JP2020093301A - レーザー溶接用ワーク押さえ冶具およびその作製方法 - Google Patents
レーザー溶接用ワーク押さえ冶具およびその作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020093301A JP2020093301A JP2019109948A JP2019109948A JP2020093301A JP 2020093301 A JP2020093301 A JP 2020093301A JP 2019109948 A JP2019109948 A JP 2019109948A JP 2019109948 A JP2019109948 A JP 2019109948A JP 2020093301 A JP2020093301 A JP 2020093301A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- welding
- work
- space
- plate
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims abstract description 389
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 238
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 63
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 93
- 239000012778 molding material Substances 0.000 claims description 68
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 39
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 14
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 13
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 80
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 33
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 24
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 14
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical group [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 239000011366 tin-based material Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
Description
(1)本発明は、透明板を有するレーザー溶接用ワーク押さえ冶具であって、前記透明板を通してワークの溶接部位にレーザー光を照射してレーザー溶接するレーザー溶接用ワーク押さえ冶具であり、前記溶接部位から前記透明板までの領域は空間(以下、溶接空間という)となっており、前記レーザー光は前記溶接空間を通って前記溶接部位に照射され、前記透明板は石英板または石英ガラス板であることを特徴とする。
(2)本発明は、(1)に加えて、前記透明板の一部で前記ワークの一部を押さえ、前記透明板の前記ワークを押さえる部分において、前記透明板にワーク押さえ部材が付着配置されており、前記押さえ部材は柔軟性部材であることを特徴とする。
(4)本発明は、(1)〜(3)に加えて、前記透明板は前記溶接空間の部分以外にワーク形状に適合したモールド型を有しており、前記ワークはレーザー溶接時に前記モールド型で抑えられていることを特徴とし、前記モールド材は、プラスチック、金属、またはセラミックスであり、前記モールド型の下面に柔軟性部材または金属部材が配置されていることを特徴とする。
(6)本発明は、(1)〜(5)に加えて、前記溶接部位の一部は閉曲線となり、前記閉曲線の溶接部位の周辺を溶接空間が取り囲み、レーザー光は連続照射により前記閉曲線の溶接部位全体を溶接可能であり、前記溶接空間にシールドガスを流す機構または前記溶接空間を1気圧未満の低圧にする機構または前記溶接空間を1気圧を越える高圧にする機構が備わることを特徴とする。
(7)本発明は、(1)〜(6)に加えて、レーザー光が照射する側の前記レーザー溶接用ワーク押さえ冶具(上側溶接用ワーク押さえ冶具)の溶接空間(第1の溶接空間)と反対側にも溶接空間(第2の溶接空間)を有するレーザー溶接用ワーク押さえ冶具(下側溶接用ワーク押さえ(拘束)冶具)を有し、上側溶接用ワーク押さえ冶具は上側ワークを押さえる冶具であり、下側溶接用ワーク押さえ冶具は下側ワークを押さえる(拘束する)冶具であり、前記下側溶接用ワーク押さえ冶具において、前記第2の溶接空間を構成するワーク下板と対面する板材はレーザー光が透過しない材料であることを特徴とする。
(8)本発明は、(1)〜(7)に加えて、前記第2の溶接空間を1気圧未満の低圧にする機構または前記第2の溶接空間を1気圧を越える高圧にする機構が備わり、前記レーザー溶接用ワーク押さえ冶具を用いて、レーザー照射時に、レーザー照射側の溶接空間(第1の溶接空間)を低圧にするとともに反対側の溶接空間(第2の溶接空間)を高圧にして、レーザー照射することを特徴とする。
特にシールドガス圧が1気圧を越える高圧にしておくことにより、溶接空間26や27において、ワーク上板11や12をシールドガスの圧力で押し付けることができるので、ワーク上板11と12の接触等を確実に行なうことができ、溶接部位14(A、B、C)の溶接品質を向上することができる。尚、このとき、透明板21や板材22も高圧で押されるが、それ以上の力で透明板21を上方からまたは板材22を下方から押したり、あるいは抑えたりすることにより、透明板21や板材22がワーク上板11や12を押し付けることができるから、透明板21側や板材22側ががワーク上板11や12から離れることはない。尚、レーザー照射側の溶接空間26およびそれと反対側の溶接空間27を同時に高圧にして上側と下側からワーク上板11や12を押す以外に、片方だけを高圧にしておいても良いが、このときは、高圧になっていない方を上方または下方から押すか抑えるかして、一方側へ押されないようにする必要もある。さらに、他方側を1気圧未満(1気圧〜真空)の低圧にし、他方側を高圧にしても良い。たとえば、レーザー照射側の溶接空間26を低圧にして他方側の溶接空間27を高圧にしておくことにより、ワーク押さえ冶具(上側)とワーク上板11との密着性を高めるとともに、ワーク下板12とワーク上板11との密着性も高めることができるから、溶接部位の品質が向上する。
14・・・溶接部位、15・・・中空状空間、21・・・透明板材、22・・・板材、
101・・・モールド型(材)、102・・・溶接空間、103・・・溶接空間、
104・・・防護材(防護壁)、105・・・モールド型(材)、106・・・溶接部位、
107・・・ワーク押さえ冶具(上側)、108・・・ワーク押さえ冶具(下側)、
109・・・レーザー光、21・・・透明板材、22・・・板材、
107・・・ワーク押さえ冶具、108・・・ワーク押さえ冶具、
Claims (26)
- 透明板を有するレーザー溶接用ワーク押さえ冶具であって、前記透明板を通してワークの溶接部位にレーザー光を照射してレーザー溶接することを特徴とするレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記溶接部位から前記透明板までの領域は空間(以下、溶接空間という)となっており、前記レーザー光は前記溶接空間を通って前記溶接部位に照射されることを特徴とする、請求項1に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記透明板は石英板または石英ガラス板であることを特徴とする、請求項1または2に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記透明板の一部で前記ワークの一部を押さえることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記透明板の前記ワークを押さえる部分において、前記透明板にワーク押さえ部材が付着配置されていることを特徴とする、請求項4に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記押さえ部材は柔軟性部材であることを特徴とする、請求項5に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記透明板は前記溶接部位に面する領域で溝部を有し、レーザー光は前記透明板の溝部を通って溶接部位を照射することを特徴とする、請求項1〜6のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記溝部が溶接空間であることを特徴とする、請求項7に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記透明板に板材が付着しており、レーザー光を照射する部分において前記板材が除去されて貫通溝が形成されており、前記貫通溝が溶接空間となることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記板材は、金属、合金、プラスチック、またはセラミックスであることを特徴とする、請求項9に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記透明板は前記溶接空間の部分以外にワーク形状に適合したモールド型を有しており、前記ワークはレーザー溶接時に前記モールド型で抑えられていることを特徴とする、請求項2〜10のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記モールド材は、プラスチック、金属、またはセラミックスであることを特徴とする、請求項2〜10のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記モールド型の下面に柔軟性部材または金属部材が配置されていることを特徴とする、請求項11または12に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記溶接空間の側面に前記溶接空間側面を保護する防護材料が配置されていることを特徴とする、請求項2〜13のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記防護材料は、耐熱材料および/または高強度材料であることを特徴とする、請求項14に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記防護材料は、金属または合金であることを特徴とする、請求項14または15に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記溶接部位の一部は閉曲線となり、前記閉曲線の溶接部位の周辺を溶接空間が取り囲み、レーザー光は連続照射により前記閉曲線の溶接部位全体を溶接可能であることを特徴とする、請求項2〜16のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記溶接空間にシールドガスを流す機構が備わることを特徴とする、請求項2〜17のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記溶接空間を1気圧未満の低圧にする機構が備わることを特徴とする、請求項2〜18のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記溶接空間を1気圧を越える高圧にする機構が備わることを特徴とする、請求項2〜19のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- レーザー光が照射する側の前記レーザー溶接用ワーク押さえ冶具(上側溶接用ワーク押さえ冶具)の溶接空間(第1の溶接空間)と反対側にも溶接空間(第2の溶接空間)を有するレーザー溶接用ワーク押さえ冶具(下側溶接用ワーク押さえ冶具)を有し、上側溶接用ワーク押さえ冶具は上側ワークを押さえる冶具であり、下側溶接用ワーク押さえ冶具は下側ワークを押さえる冶具であることを特徴とする、請求項2〜20のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記下側溶接用ワーク押さえ冶具において、前記第2の溶接空間を構成するワーク下板と対面する板材はレーザー光が透過しない材料であることを特徴とする請求項2〜21のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記第2の溶接空間にシールドガスを流す機構が備わることを特徴とする、請求項21または22に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記第2の溶接空間を1気圧未満の低圧にする機構が備わることを特徴とする、請求項21〜23のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 前記第2の溶接空間を1気圧を越える高圧にする機構が備わることを特徴とする、請求項21〜24のいずれかの項に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具。
- 請求項25に記載のレーザー溶接用ワーク押さえ冶具を用いて、レーザー照射時に、レーザー照射側の溶接空間(第1の溶接空間)を低圧にするとともに反対側の溶接空間(第2の溶接空間)を高圧にして、レーザー照射することを特徴とする、レーザー照射方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018227954 | 2018-12-05 | ||
JP2018227954 | 2018-12-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020093301A true JP2020093301A (ja) | 2020-06-18 |
JP7250407B2 JP7250407B2 (ja) | 2023-04-03 |
Family
ID=71085386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019109948A Active JP7250407B2 (ja) | 2018-12-05 | 2019-06-12 | レーザー溶接用ワーク押さえ冶具およびその作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7250407B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4234157A1 (en) * | 2022-02-28 | 2023-08-30 | Contemporary Amperex Technology Co., Limited | Protective apparatus |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5049720A (en) * | 1990-08-24 | 1991-09-17 | Fmc Corporation | Laser welding apparatus with sky window |
JP2001287074A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-16 | Kubota Corp | 真空下での溶接方法 |
JP2001320256A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Daishinku Corp | 圧電振動デバイスの気密封止方法 |
JP2006007237A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Nissan Motor Co Ltd | レーザ溶接用ワーククランプ装置 |
JP2009107004A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Sharp Corp | 基板配線溶着装置および基板配線溶着方法 |
-
2019
- 2019-06-12 JP JP2019109948A patent/JP7250407B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5049720A (en) * | 1990-08-24 | 1991-09-17 | Fmc Corporation | Laser welding apparatus with sky window |
JP2001287074A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-16 | Kubota Corp | 真空下での溶接方法 |
JP2001320256A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Daishinku Corp | 圧電振動デバイスの気密封止方法 |
JP2006007237A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Nissan Motor Co Ltd | レーザ溶接用ワーククランプ装置 |
JP2009107004A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Sharp Corp | 基板配線溶着装置および基板配線溶着方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4234157A1 (en) * | 2022-02-28 | 2023-08-30 | Contemporary Amperex Technology Co., Limited | Protective apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7250407B2 (ja) | 2023-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI754035B (zh) | 處理方法及處理系統 | |
TWI675806B (zh) | 從玻璃板形成定型玻璃物件的方法 | |
US6962834B2 (en) | Wafer-level hermetic micro-device packages | |
US7964449B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor chip and method for processing semiconductor wafer | |
US10252374B2 (en) | System and method for laser cladding in controlled environment | |
US20090004780A1 (en) | Method for Fabricating Semiconductor Chip | |
KR101839464B1 (ko) | 표시 패널의 접합 장치, 및 접합 방법 | |
US20040188124A1 (en) | Hermetic window assemblies and frames | |
EP2745977B1 (en) | Welding method of substrate with a membrane of a mobile polymer microfluidic chip | |
JP2007158122A (ja) | サポートプレートの貼り合わせ手段及び貼り合わせ装置、並びにサポートプレートの貼り合わせ方法 | |
KR20160011602A (ko) | 성형 금형, 성형 장치, 성형품의 제조 방법 및 수지 몰드 방법 | |
CN101026101A (zh) | 膜接合方法、膜接合装置以及半导体器件制造方法 | |
JP6803177B2 (ja) | レーザ照射装置 | |
KR20150060990A (ko) | 첩부 방법 | |
US20170239756A1 (en) | Laser manufacturing of solder preforms | |
JP2020093301A (ja) | レーザー溶接用ワーク押さえ冶具およびその作製方法 | |
KR20180135440A (ko) | 기판을 실온 결합시키기 위한 방법 및 장치 | |
JP2016149547A (ja) | モールド、インプリント装置、並びに物品の製造方法 | |
JP2015013371A (ja) | 樹脂封止方法および圧縮成形装置 | |
EP2087989B1 (en) | Method for welding thermoplastic resin articles | |
US20060289607A1 (en) | Composite solder transfer moldplate structure and method of making same | |
JP2000164535A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2013076934A (ja) | 貼合構造体及びその製造方法 | |
KR102333514B1 (ko) | 레이저 광선의 검사 방법 | |
JP2008166287A (ja) | ガラス基板の密封システム及び密封方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20200210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20200210 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20210415 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210609 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210909 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220830 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221028 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230208 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7250407 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |