JP2020096101A - 基板ホルダに使用するシール - Google Patents
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Abstract
Description
半導体ウェハやプリント基板等の基板の表面に配線やバンプ(突起状電極)等を形成することが行われている。この配線およびバンプ等を形成する方法として、電解めっき法が知られている。
図1は、実施形態にかかる基板ホルダが使用されるめっき装置の全体配置図である。図1に示すように、このめっき装置100は、基板ホルダ1(符号「1」については図2以降を参照のこと)に基板をロードし、又は基板ホルダ1から基板をアンロードするロード/アンロード部110と、基板を処理する処理部120と、洗浄部50aとに大きく分けられる。処理部120は、さらに、基板の前処理及び後処理を行う前処理・後処理部120Aと、基板にめっき処理を行うめっき処理部120Bとを含む。なお、このめっき装置100で処理する基板は、角形基板、円形基板を含む。また、角形基板は、矩形等の多角形のガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他の多角形のめっき対象物を含む。円形基板は、半導体ウェハ、ガラス基板、その他の円形のめっき対象物を含む。
次に、図2を用いて一実施形態にかかる基板ホルダ1について説明する。図2Aは一実施形態にかかる基板ホルダ1を模式的に示した正面図である。図2Bは一実施形態にかかる基板ホルダ1を模式的に示した側面断面図である。図2Cは、図2Bにおいて「A」と付された部分の拡大図である。ただし、図2Cは分解図となっている。以下では、図2Aの左右方向(後述するアーム部210aの長手方向)をX方向、紙面に対して垂直な方向(保持されるべき基板Wの面と垂直な方向)をY方向、上下方向をZ方向として説明する。X方向については図2Aの右向きを正方向とする。Y方向については図2Aの紙面に対して奥向きを正方向とする。Z方向については図2Aの上方向を正方向とする。
い。
0が設けられている。なお、図2Aおよび図2Bでは代表して1つのクランパ290にのみ符号が付されている。
プレート270およびポート241bが構成されることが好ましい。また、プレート270がフレームボディ240bから突出しないことによって、めっき液から基板ホルダ1を引き上げたときに基板ホルダ1に残留するめっき液の量を低減することができ得る。また、プレート270がフレームボディ240bから突出しないことによって、プレート270とめっき槽の構成物等との干渉を回避し得る。リアフレーム200bに向かって延びているフック本体252もまたフレームボディ240bから突出しないように構成されていることが好ましい。
次に、図3を用いて基板ホルダ1のうち基板Wを保持する部分の詳細を説明する。図3は基板ホルダ1のうち基板Wを保持する部分の側面断面図である。基板ホルダ1は基板Wの両面をめっきするためのホルダであるので、基板ホルダ1は基板Wの両面に電流を供給する必要がある。そこで、図3のフレームボディ240aおよびフレームボディ240bにはそれぞれ基板用電極320が設けられている。フレームボディ240aに設けられた基板用電極320は基板Wの表面(正面を向く面)と電気的に接続され、フレームボディ240bに設けられた基板用電極320は基板Wの裏面と電気的に接続されている。ただし、図3に示された構成以外の構成を採用することもできる。他の構成の例としては、フレームボディ240aおよびフレームボディ240bのいずれかのみに基板用電極320が設けられており、当該基板用電極320が基板Wの両面に接触している構成が挙げられる。基板用電極320は、図示しない配線やバスバーなどの手段によって肩部電極220に電気的に接続されている。したがって、肩部電極220に供給された電流は、基板用電極320を介して基板Wに供給される。この際、肩部電極220と基板用電極320の対応関係は、図2Aの左右の肩部電極220において、例えば左の肩部電極220が基板Wの表面に対応するフレームボディ240aの基板用電極320に、右の肩部電極220が基板Wの裏面に対応するフレームボディ240bの基板用電極320に電流を供給するように、基板の表面、裏面に対し独立して電流を供給できるように構成してもよい。
隙間をシールするよう構成されている。アウタシール300およびインナシール310は基板Wの厚さ方向(基板Wの面と垂直な方向)に弾性的に変形可能である。基板Wは、インナシール310と基板Wとの間の接触圧によってフレームボディ240aとフレームボディ240bとの間に保持される。なお、図3は模式図に過ぎず、実際の構成とは異なり得ることに留意されたい。たとえば、アウタシール300およびインナシール310はそれぞれのシールホルダにより保持されていてよい。たとえば、インナシール310はフロントフレーム200aまたはリアフレーム200bのいずれか一方に設けられていてもよい。
の円弧部312を備えているが、他の実施形態においてより多くの円弧部312を備えるものとしてもよい。また、複数の円弧部312の曲率半径Rは全て同一でもよく、また異なる曲率半径を備えるものとしてもよい。
[形態1]形態1によれば、基板ホルダが提供され、かかる基板ホルダは、第1保持部材と、第2保持部材と、前記第1保持部材と前記第2保持部材とをクランプするためのクランパと、前記第1保持部材と前記第2保持部材とがクランプされたときに、前記第1保持部材、前記第2保持部材、および基板の少なくとも1つに接触する接触部を備えるシールと、を有し、基板の中心を通り基板の表面に垂直な平面で見た断面において、前記接触部は、第1の点を中心とする第1円弧部と、前記第1の点とは異なる第2の点を中心とする第2円弧部と、を有し、前記第1円弧部および前記第2円弧部の少なくとも一方の曲率半径は、0.01mm以上0.1mm以下である。
200a…フロントフレーム(保持部材)
200b…リアフレーム(保持部材)
210a、b…アーム部
220…肩部電極
230a、b…配線格納部
240a、b…フレームボディ
241a、b…ポート
250…フック部
251…フックベース
252…フック本体
253…シャフト
254…レバー
255…押圧部材
260a…開口
260b…開口
270…プレート
271…クロー
280…弾性支持部材
290…クランパ
300…アウタシール(第2のシール部材)
310…インナシール(第1のシール部材)
312…円弧部
320…基板用電極
W…基板
Claims (5)
- 基板ホルダであって、
第1保持部材と、
第2保持部材と、
前記第1保持部材と前記第2保持部材とをクランプするためのクランパと、
前記第1保持部材と前記第2保持部材とがクランプされたときに、前記第1保持部材、前記第2保持部材、および基板の少なくとも1つに接触する、接触部を備えるシールと、を有し、
基板の中心を通り基板の表面に垂直な平面で見た断面において、前記接触部は、第1の点を中心とする第1円弧部と、前記第1の点とは異なる第2の点を中心とする第2円弧部と、を有し、前記第1円弧部および前記第2円弧部の少なくとも一方の曲率半径は、0.01mm以上0.1mm以下である、
基板ホルダ。 - 請求項1に記載の基板ホルダであって、
前記第1円弧部と前記第2円弧部とは、それぞれ前記接触部の端部に配置されている、基板ホルダ。 - 請求項2に記載の基板ホルダであって、
前記第1円弧部と前記第2円弧部との間は平面である、
基板ホルダ。 - 請求項2に記載の基板ホルダであって、
前記第1円弧部と前記第2円弧部との間は凹面である、
基板ホルダ。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載の基板ホルダであって、
前記基板ホルダは角形基板を保持するように構成されている、
基板ホルダ。
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JP2006233296A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Yamamoto Mekki Shikenki:Kk | 電気めっき用治具 |
JP2009295849A (ja) * | 2008-06-06 | 2009-12-17 | Ebara Corp | 接触シール、ウエハホルダ及びめっき装置 |
US20130306465A1 (en) * | 2012-05-17 | 2013-11-21 | Applied Materials, Inc. | Seal rings in electrochemical processors |
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