JP2020090092A5 - - Google Patents

Claims (22)

1. 少なくとも２つの異なる色を生成し得るサーモクロミック材料を含む基材上への多色画像の形成方法であって、
   第１、第２、及び第３の熱源の動作を制御することを含み、前記制御することが、
   前記サーモクロミック材料の画素を、前記画素を活性化するのに十分な１つ以上の第１の温度に加熱するために、前記第１の熱源を制御することと、
   前記画素を前記１つ以上の第１の温度に加熱した後に、前記画素を含む区域を第１の紫外線照射で照らすことと、
   前記区域を前記第１の紫外線照射で照らした後、前記画素を、前記画素を色シフトさせるのに十分な１つ以上の温度に加熱するために、前記第２及び前記第３の熱源の一方又は両方を選択的に制御することであって、前記第２及び第３の熱源の一方又は両方を選択的に制御することが、
   前記画素を前記第２及び第３の熱源のどちらでも加熱しないこと、
   前記画素を前記第３の熱源で加熱し、前記画素を前記第２の熱源で加熱しないこと、
   前記画素を第２の熱源で加熱し、前記画素を前記第３の熱源で加熱しないこと、又は
   前記画素を前記第２の熱源及び前記第３の熱源で順次加熱すること、のうちの１つ以上を含む、前記第２及び前記第３の熱源の一方又は両方を選択的に制御することと、
   毎回、前記画素が前記第３の熱源によって加熱される前に、画素を含む区域を第２の紫外線照射で照らすことと、を含む、方法。
2. 前記第２及び第３の熱源の前記動作を制御することが、
   前記画素を第２の熱源で加熱することと、
   前記画素の所望の色シフトが得られるまで、前記画素を前記第３の熱源で繰り返し加熱することと、を含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記第２及び第３の熱源の一方又は両方を選択的に制御することが、
   前記画素の第１のセットを前記第２及び第３の熱源のどちらでも加熱しないこと、
   前記画素の第２のセットを前記第３の熱源で加熱し、前記画素の前記第２のセットを前記第２の熱源で加熱しないこと、
   前記画素の第３のセットを第２の熱源で加熱し、画素の前記第３のセットを前記第３の熱源で加熱しないこと、
   前記画素の第４のセットを前記第２の熱源及び前記第３の熱源で順次加熱すること、を含む、請求項１に記載の方法。
4. 前記画素を含む前記区域を第１の紫外線照射で照らすことが、前記画素の色を第１の色に変化させることを含み、
   前記画素を前記第２及び第３の熱源のどちらでも加熱しないことが、前記画素の前記色を前記第１の色から変化させないことを含み、
   前記画素の第２のセットを前記第３の熱源で加熱し、前記画素の前記第２のセットを前記第２の熱源で加熱しないことが、前記画素を第２の色に色シフトさせることを含み、
   前記画素の第３のセットを第２の熱源で加熱し、画素の前記第３のセットを前記第３の熱源で加熱しないことが、前記画素を第３の色に色シフトさせることを含み、
   前記画素の第４のセットを前記第２の熱源及び前記第３の熱源で順次加熱することが、前記画素を第４の色に色シフトさせることを含み、前記第１、第２、第３、及び第４の色が互いに異なる、請求項１に記載の方法。
5. 前記画素を前記第２の熱源及び前記第３の熱源で順次加熱することが、前記画素を、標準ＣＩＥ色チャートのｙ軸上の約０．２５超かつ約０．４未満、及びｘ軸上の０．２超かつ約０．５未満の領域内である色に色シフトさせることを含む、請求項１に記載の方法。
6. 前記画素を前記第２の熱源及び前記第３の熱源で順次加熱することが、前記画素を、標準ＣＩＥ色チャート上で等式ｙ＞０．４７ｘ＋０．０８で表される線、及び等式ｙ＜０．４７ｘ＋０．２で表される線によって囲まれる領域内である色に色シフトさせることを含む、請求項１に記載の方法。
7. 少なくとも２つの異なる色を生成し得るサーモクロミック材料を含む基材上への多色画像の形成方法であって、
   前記画像に対応する前記サーモクロミック材料の画素を、色シフトのために前記サーモクロミック材料の前記画素を活性化するのに十分な第１の温度に加熱することと、
   前記画素を含む区域を、前記サーモクロミック材料を部分的に重合させるのに十分な第１の紫外線照射で照らすことと、
   前記区域を前記第１の紫外線量で照らした後、前記画素を１つ以上の第２の温度に加熱することと、
   前記画素の所望の色シフトが得られるまで、１つ以上の追加のサイクルを繰り返し実行することであって、各サイクルが、前記画素を含む前記区域を追加の紫外線照射で照らし、続いて前記画素を１つ以上の追加の温度に加熱することを含む、１つ以上の追加のサイクルを繰り返し実行することと、を含む、方法。
8. 画素の第１のセットが第１の色シフトを呈するように、前記画素の前記第１のセットに対して前記追加のサイクルを繰り返さずに実行することと、
   画素の第２のセットが第２の色シフトを呈するように、前記画素の前記第２のセットに対して前記追加のサイクルを繰り返し実行することと、を更に含む、請求項７に記載の方法。
9. 前記画素を前記第１の温度に加熱することが、第１の熱源を動作させて、前記画素を前記第１の温度に加熱する第１の熱生成エネルギーを発生させることを含み、
   前記画素を前記第２の温度に加熱することが、第２の熱源を動作させて、前記画素を前記第２の温度に加熱する第２の熱生成エネルギーを発生させることを含み、
   前記画素を前記追加の温度に繰り返し加熱することが、第３の熱源を動作させて、前記画素を前記追加の温度に加熱する追加の熱生成エネルギーを発生させることを含む、請求項７に記載の方法。
10. 前記画素を活性化するのに十分な第１の温度に前記画素を加熱すること、及び前記画素を前記第１の温度に加熱した後に、前記画素の前記区域を前記第１の紫外線量で照らすことが、各画素の色を第１の色に変化させることを含み、
    前記区域を前記第１の紫外線量で照らした後、前記画素の第１のセットを前記１つ以上の第２の温度に加熱することが、前記画像を前記１つ以上の第２の温度に対応する１つ以上の第２の色に色シフトさせることを含み、
    前記画素の前記所望の色シフトが得られるまで、前記画素の前記区域を前記追加の紫外線量で繰り返し照らし、続いて前記画素を前記１つ以上の追加の温度に加熱することが、前記画素を標準ＣＩＥ色チャート上で前記第１の色と前記１つ以上の第２の色のうちの１つとの間にある１つ以上の追加の色に色シフトさせることを含む、請求項７に記載の方法。
11. 少なくとも２つの異なる色を生成し得るサーモクロミック材料を含む基材上への多色画像の形成システムであって、
    第１、第２、及び第３の熱源と、
    第１及び第２の紫外線源と、
    前記熱源を制御するように構成された制御器と、を備え、前記制御器が、
    前記サーモクロミック材料の画素の第１、第２、第３、及び第４のセットを、前記画素の前記サーモクロミック材料を活性化するのに十分な１つ以上の第１の温度に加熱するために、前記第１の熱源の動作を制御し、
    前記第１、第２、第３、及び第４の画素のセット内の前記画素を、前記画素を色シフトさせるのに十分な１つ以上の温度に加熱するために、前記第２及び第３の熱源の動作を選択的に制御するように構成されており、前記制御器は、
    前記画素の第１及び第２のセットが、前記第２の熱源によって生成された熱生成エネルギーに曝露されず、
    画素の前記第３のセット及び第４のセットが、前記第２の熱源によって生成された熱生成エネルギーに曝露され、
    前記画素の第１及び第３のセットが、前記第３の熱源によって生成された熱生成エネルギーに曝露されず、
    前記画素の第２及び第４のセットが、前記第３の熱源によって生成された熱生成エネルギーに曝露されるように、前記第２及び第３の熱源の前記動作を制御するように構成されており、
    前記第１の紫外線源は、前記画素の第１、第２、第３、及び第４のセットが前記第１の熱生成エネルギーに曝露されている時間の後又はその間に、前記画素の第１、第２、第３、及び第４のセットを第１の紫外線照射に曝露させるように構成されており、
    前記第２の紫外線源は、前記画素の第２及び第４のセットが第２の熱生成エネルギーに曝露されている時間の後又はその間に、前記画素の第１、第２、第３、及び第４のセットを第２の紫外線照射に曝露させるように構成されている、システム。
12. 前記制御器が、前記画素のセットのうちの１つが空のセットであるように、前記第２及び第３の熱源の前記動作を制御するように構成されている、請求項１１に記載のシステム。
13. 前記制御器は、前記画素の第１のセットが第１の色であり、前記画素の第２のセットが第２の色であり、前記画素の第３のセットが第３の色であり、前記画素の第４のセットが第４の色であるように、前記第２及び第３の熱源を選択的に制御するように構成されており、前記第１、第２、第３、及び第４の色が互いに異なる、請求項１１に記載のシステム。
14. 制御器は、前記画素の第３及び第４のセットがそれぞれ、標準ＣＩＥ色チャートのｙ軸上の約０．２５超かつ約０．４未満、及びｘ軸上の０．２超かつ約０．５未満の領域内である第３及び第４の色に色シフトするように、前記第２及び第３の熱源の動作を制御するように構成されている、請求項１１に記載のシステム。
15. 制御器は、前記画素の第３及び第４のセットがそれぞれ、標準ＣＩＥ色チャート上で等式ｙ＞０．４７ｘ＋０．０８で表される線、及び等式ｙ＜０．４７ｘ＋０．２で表される線によって囲まれる領域内である第３及び第４の色に色シフトするように、前記第２及び第３の熱源の動作を制御するように構成されている、請求項１１に記載のシステム。
16. 前記基材を処理方向に沿って移動させるように構成された移動機構を更に備える、請求項１１に記載のシステム。
17. 前記第１の紫外線源は、前記画素の第１、第２、第３、及び第４のセットが前記第１の熱生成エネルギーによって加熱された後に、前記第１の紫外線照射を前記画素の第１、第２、第３、及び第４のセットに適用するように構成されており、
    前記第２の紫外線源がは、前記画素の第２及び第４のセットが前記第２の熱生成エネルギーに曝露された後に、前記第２の紫外線照射を前記画素の第１、第２、第３、及び第４のセットに適用するように構成されており、前記第１の紫外線照射及び前記第２の紫外線照射は、前記基材が前記処理方向に沿って移動する間にが生じる、請求項１６に記載のシステム。
18. 前記制御器は、
    前記画素の第３のセット及び第４のセットが、前記第１の紫外線照射の後に、前記第２の熱源によって生成された第２の熱生成エネルギーに曝露され、かつ
    前記画素の第２及び第４のセットが、前記第２の紫外線照射の後に、前記第３の熱源によって生成された第３の熱生成エネルギーに曝露されるように、前記第２及び第３の熱源の動作を制御するように構成されており、前記第２及び第３の熱生成エネルギーへの前記曝露は、前記基材が前記処理方向に沿って移動する間に生じる、請求項１７に記載のシステム。
19. 前記制御器が、前記第２及び第３の熱源の動作を制御するように構成されており、前記制御が、
    前記画素を加熱するために、前記第２の熱源を制御することと、
    前記画素の所望の色シフトが得られるまで前記画素を繰り返し加熱するために、前記第３の熱源の動作を制御することと、を含む、請求項１１に記載のシステム。
20. 前記第１、第２、及び第３の熱源のそれぞれが、
    前記画素をレーザー照射で加熱するように構成された１つ以上のレーザー、
    １つ以上の抵抗加熱素子、及び
    １つ以上の加熱ガス流を排出するように構成された１つ以上のガスジェット、のうちの少なくとも１つを含む、請求項１１に記載のシステム。
21. 前記第１、第２、及び第３の熱源のうちの少なくとも１つが、二次元画像平面内に熱生成エネルギーの空間的パターンを発生させるように構成された空間的熱エネルギーパターン化装置を含む、請求項１１に記載のシステム。
22. 前記空間的熱エネルギーパターン化装置が、液晶オンシリコン（ＬＣＯＳ）などの液晶空間的放射線変調器、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、格子ライトバルブ（ＧＬＶ）、及び音響光学変調器（ＡＯＭ）のうちの少なくとも１つを含む、請求項２１に記載のシステム。