JP2020096020A - Semiconductor device and data transfer method of the same - Google Patents

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Abstract

To provide a semiconductor device capable of suitably communicating between chips.SOLUTION: The semiconductor device includes a first chip, a second chip, a third chip, a fourth chip, and a substrate on which the first to fourth chips are respectively mounted. The first chip is disposed adjacent to the second chip and the fourth chip. The third chip is disposed adjacent to the second chip and the fourth chip at a position different from that of the first chip. The second chip includes a first transfer circuit for transferring data from the first chip to the third chip. The fourth chip includes a second transfer circuit for transferring data from the third chip to the first chip.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、半導体装置および半導体装置のデータ転送方法に関する。 The present disclosure relates to a semiconductor device and a data transfer method for the semiconductor device.

基板上に複数のチップを搭載したマルチチップモジュール方式の半導体装置が知られている。例えば、複数のチップをシリコンインタポーザ等の基板上に並べたマルチチップモジュールでは、チップ間は、基板の配線層に形成される配線を使用して電気的に接続される。 A multi-chip module type semiconductor device in which a plurality of chips are mounted on a substrate is known. For example, in a multi-chip module in which a plurality of chips are arranged on a substrate such as a silicon interposer, the chips are electrically connected using wiring formed in a wiring layer of the substrate.

特開2011−86820号公報JP, 2011-86820, A

本発明の実施形態は、チップ間の通信を良好に行うことができる半導体装置を提供することを目的とする。 An embodiment of the present invention has an object to provide a semiconductor device capable of favorably performing communication between chips.

上記目的を達成するため、本発明の実施形態の半導体装置は、第1のチップと、第2のチップと、第3のチップと、第4のチップと、前記第1から第4のチップがそれぞれ実装された基板とを備える半導体装置であって、前記第1のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して配置され、前記第3のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して前記第1のチップとは異なる位置に配置され、前記第2のチップは、前記第1のチップから前記第3のチップにデータを転送する第1の転送回路を備え、前記第4のチップは、前記第3のチップから前記第1のチップにデータを転送する第2の転送回路を備える。 To achieve the above object, a semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a first chip, a second chip, a third chip, a fourth chip, and the first to fourth chips. A semiconductor device comprising a mounted substrate, wherein the first chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip, and the third chip is the second chip. Second chip is arranged adjacent to the fourth chip and the fourth chip at a position different from that of the first chip, and the second chip transfers data from the first chip to the third chip. And a second transfer circuit that transfers data from the third chip to the first chip.

本発明の一実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。It is a block diagram showing an example of a semiconductor device in one embodiment of the present invention. 図1の転送回路とその周囲の回路の例を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing an example of a transfer circuit of FIG. 1 and circuits around it. 図1のチップに設けられるバンプを信号線(配線)で相互に接続する例を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the example which mutually connects the bump provided in the chip of FIG. 1 with a signal line (wiring). 比較例として、図1に示した転送回路を各チップに設けずに、対角線上に位置する2つのチップを信号線で接続する例を示すブロック図である。FIG. 6 is a block diagram showing, as a comparative example, an example in which two chips located on a diagonal line are connected by a signal line without providing the transfer circuit shown in FIG. 1 in each chip. 本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of the semiconductor device in another embodiment of this invention. 本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of the semiconductor device in another embodiment of this invention. 図5の半導体装置が搭載されるシステム基板の例を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a system board on which the semiconductor device of FIG. 5 is mounted. 本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of the semiconductor device in another embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下では、信号線を示す符号は、信号名(データ名)としても使用される。また、以下では、特別に記載しない限り、平面視(例えば、図1に示す基板BRDと基板BRD上に配置・実装されたチップCP(CP1−CP4)とが重なる方向に見た場合)においての説明を行う。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following, the code indicating the signal line is also used as a signal name (data name). Further, in the following, unless otherwise specified, in a plan view (for example, when viewed in a direction in which the board BRD shown in FIG. 1 and the chips CP (CP1-CP4) arranged and mounted on the board BRD overlap each other). I will explain.

図1は、本発明の一実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。図1に示す半導体装置SEM1は、基板BRD上に平面視において2行2列に配置された4辺を有する略正方形状(矩形状の一種)の4つの半導体チップCP(第1のチップCP1、第2のチップCP2、第3のチップCP3、第4のチップCP4、以下においてそれぞれ単にチップCP1、チップCP2、チップCP3、チップCP4と呼ぶことがある。)を有している。つまり、それぞれのチップCP1−CP4は、平面視において基板BRD上の異なる位置に設けられている。 FIG. 1 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. The semiconductor device SEM1 shown in FIG. 1 includes four semiconductor chips CP (first chip CP1, a substantially square-shaped (rectangular type) having four sides arranged in two rows and two columns in a plan view on the substrate BRD. The second chip CP2, the third chip CP3, the fourth chip CP4, and hereinafter may be simply referred to as the chip CP1, the chip CP2, the chip CP3, and the chip CP4, respectively). That is, the chips CP1 to CP4 are provided at different positions on the substrate BRD in plan view.

例えば、各チップCP1−CP4は、基板BRDとの対向面である裏面に設けられたバンプを介して基板BRDの端子に接続されている。なお、基板BRDには、チップCP1−CP4以外の他の部品(電子部品、機械部品)が搭載されてもよい。また、例えば、各チップCP1−CP4は、演算器とメモリとをそれぞれ含む複数の演算ユニットを有してもよい。演算器は、積和演算器または内積演算器等である。 For example, each of the chips CP1 to CP4 is connected to a terminal of the substrate BRD via a bump provided on the back surface which is a surface facing the substrate BRD. It should be noted that components (electronic components, mechanical components) other than the chips CP1 to CP4 may be mounted on the substrate BRD. Further, for example, each of the chips CP1 to CP4 may have a plurality of arithmetic units each including an arithmetic unit and a memory. The computing unit is a product sum computing unit, an inner product computing unit, or the like.

チップCP1、CP3は、チップCP1−CP4の配置領域である矩形上の基板BRDの一方の対角線である第1の対角線D1上に位置し、チップCP2、CP4は、基板BRDの他方の対角線である第2の対角線D2上に位置する。以下では、第1の対角線D1、第2の対角線D2は、それぞれ単に対角線D1、D2と呼ぶことがある。また、対角線D1、D2を区別なく説明する場合、対角線Dと呼ぶことがある。なお、本実施形態においては、基板BRDの平面視における外形の形状とチップCP1−CP4の配置領域の形状は一致している。つまり、基板BRDの対角線とチップCP1−CP4の配置領域の対角線D1、D2とは一致している。また、本明細書において、チップCPが基板BRDの対角線D上に位置するとは、平面視において配置されたチップCPと基板BRDの対角線Dとが重なっていることを指し、チップCPの角部がBRDの対角線D上にあることに限られない。 The chips CP1 and CP3 are located on the first diagonal D1 which is one diagonal of the rectangular substrate BRD which is the arrangement region of the chips CP1 to CP4, and the chips CP2 and CP4 are the other diagonal of the substrate BRD. It is located on the second diagonal D2. Hereinafter, the first diagonal line D1 and the second diagonal line D2 may be simply referred to as diagonal lines D1 and D2, respectively. Further, when the diagonal lines D1 and D2 are described without distinction, they may be referred to as the diagonal line D. In the present embodiment, the outer shape of the substrate BRD in plan view and the shape of the arrangement region of the chips CP1 to CP4 are the same. That is, the diagonal line of the substrate BRD and the diagonal lines D1 and D2 of the arrangement region of the chips CP1 to CP4 coincide with each other. In the present specification, the fact that the chip CP is located on the diagonal line D of the substrate BRD means that the chip CP arranged in a plan view and the diagonal line D of the substrate BRD overlap each other, and a corner portion of the chip CP is It is not limited to being on the diagonal line D of the BRD.

チップCP1は、内部回路INT1および転送回路TR1を有し、チップCP2は、内部回路INT2および転送回路TR2を有する。チップCP3は、内部回路INT3および転送回路TR3を有し、チップCP4は、内部回路INT4および転送回路TR4を有する。以下では、内部回路INT1−INT4の各々は、内部回路INTと呼ぶことがあり、転送回路TR1−TR4の各々は、転送回路TRと呼ぶことがある。 The chip CP1 has an internal circuit INT1 and a transfer circuit TR1, and the chip CP2 has an internal circuit INT2 and a transfer circuit TR2. The chip CP3 has an internal circuit INT3 and a transfer circuit TR3, and the chip CP4 has an internal circuit INT4 and a transfer circuit TR4. In the following, each of internal circuits INT1-INT4 may be referred to as internal circuit INT, and each of transfer circuits TR1-TR4 may be referred to as transfer circuit TR.

それぞれの辺同士が対向して隣接する第1のチップCP1の内部回路INT1と、第2のチップCP2の内部回路INT2との間は、基板BRDに設けられる信号線S12、S21を介して接続される。第1のチップCP1は、信号線S12、S21にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO12を有し、第2のチップCP2は、信号線S12、S21にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO21を有する。 The internal circuit INT1 of the first chip CP1 and the internal circuit INT2 of the second chip CP2, which are adjacent to each other with their sides facing each other, are connected via signal lines S12 and S21 provided on the substrate BRD. It The first chip CP1 has an input/output circuit IO12 that inputs and outputs signals such as data to the signal lines S12 and S21, and the second chip CP2 inputs and outputs signals such as data to the signal lines S12 and S21. It has an input/output circuit IO21.

それぞれの辺同士が対向して隣接する第2のチップCP2の内部回路INT2と、第3のチップCP3の内部回路INT3との間は、基板BRDに設けられる信号線S23、S32を介して接続される。第2のチップCP2は、信号線S23、S32にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO23を有し、第3のチップCP3は、信号線S23、S32にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO32を有する。 The internal circuit INT2 of the second chip CP2 and the internal circuit INT3 of the third chip CP3, which are adjacent to each other with their respective sides facing each other, are connected via signal lines S23 and S32 provided on the substrate BRD. It The second chip CP2 has an input/output circuit IO23 that inputs and outputs signals such as data to the signal lines S23 and S32, and the third chip CP3 inputs and outputs signals such as data to the signal lines S23 and S32. It has an input/output circuit IO32.

それぞれの辺同士が対向して隣接する第3のチップCP3の内部回路INT3と、第4のチップCP4の内部回路INT4との間は、基板BRDに設けられる信号線S34、S43を介して接続される。第3のチップCP3は、信号線S34、S43にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO34を有し、第4のチップCP4は、信号線S34、S43にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO43を有する。 The internal circuit INT3 of the third chip CP3 and the internal circuit INT4 of the fourth chip CP4, which are adjacent to each other with their sides facing each other, are connected via signal lines S34 and S43 provided on the substrate BRD. It The third chip CP3 has an input/output circuit IO34 that inputs and outputs signals such as data to the signal lines S34 and S43, and the fourth chip CP4 inputs and outputs signals such as data to the signal lines S34 and S43. It has an input/output circuit IO43.

それぞれの辺同士が対向して隣接する第4のチップCP4の内部回路INT4と、第1のチップCP1の内部回路INT1との間は、基板BRDに設けられる信号線S41、S14を介して接続される。第4のチップCP4は、信号線S41、S14にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO41を有し、第1のチップCP1は、信号線S41、S14にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO14を有する。各信号線S12、S21、S23、S32、S34、S43、S41、S14は、例えば、各チップCPに設けられるバンプBP(図3)に接続される。以下では、各種の信号線を区別なく説明する場合、信号線Sと呼ぶことがある。 The internal circuit INT4 of the fourth chip CP4 and the internal circuit INT1 of the first chip CP1 that are adjacent to each other with their sides facing each other are connected via signal lines S41 and S14 provided on the substrate BRD. It The fourth chip CP4 has an input/output circuit IO41 that inputs and outputs signals such as data to the signal lines S41 and S14, and the first chip CP1 inputs and outputs signals such as data to the signal lines S41 and S14. It has an input/output circuit IO14. The signal lines S12, S21, S23, S32, S34, S43, S41, S14 are connected to, for example, bumps BP (FIG. 3) provided in each chip CP. In the following, when various signal lines are described without distinction, they may be referred to as signal lines S.

一方、それぞれの角部同士が対向して配置され、基板BRDの第1の対角線D1上に位置する第1のチップCP1、第3のチップCP3間は、基板BRDに設けられる信号線S13aと、第2のチップCP2の第1の転送回路TR2と、基板BRDに設けられる信号線S13bとを介して接続される。また、第3のチップCP3、第1のチップCP1間は、基板BRDに設けられる信号線S31aと、第4のチップCP4の第2の転送回路TR4と、基板BRDに設けられる信号線S31bとを介して接続される。 On the other hand, a signal line S13a provided on the substrate BRD is provided between the first chip CP1 and the third chip CP3, which are arranged on the first diagonal D1 of the substrate BRD with their corners facing each other. The first transfer circuit TR2 of the second chip CP2 is connected to the signal line S13b provided on the substrate BRD. In addition, between the third chip CP3 and the first chip CP1, a signal line S31a provided on the substrate BRD, a second transfer circuit TR4 of the fourth chip CP4, and a signal line S31b provided on the substrate BRD are provided. Connected through.

それぞれの角部同士が対向して配置され、基板BRDの第2の対角線D2上に位置する第2のチップCP2、第4のチップCP4間は、基板BRDに設けられる信号線S24aと、第3のチップCP3の第3の転送回路TR3と、基板BRDに設けられる信号線S24bとを介して接続される。また、第4のチップCP4、第2のチップCP2間は、基板BRDに設けられる信号線S42aと、第1のチップCP1の第4の転送回路TR1と、基板BRDに設けられる信号線S42bとを介して接続される。以下では、第1の転送回路TR2、第2の転送回路TR4、第3の転送回路TR3、第4の転送回路TR1は、それぞれ単に転送回路TR2、TR4、TR3、TR1と呼ぶことがある。 The signal lines S24a provided on the substrate BRD and the third chip CP2 and the fourth chip CP4 located on the second diagonal line D2 of the substrate BRD, which are arranged so that their corners face each other, and the third line The third transfer circuit TR3 of the chip CP3 is connected to the signal line S24b provided on the substrate BRD. A signal line S42a provided on the substrate BRD, a fourth transfer circuit TR1 of the first chip CP1 and a signal line S42b provided on the substrate BRD are provided between the fourth chip CP4 and the second chip CP2. Connected through. Hereinafter, the first transfer circuit TR2, the second transfer circuit TR4, the third transfer circuit TR3, and the fourth transfer circuit TR1 may be simply referred to as transfer circuits TR2, TR4, TR3, and TR1, respectively.

以上の構成により、半導体装置SEM1は、4つのチップCP1−CP4間でデータ等の信号を相互に通信することができる。このため、例えば、各チップCP1−CP4に搭載される複数の演算器を用いて演算を実行する場合、演算器で使用するデータや演算結果を、他の全てのチップCPに入出力することができる。したがって、半導体装置SEM1は、例えば、多数のデータと多数のパラメータを使用してデータ処理を実行する機械学習、特にニューラルネットワークを用いた深層学習に適している。 With the above configuration, the semiconductor device SEM1 can mutually communicate signals such as data among the four chips CP1 to CP4. For this reason, for example, when performing an arithmetic operation using a plurality of arithmetic units mounted on each of the chips CP1 to CP4, it is possible to input/output data and arithmetic results used by the arithmetic units to all the other chips CP. it can. Therefore, the semiconductor device SEM1 is suitable for, for example, machine learning for performing data processing using a large number of data and a large number of parameters, particularly deep learning using a neural network.

各信号線Sに付けた矢印は、信号線Sに伝送される信号の転送方向を示し、各信号線Sに付けた符号"/"は、信号線Sが複数ビットで構成されることを示す。信号線Sを伝送される信号Sはデータおよびクロック等を含む。データのビット数は、特に限定されないが、数十ビットから100ビット程度でもよい。 The arrow attached to each signal line S indicates the transfer direction of the signal transmitted to the signal line S, and the symbol "/" attached to each signal line S indicates that the signal line S is composed of a plurality of bits. .. The signal S transmitted through the signal line S includes data and a clock. The number of bits of data is not particularly limited, but may be several tens to 100 bits.

転送回路TR1は、チップCP4の内部回路INT4から送信される信号S42aを信号S42bとしてチップCP2の内部回路INT2に転送する。転送回路TR2は、チップCP1の内部回路INT1から送信される信号S13aを信号S13bとしてチップCP3の内部回路INT3に転送する。転送回路TR3は、チップCP2の内部回路INT2から送信される信号S24aを信号S24bとしてチップCP4の内部回路INT4に転送する。転送回路TR4は、チップCP3の内部回路INT3から送信される信号S31aを信号S31bとしてチップCP1の内部回路INT1に転送する。 The transfer circuit TR1 transfers the signal S42a transmitted from the internal circuit INT4 of the chip CP4 to the internal circuit INT2 of the chip CP2 as the signal S42b. The transfer circuit TR2 transfers the signal S13a transmitted from the internal circuit INT1 of the chip CP1 to the internal circuit INT3 of the chip CP3 as the signal S13b. The transfer circuit TR3 transfers the signal S24a transmitted from the internal circuit INT2 of the chip CP2 to the internal circuit INT4 of the chip CP4 as the signal S24b. The transfer circuit TR4 transfers the signal S31a transmitted from the internal circuit INT3 of the chip CP3 to the internal circuit INT1 of the chip CP1 as the signal S31b.

そして、4つのチップCP1−CP4の配置領域において、一方の対角線D上に位置しない2つのチップCPの一方に設けられた転送回路TRを介して、一方の対角線D上に位置する2つのチップCPの一方から他方にデータを転送するデータ転送方法が実現される。 Then, in the arrangement area of the four chips CP1 to CP4, the two chips CP located on one diagonal line D are inserted through the transfer circuit TR provided on one of the two chips CP not located on one diagonal line D. A data transfer method for transferring data from one to the other is realized.

例えば、信号線(配線)S13aは、チップCP1、CP2の互いに対向する辺の間に設けることができる。他の信号線S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bも同様に、チップCPの互いに対向する辺の間に設けることができる。このため、対角線D上に位置する2つのチップCP間の角部を斜めの配線で接続する場合に比べて、配線できる信号線S13a、S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bの本数を増加することができる。 For example, the signal line (wiring) S13a can be provided between the opposite sides of the chips CP1 and CP2. Other signal lines S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, and S31b can be similarly provided between the sides of the chip CP facing each other. Therefore, the number of signal lines S13a, S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, and S31b that can be wired is greater than that in the case where the corners between the two chips CP located on the diagonal line D are connected by diagonal wiring. Can be increased.

また、例えば、チップCP1、CP2の互いに対向する辺の間に配線される複数の信号線S13aは、長さを揃えることができる。信号線S13aの長さのばらつきを抑えることで、信号線S13aを介して伝送される信号のスキューを低減することができ、タイミング設計を容易にするとともに、半導体装置SEM1の高性能化に寄与することができる。他の信号線S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bも同様である。 Further, for example, the plurality of signal lines S13a arranged between the sides of the chips CP1 and CP2 facing each other can have the same length. By suppressing the variation in the length of the signal line S13a, it is possible to reduce the skew of the signal transmitted via the signal line S13a, facilitate the timing design, and contribute to the high performance of the semiconductor device SEM1. be able to. The same applies to the other signal lines S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, and S31b.

また、信号線S13a、S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bは、例えばチップCP1、CP2間を接続する信号線S12、S21の配線ルールと同様のルールを用いて配線することができる。したがって、信号線S13a、S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bのレイアウト設計を容易にすることができる。 Further, the signal lines S13a, S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, S31b can be wired using the same rule as the wiring rule of the signal lines S12, S21 connecting between the chips CP1 and CP2, for example. .. Therefore, the layout design of the signal lines S13a, S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, S31b can be facilitated.

図1に示すように、本実施形態においては、対角線D上に位置する2つのチップCP間での信号の伝達経路は、時計回りであり、入力経路と出力経路が互いに異なる。これにより、各チップCPに転送回路TR(TR1−TR4のいずれか)を1つずつ配置することができ、4つのチップCPを共通のレイアウトデータを用いて設計することができる。この結果、チップコストを削減でき、半導体装置SEM1のコストを削減することができる。なお、対角線D上に位置する2つのチップCP間での信号の伝送経路は、反時計回りでもよい。 As shown in FIG. 1, in the present embodiment, the signal transmission path between the two chips CP located on the diagonal line D is clockwise, and the input path and the output path are different from each other. As a result, one transfer circuit TR (one of TR1 to TR4) can be arranged in each chip CP, and four chips CP can be designed using common layout data. As a result, the chip cost can be reduced and the cost of the semiconductor device SEM1 can be reduced. The signal transmission path between the two chips CP located on the diagonal line D may be counterclockwise.

例えば、転送回路TR2は、チップCP1から受ける信号S13aに含まれるデータをチップCP3の内部回路INT3のみに出力し、自チップCP2の内部回路INT2には出力しない。すなわち、内部回路INT2は、チップCP1、CP3間で転送される信号S13aに含まれるデータをデータ処理等に使用せず、転送回路TR2は、チップCP1、CP3間の信号S13a、S13bに含まれるデータの中継回路として機能する。なお、内部回路INT2は、転送回路TR2上を転送される信号S13aをモニタするなどしてもよい。 For example, the transfer circuit TR2 outputs the data included in the signal S13a received from the chip CP1 only to the internal circuit INT3 of the chip CP3 and does not output the data to the internal circuit INT2 of the own chip CP2. That is, the internal circuit INT2 does not use the data included in the signal S13a transferred between the chips CP1 and CP3 for data processing and the like, and the transfer circuit TR2 includes the data included in the signals S13a and S13b between the chips CP1 and CP3. Function as a relay circuit of. The internal circuit INT2 may monitor the signal S13a transferred on the transfer circuit TR2.

転送回路TRは、各チップCPにおいて、配置領域の中央部側(図1から図3に示す実施形態においては基板BRDの中央部側)に配置されることが好ましい。これにより、配置領域の外周側(基板BRDの外周側)に転送回路TRを配置する場合に比べて、チップCP1、CP3間での信号の伝送経路およびチップCP2、CP4間での信号の伝送経路を短くすることができ、信号の伝送時間を短縮することができる。 The transfer circuit TR is preferably arranged on the center side of the arrangement region (in the embodiments shown in FIGS. 1 to 3, the center side of the substrate BRD) in each chip CP. As a result, as compared with the case where the transfer circuit TR is arranged on the outer peripheral side of the arrangement area (the outer peripheral side of the substrate BRD), the signal transmission path between the chips CP1 and CP3 and the signal transmission path between the chips CP2 and CP4. Can be shortened, and the signal transmission time can be shortened.

なお、基板BRDは、シリコンインタポーザでもよい。半導体装置SEM1は、チップCP1−CP4が搭載された基板BRDをパッケージングすることで形成されてもよい。また、チップCP1−CP4は、それぞれ樹脂等により封止されパッケージングされた状態であってもよい。さらに、半導体装置SEM1は、チップCP1−CP4が搭載された基板BRDの表面と反対側の面である裏面に設けられるバンプを介して、他の半導体部品等が搭載されたプリント基板等に接続されてもよい。 The substrate BRD may be a silicon interposer. The semiconductor device SEM1 may be formed by packaging the substrate BRD on which the chips CP1 to CP4 are mounted. Further, the chips CP1 to CP4 may be in a state of being sealed with resin or the like and packaged. Further, the semiconductor device SEM1 is connected to a printed circuit board or the like on which other semiconductor components or the like are mounted via bumps provided on the back surface which is the surface opposite to the surface of the board BRD on which the chips CP1 to CP4 are mounted. May be.

なお、対角線D上に位置する2つのチップCP間での信号の伝達経路を双方向にした場合、例えば、チップCP2、CP4間で入出力される信号を転送する2つの転送回路TR1、TR3が、チップCP1、CP3の一方のみに設けられる。同様に、チップCP1、CP3間で入出力される信号を転送する2つの転送回路TR2、TR4が、チップCP2、CP4の一方のみに設けられる。 When the signal transmission path between the two chips CP located on the diagonal line D is bidirectional, for example, two transfer circuits TR1 and TR3 for transferring signals input/output between the chips CP2 and CP4 are provided. , Provided on only one of the chips CP1 and CP3. Similarly, two transfer circuits TR2 and TR4 that transfer signals input and output between the chips CP1 and CP3 are provided in only one of the chips CP2 and CP4.

例えば、チップCP1のみに転送回路TR1、TR3を設け、チップCP2のみに転送回路TR2、TR4を設ける場合、チップCP1、CP2のレイアウト設計と、チップCP3、CP4のレイアウト設計とをそれぞれ行わなくてはならない。また、基板BRDに、信号線Sが密に配線される領域と疎に配線される領域とが発生するため、配線のレイアウト設計が難しくなる。 For example, when the transfer circuits TR1 and TR3 are provided only on the chip CP1 and the transfer circuits TR2 and TR4 are provided only on the chip CP2, the layout design of the chips CP1 and CP2 and the layout design of the chips CP3 and CP4 must be performed respectively. I won't. Further, on the substrate BRD, a region in which the signal lines S are densely arranged and a region in which the signal lines S are sparsely generated occur, which makes it difficult to design the wiring layout.

さらに、チップCP1、CP2の内部回路INT1、INT2は、チップCP3、CP4の内部回路INT3、INT4に比べて面積が小さくなる。このため、チップCP1−CP4を同じチップサイズにする場合、チップCP3、CP4の内部回路INT3、INT4の領域に、回路が形成されない無駄な領域ができてしまう場合がある。さらに、無駄な領域を無くすために、チップCP3、CP4のチップサイズをチップCP1、CP2のチップサイズより小さくする場合、2種類のチップを設計する必要がある。 Further, the internal circuits INT1 and INT2 of the chips CP1 and CP2 have smaller areas than the internal circuits INT3 and INT4 of the chips CP3 and CP4. Therefore, when the chips CP1 to CP4 have the same chip size, there may be a wasteful area where no circuit is formed in the areas of the internal circuits INT3 and INT4 of the chips CP3 and CP4. Furthermore, in order to eliminate a useless area, when the chip sizes of the chips CP3 and CP4 are made smaller than the chip sizes of the chips CP1 and CP2, it is necessary to design two types of chips.

図2は、図1の転送回路TR2とその周囲の回路の例を示すブロック図である。他の転送回路TR1、TR3、TR4とその周囲の回路も、図2と同様の構成を有する。 FIG. 2 is a block diagram showing an example of the transfer circuit TR2 of FIG. 1 and circuits around it. The other transfer circuits TR1, TR3, TR4 and the circuits around them also have the same configuration as that of FIG.

転送回路TR2は、入力バッファ21、入力フリップフロップ(FF)22、誤り検出/訂正回路23、クロック乗せ換え回路24、ステージングFF25、FF26、誤り検出/訂正信号生成回路27、出力FF28および出力バッファ29を有する。なお、転送回路TR2に挿入されるステージングFFの数は、信号の伝送経路の長さおよびクロック周波数に依存して決められればよく、図2に示す数に限定されない。 The transfer circuit TR2 includes an input buffer 21, an input flip-flop (FF) 22, an error detection/correction circuit 23, a clock transfer circuit 24, staging FFs 25, FF26, an error detection/correction signal generation circuit 27, an output FF 28 and an output buffer 29. Have. The number of staging FFs inserted in the transfer circuit TR2 may be determined depending on the length of the signal transmission path and the clock frequency, and is not limited to the number shown in FIG.

入力バッファ21は、信号線S13aを介してチップCP1から複数ビットの信号S13aを受信し、受信した信号S13aを入力FF22に出力する。入力FF22は、図示しないクロックに同期して信号S13aを取り込み、取り込んだ信号S13aを誤り検出/訂正回路23に出力する。なお、入力FF22が使用するクロックは、チップCP1から出力される信号S13aに含まれる、チップCP1で使用するクロックである。 The input buffer 21 receives the signal S13a of a plurality of bits from the chip CP1 via the signal line S13a, and outputs the received signal S13a to the input FF22. The input FF 22 captures the signal S13a in synchronization with a clock (not shown), and outputs the captured signal S13a to the error detection/correction circuit 23. The clock used by the input FF 22 is the clock used in the chip CP1 included in the signal S13a output from the chip CP1.

誤り検出/訂正回路23は、複数ビットの信号S13aに含まれる誤り検出/訂正信号を用いて、信号S13aに含まれるデータの誤りを検出または訂正し、訂正した場合には誤りを訂正したデータをクロック乗せ換え回路24に出力する。これにより、信号線S13aを介してチップCP1から受信するデータに誤りが発生する場合にも、誤りを訂正した正しいデータをチップCP3に転送することができる。 The error detection/correction circuit 23 detects or corrects an error in the data included in the signal S13a using the error detection/correction signal included in the signal S13a having a plurality of bits, and when the error is corrected, the error-corrected data is output. It outputs to the clock transfer circuit 24. Thus, even if an error occurs in the data received from the chip CP1 via the signal line S13a, the correct data with the error corrected can be transferred to the chip CP3.

なお、誤り検出/訂正回路23は、訂正できない誤りを検出した場合、訂正できない誤りの検出を示す誤り情報を生成してもよい。さらに、誤り検出/訂正回路23は、データの誤りを訂正した場合、誤りを訂正したことを示す訂正情報を生成してもよい。また、この場合、誤り情報または訂正情報は、チップCP2の内部回路INT2に出力されてもよい。また、チップCP2の内部回路INT2は、誤り検出/訂正回路23が誤り情報または訂正情報を生成した場合、誤り情報または訂正情報を保持してもよく、保持した誤り情報または訂正情報を用いて誤り訂正率の算出等の情報処理を行ってもよい。 If the error detection/correction circuit 23 detects an uncorrectable error, the error detection/correction circuit 23 may generate error information indicating the detection of the uncorrectable error. Further, when the error detection/correction circuit 23 corrects the data error, the error detection/correction circuit 23 may generate correction information indicating that the error has been corrected. Further, in this case, the error information or the correction information may be output to the internal circuit INT2 of the chip CP2. The internal circuit INT2 of the chip CP2 may hold the error information or the correction information when the error detection/correction circuit 23 generates the error information or the correction information. Information processing such as calculation of the correction rate may be performed.

また、誤り検出/訂正回路23はデータの誤り検出のみを行ってもよく、この場合、内部回路INT1の誤り検出/訂正信号生成回路11は、パリティビット等の誤り検出のみを行う信号を生成してもよい。さらに、誤り検出/訂正回路23は、データの誤りを検出した場合、誤りを検出したことを示す検出情報を生成し、生成した検出情報を内部回路INT2に出力してもよい。内部回路INT2は、誤り検出/訂正回路23が検出情報を生成した場合、検出情報を保持してもよく、保持した検出情報を用いて誤り検出率の算出等の情報処理を行ってもよい。 Further, the error detection/correction circuit 23 may perform only error detection of data, and in this case, the error detection/correction signal generation circuit 11 of the internal circuit INT1 generates a signal for only error detection such as a parity bit. May be. Further, when the error detection/correction circuit 23 detects a data error, the error detection/correction circuit 23 may generate detection information indicating that an error has been detected, and output the generated detection information to the internal circuit INT2. The internal circuit INT2 may hold the detection information when the error detection/correction circuit 23 generates the detection information, and may perform information processing such as calculation of the error detection rate using the held detection information.

なお、誤り検出/訂正回路23が生成し、内部回路INT2に出力された誤り情報、訂正情報または検出情報、あるいは、誤り情報、訂正情報または検出情報に基づいて生成された情報は、内部回路INT2を経由して、チップCP3の内部回路INT3に出力されてもよい。この場合、例えば、誤り情報、訂正情報または検出情報、あるいは、誤り情報、訂正情報または検出情報に基づいて生成された情報は、図1に示した内部回路INT2の入出力回路IO23、信号線S23および内部回路INT3の入出力回路IO32を介して内部回路INT3に伝達されてもよい。これにより、信号線S13bにデータ、誤り検出/訂正信号およびクロック以外の信号が伝達されることを抑止でき、信号線S13bの本数を最小限にすることができる。換言すれば、信号線S13bをチップCP1からチップCP3へのデータの転送する用途のみに使用することができる。 The error information, the correction information or the detection information generated by the error detection/correction circuit 23 and output to the internal circuit INT2, or the information generated based on the error information, the correction information or the detection information is the internal circuit INT2. May be output to the internal circuit INT3 of the chip CP3. In this case, for example, the error information, the correction information or the detection information, or the information generated based on the error information, the correction information or the detection information is the input/output circuit IO23 of the internal circuit INT2 and the signal line S23 shown in FIG. And may be transmitted to the internal circuit INT3 via the input/output circuit IO32 of the internal circuit INT3. This can prevent signals other than data, error detection/correction signals, and clocks from being transmitted to the signal line S13b, and the number of signal lines S13b can be minimized. In other words, the signal line S13b can be used only for the purpose of transferring data from the chip CP1 to the chip CP3.

クロック乗せ換え回路24は、チップCP1のクロックに同期した信号S13aに含まれるデータを、チップCP2のクロックに同期したデータに変換し、ステージングFF25に出力する。例えば、クロック乗せ換え回路24として、入力非同期FIFO(First-In First-Out)が使用されてもよい。なお、誤り検出/訂正回路23とクロック乗せ換え回路24との接続の順序は逆でもよい。すなわち、クロック乗せ換え回路24によりチップCP2のクロックに同期させたデータを、誤り検出/訂正回路23により誤り検出し、任意に誤り訂正してもよい。 The clock transfer circuit 24 converts the data included in the signal S13a synchronized with the clock of the chip CP1 into the data synchronized with the clock of the chip CP2, and outputs the data to the staging FF 25. For example, as the clock transfer circuit 24, an input asynchronous FIFO (First-In First-Out) may be used. The error detection/correction circuit 23 and the clock transfer circuit 24 may be connected in reverse order. That is, the data synchronized with the clock of the chip CP2 by the clock transfer circuit 24 may be subjected to error detection by the error detection/correction circuit 23, and the error may be arbitrarily corrected.

ステージングFF25、FF26は、データを順次中継する中継回路の一例である。なお、転送回路TR2内での信号の転送距離が短い場合、転送回路TR2は、ステージングFF25、FF26を持たなくてもよい。この場合、クロック乗せ換え回路24から出力されるデータは、誤り検出/訂正信号生成回路27に直接出力されてもよい。 The staging FF 25 and FF 26 are an example of a relay circuit that sequentially relays data. When the transfer distance of the signal in the transfer circuit TR2 is short, the transfer circuit TR2 does not need to have the staging FF25 and FF26. In this case, the data output from the clock transfer circuit 24 may be directly output to the error detection/correction signal generation circuit 27.

誤り検出/訂正信号生成回路27は、複数ビットのデータの誤りを訂正する誤り検出/訂正信号を生成し、生成した誤り検出/訂正信号をデータとともに出力FF28に出力する。例えば、誤り検出/訂正信号は、ECC(Error Correction Code)等である。出力FF28は、データ、誤り検出/訂正信号およびクロックを出力バッファ29に出力する。出力バッファ29は、データ、誤り検出/訂正信号およびクロックを信号S13bとしてチップCP3に出力する。 The error detection/correction signal generation circuit 27 generates an error detection/correction signal for correcting an error in data of a plurality of bits, and outputs the generated error detection/correction signal to the output FF 28 together with the data. For example, the error detection/correction signal is an ECC (Error Correction Code) or the like. The output FF 28 outputs the data, the error detection/correction signal and the clock to the output buffer 29. The output buffer 29 outputs the data, the error detection/correction signal and the clock as the signal S13b to the chip CP3.

なお、信号S13aを出力するチップCP1の内部回路INT1は、誤り検出/訂正信号生成回路11、出力FF12および出力バッファ13を有する。誤り検出/訂正信号生成回路11、出力FF12および出力バッファ13は、それぞれ転送回路TR2の誤り検出/訂正信号生成回路27、出力FF28および出力バッファ29と同様の機能を有する。 The internal circuit INT1 of the chip CP1 that outputs the signal S13a includes the error detection/correction signal generation circuit 11, the output FF 12, and the output buffer 13. The error detection/correction signal generation circuit 11, the output FF 12, and the output buffer 13 have the same functions as the error detection/correction signal generation circuit 27, the output FF 28, and the output buffer 29 of the transfer circuit TR2, respectively.

チップCP3の内部回路INT3は、入力バッファ31、入力FF32、誤り検出/訂正回路33およびクロック乗せ換え回路34を有する。入力バッファ31、入力FF32、誤り検出/訂正回路33およびクロック乗せ換え回路34は、それぞれ転送回路TR2の入力バッファ21、入力FF22、誤り検出/訂正回路23およびクロック乗せ換え回路24と同様の機能を有する。 The internal circuit INT3 of the chip CP3 has an input buffer 31, an input FF 32, an error detection/correction circuit 33, and a clock transfer circuit 34. The input buffer 31, the input FF 32, the error detection/correction circuit 33, and the clock transfer circuit 34 have the same functions as the input buffer 21, the input FF 22, the error detection/correction circuit 23, and the clock transfer circuit 24 of the transfer circuit TR2, respectively. Have.

入力バッファ31は、チップCP2の転送回路TR2を介してチップCP1から転送された複数ビットの信号S13bを受信し、受信した信号S13bを入力FF32に出力する。入力FF32は、信号S13bに含まれるチップCP2のクロックに同期して信号S13bを取り込み、取り込んだ信号S13bを誤り検出/訂正回路33に出力する。 The input buffer 31 receives the signal S13b of multiple bits transferred from the chip CP1 via the transfer circuit TR2 of the chip CP2, and outputs the received signal S13b to the input FF32. The input FF 32 captures the signal S13b in synchronization with the clock of the chip CP2 included in the signal S13b, and outputs the captured signal S13b to the error detection/correction circuit 33.

誤り検出/訂正回路33は、信号S13bに含まれる誤り検出/訂正信号を用いて、信号S13bに含まれるデータの誤りを検出または訂正し、誤りを訂正した場合には誤りを訂正したデータをクロック乗せ換え回路34に出力する。クロック乗せ換え回路34は、チップCP2のクロックに同期した信号S13bに含まれるデータを、チップCP3のクロックに同期したデータに変換する。そして、内部回路INT3は、チップCP2の転送回路TR2を介してチップCP1から転送された信号S13bを使用して、データ処理等を実行する。データ処理後のデータをチップCP1に戻す必要がある場合、内部回路INT3は、図1に示したチップCP4の転送回路TR4を介して、データをチップCP1に転送する。また、誤り検出/訂正回路33は誤り検出のみを行ってもよく、この場合、転送回路TR2の誤り検出/訂正信号生成回路27は、パリティビット等の誤り検出のみを行う信号を生成してもよい。 The error detection/correction circuit 33 detects or corrects an error in the data included in the signal S13b using the error detection/correction signal included in the signal S13b, and when the error is corrected, the error-corrected data is clocked. It outputs to the transfer circuit 34. The clock transfer circuit 34 converts the data included in the signal S13b synchronized with the clock of the chip CP2 into the data synchronized with the clock of the chip CP3. Then, the internal circuit INT3 uses the signal S13b transferred from the chip CP1 via the transfer circuit TR2 of the chip CP2 to execute data processing and the like. When it is necessary to return the data after the data processing to the chip CP1, the internal circuit INT3 transfers the data to the chip CP1 via the transfer circuit TR4 of the chip CP4 shown in FIG. Further, the error detection/correction circuit 33 may perform only error detection, and in this case, the error detection/correction signal generation circuit 27 of the transfer circuit TR2 may generate a signal that only performs error detection such as a parity bit. Good.

なお、誤り検出/訂正回路33とクロック乗せ換え回路34との接続の順序は逆でもよい。すなわち、クロック乗せ換え回路34によりチップCP3のクロックに同期させたデータを、誤り検出/訂正回路33により誤り検出し、任意に誤り訂正してもよい。また、転送回路TR2は、誤り検出/訂正回路23および誤り検出/訂正信号生成回路27を持たなくてもよく、転送回路TR1は、誤り検出/訂正信号生成回路11を持たなくてもよく、転送回路TR3は、誤り検出/検出/訂正回路33を持たなくてもよい。 The error detection/correction circuit 33 and the clock transfer circuit 34 may be connected in reverse order. That is, the data synchronized with the clock of the chip CP3 by the clock transfer circuit 34 may be subjected to error detection by the error detection/correction circuit 33, and the error may be arbitrarily corrected. Further, the transfer circuit TR2 may not have the error detection/correction circuit 23 and the error detection/correction signal generation circuit 27, and the transfer circuit TR1 may not have the error detection/correction signal generation circuit 11, The circuit TR3 may not have the error detection/detection/correction circuit 33.

図3は、図1のチップCP1−CP4に設けられるバンプBPを信号線S(配線)で相互に接続する例を模式的に示す説明図である。信号線Sは、例えば、シリコンインタポーザ等の基板BRDの配線層を用いて形成される。図3に示すバンプBPに接続された信号線Sは、例えば、信号の転送先により区別されることなく、同じ配線ルールに基づいて配線される。これにより、図1で説明したように、複数の信号線Sの長さのばらつきを低減でき、信号Sのスキューを低減することができる。なお、図3は、説明を分かりやすくするために、各チップCP上にバンプBPを記載し、また、互いに対向するバンプBPのみを信号線Sで接続している。しかしながら、実際には、バンプBPは、各チップCPと基板BRDとの間に位置している。また、信号線Sの長さを揃えるために、例えば、チップCP2の右辺に並ぶバンプBPは、信号線Sを介して、チップCP3の左辺に並ぶバンプBPより奥側に位置するバンプBPに接続される。 FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing an example in which the bumps BP provided in the chips CP1 to CP4 of FIG. 1 are mutually connected by the signal line S (wiring). The signal line S is formed using, for example, a wiring layer of the substrate BRD such as a silicon interposer. The signal line S connected to the bump BP shown in FIG. 3 is wired based on the same wiring rule, for example, without being distinguished by the transfer destination of the signal. As a result, as described with reference to FIG. 1, it is possible to reduce variations in the lengths of the plurality of signal lines S and reduce skew of the signals S. Note that, in FIG. 3, the bumps BP are shown on each chip CP, and only the bumps BP facing each other are connected by the signal line S for easy understanding of the description. However, in reality, the bump BP is located between each chip CP and the substrate BRD. Further, in order to make the lengths of the signal lines S uniform, for example, the bumps BP arranged on the right side of the chip CP2 are connected to the bumps BP located on the inner side of the bumps BP arranged on the left side of the chip CP3 via the signal line S. To be done.

図4は、比較例として、図1に示した転送回路TRを各チップCPに設けずに、対角線D1(またはD2)上に位置する2つのチップCP1、CP3(またはCP2、CP4)を信号線S13、S31(またはS24、S42)で接続する例を示すブロック図である。 As a comparative example, FIG. 4 does not provide the transfer circuit TR shown in FIG. 1 in each chip CP, but uses two chips CP1, CP3 (or CP2, CP4) located on the diagonal line D1 (or D2) as signal lines. It is a block diagram which shows the example connected by S13, S31 (or S24, S42).

この場合、対角線D1、D2の交点に近いチップCP1−CP4の角部の領域に設けられるバンプ(図示せず)を使って、入力と出力の双方の信号線を斜めの配線で接続することになる。さらに、信号線S13、S31と信号線S24、S42とを交差させなくてはならない。このため、信号線S13、S31、S24、S42の数が多い場合には、配線が困難となる場合がある。また、配線を可能にするために、シリコンインタポーザ等の基板BRDの配線層の数を増やした場合、コストが増大し、信号の遅延量が増加する場合がある。さらに、信号線S13、S31(またはS24、S42)の長さがばらつく場合、信号にスキューが発生するおそれがある。これに対して、図1から図3に示した実施形態では、上記の問題を低減することができる。 In this case, the bumps (not shown) provided in the corner regions of the chips CP1 to CP4 near the intersections of the diagonal lines D1 and D2 are used to connect both the input and output signal lines with diagonal wiring. Become. Furthermore, the signal lines S13 and S31 and the signal lines S24 and S42 must intersect. Therefore, if the number of signal lines S13, S31, S24, S42 is large, wiring may be difficult. Further, when the number of wiring layers of the substrate BRD such as a silicon interposer is increased to enable wiring, the cost may increase and the signal delay amount may increase. Further, if the lengths of the signal lines S13 and S31 (or S24 and S42) vary, skew may occur in the signal. On the other hand, in the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the above problems can be reduced.

以上、図1から図3に示す実施形態では、対角線D上に位置しない2つのチップCPに設けられる転送回路TRを介して、対角線D上に位置する2つのチップCP間でデータを転送することができる。転送回路TRに接続される信号線Sは、対角線D上に位置する2つのチップCPにおける互いに対向する辺に設けられるため、対角線Dに略平行な斜め配線で接続する場合に比べて、配線できる信号線Sの本数を増加させることができる。また、互いに対向する辺を介して隣接する2つのチップCPは、入出力回路IOを介してデータを相互に入出力することができる。この結果、4つのチップCP1−CP4間で同等の情報量のデータを相互に通信することができ、チップCP1−CP4間での相互の通信を良好に行うことができる。 As described above, in the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the data is transferred between the two chips CP located on the diagonal line D via the transfer circuit TR provided on the two chips CP not located on the diagonal line D. You can Since the signal lines S connected to the transfer circuit TR are provided on opposite sides of the two chips CP located on the diagonal line D, they can be wired as compared with the case of connecting by diagonal wiring substantially parallel to the diagonal line D. The number of signal lines S can be increased. Further, the two chips CP adjacent to each other via the sides facing each other can input/output data to/from each other via the input/output circuit IO. As a result, the four chips CP1 to CP4 can communicate data of the same amount of information with each other, and the chips CP1 to CP4 can favorably communicate with each other.

4つのチップCP1−CP4間で同等の情報量のデータを相互に通信できるため、例えば、1つのチップで実現される機能を4つのチップCP1−CP4に分割して半導体装置SEM1にすることが可能になる。この場合、1つのチップで機能を実現する場合に比べて、チップCPの良品率である歩留まりを向上することが期待できる。歩留まりの向上により、チップコストを低減することができ、半導体装置SEM1のコストを低減することができる。 Since four chips CP1 to CP4 can mutually communicate data having the same amount of information, it is possible to divide the function realized by one chip into four chips CP1 to CP4 to form the semiconductor device SEM1. become. In this case, it can be expected that the yield, which is the yield rate of the chips CP, is improved as compared with the case where the function is realized by one chip. By improving the yield, the chip cost can be reduced and the cost of the semiconductor device SEM1 can be reduced.

対角線D上に位置する2つのチップCP間でデータを伝送する複数の信号線Sの長さのばらつきを低減できるため、信号線Sを介して伝送されるデータのスキューを低減することができる。この結果、タイミング設計を容易にすることができるとともに、半導体装置SEM1の高性能化に寄与することができる。 Since it is possible to reduce variations in the lengths of the plurality of signal lines S that transmit data between the two chips CP located on the diagonal line D, it is possible to reduce skew of data transmitted via the signal lines S. As a result, the timing design can be facilitated and the performance of the semiconductor device SEM1 can be improved.

転送回路TRをチップCPにおける基板BRDの中央部側(チップCPの配置領域の中央部側)に配置することで、転送回路TRを基板BRDの外周側(チップCPの配置領域の外周側)に配置する場合に比べて、チップCP間での信号の伝送経路を短くすることができ、信号の伝送時間を短縮することができる。各チップCPに転送回路TRを1つずつ配置することで、4つのチップCPを共通のレイアウトデータを用いて設計することができる。この結果、チップコストを削減でき、半導体装置SEM1のコストを削減することができる。 By arranging the transfer circuit TR on the central part side of the substrate BRD in the chip CP (the central part side of the arrangement region of the chip CP), the transfer circuit TR is arranged on the outer peripheral side of the substrate BRD (the outer peripheral side of the arrangement region of the chip CP). As compared with the case where they are arranged, the signal transmission path between the chips CP can be shortened, and the signal transmission time can be shortened. By disposing one transfer circuit TR on each chip CP, four chips CP can be designed using common layout data. As a result, the chip cost can be reduced and the cost of the semiconductor device SEM1 can be reduced.

各転送回路TRは、信号線Sを介して一方のチップCPから受信するデータに誤りが発生する場合にも、誤り検出/訂正回路23により誤りを検出し、または誤りを訂正した正しいデータを他方のチップCPに転送することができる。また、各転送回路TRは、誤り検出/訂正信号生成回路27により、他方のチップCPに転送するデータの誤りを検出または訂正する誤り検出/訂正信号を生成する。これにより、転送回路TRから出力するデータに誤りが発生した場合にも、データを受信した他方のチップCPの誤り検出/訂正回路33により誤りを検出または訂正することができる。したがって、対角線D上に位置する2つのチップCP間のデータ伝送を、他のチップCPを介して行う場合にも、データの信頼性が低下することを低減することができる。 Even when an error occurs in the data received from one chip CP via the signal line S, each transfer circuit TR detects the error by the error detection/correction circuit 23, or corrects the correct data to the other side. Can be transferred to the chip CP. Further, each transfer circuit TR uses the error detection/correction signal generation circuit 27 to generate an error detection/correction signal for detecting or correcting an error in the data transferred to the other chip CP. As a result, even if an error occurs in the data output from the transfer circuit TR, the error can be detected or corrected by the error detection/correction circuit 33 of the other chip CP that has received the data. Therefore, even when data transmission between the two chips CP located on the diagonal line D is performed via another chip CP, it is possible to reduce deterioration of data reliability.

図5は、本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。図1と同様の要素については、同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。図5に示す半導体装置SEM2は、転送回路TR(TR1−TR4)が、各チップCP(CP1−CP4)の配置領域の外周側(基板BRDの外周側)に設けられていることを除き、図1に示した半導体装置SEM1と同様の構成である。 FIG. 5 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. The same elements as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The semiconductor device SEM2 illustrated in FIG. 5 is provided with the exception that the transfer circuits TR (TR1 to TR4) are provided on the outer peripheral side (outer peripheral side of the substrate BRD) of the arrangement region of the chips CP (CP1 to CP4). It has the same configuration as the semiconductor device SEM1 shown in FIG.

この実施形態では、各転送回路TR内で信号Sが伝送される距離が長いため、各転送回路TRは、図2よりも多い数のステージングFF(図示せず)を有する。各転送回路TRの構成は、ステージングFFの数が多いことを除き、図2に示した転送回路TR2の構成と同じである。なお、各チップCPに設けられる転送回路TRの位置は、図5に示す位置に限定されず、例えば、各チップCPの中央部等を含んでもよい。また、転送回路TRは、各チップCPの複数の領域に分散して設けられてもよい。図5に示す半導体装置SEM2は、図1に示した半導体装置SEM1と同様の効果を得ることができる。 In this embodiment, since the distance over which the signal S is transmitted within each transfer circuit TR is long, each transfer circuit TR has a larger number of staging FFs (not shown) than in FIG. The configuration of each transfer circuit TR is the same as the configuration of the transfer circuit TR2 shown in FIG. 2 except that the number of staging FFs is large. The position of the transfer circuit TR provided in each chip CP is not limited to the position shown in FIG. 5, and may include, for example, the central portion of each chip CP. In addition, the transfer circuits TR may be distributed and provided in a plurality of regions of each chip CP. The semiconductor device SEM2 shown in FIG. 5 can obtain the same effect as the semiconductor device SEM1 shown in FIG.

図6は、本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。図1と同様の要素については、同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。図6に示す半導体装置SEM3は、基板BRD上に搭載された長手の辺と短手の辺とを有する長方形状(矩形状の一種)の4つのチップCP(CP1−CP4)を有する。各チップCPは、図1および図2と同様の転送回路TR(TR1−TR4)を有し、対角線D1(または、D2)上に位置する2つのチップCP間での信号の伝送を中継する。 FIG. 6 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. The same elements as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The semiconductor device SEM3 shown in FIG. 6 has four chips CP (CP1 to CP4) mounted on the substrate BRD and having a rectangular shape (a kind of rectangular shape) having long sides and short sides. Each chip CP has a transfer circuit TR (TR1-TR4) similar to that shown in FIGS. 1 and 2, and relays signal transmission between the two chips CP located on the diagonal line D1 (or D2).

また、チップCP1−CP4の配置領域の周囲の形状が突出部を有さないよう、つまり配置領域の外周形状が略矩形状になるよう、基板BRDの中央部分(チップCPの配置領域の中央部)に、チップCP1−CP4が配置されない空き領域が設けられている。換言すれば、チップCP1−CP4が配置される矩形状の配置領域の各辺は、各チップCPの長手の辺の1つと短手の辺の1つとにより形成される。また、各チップCPの長手の辺の他の1つは、隣接するチップCPの短手の辺の他の1つに対向し、各チップCPの短手の辺の他の1つは、隣接するチップCPの長手の辺の他の1つに対向している。対角線D1(または、D2)上に位置する2つのチップCPの長手の辺の他の1つ同士は、空き領域を介して対向している。また、空き領域は、4つのチップCP1−CP4により囲繞されている。 In addition, the central portion of the substrate BRD (the central portion of the arrangement area of the chips CP is so arranged that the peripheral shape of the arrangement areas of the chips CP1 to CP4 does not have a protruding portion, that is, the outer peripheral shape of the arrangement area is substantially rectangular. ), an empty area in which the chips CP1 to CP4 are not arranged is provided. In other words, each side of the rectangular arrangement area in which the chips CP1 to CP4 are arranged is formed by one long side and one short side of each chip CP. Further, the other one of the long sides of each chip CP faces the other one of the short sides of the adjacent chips CP, and the other one of the short sides of each chip CP is adjacent to the other short sides. It faces the other one of the long sides of the chip CP. The other one of the long sides of the two chips CP located on the diagonal line D1 (or D2) is opposed to each other via a vacant area. Further, the empty area is surrounded by four chips CP1 to CP4.

半導体装置SEM3のその他の構成は、図1に示した半導体装置SEM1の構成と同様である。なお、各チップCPに設けられる転送回路TRの位置は、図6に示す位置に限定されない。また、転送回路TRは、各チップCPの複数の領域に分散して設けられてもよい。 The other configuration of the semiconductor device SEM3 is similar to that of the semiconductor device SEM1 shown in FIG. The position of the transfer circuit TR provided in each chip CP is not limited to the position shown in FIG. In addition, the transfer circuits TR may be distributed and provided in a plurality of regions of each chip CP.

図7は、図6の半導体装置SEM3が搭載されるシステム基板SBRDの例を示す斜視図である。図7では、半導体装置SEM3が、他の電子部品ICおよびコネクタCNとともにシステム基板SBRDに搭載されている。例えば、システム基板SBRDは、プリント基板である。システム基板SBRDは、コネクタCNを介して、図示しないラック等に設けられたバックパネルに接続されてもよい。また、ラック等に複数のシステム基板SBRDを接続することで、クラスタが構成されてもよい。 FIG. 7 is a perspective view showing an example of a system board SBRD on which the semiconductor device SEM3 of FIG. 6 is mounted. In FIG. 7, the semiconductor device SEM3 is mounted on the system board SBRD together with other electronic component ICs and the connector CN. For example, the system board SBRD is a printed circuit board. The system board SBRD may be connected to a back panel provided in a rack or the like (not shown) via the connector CN. A cluster may be formed by connecting a plurality of system boards SBRD to a rack or the like.

なお、図1の半導体装置SEM1、図5の半導体装置SEM2および後述する図8の半導体装置SEM4も、図7と同様に、システム基板SBRDに搭載されてもよい。 Note that the semiconductor device SEM1 in FIG. 1, the semiconductor device SEM2 in FIG. 5, and the semiconductor device SEM4 in FIG. 8 described later may be mounted on the system board SBRD as in FIG.

この実施形態の半導体装置SEM3においても、図1に示した半導体装置SEM1と同様の効果を得ることができる。 Also in the semiconductor device SEM3 of this embodiment, the same effect as that of the semiconductor device SEM1 shown in FIG. 1 can be obtained.

図8は、本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。図1および図6と同様の要素については、同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。図8に示す半導体装置SEM4は、基板BRD上に搭載された長方形状の4つのチップCP(CP1−CP4)を有する。各チップCPは、図1および図2と同様の転送回路TR(TR1−TR4)を有し、各転送回路TRは、対角線D1(または、D2)上に位置する2つのチップCP間での信号の伝送を中継する。 FIG. 8 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. The same elements as those in FIGS. 1 and 6 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The semiconductor device SEM4 shown in FIG. 8 has four rectangular chips CP (CP1-CP4) mounted on the substrate BRD. Each chip CP has a transfer circuit TR (TR1-TR4) similar to that shown in FIGS. 1 and 2, and each transfer circuit TR has a signal between two chips CP located on the diagonal line D1 (or D2). Relay the transmission of.

この実施形態では、転送回路TRのサイズを最小限にし、転送回路TRを介して転送される信号Sの遅延量を最小限にするために、転送回路TRは、図1と同様に、チップCP1−CP4の配置領域である基板BRDの中央部側に設けられる。このため、各チップCP1−CP4は、角部の1つを対角線D1、D2の交点に近接させて、基板BRDに搭載される。これにより、各チップCP1−CP4の外側の辺は、直線上に揃わず、チップCP1−CP4の配置領域の周囲は突出部を有し、突出部に合わせて基板BRDの大きさを決定することができる。また、配置領域内の空き領域を小さくすることで、基板BRD中に占めるチップCP1−CP4の面積を少なくすることができる。そのため、基板BRDにおいてその他の電子部品を搭載することができる面積を増やすことができる。半導体装置SEM4のその他の構成は、図1および図6に示した半導体装置SEM1の構成と同様である。この実施形態の半導体装置SEM4においても、図1に示した半導体装置SEM1と同様の効果を得ることができる。 In this embodiment, in order to minimize the size of the transfer circuit TR and the delay amount of the signal S transferred via the transfer circuit TR, the transfer circuit TR is similar to that of FIG. It is provided on the central portion side of the substrate BRD, which is the arrangement region of -CP4. Therefore, each of the chips CP1 to CP4 is mounted on the substrate BRD with one of the corners being close to the intersection of the diagonal lines D1 and D2. As a result, the outer sides of the chips CP1 to CP4 are not aligned on a straight line, the periphery of the arrangement region of the chips CP1 to CP4 has a protrusion, and the size of the substrate BRD is determined according to the protrusion. You can Further, by reducing the empty area in the arrangement area, the area of the chips CP1 to CP4 in the substrate BRD can be reduced. Therefore, it is possible to increase the area of the board BRD on which other electronic components can be mounted. The other configuration of the semiconductor device SEM4 is similar to that of the semiconductor device SEM1 shown in FIGS. 1 and 6. Also in the semiconductor device SEM4 of this embodiment, the same effect as that of the semiconductor device SEM1 shown in FIG. 1 can be obtained.

なお、図1、図5、図6および図8に示した実施形態では、各チップCPに転送回路TRを設ける例について説明した。しかしながら、チップCP2、CP4間でのデータの転送が必要であるが、チップCP1、CP3間でのデータの転送が不要な場合、転送回路TRは、チップCP1、CP3に設けられ、チップCP2、CP4には設けられなくてもよい。また、チップCP1、CP3間でのデータの転送が必要であるが、チップCP2、CP4間でのデータの転送が不要な場合、転送回路TRは、チップCP2、CP4に設けられ、チップCP1、CP3には設けられなくてもよい。 In the embodiments shown in FIGS. 1, 5, 6 and 8, the example in which the transfer circuit TR is provided in each chip CP has been described. However, when the data transfer between the chips CP2 and CP4 is necessary but the data transfer between the chips CP1 and CP3 is unnecessary, the transfer circuit TR is provided in the chips CP1 and CP3, and the chips CP2 and CP4 are provided. Need not be provided. Further, when the data transfer between the chips CP1 and CP3 is necessary but the data transfer between the chips CP2 and CP4 is not necessary, the transfer circuit TR is provided in the chips CP2 and CP4, and the chips CP1 and CP3 are provided. Need not be provided.

本発明は、具体的に開示された上記の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。 The present invention is not limited to the above specifically disclosed embodiments, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the claims.

11 誤り検出/訂正信号生成回路
12 出力フリップフロップ
13 出力バッファ
21 入力バッファ
22 入力フリップフロップ
23 誤り検出/訂正回路
24 クロック乗せ換え回路
25、26 ステージング
27 誤り検出/訂正信号生成回路
28 出力フリップフロップ
29 出力バッファ
31 入力バッファ
32 入力フリップフロップ
33 誤り検出/訂正回路
34 クロック乗せ換え回路
BP バンプ
BRD 基板
CP(CP1、CP2、CP3、CP4) チップ
D1、D2 対角線
INT(INT1、INT2、INT3、INT4) 内部回路
S 信号線
SEM1、SEM2、SEM3、SEM4 半導体装置
TR(TR1、TR2、TR3、TR4) 転送回路
IO 入出力回路
11 error detection/correction signal generation circuit 12 output flip-flop 13 output buffer 21 input buffer 22 input flip-flop 23 error detection/correction circuit 24 clock transfer circuit 25, 26 staging 27 error detection/correction signal generation circuit 28 output flip-flop 29 Output buffer 31 Input buffer 32 Input flip-flop 33 Error detection/correction circuit 34 Clock transfer circuit BP Bump BRD substrate CP (CP1, CP2, CP3, CP4) Chip D1, D2 Diagonal line INT (INT1, INT2, INT3, INT4) Internal Circuit S Signal line SEM1, SEM2, SEM3, SEM4 Semiconductor device TR (TR1, TR2, TR3, TR4) Transfer circuit IO Input/output circuit

Claims (9)

第1のチップと、第2のチップと、第3のチップと、第4のチップと、前記第1から第4のチップがそれぞれ実装された基板とを備える半導体装置であって、
前記第1のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して配置され、
前記第3のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して前記第1のチップとは異なる位置に配置され、
前記第2のチップは、前記第1のチップから前記第3のチップにデータを転送する第1の転送回路を備え、
前記第4のチップは、前記第3のチップから前記第1のチップにデータを転送する第2の転送回路を備える、
半導体装置。
A semiconductor device comprising: a first chip, a second chip, a third chip, a fourth chip, and a substrate on which each of the first to fourth chips is mounted,
The first chip is disposed adjacent to the second chip and the fourth chip,
The third chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip at a position different from that of the first chip,
The second chip includes a first transfer circuit that transfers data from the first chip to the third chip,
The fourth chip includes a second transfer circuit that transfers data from the third chip to the first chip.
Semiconductor device.
前記第1から第4のチップは平面視において4つの辺を有する矩形であり、前記隣接するチップはそれぞれのチップの辺同士が対向し、前記第1のチップと前記第3のチップはそれぞれの角部同士が対向している、請求項1記載の半導体装置。 Each of the first to fourth chips is a rectangle having four sides in a plan view, the sides of the adjacent chips face each other, and the first chip and the third chip have respective sides. The semiconductor device according to claim 1, wherein the corners face each other. 前記第1および第2の転送回路が転送するデータは、前記第1および第2の転送回路を含むチップ内で使用されないことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置。 3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the data transferred by the first and second transfer circuits is not used in a chip including the first and second transfer circuits. 前記第3のチップは、前記第2のチップから前記第4のチップにデータを転送する第3の転送回路を備え、
前記第1のチップは、前記第4のチップから前記第2のチップにデータを転送する第4の転送回路を備える、
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の半導体装置。
The third chip includes a third transfer circuit that transfers data from the second chip to the fourth chip,
The first chip includes a fourth transfer circuit that transfers data from the fourth chip to the second chip,
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 3.
前記転送回路は、
隣接するチップの一方から受けるデータの誤りを検出または訂正する誤り検出/訂正回路と、
前記誤り検出/訂正回路から出力されるデータを中継する中継回路と、
前記中継回路から出力されるデータの誤りを検出または訂正する誤り検出/訂正信号を生成する誤り検出/訂正信号生成回路と、を有し、
前記中継回路から出力されるデータと前記検出/誤り訂正信号とを隣接するチップの他方に転送する、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の半導体装置。
The transfer circuit is
An error detection/correction circuit for detecting or correcting an error in data received from one of adjacent chips,
A relay circuit for relaying data output from the error detection/correction circuit,
An error detection/correction signal generation circuit that generates an error detection/correction signal that detects or corrects an error in data output from the relay circuit,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the data output from the relay circuit and the detection/error correction signal are transferred to the other of adjacent chips.
前記それぞれのチップは、他のチップのいずれかの前記転送回路に出力するデータの誤りを検出または訂正する誤り検出/訂正信号を生成する誤り検出/訂正信号生成回路を有し、データを誤り検出/訂正信号とともに前記他のチップのいずれかの前記転送回路に出力し、
前記転送回路の前記誤り検出/訂正回路は、チップの前記一方からデータと前記誤り検出/訂正信号とを受け、誤り検出/訂正信号を用いてデータの誤りを検出または訂正する、請求項5に記載の半導体装置。
Each of the chips has an error detection/correction signal generation circuit that generates an error detection/correction signal that detects or corrects an error in the data output to the transfer circuit of any of the other chips, and detects the data error /Output to the transfer circuit of any one of the other chips together with a correction signal,
The error detection/correction circuit of the transfer circuit receives data and the error detection/correction signal from the one of the chips and detects or corrects an error in the data using the error detection/correction signal. The semiconductor device described.
前記転送回路からデータと前記誤り検出/訂正信号とを受信するチップは、前記誤り検出/訂正信号を用いて、受信したデータの誤りを検出または訂正する誤り検出/訂正回路を有する、請求項5または請求項6に記載の半導体装置。 6. The chip that receives data and the error detection/correction signal from the transfer circuit has an error detection/correction circuit that detects or corrects an error in the received data using the error detection/correction signal. Alternatively, the semiconductor device according to claim 6. 隣接して配置された2つのチップは、データを相互に入出力する入出力回路を有する、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の半導体装置。 8. The semiconductor device according to claim 1, wherein the two chips arranged adjacent to each other have an input/output circuit for inputting/outputting data to/from each other. 第1のチップと、第2のチップと、第3のチップと、第4のチップと、前記第1から第4のチップがそれぞれ実装された基板とを備える半導体装置のデータ転送方法であって、
前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して配置され前記第1のチップから、前記第2のチップに備えられた第1転送回路を介して前記第3のチップにデータを転送し、
前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して前記第1のチップとは異なる位置に配置された前記第3のチップから、前記第4のチップに備えられた第2の転送回路を介して前記第1のチップにデータを転送する、半導体装置のデータ転送方法。
A data transfer method for a semiconductor device, comprising: a first chip, a second chip, a third chip, a fourth chip, and a substrate on which the first to fourth chips are mounted, respectively. ,
Data is transferred from the first chip, which is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip, to the third chip via a first transfer circuit provided in the second chip. Then
A second transfer circuit provided in the fourth chip from the third chip arranged in a position different from the first chip adjacent to the second chip and the fourth chip. A data transfer method for a semiconductor device, comprising: transferring data to the first chip via a memory.
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