JP2020087982A - ビア配線形成用基板及びビア配線形成用基板の製造方法並びに半導体チップの実装方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(実施形態1)
図1は、本実施形態に係るビア配線形成用基板の断面図、図2は、ビア配線形成用基板の製造プロセスを示す断面図である。
このように、ビア配線形成用ビア17は、以下の新規なフォトリソグラフィープロセスで形成できるので、その位置精度はフォトリソグラフィー精度と同等になる。
まず、例えば、ガラス製のサポート基板21を用意し(図2(a))、この片面に剥離可能接着剤層22を設ける(図2(b))。剥離可能接着剤層22は塗布によってもシート状の接着剤層を貼付してもよいが、ここでは、JV剥離テープ SELFA−SE(積水化学社製)を貼付した。
なお、本件明細書において、例えば、単に、ニッケル又は銅と呼称した場合、所望の添加元素又は不可避の微量元素を含んだものも包含するものであり、また、所望の添加元素や微量元素を含有するものをニッケル合金又は銅合金と呼称することもある。
露光は、UVを100〜300mJ/cm2照射し、Na2CO3の1%溶液を30秒スプレーして現像し、パターニングを行った。
また、金属柱27の上面を露出させるための研磨は、ダイヤモンドバイトなど一般的な研磨機を用いて行うことができる。
図3は、実施形態2に係るビア配線形成用基板の断面図、図4は、ビア配線形成用基板の製造プロセスを示す断面図である。
図4(a)に示すように、まず、図2(i)の工程の後、サポート基板11とは反対側に、剥離可能接着剤層12Aを介してサポート基板11Aを接着する。サポート基板11A及び剥離可能接着剤層12Aは、サポート基板11及び剥離可能接着剤層12と同様なものを用いればよい。
図5は、実施形態3に係るビア配線形成用基板の断面図、図6は、ビア配線形成用基板の製造プロセスを示す断面図である。
まず、例えば、ガラス製のサポート基板21を用意し(図6(a))、この片面に剥離可能接着剤層22を設ける(図6(b))。剥離可能接着剤層22は塗布によってもシート状の接着剤層を貼付してもよいが、ここでは、JV剥離テープ SELFA−SE(積水化学社製)を貼付した。
露光は、UVを100〜300mJ/cm2照射し、Na2CO3の1%溶液を30秒スプレーして現像し、パターニングを行った。
また、金属柱27の上面を露出させるための研磨は、ダイヤモンドバイトなど一般的な研磨機を用いて行うことができる。
以下、ビア配線形成用基板1に半導体チップを実装するプロセスの一例を図面を参照しながら説明する。
次に、例えば、Niからなる金属層13をエッチングで除去する(図8(d))。ここで、金属層13は、Niからなるので、銅PAD52に影響を与えることなく、酸性エッチング液、例えば、塩酸溶液、硫酸、又は過水硫酸(H2SO4−H2O2)を用いてエッチングすることができる。
以下、ビア配線形成用基板1Bに半導体チップを実装するプロセスの他の例を図9を参照しながら説明する。
この場合、本実施形態では、絶縁層15上に配線を直接形成できるので、再配線層を一層省略できるという利点がある。なお、その他の効果は上述した例と同様である。
ビア配線形成用基板1Bに半導体チップを実装するプロセスの他の例を図11を参照しながら説明する。このプロセスは、実施形態5の図10(a)〜図10(d)の工程は同様であるので、その後の工程を示している。
次に、レジスト層を設けてパターニングしたレジスト層75を形成し(図11(c))、配線層58及び金属層14をパターニングし、ビア配線59及び配線60を形成する(図11(d))。
図12も実施形態5の図10(a)〜図10(d)の工程の後工程を示し、図12(a)に示すように、シード層57を設けた後、先にレジスト層を設けてパターニングしたレジスト層75を形成し、その後、電気メッキを施して、ビア配線形成用ビア17を埋込み、ビア配線59及び配線60を形成(図12(b))、最後にレジスト層75及びレジスト層75の下のシード層57及び金属層14を除去する(図12(c))。
なお、本実施形態の効果は上述した例と同様である。
ビア配線形成用基板1Bに半導体チップを実装するプロセスの他の例を図13を参照しながら説明する。このプロセスは、実施形態5の図10(a)〜図10(d)の工程は同様であるので、その後の工程を示している。
なお、本実施形態の効果は上述した例と同様である。
本発明のビア配線形成用基板は、上述した製造プロセスに限定されず、他の製造プロセスでも製造可能である。
11,11A,21 サポート基板
12,12A,22 剥離可能接着剤層
13 金属層
14 金属層
15 絶縁層
17 ビア配線形成用ビア
27 金属柱
28 モールド樹脂
50 半導体チップ
51 接続端子
52 銅PAD
61 接着層
71 モールド樹脂層
80 再配線層
Claims (13)
- 少なくとも一つの半導体チップを実装するためのビア配線形成用基板であって、
サポート基板と、
前記サポート基板上に設けられた剥離可能接着剤層と、
前記剥離可能接着剤層上に設けられた絶縁層と、を具備し、
前記絶縁層には、前記半導体チップの複数の接続端子のそれぞれに対応し且つ前記接続端子と接続するビア配線を形成可能なビア配線形成用ビアが前記絶縁層のみを位置ずれなしに貫通して形成されており、
前記ビア配線形成用ビアは、直径が15μm〜70μmのストレートビアであり、位置精度がフォトリソグラフィー精度である
ことを特徴とするビア配線形成用基板。 - 前記ビア配線形成用ビアは、ドリル加工又はレーザー加工ではなく、前記絶縁層に埋め込まれた金属柱又は感光性樹脂柱を除去して形成されたものである
ことを特徴とする請求項1記載のビア配線形成用基板。 - 前記絶縁層がエポキシ系封止材料からなる
ことを特徴とする請求項1又は2記載のビア配線形成用基板。 - 前記絶縁層と前記剥離可能接着剤層との間に金属層が設けられ、当該金属層を貫通して前記ビア配線形成用ビアが形成されている
ことを特徴とする請求項1〜3の何れか記載のビア配線形成用基板。 - 前記絶縁層と前記剥離可能接着剤層との間の前記金属層が前記剥離可能接着剤層側から第1金属層と第2金属層との2層からなる
ことを特徴とする請求項4記載のビア配線形成用基板。 - 前記金属層及び前記金属柱がニッケル又はニッケル合金からなる
ことを特徴とする請求項4記載のビア配線形成用基板。 - 前記第1金属層及び前記金属柱がニッケル又はニッケル合金からなり、前記第2金属層が銅又は銅合金からなる
ことを特徴とする請求項5記載のビア配線形成用基板。 - 第1サポート基板と、この上に形成された第1剥離可能接着剤層と、この上に金属層とが積層された積層基板を用意する工程と、
前記金属層にレジスト層を設け、前記レジスト層に複数のビア形成用孔を所定パターンで形成する工程と、
前記ビア形成用孔の中の前記金属層上に金属を埋め込み金属柱を形成する工程と、
前記レジスト層を剥離する工程と、
前記金属層上に、前記金属柱を埋め込む絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層の表面を研磨して前記金属柱の第1端面を露出する工程と、
前記絶縁層および前記剥離可能接着剤層をエッチングストップ層として前記金属柱をエッチング除去してビア配線形成用ビアを形成する工程と、
を具備することを特徴とするビア配線形成用基板の製造方法。 - 前記金属柱の第1端面を露出する工程の後に、
前記絶縁層および前記金属柱の上に第2剥離可能接着剤層を介して第2サポート基板を接着する工程と、
前記剥離可能接着剤層および前記サポート基板を剥離する工程と、
前記金属層を除去して前記金属柱の前記第1端面とは反対側の第2端面を露出する工程と、
を具備し、その後、前記金属柱をエッチング除去してビア配線形成用ビアとする
ことを特徴とする請求項8記載のビア配線形成用基板の製造方法。 - サポート基板と、この上に形成された剥離可能接着剤層と、この上に第1金属層と第2金属層とが順次積層された積層基板を用意する工程と、
前記第2金属層にレジスト層を設け、前記レジスト層に複数のビア形成用孔を所定パターンで形成する工程と、
前記所定パターンの前記レジスト層をマスクとして前記第2金属層のみをエッチングする工程と、
前記ビア形成用孔の中の前記第1金属層上に金属を埋め込み金属柱を形成する工程と、
前記レジスト層を剥離する工程と、
前記第1金属層上に、前記金属柱を埋め込む絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層の表面を研磨して前記金属柱の第1端面を露出する工程と、
前記絶縁層および前記剥離可能接着剤層をエッチングストップ層として前記金属柱及び前記第1金属層をエッチング除去してビア配線形成用ビアを形成する工程と、
を具備することを特徴とするビア配線形成用基板の製造方法。 - 請求項1〜7の何れか一項に記載のビア配線形成用基板又は請求項8〜10の何れか一項に記載のビア配線形成用基板の製造方法で製造したビア配線形成用基板を用意する工程と、
前記ビア配線形成用基板の前記絶縁層上に、接続端子を銅端子とした半導体チップを用意し、前記銅端子を前記ビア配線形成用基板の前記ビア配線形成用ビアに対向させた状態で前記絶縁体層上に前記半導体チップを接着剤を介して接合する工程と、
前記半導体チップを埋め込む埋込絶縁体層を形成する工程と、
前記剥離可能接着剤層および前記サポート基板、又は前記第2剥離可能接着剤層および前記第2サポート基板を剥離する工程と、前記ビア配線形成用ビアの前記半導体チップが設けられた側とは反対側から前記ビア配線形成用ビアを銅で埋め込んで前記銅端子と接続するビア配線を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体チップの実装方法。 - 請求項4又は6に記載のビア配線形成用基板又は請求項8に記載のビア配線形成用基板の製造方法で製造したビア配線形成用基板を用意する工程と、
前記ビア配線形成用基板の前記絶縁層上に、接続端子を銅端子とした半導体チップを用意し、前記銅端子を前記ビア配線形成用基板の前記ビア配線形成用ビアに対向させた状態で前記絶縁体層上に前記半導体チップを接着剤を介して接合する工程と、
前記半導体チップを埋め込む埋込絶縁体層を形成する工程と、
前記剥離可能接着剤層および前記サポート基板を剥離する工程と、前記金属層を除去する工程と、前記ビア配線形成用ビアの前記半導体チップが設けられた側とは反対側から前記ビア配線形成用ビアを銅で埋め込んで前記銅端子と接続するビア配線を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体チップの実装方法。 - 請求項5又は7に記載のビア配線形成用基板又は請求項10に記載のビア配線形成用基板の製造方法で製造したビア配線形成用基板を用意する工程と、
前記ビア配線形成用基板の前記絶縁層上に、接続端子を銅端子とした半導体チップを用意し、前記銅端子を前記ビア配線形成用基板の前記ビア配線形成用ビアに対向させた状態で前記絶縁体層上に前記半導体チップを接着剤を介して接合する工程と、
前記半導体チップを埋め込む埋込絶縁体層を形成する工程と、
前記剥離可能接着剤層および前記サポート基板を剥離する工程と、前記第1金属層を除去する工程と、前記ビア配線形成用ビアの前記半導体チップが設けられた側とは反対側から前記ビア配線形成用ビアを銅で埋め込んで前記銅端子と接続するビア配線を形成する工程と、前記第2金属層を用いて配線パターンを形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体チップの実装方法。
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JP2015226013A (ja) * | 2014-05-29 | 2015-12-14 | イビデン株式会社 | プリント配線板およびその製造方法 |
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2018
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JPH077134A (ja) * | 1993-02-08 | 1995-01-10 | General Electric Co <Ge> | 集積回路モジュール |
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