示調整部23から入力された偏光特性画像とを、視差情報を基に対応させ、3次元画像上に2次元偏光特性画像をマッピングする。合成画像処理部43は、得られた3次元合成画像を表示部31に出力する。
図17は、本実施形態の偏光特性画像計測装置30の対象物との対物部510における照射口501−504、507、509、511および撮像面200aおよび撮像面200bの配置を示したものである。
本実施形態の偏光特性画像計測装置30の7つの照射口501−504、507、509、511からは、それぞれ異なるF1−F7の周波数で強度変調された各偏光状態の光が照射される。4つの照射口501−504からは、第1の実施形態の偏光特性画像計測装置10と同様、それぞれ異なるF1、F2、F3およびF4の周波数で強度変調された0度、45度、90度および右円偏光の偏光状態の光が照射される。照射口509からは、F5の周波数で強度変調された135度の偏光状態の光が照射される。照射口511からは、F6の周波数で強度変調された左円偏光の光が照射される。照射口507からは、F7の周波数で強度変調された無偏光の白色光が照射される。
撮像面200a、200bは、対物部510の中央部に配置され、各偏光検出画素201−204、209および210ならびにR画素205、G画素206およびB画素207が図16で例示された構成で並んでいる。
図18は、本実施形態の偏光特性画像計測装置30を用いた偏光特性画像計測方法の流れを示すフローチャートである。第1の実施形態の偏光特性画像計測装置10を用いた偏光特性画像計測方法の流れを示すフローチャート(図10)とは、視差ずれを補間するステップS3017とS3034が加えられ、また、3次元画像を作成する点が異なる。また、偏光特性画像の作成に関するステップS3001からステップS3013までのステップ(図10のステップS1001−S1013に対応)およびカラー画像の作成に関するステップS3030とステップS3032と(図10のステップS1030、S1032に対応)は、撮像素子100が撮像面200aと撮像面200bとに対応する撮像素子100aと撮像素子100bとに分かれているほかは、第1の実施形態と同じなので説明を省略する。
ステップS3015において、視差ずれ補間部90は、撮像素子100aおよび撮像素子100bについて、弁別部13から出力された偏光特性信号から、ミュラー行列の算出に必要なそれぞれの偏光状態の光の振幅を復元する。振幅の復元は、それぞれの撮像素子100で行うことができる。振幅が復元されたら、ステップS1017に進む。
ステップS3017において、視差ずれ補間部90は、復元された各偏光状態の光の振幅情報から、視差によるずれを算出し、対象物5のそれぞれの位置に対して対応する撮像面200a上および撮像面200b上の対応画素単位ブロックを決定する。さらに視差ずれ補間部90は、撮像面200aおよび撮像面200bの対応画素単位ブロックの間で異なる偏光状態の画素について、お互いに情報を補間する。画素情報が補間されたら、ステップS3019に進む。
ステップS3019において、ミュラー行列演算処理部21は、視差ずれ補間部90から送られた補間された画素情報に基づいて、対象物の各位置についてミュラー行列を算出する。ミュラー行列が算出されたら、ステップS3021に進む。ステップS3021において、表示調整部23が得られたミュラー行列に基づいて偏光特性画像を作成および調整する。偏光特性画像が作成および調整されたら、ステップS3040に進む。
カラー3次元画像の作成について、ステップS3034において、視差ずれ補間部90が、ステップS3017で求めた視差ずれ情報を、カラー画素情報に付加し、カラー画像作成処理部41に出力する。ステップS3036において、付加された視差情報および画素情報に基づいて、カラー画像作成処理部41が3次元カラー画像を作成し、カラー画像表示調整部42がカラー画像を偏光特性画像との合成のために調整する。3次元カラー画像が調整されたら、ステップS3040に進む。
ステップS3040において、合成画像処理部43は、得られた偏光特性画像と3次元カラー画像とを合成し、3次元合成画像を作成する。合成画像が得られたら、処理を終了する。
上述の第3の実施形態によれば、第1実施の形態により得られる作用効果の他に、次の作用効果が得られる。
(1)本実施形態の偏光特性画像計測装置30は、撮像面200aと撮像面200bとの対応する偏光特性画素間の視差に基づいて偏光特性画像および/または合成画像を生成し、対象物5の同じ位置からの光を光電変換する、撮像面200aと撮像面200bとで対応する偏光特性画素201〜204,209〜210の少なくとも一部は、前記光電変換する光の偏光状態が異なる。これにより、両撮像面の視差を利用して対象物5の奥行き情報が得られる一方、直接計測した多くの偏光状態の光の情報を利用することにより、より正確なミュラー行列の計測をすることができる。
(2)本実施形態の偏光特性画像計測装置30は、視差に基づいて、撮像面200aと撮像面200bとの対応する偏光検出画素201〜204,209〜210で異なる偏光状態を補間して2次元の偏光特性画像を生成するとともに、視差に基づいて生成された3次元画像に2次元の偏光特性画像をマッピングして3次元合成画像を生成する。これにより、対象物5の偏光特性画像をより立体的にわかりやすく表示することができる。
次のような変形も本発明の範囲内であり、上述の実施形態と組み合わせることが可能である。
(変形例1)
上述の実施形態では、偏光特性画像計測装置30の視差ずれ補間部90は、偏光特性画素201〜204,209〜210からの信号を弁別した信号から各成分の光の振幅を取り出し、撮像面200aから得られた画素情報と撮像面200bから得られた画素情報との視差によるずれを算出した。しかし、視差ずれ補間部90は、カラー画素からの画素信号を解析し、撮像面200aから得られた画素情報と撮像面200bから得られた画素情報との視差によるずれを算出してもよい。また、視差ずれ補間部90は、一旦それぞれの画素情報から暫定的なカラー画像を作成し、視差によるずれを求めてもよい。これにより、カラー画素間の視差に基づいて3次元カラー画像を作成し、偏光特性画像の視認性を高めることができる。
(第4の実施形態)
第4の実施形態に係る偏光特性画像計測装置40は、第1の実施形態に係る偏光特性画像計測装置10と同様の構成を有しているが、光源照射部11から近赤外光を照射する点、および、撮像面200に近赤外光を選択的に受光する画素(以下、IR画素と呼ぶ)が配置され、IR画素から出力される信号に基づいて動画を作成する点が異なっている。第1の実施形態との同一部分については第1の実施形態と同一の符号で参照し、場合に応じ説明を省略する。
図19は、第4の実施形態の偏光特性画像計測装置40の機能ブロックを示す図である。偏光特性画像計測装置40の機能ブロックの構成は、第1の実施形態の偏光特性画像計測装置10の機能ブロックの構成(図1)とほぼ同じとなるが、偏光特性画像計測装置40が近赤外画像合成処理系6を備える点が異なる。近赤外画像合成処理系6は、近赤外画像作成処理部46と、近赤外画像表示調整部47と、近赤外合成画像処理部48と、合成動画作成部49を備える。
光源照射部11において、光源部51は、近赤外線LED等の近赤外光源をさらに備え、各偏光状態の光と同様の光路をたどり、照射系対物部57から近赤外光を照射する。
なお、近赤外光源から出射した光は、適宜、光源分離部52で複数の光に分けたり、強度変調部53で強度変調をかけたり、光学特性変換部54で波長帯域を調節したりする構成にしてもよい。また、近赤外光を、光源から直接対象物5に対して照射する等、適宜設定してもよい。近赤外光に強度変調をかける場合は、近赤外光を光電変換した信号を弁別部13で復調する構成にすることができる(一点鎖線矢印)。
近赤外画像合成処理系6は、IR画素からの画素信号から、近赤外光を照射光として得られた対象物5の画像(以下、近赤外画像と呼ぶ)を作成し、偏光変数演算処理系2から出力される偏光特性画像と合成して合成動画を作成する。近赤外画像作成処理部46は、撮像部12のIR画素からの画素信号に基づいて、公知の画像処理により近赤外画像を作成する。作成された近赤外画像は、近赤外画像表示調整部47で偏光特性画像との合成に適するよう調整される。近赤外画像表示調整部48は、例えば可視光では確認しにくいが近赤外光で特徴的に確認できる対象物5の構造等を強調して示すように調整する。調整された近赤外画像は、近赤外画像合成処理部48に送られる。
近赤外画像合成処理部48は、表示調整部23から送られた偏光特性画像と、近赤外画像表示調整部47から送られた近赤外画像とを合成し、偏光特性画像と近赤外画像との合成画像である近赤外合成画像を作成する。近赤外合成画像処理部48は、得られた近赤外合成画像を合成動画作成部49に送る。
なお、近赤外合成画像処理部48は、得られた近赤外画像を表示部31に送り、適宜表示する構成にしてもよい。
合成動画作成部49は、所定の枚数の得られた合成画像を、それぞれの画像の撮像された順番に並べて構成し、合成動画を作成する。合成動画は、1Hz以上のフレームレートで画像を取得し、取得した画像を時系列に構成することで作成することができる。好ましくは、合成動画のフレームレートは10Hz以上であり、さらに好ましくは、合成動画のフレームレートは30Hz以上である。作成された合成動画は、表示部31に送られ表示される。
なお、照射する近赤外光についても強度変調と検波処理とを行って画素信号を分離してもよい。このとき、各偏光状態の光についての検波処理と、近赤外光についての検波処理とについて必ずしも同期をとる必要はなく、各フレーム間の時間間隔より短い時間のずれしか生じない、所望のフレームレートの動画を実現することができればよい。
図20は、第4の実施形態の偏光特性画像計測装置40における撮像素子100の撮像面200の画素配置の一部を模式的に示した図である。撮像面200には、0度画素201、45度画素202、90度画素203、右円偏光画素204、R画素205、G画素206、B画素207およびIR画素211が配置されている。
図21は、本実施形態の偏光特性画像計測装置40の対象物5との対物部510における照射口501−504、508、512および撮像面200の配置を示したものである。
本実施形態の偏光特性画像計測装置40の4つの照射口501−504からは、第1の実施形態の偏光特性画像計測装置10と同様、それぞれ異なるF1、F2、F3およびF4の周波数で強度変調された各偏光状態の光が照射される。白色光照射口508からは、F1、F2、F3、F4のそれぞれの周波数とさらに異なるF5の周波数で強度変調された白色光が照射される。近赤外光照射口512からは、近赤外光が照射される。このとき、白色光と近赤外光とのそれぞれの照射口の配置と数の組み合わせは限定されない。
撮像面200は、対物部510の中央部に配置され、偏光検出画素201−204およびR画素205、G画素206、B画素207、IR画素211が図20で例示された構成で並んでいる。
図22は、本実施形態の偏光特性画像計測装置40を用いた合成動画の作成の流れを示すフローチャートである。偏光特性画像の作成に関するステップS4001からステップS4019までのステップ(図10のステップS1001〜S1019に対応)は第1の実施形態と同じなので説明を省略する。
ステップS4050において、光源照射部11は、近赤外光を対象物5に照射する。照射が行われたら、ステップS4052に進む。ステップS4052について、撮像素子100のIR画素211が、対象物5からの散乱光のうち、近赤外光を光電変換する。光電変換が行われたら、ステップS4054に進む。ステップS4054において、近赤外画像作成処理部46が、近赤外画像を作成し、近赤外画像表示調整部47が近赤外画像を偏光特性画像との合成のために調整する。近赤外画像が調整されたら、ステップS4056に進む。
ステップS4056では、近赤外合成画像処理部48が、偏光特性画像と近赤外画像との合成画像を作成し、合成動画作成部49に送る。合成動画が送られたら、ステップS4058に進む。ステップS4058では、合成動画作成部49は、所定の枚数の合成画像を取得したか否かを判定する。合成動画作成部49は、合成画像の取得枚数が所定の値以上であれば、ステップS4058を肯定判定してステップS4060に進む。合成動画作成部49は、合成画像の取得枚数が所定の値未満の場合、ステップS4058を否定判定してステップS4001およびステップS4050に戻る。ステップS4060では、合成動画作成部49は、得られた所定の枚数の合成画像から、合成動画を作成する。合成動画が作成されたら、処理を終了する。
上述の第4の実施の形態によれば、第1の実施の形態により得られる作用効果の他に、次の作用効果が得られる。
(1)本実施形態の偏光特性画像計測装置40は、対象物5に近赤外光を照射し、対象物5において散乱した近赤外光を光電変換した信号から、近赤外画像と偏光特性画像との合成画像、および合成動画を作成する。これにより、高い生体組織透過性を有する近赤外光を用いて対象物5をイメージングしつつ、対象物5の偏光特性を表示することができる。
次のような変形も本発明の範囲内であり、上述の実施形態と組み合わせることが可能である。
(変形例1)
上述の実施形態では、偏光特性画像計測装置40の各偏光状態の光の照射口501〜504は、対物部510にそれぞれ1か所ずつ設けられている。しかし、各偏光状態の光の照射口501〜504は、対物部510上の複数の位置に設け、各偏光状態の光を分割してそれぞれの照射口501〜504から照射してもよい。これにより、1つの照射口からの強い光による鏡面反射を防ぎ、画素信号の飽和を防ぐことができる。
図23は、各偏光状態の光についてそれぞれ4か所の照射口501〜504が設けられた場合の対物部510の構成を示す図である。各偏光状態の光の照射口501〜504は、対物部51の中心に対称に配置等され、対物部510上に適宜分散されて配置されることが好ましい。
(変形例2)
本実施形態の変形例1の偏光特性画像計測装置40においては、各偏光状態の光を分割し、複数の照射口501〜504から照射することで鏡面反射を防ぐ構成にした。しかし、偏光特性画像計測装置40が、対象画素の画素信号の強度と、撮像面200の他の一部または全部の画素の画素信号の強度とを比較して、露光時間を調整、設定する露光時間設定部を備える構成にしてもよい。これにより、鏡面反射が顕著な場合でも、画素信号の飽和を防ぐことができる。露光時間設定部は、撮像素子100に積層された、画素毎の処理回路に好適に配置され、対象画素の画素信号の強度と、所定の範囲の周辺の画素の画素信号の平均的な強度を示す値との差に基づいて、露光時間を設定する。
なお、露光時間設定部は、撮像面200の複数の画素の画素信号の強度の最大値、最小値、またはダイナミックレンジ等に基づいて、露光時間を調整してもよい。
図24は、撮像素子の画素内の構成において、露光時間設定部68を概略的に示した図である。露光時間設定部68は、読み出し部67から画素信号の強度のデータを取得し、光電変換部62における光電変換の露光時間を設定する。これにより、撮像素子100内での処理により迅速な露光時間の調整を行うことができる。
なお、露光時間設定部68は、適宜対象画素の外部に配置することもできる。
(変形例3)
本実施形態の偏光特性画像計測装置40において、R画素205、G画素206、B画素207およびIR画素211では、偏光検出画素に関連した信号調節部63、混合部64、フィルタリング部65、サンプリング部66、読み出し部67等の強度変調された成分を周波数弁別する処理を担う回路及び積層部分を省略することできる。そこで、隣接する偏光検出画素201〜204の信号調節部63と、混合部64と、フィルタリング部65と、サンプリング部66と、読み出し部67の処理を担う回路及び積層部分をR画素205、G画素206、B画素207およびIR画素211の空いた積層部分に積層してもよい。これにより処理回路の集積率が向上するとともにカラー画素に積層した処理回路を用いて、効率的に偏光状態の弁別を行うことができる。
図25は、カラー画素に積層された処理回路を用いて偏光状態の弁別処理を行う場合の、各機能ブロックの配置の一例を示す図である。1つの偏光特性画素からの画素信号を弁別する際の4種類の照射光に対応する4つの周波数での弁別処理のうち、2つの周波数の弁別処理をその偏光特性画素に隣接するカラー画素において行っている。
カラー画素に入射した対象物5からの散乱光は、カラー画素の撮像側光学特性変換部61−2で対応する色の光が選択的に透過され、光電変換部62−2で光電変換される。光電変換された信号は、読み出し処理がなされる。
偏光特性画素に入射した対象物5からの散乱光は、偏光特性画素の撮像側光学特性変換部61−1で1種類の偏光状態の光が選択的に透過され、光電変換部62−1で光電変換される。光電変換された画素信号は信号調節部63に入力される。信号調節部63は、電流電圧変換等を行い、画素信号を周波数分離のため調節し、出力を4つの信号に分け、そのうち2つの信号を偏光特性画素内の混合部64−1、64−2に出力し、2つの信号を隣接するカラー画素内の処理回路に配置された混合部64−3、64−4に出力する。各混合部64−1、64−2、64−3、64−4に入力された信号は、対応する周波数のリファレンス信号を用いて乗算処理等がされ、それぞれ対応するフィルタリング部65−1、65−2、65−3、65−4およびサンプリング部66−1、66−2、66−3、66−4でフィルタリング処理およびサンプリング処理がなされ、読み出される。
なお、以上の説明では、4種類の照射光に対応する弁別処理のうち2種類を当該偏光特性画素内で行ったが、各弁別処理をいずれの画素の処理回路で行うかは適宜調整することができる。例えば、1つの弁別処理を当該偏光特性画素内で行い、2つの弁別処理を隣接するR画素で行い、残りの1つの弁別処理を当該偏光特性画素に隣接するG画素で行う構成にしてもよい。また、IR画素の処理回路でも同様に隣接する偏光特性画素の弁別処理を行うように構成することができる。
(変形例4)
本実施形態の偏光特性画像計測装置40の光源照射部11では、光源51から出射した光を分離した後に強度変調をかける構成としたが、LEDから直接、強度変調した光を発振する構成としてもよい。
図26は、強度変調した光を発振するLEDを光源に用いた場合の光源照射部11aの機能ブロックを示す図である。光源照射部11aは、信号伝達部58と、信号伝送部59と、光源部51aと、光学特性変換部54と、補償データ取得部56と、照射系対物部57とを備える。また、光源部51aは、光源駆動回路部51a−1と、発振部51a−2とを備える。光学特性変換部54と、補償データ取得部56と、照射系対物部57とは、上述の実施形態と同様であり、説明を省略する。
信号伝達部58は、ファンクションジェネレータ等により構成され、所定の周波数と波形とを有する交流電圧信号を生成する。信号伝達部58は、生成した交流電圧信号を、信号伝送部59に送る。信号伝送部59は、電圧信号を通す電気ケーブル等により構成され、信号伝達部58が生成した交流電圧信号を光源駆動回路部51a−1に送る。内視鏡等のように照射部を遠隔から制御する場合、信号伝達部58を配置した処理装置と光源部51aの間に、細長い管状等に構成された信号伝送部59が配置されることにより、生体への非侵襲性を高めることができる。
なお、信号伝送部59を光源駆動回路部51a−1と発振部51a−2の間に配置してもよい。
光源駆動回路部51a−1は、LEDチップ等に相当し、信号伝送部59から送られた電圧信号を基に照射光の発振のための電流を調整する。調整された電流信号は、発振部51a−2に出力される。発振部51a−2は、LEDの発光体を備え、光源駆動回路部51a−1から入力した電流信号を基に、所定の周波数で強度変調した照射光を発振する。
以上に述べた光源照射部11aを備えて偏光特性画像計測装置40を構成すると、より簡易な構成で、LEDから出射した干渉性が低いか、干渉性が無い光を対象物5に照射できる。これにより、周波数分離の処理において異なる変調周波数の和や差の値の周波数の光が混入することを防ぎ、復調の際の雑音の発生を低下させることができる。
(第5の実施形態)
第5の実施形態に係る偏光特性画像計測装置20は、第1の実施形態に係る偏光特性画像計測装置10と同様の構成を有しているが、強度変調部53と光学特性変換部54の間に位相変調部53’を有している点が、第1の実施の形態とは異なっている。第1の実施形態との同一部分については第1の実施形態と同一の符号で参照し、場合に応じ説明を省略する。
本実施形態では、強度変調部53は、複数の光を同一の周波数で強度変調する。位相変調部53’は、複数の光における強度変調の位相をそれぞれ異ならせる。ここで、強度変調の位相を異ならせる手法として、複数の光のそれぞれに対して、強度変調の位相を異ならせた固定値とする位相ラベリングと、強度変調の位相を周期的に変化させた際の周波数を異ならせる周波数ラベリングがある。より具体的には、強度変調された光の強度を示す以下の式(6)において、強度変調の位相を示すΦを光の数だけ異ならせて固定値とするのが位相ラベリングである。一方、強度変調の位相Φを余弦波で周期的に変動させて、その周波数に対応する角速度wを光の数だけ異ならせるのが周波数ラベリングである。
Figure 2020099086

…(6)
なお、Iは光の強度、Eは光の電界ベクトル、Ωは強度変調部53で強度変調する周波数に対応する角速度を示す。強度変調された複数の光は、光学特性変換部54によってそれぞれ偏光状態が変換され、光源照射部11から同時に照射される。
強度変調された光は、第1の実施形態と同様に、弁別部13が強度変調された光の位相で検波することにより、光源照射部11から照射されたいずれの偏光状態を有する光に由来するかを弁別することができる。例えば、弁別部13は、位相ラベリングされた光の位相情報を用いて、それぞれの位相に対応する正弦波及び余弦波を乗算して、受光した光がいずれの位相によって照射された光に由来するかを弁別する。また、弁別部13は、周波数ラベリングされた光の周波数ごとに光を分離することで、受光した光がいずれの位相によって照射された光に由来するかを弁別する。
上記では、種々の実施の形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。
次の優先権基礎出願および国際公開公報の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
日本国特許出願2015年第242559号(2015年12月11日出願)
国際公開第2013/164915号
5…対象物、10,20,30,40…偏光特性画像計測装置、11…光源照射部、12…撮像部、13…弁別部、21…ミュラー行列演算処理部、22…偏光素子特性補正処理部、23…表示調整部、31…表示部、41…カラー画像作成処理部、42…カラー画像表示調整部、43…合成画像処理部、46…近赤外画像作成処理部、47…近赤外画像表示調整部、48…近赤外合成画像処理部、49…合成動画作成部、51…光源部、52…光源分離部、53…強度変調部、54…光学特性変換部、55…伝送部、56…補償データ取得部、57…照射系対物部、58…信号伝達部、62…光電変換部、63…信号調節部、64…混合部、65…フィルタリング部、66…サンプリング部、67…読み出し部、68…露光時間設定部、71…ミュラー行列算出部、72…ミュラー行列保存部、73…補正行列保存部、74…補正行列演算部、75…光学素子、81…画素単位ブロック、90…視差ずれ補間部、100…撮像素子、102…フィルタ層、104…PD、106…PD層、108…配線層、111…信号処理チップ、112…メモリチップ、200…撮像面、201…0度画素、202…45度画素、203…90度画素、204…右円偏光画素、205…B画素、206…R画素、207…G画素、208…偏光フィルタおよびカラーフィルタの無い画素、209…135度画素、210…左円偏光画素、211…IR画素、501〜509,511〜512…照射口、510…対物部。

Claims (19)

  1. 第1基板に設けられ、状態が異なる複数の光が照射された対象物からの光を受光する受光部であって、それぞれが異なる偏光を光電変換する複数の第1光電変換部を有する受光部と、
    前記第1基板に積層された第2基板に設けられ、前記複数の第1光電変換部からそれぞれ出力される信号が前記複数の光のいずれに由来する信号かを弁別する弁別部と
    を備える撮像素子。
  2. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記複数の光をそれぞれ異なる周波数で強度変調して前記対象物に照射する第1照射部をさらに備え、
    前記複数の第1光電変換部は、前記対象物からの光を異なる偏光状態ごとに光電変換し、
    前記弁別部は、複数の異なる偏光状態のそれぞれに対応する前記複数の第1光電変換部のそれぞれから出力される個別の信号を複数の前記異なる周波数で検波し、前記複数の光のいずれに由来する信号かを弁別する撮像素子。
  3. 請求項2に記載の撮像素子において、
    前記複数の第1光電変換部から出力される信号を記憶するように構成され、前記撮像素子の内部に積層されたメモリチップをさらに備える撮像素子。
  4. 請求項3に記載の撮像素子において、
    前記第1基板、前記第2基板および前記メモリチップの少なくとも一つに、表面および裏面のそれぞれに設けられた回路を互いに接続する貫通電極が設けられている撮像素子。
  5. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記受光部は、それぞれが異なる偏光を光電変換する複数の前記第1光電変換部を有する画素ブロックを複数備え、
    前記画素ブロックごとに、前記対象物の偏光特性信号を出力する撮像素子。
  6. 請求項2に記載の撮像素子において、
    前記第1照射部は、偏光状態の異なる前記複数の光を同時に照射し、
    前記弁別部は、前記複数の第1光電変換部からそれぞれ出力される信号に対する検波を並行して行う撮像素子。
  7. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記受光部は、前記対象物からの可視光を光電変換する複数の第2光電変換部を有し、
    前記撮像素子は、前記複数の第2光電変換部からそれぞれ出力される信号を基に前記対象物の画像を作成する可視画像作成部をさらに備える撮像素子。
  8. 請求項7に記載の撮像素子において、
    白色光を前記対象物に照射する第2照射部をさらに備え、
    前記受光部は、それぞれの前記第2光電変換部の入射側に配設したカラーフィルターをさらに備え、
    前記可視画像作成部は、前記複数の第2光電変換部からそれぞれ出力される信号を基に前記対象物のカラー画像を作成する撮像素子。
  9. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記受光部は、前記対象物からの近赤外光を光電変換する複数の第3光電変換部をさらに備えと、
    前記撮像素子は、前記複数の第3光電変換部からそれぞれ出力される信号を基に前記対象物の画像を作成する近赤外光画像作成部をさらに備える撮像素子。
  10. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記弁別部で弁別された信号に基づいて前記対象物の物性を表す偏光特性表示画像を作成する偏光特性表示画像作成部をさらに備える撮像素子。
  11. 請求項10に記載の撮像素子において、
    複数の前記偏光特性表示画像を含む動画を作成する偏光特性動画作成部をさらに備える撮像素子。
  12. 請求項2に記載の撮像素子において、
    前記受光部は、前記対象物からの光をそれぞれ異なる入射角で受光する第1の画素ブロックと第2の画素ブロックとを備え、
    前記撮像素子は、
    前記第1の画素ブロックと前記第2の画素ブロックとの対応する前記第1光電変換部の間の視差に基づいて偏光特性表示画像を作成する偏光特性表示画像作成部を備える撮像素子。
  13. 請求項8に記載の撮像素子において、
    前記受光部は、前記第2照射部から光が照射された前記対象物からの光をそれぞれ異なる入射角で受光する第1のカラー画素ブロックと第2のカラー画素ブロックとを備え、
    前記可視画像作成部は、
    前記第1のカラー画素ブロックと前記第2のカラー画素ブロックとの対応する前記第2光電変換部の間の視差に基づいて3次元カラー画像を作成する撮像素子。
  14. 請求項1に記載の撮像素子において、
    前記受光部は、前記受光部のそれぞれの画素毎に、出力される信号に対する処理回路を有し、前記処理回路は、前記複数の第1光電変換部のそれぞれに対応して、前記第1基板に積層された基板に配置される撮像素子。
  15. 請求項1に記載の撮像素子を備える計測装置。
  16. 請求項15に記載の計測装置において、
    前記弁別部から出力された信号に基づいてミュラー行列を算出する演算部を備える計測装置。
  17. 撮像素子の第1基板に設けられた受光部であって、それぞれが異なる偏光を光電変換する複数の第1光電変換部を有する受光部により、状態が異なる複数の光が照射された対象物からの光を光電変換することと、
    前記撮像素子において前記第1基板に積層された第2基板に設けられた弁別部により、前記複数の第1光電変換部からそれぞれ出力される信号が前記複数の光のいずれに由来する信号かを弁別することと
    を含む計測方法。
  18. 請求項17に記載の計測方法において、
    前記弁別部から出力された信号に基づいてミュラー行列を算出することをさらに含む、計測方法。
  19. 請求項1に記載の撮像素子において、
    偏光状態の異なる前記複数の光をそれぞれ異なる位相で強度変調して前記対象物に照射する第1照射部をさらに備え、
    前記複数の第1光電変換部は、前記第1照射部から前記複数の光が照射された前記対象物からの光を、異なる前記偏光状態ごとに光電変換し、
    前記弁別部は、複数の異なる偏光状態のそれぞれに対応する前記複数の第1光電変換部のそれぞれから出力される個別の信号を複数の前記異なる位相で検波し 、前記複数の光のいずれに由来する信号かを弁別する撮像素子。
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