JP2020098182A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
施形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なも
のではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、応用例、詳細説明、補足説明等の関
係にある。また、以下の実施の形態において、構成要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でもよい。
[半導体装置の構成]
図1は、半導体装置の構成例を説明するブロック図である。
ルMCは、書き換え可能に設けられたSRAM(Static Random Access Memory)セルで
ある。更に、メモリアレイ4は、メモリセル行にそれぞれ対応して設けられた複数のワード線WLと、メモリセル列にそれぞれ対応して設けられた複数のビット線対BLPを有する。図1には、一例として、2本のワード線WL0及びWL1と、4本のビット線対BLP0、BLP1、BLP2及びBLP3が設けられている場合が示されているが、その数には限定されない。
図2は、論理回路の構成例を説明する回路図である。図2には、一例として、論理回路L1の構成例を示す。
図3は、メモリ回路の構成例を説明する回路図である。
図4は、実施の形態1に係る制御回路の構成例を説明する回路図である。
遅延信号生成回路DUは、遅延回路DE2と偶数段で構成せれたインバータ群IV10とを有する。遅延信号生成回路DUは、起動信号TDECを受け取り、それらの回路によって、起動信号TDECが遅延した遅延信号BACKを生成する。また、インバータ群IV10は遅延回路として機能する。そのため、インバータ群IV10は、インバータ構造に限定されず、外部クロック信号CLKを遅延させる回路であればよい。
図5は、実施の形態1に係る制御回路を含む半導体装置の動作について説明するタイミングチャートである。図5には、書込動作のデータDとしてデータD0が示され、読出動作のデータQとしてデータQ0が示され、テスト動作のテストデータSI及びテストデータSIVとしてテストデータSI0とSIV0が示されている。また、図5に示される入力ラッチDL1及びDL2と出力ラッチQLは、入出力回路IO1内の回路である。
以下、図3、図4及び図5を参照しながら、実施の形態1の書込動作について説明する。
以下、図3、図4及び図5を参照しながら、実施の形態1の読出動作について説明する。上述の書込動作と同様の動作については、具体的な説明は省略する。
以下、図3、図4及び図5を参照しながら、実施の形態1のテスト動作について説明する。また、上述の書込動作及び読出動作と同様の動作については、具体的な説明は省略する。
図6は、本発明者が事前検討した制御回路の構成例を説明する回路図である。
制御回路7は、本発明者が事前検討した回路である。制御回路7は制御回路5のパルス信号生成回路PU1に代わってパルス信号生成回路PU2を有する。したがって、パルス信号生成回路PU2以外の構成要素は、制御回路5と同様であるため、同一の符号を付し、説明は省略する。
図7は、本発明者が事前検討した制御回路を含む半導体装置のテスト動作について説明するタイミングチャートである。図7には、図5と同様に、入出力回路IO1の入力ラッチDL1及びDL2及び出力ラッチQLと、プリップフロップF1と、テストデータSI0及びSIV0が示されている。
ここで、事前検討例と実施の形態1の違いを説明するために、テストの種類について説明する。テストには、大きく分けて、DC(Direct Current)テストとAC(Alternate Current)テストがある。もちろん、スキャンパステストにおいても、上述のDCテスト及びACテストがある。
外部クロック信号CLKのパルス幅を長くすることによって、回路ブロック(例えば、入出力回路)の最低動作保障電圧を確保することが出来るため、信頼性が高いテストを実施することが出来る。
図8は、実施の形態2に係る制御回路の構成例を説明する回路図である。
[実施の形態2の制御回路の構成]
制御回路8は、制御回路5のパルス信号生成回路PU1のインバータIV7に代わってNAND回路NA4を含むパルス信号生成回路PU3を有する。更に、制御回路8にはテストモード切替信号TESが入力される。それ以外の構成要素は、実施の形態1と同様であるため、同一の符号を付し、説明は省略する。
図9は、実施の形態2に係る制御回路を含む半導体装置のテスト動作について説明するタイミングチャートである。図9には、図5と同様に、入出力回路IO1の入力ラッチDL1及びDL2及び出力ラッチQLと、プリップフロップF1と、テストデータSI0及びSIV0が示されている。
以下、図1、図3、図8及び図9を参照しながら、実施の形態2のACテスト動作について説明する。た、上述で説明した実施の形態1の動作、または事前検討例の動作と同様に動作については、具体的な説明は省略する。
ACテスト動作では、バイパスモード信号STMは「H」レベルに維持され、内部制御信号WENは不定状態に設定されている。また、テストモード切替信号TESは、ACテストのため「L」レベルに維持されている。これにより、ACテスト動作時において、メモリ回路3のバイパス動作が実施される。
以下、図1、図3、図8及び図9を参照しながら、実施の形態2のDCテスト動作について説明する。た、上述で説明した実施の形態1の動作、または事前検討例の動作と同様に動作については、具体的な説明は省略する。
2 外部クロック生成回路
3 メモリ回路
4 メモリアレイ
5、7、8 制御回路
6 ワード線駆動回路
AT1、AT2 アクセストランジスタ
AN1、AN2、AN3 AND回路
BLP、BLP0、BLP1、BLP2、BLP3 ビット線対
BL、/BL ビット線
CBP データ線対
CBL、/CBL データ線
DE1、DE2 遅延回路
DU 遅延信号生成回路
DL1、DL2 入力ラッチ
F1、F2 フリップフロップ
L1、L2 論理回路
TU 起動信号生成回路
IO1、IO2 入出力回路
IV1、IV2、IV3、IV4、IV5、IV7、IV8、IV9 インバータ
IV6、IV10、IV11 インバータ群
MC メモリセル
MUX マルチプレクサ
NA1、NA2、NA3、NA4 NAND回路
P1 クロック源端子
P2 スキャンイン端子
P3 スキャンアウト端子
PU1、PU2、PU3 パルス信号生成回路
QL 出力ラッチ
R1、R2 OR回路
RS 内部ラッチ回路
SA 読出駆動回路
SL セレクタ
SU 読出信号生成回路
TU 起動信号生成回路
WD、WD0、WD1 ワードドライバ
WTD 書込駆動回路
WL、WL0、WL1 ワード線
WU 書込信号生成回路
Claims (20)
- 複数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイと、前記複数のメモリセルへデータを書き込み、かつ前記複数のメモリセルからデータを読み出す入出力回路と、前記入出力回路を制御する制御信号を生成する制御回路とを有するメモリ回路と、
前記メモリ回路と接続される論理回路と、
を備え、
前記論理回路をテストする第1テスト動作において、
前記制御回路は外部クロック信号を受け取り、前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりに基づいて制御信号を立ち上げ及び立ち下げ、
前記入出力回路はテストデータを受け取り、前記テストデータは前記制御信号に基づいて前記入出力回路内を介して前記論理回路へ出力される、半導体装置。 - 前記複数のメモリセルへデータの書込動作において、
前記制御回路は、前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりの一方のみに基づいて前記制御信号を立ち上げ、
前記入出力回路はデータを受け取り、前記制御信号に基づいて前記複数のメモリセルへ前記データを書き込む、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記制御回路及び前記入出力回路は、更にバイパスモード信号を受け取り、
前記第1テスト動作時において、
前記制御回路は、前記バイパスモード信号の第1レベルと、前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりに基づいて前記制御信号を立ち上げ及び立ち下げ、
前記入出力回路は、前記バイパスモード信号の前記第1レベルに基づいて前記テストデータを受け取り、前記テストデータは、前記制御信号に基づいて前記メモリアレイを介さずに前記論理回路へ出力される、請求項2に記載の半導体装置。 - 前記書込動作時において、
前記制御回路は、前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりの一方のみと、前記バイパスモード信号の第2レベルに基づいて前記制御信号を立ち上げ、
前記入出力回路は前記バイパスモード信号の前記第2レベルに基づいて前記データを受け取り、前記制御信号に基づいて前記複数のメモリセルへ前記データを書き込む、請求項3に記載の半導体装置。 - 前記バイパスモード信号の前記第1レベルは、電源電圧レベルであり、
前記バイパスモード信号の前記第2レベルは、接地電圧レベルである、請求項4に記載の半導体装置。 - 前記半導体装置は、更に、
前記論理回路を介して前記メモリ回路と接続されるフリップフロップと、
前記メモリ回路の前記制御回路と前記フリップフロップに前記外部クロック信号を供給する外部クロック生成回路と、
を備える、請求項2に記載の半導体装置。 - 前記論理回路は、Pチャネル型MOSトランジスタとNチャネル型MOSトランジスタとで構成される、請求項6に記載の半導体装置。
- 前記入出力回路は、前記複数のメモリセルへデータを書き込む書込駆動回路と、前記複数のメモリセルが保持するデータを読み出す読出駆動回路と、前記書込駆動回路と前記読出駆動回路とを接続するデータ線対とを有し、
前記第1テスト動作おいて、
前記入出力回路は、前記制御信号に基づいて、前記テストデータを前記書込駆動回路から前記データ線対を介して前記読出駆動回路へ転送する、請求項7に記載の半導体装置。 - 前記書込動作において、
前記入出力回路は、前記制御信号に基づいて前記書込駆動回路から前記データ線対を介して前記複数のメモリセルへ前記データを書き込む、請求項8に記載の半導体装置。 - 前記論理回路をテストする第2テスト動作において、
前記制御回路は、前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりの一方のみに基づいて前記制御信号を立ち上げ、
前記入出力回路は、テストデータを受け取り、前記テストデータは前記制御信号に基づいて前記入出力回路内を介して前記論理回路へ出力される、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1テスト動作のテストは、前記論理回路の静的特性を確認するDCテストであり、
前記第2テスト動作のテストは、前記論理回路の動的特性を確認するACテストである、請求項10に記載の半導体装置。 - 前記制御回路は、更にテストモード切替信号を受け取り、
前記第1テスト動作において、前記制御回路は、前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりと前記テストモード切替信号の第1レベルに基づいて、前記制御信号を立ち上げ及び立ち下げ、
前記第2テスト動作において、前記制御回路は、前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりの一方のみと、前記テストモード切替信号の第2レベルに基づいて、前記制御信号を立ち上げる、請求項11に記載の半導体装置。 - 前記テストモード切替信号の第1レベルは、電源電圧レベルであり、
前記テストモード切替信号の第2レベルは、接地電圧レベルである、請求項12に記載の半導体装置。 - 前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりは、前記外部クロック信号の単一の周期サイクル内で生じる、請求項1に記載の半導体装置。
- 複数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイと、前記複数のメモリセルへデータを書き込み、かつ前記複数のメモリセルからデータを読み出す複数の入出力回路と、前記複数の入出力回路を制御する制御信号を生成する制御回路と、を有するメモリ回路と、
前記複数の入出力回路と接続される複数の論理回路と、
を備え、
前記複数の論理回路をテストするテスト動作において、
前記制御回路は外部クロック信号を受け取り、前記外部クロック信号のパルス幅に同期した制御信号を生成し、
前記複数の入出力回路の各々はテストデータを受け取り、前記テストデータは前記制御信号に基づいて前記複数の各々の入出力回路内を介して前記複数の論理回路の各々へ出力される、半導体装置。 - 前記メモリアレイは、前記複数のメモリセル列にそれぞれ対応して設けられた複数のビット線対を有し、
前記複数の入出力回路の各々は、前記複数のビット線対の各々に接続される、請求項15に記載の半導体装置。 - 前記複数の入出力回路の各々は、バイパスモード信号を受け取り、
前記テスト動作おいて、前記複数の入出力回路の各々は、前記バイパスモード信号に基づいてシリアルに接続され、前記テストデータの伝送経路となるスキャンチェーンを構成する、請求項16に記載の半導体装置。 - 前記テスト動作は、前記複数の論理回路の静的特性を確認するDCテストである、請求項17に記載の半導体装置。
- 複数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイと、前記複数のメモリセルへデータを書き込み、かつ前記複数のメモリセルからデータを読み出す入出力回路と、及び前記入出力回路を制御する制御信号を生成する制御回路とを有するメモリ回路と、
前記メモリ回路と接続される論理回路と、
を備え、
前記論理回路をテストするテスト動作において、
前記制御回路は外部クロック信号を受け取り、前記外部クロック信号のパルス幅に同期した制御信号を生成し、
前記入出力回路はテストデータを受け取り、前記テストデータは前記制御信号に基づいて前記入出力回路内を介して前記論理回路へ出力される、半導体装置。 - 前記複数のメモリセルへデータの書込動作において、
前記制御回路は、前記外部クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりの一方のみに基づいて前記制御信号を立ち上げ、
前記入出力回路はデータを受け取り、前記制御信号に基づいて前記複数のメモリセルへ前記データを書き込む、請求項19に記載の半導体装置。
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