JP2023178356A - Semiconductor device, system board, cluster, and data transfer method for semiconductor device - Google Patents

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Abstract

To provide a semiconductor device that can perform good communication between chips.SOLUTION: A semiconductor device includes a first chip, a second chip, a third chip, and a fourth chip. The first chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip. The third chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip at a different position from the first chip. Data of the first chip is transferred to the third chip via the second chip. Data of the third chip is transferred to the first chip via the fourth chip. Data transmitted from the first chip to the second chip is transmitted via a wiring layer provided on a silicon interposer located at a different location from the first chip, the second chip, the third chip, and the fourth chip.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、半導体装置、システム基板、クラスタおよび半導体装置のデータ転送方法に関する。 The present disclosure relates to a semiconductor device, a system board, a cluster, and a data transfer method for a semiconductor device.

基板上に複数のチップを搭載したマルチチップモジュール方式の半導体装置が知られている。例えば、複数のチップをシリコンインタポーザ等の基板上に並べたマルチチップモジュールでは、チップ間は、基板の配線層に形成される配線を使用して電気的に接続される。 2. Description of the Related Art Multi-chip module type semiconductor devices in which a plurality of chips are mounted on a substrate are known. For example, in a multi-chip module in which a plurality of chips are arranged on a substrate such as a silicon interposer, the chips are electrically connected using wiring formed in a wiring layer of the substrate.

特開2011-86820号公報JP2011-86820A

本発明の実施形態は、チップ間の通信を良好に行うことができる半導体装置を提供することを目的とする。 Embodiments of the present invention aim to provide a semiconductor device that can perform communication between chips favorably.

上記目的を達成するため、本発明の実施形態の半導体装置は、第1のチップと、第2のチップと、第3のチップと、第4のチップとを備える半導体装置であって、前記第1のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して配置され、前記第3のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して前記第1のチップとは異なる位置に配置され、前記第1のチップのデータは、前記第2のチップを経由して前記第3のチップに転送され、前記第3のチップのデータは、前記第4のチップを経由して前記第1のチップに転送され、前記第1のチップから前記第2のチップへ送信されるデータは、前記第1のチップ、前記第2のチップ、前記第3のチップ及び前記第4のチップとは異なる位置にあるシリコンインタポーザに設けられた配線層を介して送信される。 In order to achieve the above object, a semiconductor device according to an embodiment of the present invention is a semiconductor device including a first chip, a second chip, a third chip, and a fourth chip, The first chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip, and the third chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip. The data of the first chip is transferred to the third chip via the second chip, and the data of the third chip is transferred to the fourth chip. Data transferred to the first chip via a chip and transmitted from the first chip to the second chip is transferred to the first chip, the second chip, the third chip, and The signal is transmitted via a wiring layer provided on a silicon interposer located at a different position from the fourth chip.

本発明の一実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an example of a semiconductor device in an embodiment of the present invention. FIG. 図1の転送回路とその周囲の回路の例を示すブロック図である。2 is a block diagram showing an example of the transfer circuit of FIG. 1 and its surrounding circuits. FIG. 図1のチップに設けられるバンプを信号線(配線)で相互に接続する例を模式的に示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing an example in which bumps provided on the chip in FIG. 1 are interconnected by signal lines (wiring). 比較例として、図1に示した転送回路を各チップに設けずに、対角線上に位置する2つのチップを信号線で接続する例を示すブロック図である。2 is a block diagram showing, as a comparative example, an example in which the transfer circuit shown in FIG. 1 is not provided in each chip, and two chips located diagonally are connected by a signal line. FIG. 本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. 本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. 図5の半導体装置が搭載されるシステム基板の例を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a system board on which the semiconductor device of FIG. 5 is mounted. 本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下では、信号線を示す符号は、信号名(データ名)としても使用される。また、以下では、特別に記載しない限り、平面視(例えば、図1に示す基板BRDと基板BRD上に配置・実装されたチップCP(CP1-CP4)とが重なる方向に見た場合)においての説明を行う。 Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. Below, the symbols indicating signal lines are also used as signal names (data names). In addition, in the following, unless otherwise specified, in plan view (for example, when viewed in the direction in which the board BRD shown in FIG. 1 and the chips CP (CP1-CP4) arranged and mounted on the board BRD overlap). Give an explanation.

図1は、本発明の一実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。図1に示す半導体装置SEM1は、基板BRD上に平面視において2行2列に配置された4辺を有する略正方形状(矩形状の一種)の4つの半導体チップCP(第1のチップCP1、第2のチップCP2、第3のチップCP3、第4のチップCP4、以下においてそれぞれ単にチップCP1、チップCP2、チップCP3、チップCP4と呼ぶことがある。)を有している。つまり、それぞれのチップCP1-CP4は、平面視において基板BRD上の異なる位置に設けられている。 FIG. 1 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. The semiconductor device SEM1 shown in FIG. 1 includes four semiconductor chips CP (first chip CP1, The chip has a second chip CP2, a third chip CP3, and a fourth chip CP4 (hereinafter sometimes simply referred to as chip CP1, chip CP2, chip CP3, and chip CP4, respectively). That is, the respective chips CP1 to CP4 are provided at different positions on the substrate BRD in plan view.

例えば、各チップCP1-CP4は、基板BRDとの対向面である裏面に設けられたバンプを介して基板BRDの端子に接続されている。なお、基板BRDには、チップCP1-CP4以外の他の部品(電子部品、機械部品)が搭載されてもよい。また、例えば、各チップCP1-CP4は、演算器とメモリとをそれぞれ含む複数の演算ユニットを有してもよい。演算器は、積和演算器または内積演算器等である。 For example, each of the chips CP1 to CP4 is connected to a terminal of the substrate BRD via bumps provided on the back surface, which is the surface facing the substrate BRD. Note that other components (electronic components, mechanical components) other than the chips CP1 to CP4 may be mounted on the board BRD. Further, for example, each of the chips CP1 to CP4 may have a plurality of arithmetic units each including an arithmetic unit and a memory. The computing unit is a product-sum computing unit, an inner product computing unit, or the like.

チップCP1、CP3は、チップCP1-CP4の配置領域である矩形上の基板BRDの一方の対角線である第1の対角線D1上に位置し、チップCP2、CP4は、基板BRDの他方の対角線である第2の対角線D2上に位置する。以下では、第1の対角線D1、第2の対角線D2は、それぞれ単に対角線D1、D2と呼ぶことがある。また、対角線D1、D2を区別なく説明する場合、対角線Dと呼ぶことがある。なお、本実施形態においては、基板BRDの平面視における外形の形状とチップCP1-CP4の配置領域の形状は一致している。つまり、基板BRDの対角線とチップCP1-CP4の配置領域の対角線D1、D2とは一致している。また、本明細書において、チップCPが基板BRDの対角線D上に位置するとは、平面視において配置されたチップCPと基板BRDの対角線Dとが重なっていることを指し、チップCPの角部がBRDの対角線D上にあることに限られない。 Chips CP1 and CP3 are located on a first diagonal line D1 that is one diagonal line of the rectangular substrate BRD that is the arrangement area of chips CP1 to CP4, and chips CP2 and CP4 are located on the other diagonal line of the substrate BRD. It is located on the second diagonal line D2. Below, the first diagonal line D1 and the second diagonal line D2 may be simply referred to as diagonal lines D1 and D2, respectively. Moreover, when explaining the diagonal lines D1 and D2 without distinction, they may be called diagonal line D. Note that in this embodiment, the external shape of the substrate BRD in plan view matches the shape of the arrangement area of the chips CP1 to CP4. That is, the diagonal line of the substrate BRD and the diagonal lines D1 and D2 of the arrangement area of the chips CP1 to CP4 match. Furthermore, in this specification, the term "chip CP located on the diagonal line D of the substrate BRD" means that the chip CP arranged on the diagonal line D of the substrate BRD overlaps in plan view, and the corner of the chip CP It is not limited to being on the diagonal line D of BRD.

チップCP1は、内部回路INT1および転送回路TR1を有し、チップCP2は、内部回路INT2および転送回路TR2を有する。チップCP3は、内部回路INT3および転送回路TR3を有し、チップCP4は、内部回路INT4および転送回路TR4を有する。以下では、内部回路INT1-INT4の各々は、内部回路INTと呼ぶことがあり、転送回路TR1-TR4の各々は、転送回路TRと呼ぶことがある。 Chip CP1 has an internal circuit INT1 and a transfer circuit TR1, and chip CP2 has an internal circuit INT2 and a transfer circuit TR2. Chip CP3 has an internal circuit INT3 and a transfer circuit TR3, and chip CP4 has an internal circuit INT4 and a transfer circuit TR4. Hereinafter, each of the internal circuits INT1-INT4 may be referred to as an internal circuit INT, and each of the transfer circuits TR1-TR4 may be referred to as a transfer circuit TR.

それぞれの辺同士が対向して隣接する第1のチップCP1の内部回路INT1と、第2のチップCP2の内部回路INT2との間は、基板BRDに設けられる信号線S12、S21を介して接続される。第1のチップCP1は、信号線S12、S21にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO12を有し、第2のチップCP2は、信号線S12、S21にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO21を有する。 The internal circuit INT1 of the first chip CP1 and the internal circuit INT2 of the second chip CP2, which are adjacent to each other with their sides facing each other, are connected via signal lines S12 and S21 provided on the substrate BRD. Ru. The first chip CP1 has an input/output circuit IO12 that inputs and outputs signals such as data to signal lines S12 and S21, and the second chip CP2 inputs and outputs signals such as data to and from signal lines S12 and S21. It has an input/output circuit IO21.

それぞれの辺同士が対向して隣接する第2のチップCP2の内部回路INT2と、第3のチップCP3の内部回路INT3との間は、基板BRDに設けられる信号線S23、S32を介して接続される。第2のチップCP2は、信号線S23、S32にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO23を有し、第3のチップCP3は、信号線S23、S32にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO32を有する。 The internal circuit INT2 of the second chip CP2 and the internal circuit INT3 of the third chip CP3, which are adjacent to each other with their sides facing each other, are connected via signal lines S23 and S32 provided on the substrate BRD. Ru. The second chip CP2 has an input/output circuit IO23 that inputs and outputs signals such as data to signal lines S23 and S32, and the third chip CP3 inputs and outputs signals such as data to and from signal lines S23 and S32. It has an input/output circuit IO32.

それぞれの辺同士が対向して隣接する第3のチップCP3の内部回路INT3と、第4のチップCP4の内部回路INT4との間は、基板BRDに設けられる信号線S34、S43を介して接続される。第3のチップCP3は、信号線S34、S43にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO34を有し、第4のチップCP4は、信号線S34、S43にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO43を有する。 The internal circuit INT3 of the third chip CP3 and the internal circuit INT4 of the fourth chip CP4, which are adjacent to each other with their sides facing each other, are connected via signal lines S34 and S43 provided on the substrate BRD. Ru. The third chip CP3 has an input/output circuit IO34 that inputs and outputs signals such as data to signal lines S34 and S43, and the fourth chip CP4 inputs and outputs signals such as data to and from signal lines S34 and S43. It has an input/output circuit IO43.

それぞれの辺同士が対向して隣接する第4のチップCP4の内部回路INT4と、第1のチップCP1の内部回路INT1との間は、基板BRDに設けられる信号線S41、S14を介して接続される。第4のチップCP4は、信号線S41、S14にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO41を有し、第1のチップCP1は、信号線S41、S14にデータ等の信号を入出力する入出力回路IO14を有する。各信号線S12、S21、S23、S32、S34、S43、S41、S14は、例えば、各チップCPに設けられるバンプBP(図3)に接続される。以下では、各種の信号線を区別なく説明する場合、信号線Sと呼ぶことがある。 The internal circuit INT4 of the fourth chip CP4 and the internal circuit INT1 of the first chip CP1, which are adjacent to each other with their respective sides facing each other, are connected via signal lines S41 and S14 provided on the substrate BRD. Ru. The fourth chip CP4 has an input/output circuit IO41 that inputs and outputs signals such as data to signal lines S41 and S14, and the first chip CP1 inputs and outputs signals such as data to and from signal lines S41 and S14. It has an input/output circuit IO14. Each signal line S12, S21, S23, S32, S34, S43, S41, and S14 is connected, for example, to a bump BP (FIG. 3) provided on each chip CP. Below, when various signal lines are explained without distinction, they may be referred to as signal lines S.

一方、それぞれの角部同士が対向して配置され、基板BRDの第1の対角線D1上に位置する第1のチップCP1、第3のチップCP3間は、基板BRDに設けられる信号線S13aと、第2のチップCP2の第1の転送回路TR2と、基板BRDに設けられる信号線S13bとを介して接続される。また、第3のチップCP3、第1のチップCP1間は、基板BRDに設けられる信号線S31aと、第4のチップCP4の第2の転送回路TR4と、基板BRDに設けられる信号線S31bとを介して接続される。 On the other hand, a signal line S13a provided on the substrate BRD is connected between the first chip CP1 and the third chip CP3, which are arranged so that their corner portions face each other and are located on the first diagonal line D1 of the substrate BRD. It is connected via the first transfer circuit TR2 of the second chip CP2 and a signal line S13b provided on the substrate BRD. Further, between the third chip CP3 and the first chip CP1, a signal line S31a provided on the substrate BRD, a second transfer circuit TR4 of the fourth chip CP4, and a signal line S31b provided on the substrate BRD are connected. Connected via.

それぞれの角部同士が対向して配置され、基板BRDの第2の対角線D2上に位置する第2のチップCP2、第4のチップCP4間は、基板BRDに設けられる信号線S24aと、第3のチップCP3の第3の転送回路TR3と、基板BRDに設けられる信号線S24bとを介して接続される。また、第4のチップCP4、第2のチップCP2間は、基板BRDに設けられる信号線S42aと、第1のチップCP1の第4の転送回路TR1と、基板BRDに設けられる信号線S42bとを介して接続される。以下では、第1の転送回路TR2、第2の転送回路TR4、第3の転送回路TR3、第4の転送回路TR1は、それぞれ単に転送回路TR2、TR4、TR3、TR1と呼ぶことがある。 A signal line S24a provided on the substrate BRD and a third is connected via the third transfer circuit TR3 of the chip CP3 and the signal line S24b provided on the substrate BRD. Further, between the fourth chip CP4 and the second chip CP2, a signal line S42a provided on the substrate BRD, a fourth transfer circuit TR1 of the first chip CP1, and a signal line S42b provided on the substrate BRD are connected. Connected via. Below, the first transfer circuit TR2, the second transfer circuit TR4, the third transfer circuit TR3, and the fourth transfer circuit TR1 may be simply referred to as transfer circuits TR2, TR4, TR3, and TR1, respectively.

以上の構成により、半導体装置SEM1は、4つのチップCP1-CP4間でデータ等の信号を相互に通信することができる。このため、例えば、各チップCP1-CP4に搭載される複数の演算器を用いて演算を実行する場合、演算器で使用するデータや演算結果を、他の全てのチップCPに入出力することができる。したがって、半導体装置SEM1は、例えば、多数のデータと多数のパラメータを使用してデータ処理を実行する機械学習、特にニューラルネットワークを用いた深層学習に適している。 With the above configuration, the semiconductor device SEM1 can mutually communicate signals such as data between the four chips CP1 to CP4. Therefore, for example, when performing calculations using multiple calculation units installed on each chip CP1 to CP4, the data and calculation results used by the calculation units cannot be input/output to all other chips CP. can. Therefore, the semiconductor device SEM1 is suitable for, for example, machine learning that performs data processing using a large amount of data and a large number of parameters, particularly deep learning using a neural network.

各信号線Sに付けた矢印は、信号線Sに伝送される信号の転送方向を示し、各信号線Sに付けた符号"/"は、信号線Sが複数ビットで構成されることを示す。信号線Sを伝送される信号Sはデータおよびクロック等を含む。データのビット数は、特に限定されないが、数十ビットから100ビット程度でもよい。 The arrow attached to each signal line S indicates the transfer direction of the signal transmitted to the signal line S, and the symbol "/" attached to each signal line S indicates that the signal line S is composed of multiple bits. . The signal S transmitted through the signal line S includes data, a clock, and the like. The number of bits of data is not particularly limited, but may range from several tens of bits to about 100 bits.

転送回路TR1は、チップCP4の内部回路INT4から送信される信号S42aを信号S42bとしてチップCP2の内部回路INT2に転送する。転送回路TR2は、チップCP1の内部回路INT1から送信される信号S13aを信号S13bとしてチップCP3の内部回路INT3に転送する。転送回路TR3は、チップCP2の内部回路INT2から送信される信号S24aを信号S24bとしてチップCP4の内部回路INT4に転送する。転送回路TR4は、チップCP3の内部回路INT3から送信される信号S31aを信号S31bとしてチップCP1の内部回路INT1に転送する。 The transfer circuit TR1 transfers the signal S42a transmitted from the internal circuit INT4 of the chip CP4 to the internal circuit INT2 of the chip CP2 as a signal S42b. The transfer circuit TR2 transfers the signal S13a transmitted from the internal circuit INT1 of the chip CP1 to the internal circuit INT3 of the chip CP3 as a signal S13b. The transfer circuit TR3 transfers the signal S24a transmitted from the internal circuit INT2 of the chip CP2 to the internal circuit INT4 of the chip CP4 as a signal S24b. The transfer circuit TR4 transfers the signal S31a transmitted from the internal circuit INT3 of the chip CP3 to the internal circuit INT1 of the chip CP1 as a signal S31b.

そして、4つのチップCP1-CP4の配置領域において、一方の対角線D上に位置しない2つのチップCPの一方に設けられた転送回路TRを介して、一方の対角線D上に位置する2つのチップCPの一方から他方にデータを転送するデータ転送方法が実現される。 In the arrangement area of the four chips CP1 to CP4, the two chips CP located on one diagonal line D are transferred via the transfer circuit TR provided on one of the two chips CP that are not located on one diagonal line D. A data transfer method for transferring data from one side to the other is realized.

例えば、信号線(配線)S13aは、チップCP1、CP2の互いに対向する辺の間に設けることができる。他の信号線S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bも同様に、チップCPの互いに対向する辺の間に設けることができる。このため、対角線D上に位置する2つのチップCP間の角部を斜めの配線で接続する場合に比べて、配線できる信号線S13a、S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bの本数を増加することができる。 For example, the signal line (wiring) S13a can be provided between opposing sides of the chips CP1 and CP2. The other signal lines S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, and S31b can be similarly provided between the mutually opposing sides of the chip CP. Therefore, the number of signal lines S13a, S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, and S31b that can be wired is greater than when the corners between two chips CP located on the diagonal line D are connected with diagonal wiring. can be increased.

また、例えば、チップCP1、CP2の互いに対向する辺の間に配線される複数の信号線S13aは、長さを揃えることができる。信号線S13aの長さのばらつきを抑えることで、信号線S13aを介して伝送される信号のスキューを低減することができ、タイミング設計を容易にするとともに、半導体装置SEM1の高性能化に寄与することができる。他の信号線S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bも同様である。 Further, for example, the plurality of signal lines S13a wired between mutually opposing sides of the chips CP1 and CP2 can be made to have the same length. By suppressing variations in the length of the signal line S13a, it is possible to reduce the skew of signals transmitted via the signal line S13a, which facilitates timing design and contributes to higher performance of the semiconductor device SEM1. be able to. The same applies to the other signal lines S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, and S31b.

また、信号線S13a、S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bは、例えばチップCP1、CP2間を接続する信号線S12、S21の配線ルールと同様のルールを用いて配線することができる。したがって、信号線S13a、S24a、S31a、S42a、S42b、S13b、S24b、S31bのレイアウト設計を容易にすることができる。 Further, the signal lines S13a, S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, and S31b can be wired using the same wiring rules as the wiring rules for the signal lines S12 and S21 connecting between the chips CP1 and CP2, for example. . Therefore, the layout design of the signal lines S13a, S24a, S31a, S42a, S42b, S13b, S24b, and S31b can be facilitated.

図1に示すように、本実施形態においては、対角線D上に位置する2つのチップCP間での信号の伝達経路は、時計回りであり、入力経路と出力経路が互いに異なる。これにより、各チップCPに転送回路TR(TR1-TR4のいずれか)を1つずつ配置することができ、4つのチップCPを共通のレイアウトデータを用いて設計することができる。この結果、チップコストを削減でき、半導体装置SEM1のコストを削減することができる。なお、対角線D上に位置する2つのチップCP間での信号の伝送経路は、反時計回りでもよい。 As shown in FIG. 1, in this embodiment, the signal transmission path between the two chips CP located on the diagonal line D is clockwise, and the input path and the output path are different from each other. As a result, one transfer circuit TR (one of TR1 to TR4) can be placed on each chip CP, and four chips CP can be designed using common layout data. As a result, the chip cost can be reduced, and the cost of the semiconductor device SEM1 can be reduced. Note that the signal transmission path between the two chips CP located on the diagonal line D may be counterclockwise.

例えば、転送回路TR2は、チップCP1から受ける信号S13aに含まれるデータをチップCP3の内部回路INT3のみに出力し、自チップCP2の内部回路INT2には出力しない。すなわち、内部回路INT2は、チップCP1、CP3間で転送される信号S13aに含まれるデータをデータ処理等に使用せず、転送回路TR2は、チップCP1、CP3間の信号S13a、S13bに含まれるデータの中継回路として機能する。なお、内部回路INT2は、転送回路TR2上を転送される信号S13aをモニタするなどしてもよい。 For example, the transfer circuit TR2 outputs the data included in the signal S13a received from the chip CP1 only to the internal circuit INT3 of the chip CP3, and does not output it to the internal circuit INT2 of its own chip CP2. That is, the internal circuit INT2 does not use the data included in the signal S13a transferred between the chips CP1 and CP3 for data processing, etc., and the transfer circuit TR2 uses the data included in the signals S13a and S13b between the chips CP1 and CP3. functions as a relay circuit. Note that the internal circuit INT2 may monitor the signal S13a transferred on the transfer circuit TR2.

転送回路TRは、各チップCPにおいて、配置領域の中央部側(図1から図3に示す実施形態においては基板BRDの中央部側)に配置されることが好ましい。これにより、配置領域の外周側(基板BRDの外周側)に転送回路TRを配置する場合に比べて、チップCP1、CP3間での信号の伝送経路およびチップCP2、CP4間での信号の伝送経路を短くすることができ、信号の伝送時間を短縮することができる。 In each chip CP, the transfer circuit TR is preferably arranged on the center side of the arrangement area (in the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, on the center side of the substrate BRD). As a result, the signal transmission path between chips CP1 and CP3 and the signal transmission path between chips CP2 and CP4 are improved compared to the case where the transfer circuit TR is placed on the outer circumferential side of the arrangement area (the outer circumferential side of the board BRD). can be shortened, and the signal transmission time can be shortened.

なお、基板BRDは、シリコンインタポーザでもよい。半導体装置SEM1は、チップCP1-CP4が搭載された基板BRDをパッケージングすることで形成されてもよい。また、チップCP1-CP4は、それぞれ樹脂等により封止されパッケージングされた状態であってもよい。さらに、半導体装置SEM1は、チップCP1-CP4が搭載された基板BRDの表面と反対側の面である裏面に設けられるバンプを介して、他の半導体部品等が搭載されたプリント基板等に接続されてもよい。 Note that the substrate BRD may be a silicon interposer. The semiconductor device SEM1 may be formed by packaging the substrate BRD on which the chips CP1 to CP4 are mounted. Furthermore, the chips CP1 to CP4 may be each sealed with a resin or the like and packaged. Further, the semiconductor device SEM1 is connected to a printed circuit board, etc., on which other semiconductor components, etc. are mounted, via bumps provided on the back surface, which is the surface opposite to the front surface of the board BRD on which the chips CP1-CP4 are mounted. It's okay.

なお、対角線D上に位置する2つのチップCP間での信号の伝達経路を双方向にした場合、例えば、チップCP2、CP4間で入出力される信号を転送する2つの転送回路TR1、TR3が、チップCP1、CP3の一方のみに設けられる。同様に、チップCP1、CP3間で入出力される信号を転送する2つの転送回路TR2、TR4が、チップCP2、CP4の一方のみに設けられる。 Note that if the signal transmission path between two chips CP located on the diagonal line D is bidirectional, for example, two transfer circuits TR1 and TR3 that transfer signals input and output between chips CP2 and CP4 , is provided only on one of the chips CP1 and CP3. Similarly, two transfer circuits TR2 and TR4 that transfer signals input and output between chips CP1 and CP3 are provided only in one of chips CP2 and CP4.

例えば、チップCP1のみに転送回路TR1、TR3を設け、チップCP2のみに転送回路TR2、TR4を設ける場合、チップCP1、CP2のレイアウト設計と、チップCP3、CP4のレイアウト設計とをそれぞれ行わなくてはならない。また、基板BRDに、信号線Sが密に配線される領域と疎に配線される領域とが発生するため、配線のレイアウト設計が難しくなる。 For example, if only chip CP1 is provided with transfer circuits TR1 and TR3, and only chip CP2 is provided with transfer circuits TR2 and TR4, the layout design for chips CP1 and CP2 and the layout design for chips CP3 and CP4 must be performed respectively. It won't happen. Furthermore, since there are regions on the substrate BRD where the signal lines S are wired densely and regions where the signal lines S are wired sparsely, it becomes difficult to design the wiring layout.

さらに、チップCP1、CP2の内部回路INT1、INT2は、チップCP3、CP4の内部回路INT3、INT4に比べて面積が小さくなる。このため、チップCP1-CP4を同じチップサイズにする場合、チップCP3、CP4の内部回路INT3、INT4の領域に、回路が形成されない無駄な領域ができてしまう場合がある。さらに、無駄な領域を無くすために、チップCP3、CP4のチップサイズをチップCP1、CP2のチップサイズより小さくする場合、2種類のチップを設計する必要がある。 Furthermore, the area of internal circuits INT1 and INT2 of chips CP1 and CP2 is smaller than that of internal circuits INT3 and INT4 of chips CP3 and CP4. For this reason, when chips CP1 to CP4 are made to have the same chip size, a wasted area where no circuit is formed may be created in the areas of internal circuits INT3 and INT4 of chips CP3 and CP4. Furthermore, if the chip sizes of the chips CP3 and CP4 are to be made smaller than the chip sizes of the chips CP1 and CP2 in order to eliminate wasted areas, it is necessary to design two types of chips.

図2は、図1の転送回路TR2とその周囲の回路の例を示すブロック図である。他の転送回路TR1、TR3、TR4とその周囲の回路も、図2と同様の構成を有する。 FIG. 2 is a block diagram showing an example of the transfer circuit TR2 of FIG. 1 and its surrounding circuits. The other transfer circuits TR1, TR3, TR4 and their surrounding circuits also have the same configuration as in FIG. 2.

転送回路TR2は、入力バッファ21、入力フリップフロップ(FF)22、誤り検出/訂正回路23、クロック乗せ換え回路24、ステージングFF25、FF26、誤り検出/訂正信号生成回路27、出力FF28および出力バッファ29を有する。なお、転送回路TR2に挿入されるステージングFFの数は、信号の伝送経路の長さおよびクロック周波数に依存して決められればよく、図2に示す数に限定されない。 The transfer circuit TR2 includes an input buffer 21, an input flip-flop (FF) 22, an error detection/correction circuit 23, a clock switching circuit 24, a staging FF 25, FF 26, an error detection/correction signal generation circuit 27, an output FF 28, and an output buffer 29. has. Note that the number of staging FFs inserted into the transfer circuit TR2 may be determined depending on the length of the signal transmission path and the clock frequency, and is not limited to the number shown in FIG. 2.

入力バッファ21は、信号線S13aを介してチップCP1から複数ビットの信号S13aを受信し、受信した信号S13aを入力FF22に出力する。入力FF22は、図示しないクロックに同期して信号S13aを取り込み、取り込んだ信号S13aを誤り検出/訂正回路23に出力する。なお、入力FF22が使用するクロックは、チップCP1から出力される信号S13aに含まれる、チップCP1で使用するクロックである。 The input buffer 21 receives a multi-bit signal S13a from the chip CP1 via the signal line S13a, and outputs the received signal S13a to the input FF22. The input FF 22 takes in the signal S13a in synchronization with a clock (not shown), and outputs the taken-in signal S13a to the error detection/correction circuit 23. Note that the clock used by the input FF22 is the clock used by the chip CP1, which is included in the signal S13a output from the chip CP1.

誤り検出/訂正回路23は、複数ビットの信号S13aに含まれる誤り検出/訂正信号を用いて、信号S13aに含まれるデータの誤りを検出または訂正し、訂正した場合には誤りを訂正したデータをクロック乗せ換え回路24に出力する。これにより、信号線S13aを介してチップCP1から受信するデータに誤りが発生する場合にも、誤りを訂正した正しいデータをチップCP3に転送することができる。 The error detection/correction circuit 23 uses the error detection/correction signal included in the multi-bit signal S13a to detect or correct an error in the data included in the signal S13a, and when the error is corrected, the error-corrected data is processed. It is output to the clock transfer circuit 24. Thereby, even if an error occurs in the data received from the chip CP1 via the signal line S13a, correct data with the error corrected can be transferred to the chip CP3.

なお、誤り検出/訂正回路23は、訂正できない誤りを検出した場合、訂正できない誤りの検出を示す誤り情報を生成してもよい。さらに、誤り検出/訂正回路23は、データの誤りを訂正した場合、誤りを訂正したことを示す訂正情報を生成してもよい。また、この場合、誤り情報または訂正情報は、チップCP2の内部回路INT2に出力されてもよい。また、チップCP2の内部回路INT2は、誤り検出/訂正回路23が誤り情報または訂正情報を生成した場合、誤り情報または訂正情報を保持してもよく、保持した誤り情報または訂正情報を用いて誤り訂正率の算出等の情報処理を行ってもよい。 Note that when the error detection/correction circuit 23 detects an uncorrectable error, it may generate error information indicating the detection of the uncorrectable error. Furthermore, when the error detection/correction circuit 23 corrects a data error, it may generate correction information indicating that the error has been corrected. Further, in this case, the error information or correction information may be output to the internal circuit INT2 of the chip CP2. Furthermore, when the error detection/correction circuit 23 generates error information or correction information, the internal circuit INT2 of the chip CP2 may hold the error information or correction information, and use the held error information or correction information to detect errors. Information processing such as calculation of a correction rate may also be performed.

また、誤り検出/訂正回路23はデータの誤り検出のみを行ってもよく、この場合、内部回路INT1の誤り検出/訂正信号生成回路11は、パリティビット等の誤り検出のみを行う信号を生成してもよい。さらに、誤り検出/訂正回路23は、データの誤りを検出した場合、誤りを検出したことを示す検出情報を生成し、生成した検出情報を内部回路INT2に出力してもよい。内部回路INT2は、誤り検出/訂正回路23が検出情報を生成した場合、検出情報を保持してもよく、保持した検出情報を用いて誤り検出率の算出等の情報処理を行ってもよい。 Furthermore, the error detection/correction circuit 23 may perform only data error detection, and in this case, the error detection/correction signal generation circuit 11 of the internal circuit INT1 generates a signal that only detects errors such as parity bits. It's okay. Further, when detecting a data error, the error detection/correction circuit 23 may generate detection information indicating that an error has been detected, and output the generated detection information to the internal circuit INT2. When the error detection/correction circuit 23 generates detection information, the internal circuit INT2 may hold the detection information, and may perform information processing such as calculating an error detection rate using the held detection information.

なお、誤り検出/訂正回路23が生成し、内部回路INT2に出力された誤り情報、訂正情報または検出情報、あるいは、誤り情報、訂正情報または検出情報に基づいて生成された情報は、内部回路INT2を経由して、チップCP3の内部回路INT3に出力されてもよい。この場合、例えば、誤り情報、訂正情報または検出情報、あるいは、誤り情報、訂正情報または検出情報に基づいて生成された情報は、図1に示した内部回路INT2の入出力回路IO23、信号線S23および内部回路INT3の入出力回路IO32を介して内部回路INT3に伝達されてもよい。これにより、信号線S13bにデータ、誤り検出/訂正信号およびクロック以外の信号が伝達されることを抑止でき、信号線S13bの本数を最小限にすることができる。換言すれば、信号線S13bをチップCP1からチップCP3へのデータの転送する用途のみに使用することができる。 Note that the error information, correction information, or detection information generated by the error detection/correction circuit 23 and output to the internal circuit INT2, or information generated based on the error information, correction information, or detection information, is output to the internal circuit INT2. The signal may be output to the internal circuit INT3 of the chip CP3 via. In this case, for example, the error information, correction information, or detection information, or information generated based on the error information, correction information, or detection information, is transmitted to the input/output circuit IO23 of the internal circuit INT2 shown in FIG. It may also be transmitted to the internal circuit INT3 via the input/output circuit IO32 of the internal circuit INT3. This can prevent signals other than data, error detection/correction signals, and clocks from being transmitted to the signal line S13b, and can minimize the number of signal lines S13b. In other words, the signal line S13b can be used only for transferring data from the chip CP1 to the chip CP3.

クロック乗せ換え回路24は、チップCP1のクロックに同期した信号S13aに含まれるデータを、チップCP2のクロックに同期したデータに変換し、ステージングFF25に出力する。例えば、クロック乗せ換え回路24として、入力非同期FIFO(First-In First-Out)が使用されてもよい。なお、誤り検出/訂正回路23とクロック乗せ換え回路24との接続の順序は逆でもよい。すなわち、クロック乗せ換え回路24によりチップCP2のクロックに同期させたデータを、誤り検出/訂正回路23により誤り検出し、任意に誤り訂正してもよい。 The clock transfer circuit 24 converts the data included in the signal S13a synchronized with the clock of the chip CP1 into data synchronized with the clock of the chip CP2, and outputs it to the staging FF25. For example, as the clock transfer circuit 24, an input asynchronous FIFO (First-In First-Out) may be used. Note that the order of connection between the error detection/correction circuit 23 and the clock transfer circuit 24 may be reversed. That is, the error detection/correction circuit 23 may detect errors in the data synchronized with the clock of the chip CP2 by the clock transfer circuit 24, and may optionally correct the errors.

ステージングFF25、FF26は、データを順次中継する中継回路の一例である。なお、転送回路TR2内での信号の転送距離が短い場合、転送回路TR2は、ステージングFF25、FF26を持たなくてもよい。この場合、クロック乗せ換え回路24から出力されるデータは、誤り検出/訂正信号生成回路27に直接出力されてもよい。 The staging FF 25 and FF 26 are an example of a relay circuit that sequentially relays data. Note that if the signal transfer distance within the transfer circuit TR2 is short, the transfer circuit TR2 does not need to include the staging FF25 and FF26. In this case, the data output from the clock transfer circuit 24 may be directly output to the error detection/correction signal generation circuit 27.

誤り検出/訂正信号生成回路27は、複数ビットのデータの誤りを訂正する誤り検出/訂正信号を生成し、生成した誤り検出/訂正信号をデータとともに出力FF28に出力する。例えば、誤り検出/訂正信号は、ECC(Error Correction Code)等である。出力FF28は、データ、誤り検出/訂正信号およびクロックを出力バッファ29に出力する。出力バッファ29は、データ、誤り検出/訂正信号およびクロックを信号S13bとしてチップCP3に出力する。 The error detection/correction signal generation circuit 27 generates an error detection/correction signal for correcting errors in data of multiple bits, and outputs the generated error detection/correction signal to the output FF 28 together with the data. For example, the error detection/correction signal is an ECC (Error Correction Code) or the like. Output FF 28 outputs data, an error detection/correction signal, and a clock to output buffer 29. Output buffer 29 outputs the data, error detection/correction signal, and clock to chip CP3 as signal S13b.

なお、信号S13aを出力するチップCP1の内部回路INT1は、誤り検出/訂正信号生成回路11、出力FF12および出力バッファ13を有する。誤り検出/訂正信号生成回路11、出力FF12および出力バッファ13は、それぞれ転送回路TR2の誤り検出/訂正信号生成回路27、出力FF28および出力バッファ29と同様の機能を有する。 Note that the internal circuit INT1 of the chip CP1 that outputs the signal S13a includes an error detection/correction signal generation circuit 11, an output FF12, and an output buffer 13. The error detection/correction signal generation circuit 11, output FF 12, and output buffer 13 have the same functions as the error detection/correction signal generation circuit 27, output FF 28, and output buffer 29 of the transfer circuit TR2, respectively.

チップCP3の内部回路INT3は、入力バッファ31、入力FF32、誤り検出/訂正回路33およびクロック乗せ換え回路34を有する。入力バッファ31、入力FF32、誤り検出/訂正回路33およびクロック乗せ換え回路34は、それぞれ転送回路TR2の入力バッファ21、入力FF22、誤り検出/訂正回路23およびクロック乗せ換え回路24と同様の機能を有する。 The internal circuit INT3 of the chip CP3 includes an input buffer 31, an input FF32, an error detection/correction circuit 33, and a clock transfer circuit 34. The input buffer 31, input FF 32, error detection/correction circuit 33, and clock transfer circuit 34 have the same functions as the input buffer 21, input FF 22, error detection/correction circuit 23, and clock transfer circuit 24 of the transfer circuit TR2, respectively. have

入力バッファ31は、チップCP2の転送回路TR2を介してチップCP1から転送された複数ビットの信号S13bを受信し、受信した信号S13bを入力FF32に出力する。入力FF32は、信号S13bに含まれるチップCP2のクロックに同期して信号S13bを取り込み、取り込んだ信号S13bを誤り検出/訂正回路33に出力する。 The input buffer 31 receives the multi-bit signal S13b transferred from the chip CP1 via the transfer circuit TR2 of the chip CP2, and outputs the received signal S13b to the input FF32. The input FF 32 captures the signal S13b in synchronization with the clock of the chip CP2 included in the signal S13b, and outputs the captured signal S13b to the error detection/correction circuit 33.

誤り検出/訂正回路33は、信号S13bに含まれる誤り検出/訂正信号を用いて、信号S13bに含まれるデータの誤りを検出または訂正し、誤りを訂正した場合には誤りを訂正したデータをクロック乗せ換え回路34に出力する。クロック乗せ換え回路34は、チップCP2のクロックに同期した信号S13bに含まれるデータを、チップCP3のクロックに同期したデータに変換する。そして、内部回路INT3は、チップCP2の転送回路TR2を介してチップCP1から転送された信号S13bを使用して、データ処理等を実行する。データ処理後のデータをチップCP1に戻す必要がある場合、内部回路INT3は、図1に示したチップCP4の転送回路TR4を介して、データをチップCP1に転送する。また、誤り検出/訂正回路33は誤り検出のみを行ってもよく、この場合、転送回路TR2の誤り検出/訂正信号生成回路27は、パリティビット等の誤り検出のみを行う信号を生成してもよい。 The error detection/correction circuit 33 uses the error detection/correction signal included in the signal S13b to detect or correct an error in the data included in the signal S13b, and when the error is corrected, clocks the error-corrected data. It is output to the transfer circuit 34. The clock transfer circuit 34 converts the data included in the signal S13b synchronized with the clock of the chip CP2 into data synchronized with the clock of the chip CP3. Then, the internal circuit INT3 uses the signal S13b transferred from the chip CP1 via the transfer circuit TR2 of the chip CP2 to perform data processing and the like. When it is necessary to return the data after data processing to the chip CP1, the internal circuit INT3 transfers the data to the chip CP1 via the transfer circuit TR4 of the chip CP4 shown in FIG. Further, the error detection/correction circuit 33 may perform only error detection, and in this case, the error detection/correction signal generation circuit 27 of the transfer circuit TR2 may generate a signal that only detects errors such as parity bits. good.

なお、誤り検出/訂正回路33とクロック乗せ換え回路34との接続の順序は逆でもよい。すなわち、クロック乗せ換え回路34によりチップCP3のクロックに同期させたデータを、誤り検出/訂正回路33により誤り検出し、任意に誤り訂正してもよい。また、転送回路TR2は、誤り検出/訂正回路23および誤り検出/訂正信号生成回路27を持たなくてもよく、転送回路TR1は、誤り検出/訂正信号生成回路11を持たなくてもよく、転送回路TR3は、誤り検出/訂正回路33を持たなくてもよい。 Note that the order of connection between the error detection/correction circuit 33 and the clock transfer circuit 34 may be reversed. That is, the data synchronized with the clock of the chip CP3 by the clock transfer circuit 34 may be subjected to error detection by the error detection/correction circuit 33, and may be arbitrarily corrected. Further, the transfer circuit TR2 does not need to have the error detection/correction circuit 23 and the error detection/correction signal generation circuit 27, and the transfer circuit TR1 does not need to have the error detection/correction signal generation circuit 11. The circuit TR3 may not include the error detection/correction circuit 33.

図3は、図1のチップCP1-CP4に設けられるバンプBPを信号線S(配線)で相互に接続する例を模式的に示す説明図である。信号線Sは、例えば、シリコンインタポーザ等の基板BRDの配線層を用いて形成される。図3に示すバンプBPに接続された信号線Sは、例えば、信号の転送先により区別されることなく、同じ配線ルールに基づいて配線される。これにより、図1で説明したように、複数の信号線Sの長さのばらつきを低減でき、信号Sのスキューを低減することができる。なお、図3は、説明を分かりやすくするために、各チップCP上にバンプBPを記載し、また、互いに対向するバンプBPのみを信号線Sで接続している。しかしながら、実際には、バンプBPは、各チップCPと基板BRDとの間に位置している。また、信号線Sの長さを揃えるために、例えば、チップCP2の右辺に並ぶバンプBPは、信号線Sを介して、チップCP3の左辺に並ぶバンプBPより奥側に位置するバンプBPに接続される。 FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing an example in which the bumps BP provided on the chips CP1 to CP4 in FIG. 1 are interconnected by a signal line S (wiring). The signal line S is formed using a wiring layer of the substrate BRD, such as a silicon interposer, for example. The signal lines S connected to the bumps BP shown in FIG. 3 are wired based on the same wiring rule, for example, without being distinguished by the signal transfer destination. Thereby, as explained with reference to FIG. 1, variations in the lengths of the plurality of signal lines S can be reduced, and the skew of the signals S can be reduced. Note that, in FIG. 3, bumps BP are shown on each chip CP to make the explanation easier to understand, and only the bumps BP facing each other are connected by a signal line S. However, in reality, the bumps BP are located between each chip CP and the substrate BRD. In order to make the lengths of the signal lines S uniform, for example, the bumps BP arranged on the right side of the chip CP2 are connected via the signal line S to the bumps BP located further back than the bumps BP arranged on the left side of the chip CP3. be done.

図4は、比較例として、図1に示した転送回路TRを各チップCPに設けずに、対角線D1(またはD2)上に位置する2つのチップCP1、CP3(またはCP2、CP4)を信号線S13、S31(またはS24、S42)で接続する例を示すブロック図である。 As a comparative example, FIG. 4 shows that the transfer circuit TR shown in FIG. It is a block diagram showing an example of connection in S13 and S31 (or S24 and S42).

この場合、対角線D1、D2の交点に近いチップCP1-CP4の角部の領域に設けられるバンプ(図示せず)を使って、入力と出力の双方の信号線を斜めの配線で接続することになる。さらに、信号線S13、S31と信号線S24、S42とを交差させなくてはならない。このため、信号線S13、S31、S24、S42の数が多い場合には、配線が困難となる場合がある。また、配線を可能にするために、シリコンインタポーザ等の基板BRDの配線層の数を増やした場合、コストが増大し、信号の遅延量が増加する場合がある。さらに、信号線S13、S31(またはS24、S42)の長さがばらつく場合、信号にスキューが発生するおそれがある。これに対して、図1から図3に示した実施形態では、上記の問題を低減することができる。 In this case, the bumps (not shown) provided in the corner area of chips CP1-CP4 near the intersection of diagonal lines D1 and D2 are used to connect both input and output signal lines with diagonal wiring. Become. Furthermore, the signal lines S13 and S31 must intersect with the signal lines S24 and S42. Therefore, when the number of signal lines S13, S31, S24, and S42 is large, wiring may become difficult. Furthermore, if the number of wiring layers of the substrate BRD such as a silicon interposer is increased in order to enable wiring, the cost may increase and the amount of signal delay may increase. Furthermore, if the lengths of the signal lines S13, S31 (or S24, S42) vary, there is a risk that skew may occur in the signals. In contrast, the embodiments shown in FIGS. 1 to 3 can reduce the above problems.

以上、図1から図3に示す実施形態では、対角線D上に位置しない2つのチップCPに設けられる転送回路TRを介して、対角線D上に位置する2つのチップCP間でデータを転送することができる。転送回路TRに接続される信号線Sは、対角線D上に位置する2つのチップCPにおける互いに対向する辺に設けられるため、対角線Dに略平行な斜め配線で接続する場合に比べて、配線できる信号線Sの本数を増加させることができる。また、互いに対向する辺を介して隣接する2つのチップCPは、入出力回路IOを介してデータを相互に入出力することができる。この結果、4つのチップCP1-CP4間で同等の情報量のデータを相互に通信することができ、チップCP1-CP4間での相互の通信を良好に行うことができる。 As described above, in the embodiments shown in FIGS. 1 to 3, data is transferred between two chips CP located on the diagonal line D via the transfer circuit TR provided on the two chips CP that are not located on the diagonal line D. Can be done. Since the signal line S connected to the transfer circuit TR is provided on opposite sides of the two chips CP located on the diagonal line D, wiring is easier than when connecting with diagonal wiring substantially parallel to the diagonal line D. The number of signal lines S can be increased. Furthermore, two chips CP adjacent to each other via opposite sides can input and output data to each other via an input/output circuit IO. As a result, the four chips CP1 to CP4 can mutually communicate the same amount of data, and the chips CP1 to CP4 can mutually communicate favorably.

4つのチップCP1-CP4間で同等の情報量のデータを相互に通信できるため、例えば、1つのチップで実現される機能を4つのチップCP1-CP4に分割して半導体装置SEM1にすることが可能になる。この場合、1つのチップで機能を実現する場合に比べて、チップCPの良品率である歩留まりを向上することが期待できる。歩留まりの向上により、チップコストを低減することができ、半導体装置SEM1のコストを低減することができる。 Since the same amount of data can be mutually communicated between the four chips CP1-CP4, it is possible, for example, to divide a function realized by one chip into four chips CP1-CP4 to form the semiconductor device SEM1. become. In this case, it can be expected that the yield rate, which is the percentage of non-defective chips CP, will be improved compared to the case where the function is realized with one chip. By improving the yield, it is possible to reduce the chip cost, and the cost of the semiconductor device SEM1 can be reduced.

対角線D上に位置する2つのチップCP間でデータを伝送する複数の信号線Sの長さのばらつきを低減できるため、信号線Sを介して伝送されるデータのスキューを低減することができる。この結果、タイミング設計を容易にすることができるとともに、半導体装置SEM1の高性能化に寄与することができる。 Since variations in the lengths of the plurality of signal lines S that transmit data between two chips CP located on the diagonal line D can be reduced, the skew of data transmitted via the signal lines S can be reduced. As a result, timing design can be facilitated, and it is possible to contribute to higher performance of the semiconductor device SEM1.

転送回路TRをチップCPにおける基板BRDの中央部側(チップCPの配置領域の中央部側)に配置することで、転送回路TRを基板BRDの外周側(チップCPの配置領域の外周側)に配置する場合に比べて、チップCP間での信号の伝送経路を短くすることができ、信号の伝送時間を短縮することができる。各チップCPに転送回路TRを1つずつ配置することで、4つのチップCPを共通のレイアウトデータを用いて設計することができる。この結果、チップコストを削減でき、半導体装置SEM1のコストを削減することができる。 By arranging the transfer circuit TR on the center side of the substrate BRD in the chip CP (on the center side of the placement area of the chip CP), the transfer circuit TR can be placed on the outer circumference side of the substrate BRD (on the outer circumference side of the placement area of the chip CP). Compared to the case where chips CP are arranged, the signal transmission path between the chips CP can be shortened, and the signal transmission time can be shortened. By arranging one transfer circuit TR on each chip CP, four chips CP can be designed using common layout data. As a result, the chip cost can be reduced, and the cost of the semiconductor device SEM1 can be reduced.

各転送回路TRは、信号線Sを介して一方のチップCPから受信するデータに誤りが発生する場合にも、誤り検出/訂正回路23により誤りを検出し、または誤りを訂正した正しいデータを他方のチップCPに転送することができる。また、各転送回路TRは、誤り検出/訂正信号生成回路27により、他方のチップCPに転送するデータの誤りを検出または訂正する誤り検出/訂正信号を生成する。これにより、転送回路TRから出力するデータに誤りが発生した場合にも、データを受信した他方のチップCPの誤り検出/訂正回路33により誤りを検出または訂正することができる。したがって、対角線D上に位置する2つのチップCP間のデータ伝送を、他のチップCPを介して行う場合にも、データの信頼性が低下することを低減することができる。 Even if an error occurs in the data received from one chip CP via the signal line S, each transfer circuit TR detects the error using the error detection/correction circuit 23, or transfers correct data with the error corrected to the other chip. can be transferred to the chip CP. Further, each transfer circuit TR generates an error detection/correction signal for detecting or correcting an error in data to be transferred to the other chip CP by using the error detection/correction signal generation circuit 27. Thereby, even if an error occurs in the data output from the transfer circuit TR, the error can be detected or corrected by the error detection/correction circuit 33 of the other chip CP that received the data. Therefore, even when data transmission between two chips CP located on the diagonal line D is performed via another chip CP, deterioration in data reliability can be reduced.

図5は、本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。図1と同様の要素については、同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。図5に示す半導体装置SEM2は、転送回路TR(TR1-TR4)が、各チップCP(CP1-CP4)の配置領域の外周側(基板BRDの外周側)に設けられていることを除き、図1に示した半導体装置SEM1と同様の構成である。 FIG. 5 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. Elements similar to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The semiconductor device SEM2 shown in FIG. 5 is different from the one shown in FIG. The structure is similar to that of the semiconductor device SEM1 shown in FIG.

この実施形態では、各転送回路TR内で信号Sが伝送される距離が長いため、各転送回路TRは、図2よりも多い数のステージングFF(図示せず)を有する。各転送回路TRの構成は、ステージングFFの数が多いことを除き、図2に示した転送回路TR2の構成と同じである。なお、各チップCPに設けられる転送回路TRの位置は、図5に示す位置に限定されず、例えば、各チップCPの中央部等を含んでもよい。また、転送回路TRは、各チップCPの複数の領域に分散して設けられてもよい。図5に示す半導体装置SEM2は、図1に示した半導体装置SEM1と同様の効果を得ることができる。 In this embodiment, since the distance over which the signal S is transmitted within each transfer circuit TR is long, each transfer circuit TR has a larger number of staging FFs (not shown) than in FIG. 2. The configuration of each transfer circuit TR is the same as the configuration of transfer circuit TR2 shown in FIG. 2, except that the number of staging FFs is large. Note that the position of the transfer circuit TR provided in each chip CP is not limited to the position shown in FIG. 5, and may include, for example, the center of each chip CP. Further, the transfer circuit TR may be provided in a distributed manner in a plurality of regions of each chip CP. The semiconductor device SEM2 shown in FIG. 5 can obtain the same effects as the semiconductor device SEM1 shown in FIG.

図6は、本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。図1と同様の要素については、同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。図6に示す半導体装置SEM3は、基板BRD上に搭載された長手の辺と短手の辺とを有する長方形状(矩形状の一種)の4つのチップCP(CP1-CP4)を有する。各チップCPは、図1および図2と同様の転送回路TR(TR1-TR4)を有し、対角線D1(または、D2)上に位置する2つのチップCP間での信号の伝送を中継する。 FIG. 6 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. Elements similar to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The semiconductor device SEM3 shown in FIG. 6 has four chips CP (CP1 to CP4) each having a rectangular shape (a type of rectangular shape) having long sides and short sides and mounted on a substrate BRD. Each chip CP has a transfer circuit TR (TR1-TR4) similar to that in FIGS. 1 and 2, and relays signal transmission between two chips CP located on the diagonal line D1 (or D2).

また、チップCP1-CP4の配置領域の周囲の形状が突出部を有さないよう、つまり配置領域の外周形状が略矩形状になるよう、基板BRDの中央部分(チップCPの配置領域の中央部)に、チップCP1-CP4が配置されない空き領域が設けられている。換言すれば、チップCP1-CP4が配置される矩形状の配置領域の各辺は、各チップCPの長手の辺の1つと短手の辺の1つとにより形成される。また、各チップCPの長手の辺の他の1つは、隣接するチップCPの短手の辺の他の1つに対向し、各チップCPの短手の辺の他の1つは、隣接するチップCPの長手の辺の他の1つに対向している。対角線D1(または、D2)上に位置する2つのチップCPの長手の辺の他の1つ同士は、空き領域を介して対向している。また、空き領域は、4つのチップCP1-CP4により囲繞されている。 In addition, the central part of the substrate BRD (the central part of the chip CP arrangement area ) is provided with an empty area where chips CP1-CP4 are not placed. In other words, each side of the rectangular arrangement area in which the chips CP1 to CP4 are arranged is formed by one of the long sides and one of the short sides of each chip CP. The other long side of each chip CP is opposite to the other short side of the adjacent chip CP, and the other short side of each chip CP is opposite to the other short side of the adjacent chip CP. It faces the other one of the long sides of the chip CP. The other longitudinal sides of the two chips CP located on the diagonal line D1 (or D2) face each other with an empty area interposed therebetween. Further, the free area is surrounded by four chips CP1 to CP4.

半導体装置SEM3のその他の構成は、図1に示した半導体装置SEM1の構成と同様である。なお、各チップCPに設けられる転送回路TRの位置は、図6に示す位置に限定されない。また、転送回路TRは、各チップCPの複数の領域に分散して設けられてもよい。 The other configuration of the semiconductor device SEM3 is similar to the configuration of the semiconductor device SEM1 shown in FIG. Note that the position of the transfer circuit TR provided in each chip CP is not limited to the position shown in FIG. 6. Further, the transfer circuit TR may be provided in a distributed manner in a plurality of regions of each chip CP.

図7は、図6の半導体装置SEM3が搭載されるシステム基板SBRDの例を示す斜視図である。図7では、半導体装置SEM3が、他の電子部品ICおよびコネクタCNとともにシステム基板SBRDに搭載されている。例えば、システム基板SBRDは、プリント基板である。システム基板SBRDは、コネクタCNを介して、図示しないラック等に設けられたバックパネルに接続されてもよい。また、ラック等に複数のシステム基板SBRDを接続することで、クラスタが構成されてもよい。 FIG. 7 is a perspective view showing an example of a system board SBRD on which the semiconductor device SEM3 of FIG. 6 is mounted. In FIG. 7, the semiconductor device SEM3 is mounted on the system board SBRD together with other electronic components IC and connector CN. For example, the system board SBRD is a printed circuit board. The system board SBRD may be connected to a back panel provided on a rack (not shown) or the like via a connector CN. Furthermore, a cluster may be configured by connecting a plurality of system boards SBRD to a rack or the like.

なお、図1の半導体装置SEM1、図5の半導体装置SEM2および後述する図8の半導体装置SEM4も、図7と同様に、システム基板SBRDに搭載されてもよい。 Note that the semiconductor device SEM1 in FIG. 1, the semiconductor device SEM2 in FIG. 5, and the semiconductor device SEM4 in FIG. 8, which will be described later, may also be mounted on the system board SBRD as in FIG. 7.

この実施形態の半導体装置SEM3においても、図1に示した半導体装置SEM1と同様の効果を得ることができる。 Also in the semiconductor device SEM3 of this embodiment, the same effects as in the semiconductor device SEM1 shown in FIG. 1 can be obtained.

図8は、本発明の別の実施形態における半導体装置の例を示すブロック図である。図1および図6と同様の要素については、同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。図8に示す半導体装置SEM4は、基板BRD上に搭載された長方形状の4つのチップCP(CP1-CP4)を有する。各チップCPは、図1および図2と同様の転送回路TR(TR1-TR4)を有し、各転送回路TRは、対角線D1(または、D2)上に位置する2つのチップCP間での信号の伝送を中継する。 FIG. 8 is a block diagram showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. Elements similar to those in FIGS. 1 and 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The semiconductor device SEM4 shown in FIG. 8 has four rectangular chips CP (CP1-CP4) mounted on a substrate BRD. Each chip CP has a transfer circuit TR (TR1-TR4) similar to that in FIGS. 1 and 2, and each transfer circuit TR transfers signals between two chips CP located on a diagonal line D1 (or D2). relay the transmission of

この実施形態では、転送回路TRのサイズを最小限にし、転送回路TRを介して転送される信号Sの遅延量を最小限にするために、転送回路TRは、図1と同様に、チップCP1-CP4の配置領域である基板BRDの中央部側に設けられる。このため、各チップCP1-CP4は、角部の1つを対角線D1、D2の交点に近接させて、基板BRDに搭載される。これにより、各チップCP1-CP4の外側の辺は、直線上に揃わず、チップCP1-CP4の配置領域の周囲は突出部を有し、突出部に合わせて基板BRDの大きさを決定することができる。また、配置領域内の空き領域を小さくすることで、基板BRD中に占めるチップCP1-CP4の面積を少なくすることができる。そのため、基板BRDにおいてその他の電子部品を搭載することができる面積を増やすことができる。半導体装置SEM4のその他の構成は、図1および図6に示した半導体装置SEM1の構成と同様である。この実施形態の半導体装置SEM4においても、図1に示した半導体装置SEM1と同様の効果を得ることができる。 In this embodiment, in order to minimize the size of the transfer circuit TR and to minimize the amount of delay of the signal S transferred via the transfer circuit TR, the transfer circuit TR is connected to the chip CP1 as in FIG. - Provided on the center side of the substrate BRD, which is the arrangement area of CP4. Therefore, each of the chips CP1 to CP4 is mounted on the substrate BRD with one of its corners close to the intersection of the diagonals D1 and D2. As a result, the outer sides of each of the chips CP1 to CP4 are not aligned on a straight line, and the periphery of the arrangement area of the chips CP1 to CP4 has a protrusion, and the size of the substrate BRD can be determined according to the protrusion. Can be done. Furthermore, by reducing the free space within the arrangement area, the area occupied by the chips CP1 to CP4 in the substrate BRD can be reduced. Therefore, the area in which other electronic components can be mounted on the board BRD can be increased. The other configuration of the semiconductor device SEM4 is similar to the configuration of the semiconductor device SEM1 shown in FIGS. 1 and 6. Also in the semiconductor device SEM4 of this embodiment, the same effects as in the semiconductor device SEM1 shown in FIG. 1 can be obtained.

なお、図1、図5、図6および図8に示した実施形態では、各チップCPに転送回路TRを設ける例について説明した。しかしながら、チップCP2、CP4間でのデータの転送が必要であるが、チップCP1、CP3間でのデータの転送が不要な場合、転送回路TRは、チップCP1、CP3に設けられ、チップCP2、CP4には設けられなくてもよい。また、チップCP1、CP3間でのデータの転送が必要であるが、チップCP2、CP4間でのデータの転送が不要な場合、転送回路TRは、チップCP2、CP4に設けられ、チップCP1、CP3には設けられなくてもよい。 Note that in the embodiments shown in FIGS. 1, 5, 6, and 8, examples have been described in which each chip CP is provided with a transfer circuit TR. However, if it is necessary to transfer data between the chips CP2 and CP4 but not between the chips CP1 and CP3, the transfer circuit TR is provided in the chips CP1 and CP3, and the transfer circuit TR is provided in the chips CP2 and CP3. does not need to be provided. Furthermore, if data transfer between chips CP1 and CP3 is required but data transfer between chips CP2 and CP4 is not required, the transfer circuit TR is provided in chips CP2 and CP4, and the transfer circuit TR is provided in chips CP1 and CP3. does not need to be provided.

本発明は、具体的に開示された上記の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。 The present invention is not limited to the above-described specifically disclosed embodiments, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the claims.

11 誤り検出/訂正信号生成回路
12 出力フリップフロップ
13 出力バッファ
21 入力バッファ
22 入力フリップフロップ
23 誤り検出/訂正回路
24 クロック乗せ換え回路
25、26 ステージング
27 誤り検出/訂正信号生成回路
28 出力フリップフロップ
29 出力バッファ
31 入力バッファ
32 入力フリップフロップ
33 誤り検出/訂正回路
34 クロック乗せ換え回路
BP バンプ
BRD 基板
CP(CP1、CP2、CP3、CP4) チップ
D1、D2 対角線
INT(INT1、INT2、INT3、INT4) 内部回路
S 信号線
SEM1、SEM2、SEM3、SEM4 半導体装置
TR(TR1、TR2、TR3、TR4) 転送回路
IO 入出力回路
11 Error detection/correction signal generation circuit 12 Output flip-flop 13 Output buffer 21 Input buffer 22 Input flip-flop 23 Error detection/correction circuit 24 Clock transfer circuit 25, 26 Staging 27 Error detection/correction signal generation circuit 28 Output flip-flop 29 Output buffer 31 Input buffer 32 Input flip-flop 33 Error detection/correction circuit 34 Clock transfer circuit BP Bump BRD Board CP (CP1, CP2, CP3, CP4) Chip D1, D2 Diagonal INT (INT1, INT2, INT3, INT4) Internal Circuit S Signal line SEM1, SEM2, SEM3, SEM4 Semiconductor device TR (TR1, TR2, TR3, TR4) Transfer circuit IO Input/output circuit

Claims (14)

第1のチップと、第2のチップと、第3のチップと、第4のチップとを備える半導体装置であって、
前記第1のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して配置され、
前記第3のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して前記第1のチップとは異なる位置に配置され、
前記第1のチップのデータは、前記第2のチップを経由して前記第3のチップに転送され、
前記第3のチップのデータは、前記第4のチップを経由して前記第1のチップに転送され、
前記第1のチップから前記第2のチップへ送信されるデータは、前記第1のチップ、前記第2のチップ、前記第3のチップ及び前記第4のチップとは異なる位置にあるシリコンインタポーザに設けられた配線層を介して送信される、
半導体装置。
A semiconductor device comprising a first chip, a second chip, a third chip, and a fourth chip,
the first chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip,
The third chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip at a different position from the first chip,
The data of the first chip is transferred to the third chip via the second chip,
The data of the third chip is transferred to the first chip via the fourth chip,
Data transmitted from the first chip to the second chip is transmitted to a silicon interposer located at a different location than the first chip, the second chip, the third chip, and the fourth chip. transmitted through the provided wiring layer,
Semiconductor equipment.
第1のチップと、第2のチップと、第3のチップと、第4のチップとを備える半導体装置であって、
前記第1のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して配置され、
前記第3のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して前記第1のチップとは異なる位置に配置され、
前記第1のチップのデータは、前記第2のチップを経由して前記第3のチップに転送され、
前記第3のチップのデータは、前記第4のチップを経由して前記第1のチップに転送され、
前記第1のチップから前記第2のチップへ送信されるデータは、前記第1のチップ、前記第2のチップ、前記第3のチップ及び前記第4のチップとは異なる位置にある回路基板上に設けられた配線層を介して送信される、
半導体装置。
A semiconductor device comprising a first chip, a second chip, a third chip, and a fourth chip,
the first chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip,
The third chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip at a different position from the first chip,
The data of the first chip is transferred to the third chip via the second chip,
The data of the third chip is transferred to the first chip via the fourth chip,
The data transmitted from the first chip to the second chip is on a circuit board located at a different location from the first chip, the second chip, the third chip, and the fourth chip. transmitted through a wiring layer provided in
Semiconductor equipment.
前記第1から第4のチップは平面視において4つの辺を有する矩形であり、前記隣接するチップはそれぞれのチップの少なくとも一つの辺同士が対向し、前記第1のチップと前記第3のチップはそれぞれの角部同士が対向している、
請求項1または請求項2に記載の半導体装置。
The first to fourth chips are rectangular with four sides in a plan view, the adjacent chips have at least one side facing each other, and the first chip and the third chip has its corners facing each other,
The semiconductor device according to claim 1 or 2.
前記第2のチップを経由するデータは、前記第2のチップの内部回路による演算には使用されずに、前記第1のチップから前記第2のチップを経由して前記第3のチップに転送され、前記第3のチップの内部回路による演算に使用される、
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の半導体装置。
The data passing through the second chip is not used for calculation by the internal circuit of the second chip, but is transferred from the first chip to the third chip via the second chip. and used for calculation by the internal circuit of the third chip,
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 3.
前記第2のチップのデータは、前記第3のチップを経由して前記第4のチップに転送され、
前記第4のチップのデータは、前記第1のチップを経由して前記第2のチップに転送される、
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の半導体装置。
The data of the second chip is transferred to the fourth chip via the third chip,
The data of the fourth chip is transferred to the second chip via the first chip.
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 4.
前記第2のチップ及び前記第4のチップは、
隣接するチップの一方から受けるデータの誤りを検出または訂正する誤り検出/訂正回路を有する、
請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の半導体装置。
The second chip and the fourth chip are
having an error detection/correction circuit for detecting or correcting errors in data received from one of the adjacent chips;
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 5.
平面視において、前記第1のチップの2つの角部と重なる対角線の延長部分が前記第3のチップと重なる、
請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の半導体装置。
In a plan view, an extension of a diagonal line that overlaps with two corners of the first chip overlaps with the third chip;
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 6.
前記第1のチップ及び前記第3のチップが同一のレイアウト設計である、
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の半導体装置。
the first chip and the third chip have the same layout design;
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 7.
前記第2のチップ及び前記第4のチップが同一のレイアウト設計である、
請求項8に記載の半導体装置。
the second chip and the fourth chip have the same layout design;
The semiconductor device according to claim 8.
請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の半導体装置を含むシステム基板。 A system board including the semiconductor device according to claim 1 . 前記第1のチップ、前記第2のチップ、前記第3のチップ及び前記第4のチップとは異なる第5のチップを有する、
請求項10に記載のシステム基板。
a fifth chip different from the first chip, the second chip, the third chip and the fourth chip;
The system board according to claim 10.
請求項10または請求項11に記載のシステム基板を複数備えるクラスタ。 A cluster comprising a plurality of system boards according to claim 10 or claim 11. 第1のチップと、第2のチップと、第3のチップと、第4のチップとを備える半導体装置のデータ転送方法であって、
前記第1のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して配置され、
前記第3のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して前記第1のチップとは異なる位置に配置され、
前記第1のチップのデータは、前記第2のチップを経由して前記第3のチップに転送され、
前記第3のチップのデータは、前記第4のチップを経由して前記第1のチップに転送され、
前記第1のチップから前記第2のチップへ送信されるデータは、前記第1のチップ、前記第2のチップ、前記第3のチップ及び前記第4のチップとは異なる位置にあるシリコンインタポーザに設けられた配線層を介して送信される、
半導体装置のデータ転送方法。
A data transfer method for a semiconductor device including a first chip, a second chip, a third chip, and a fourth chip,
the first chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip,
The third chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip at a different position from the first chip,
The data of the first chip is transferred to the third chip via the second chip,
The data of the third chip is transferred to the first chip via the fourth chip,
Data transmitted from the first chip to the second chip is transmitted to a silicon interposer located at a different location than the first chip, the second chip, the third chip, and the fourth chip. transmitted through the provided wiring layer,
Data transfer method for semiconductor devices.
第1のチップと、第2のチップと、第3のチップと、第4のチップとを備える半導体装置のデータ転送方法であって、
前記第1のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して配置され、
前記第3のチップは、前記第2のチップと前記第4のチップとに隣接して前記第1のチップとは異なる位置に配置され、
前記第1のチップのデータは、前記第2のチップを経由して前記第3のチップに転送され、
前記第3のチップのデータは、前記第4のチップを経由して前記第1のチップに転送され、
前記第1のチップから前記第2のチップへ送信されるデータは、前記第1のチップ、前記第2のチップ、前記第3のチップ及び前記第4のチップとは異なる位置にある回路基板上に設けられた配線層を介して送信される、
半導体装置のデータ転送方法。
A data transfer method for a semiconductor device including a first chip, a second chip, a third chip, and a fourth chip,
the first chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip,
The third chip is arranged adjacent to the second chip and the fourth chip at a different position from the first chip,
The data of the first chip is transferred to the third chip via the second chip,
The data of the third chip is transferred to the first chip via the fourth chip,
The data transmitted from the first chip to the second chip is on a circuit board located at a different location from the first chip, the second chip, the third chip, and the fourth chip. transmitted through a wiring layer provided in
Data transfer method for semiconductor devices.
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US6425092B1 (en) 1998-06-17 2002-07-23 International Business Machines Corporation Method and apparatus for preventing thermal failure in a semiconductor device through redundancy
JP3898682B2 (en) 2003-10-03 2007-03-28 株式会社東芝 Semiconductor integrated circuit
KR102175723B1 (en) 2014-02-25 2020-11-09 삼성전자주식회사 Semiconductor package
US10515939B2 (en) 2015-02-17 2019-12-24 Mediatek Inc. Wafer-level package having multiple dies arranged in side-by-side fashion and associated yield improvement method
KR102379704B1 (en) 2015-10-30 2022-03-28 삼성전자주식회사 semiconductor package
KR20170064217A (en) 2015-12-01 2017-06-09 에스케이하이닉스 주식회사 Semiconductor package and method of fabricating the same
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