JP2020087494A - 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、磁気ディスク用アルミニウム合金基盤及びその製造方法、ならびに、磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ディスクブランクは、内径外径加工と表面加工を行なった後に、めっき前処理工程(アルカリ脱脂処理段階、酸エッチング処理段階、デスマット処理段階及びジンケート処理段階をこの順序で含む)を経て無電解Ni−Pめっきが施される。ここで内径外径加工とは切削加工機によって、ディスクブランクの端面、すなわち、外径を規定する外周面、ならびに、内径を規定する内周面を所定の形状に加工する工程である。この内径外径加工の後の表面加工には、「研削工程のみ」、「予備研削工程とその後の研削工程」、「切削工程とその後の研削工程」などの種々のパターンがある。これらの表面加工によって、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の板厚調整、平坦性の向上、粗さの調整、うねりの低減等がなされた磁気ディスク用アルミニウム合金基板が得られる。また、表面加工ではないが、研削加工の前に、歪取り加熱処理工程とこれに続く化合物除去工程が設けられる。以上の工程を経て、磁気ディスク用アルミニウム合金基板(以下、単に「アルミニウム合金基板」と記す場合がある)が得られる。
次いで、磁気ディスク用アルミニウム合金基板には、アルカリ脱脂処理段階、酸エッチング処理段階、デスマット処理段階及びジンケート処理段階をこの順序で含むめっき前処理工程が実施される。ここで、ジンケート処理段階は、1stジンケート処理、Zn剥離処理、2ndジンケート処理をこの順序で実施するものである。なお、アルカリ脱脂処理段階と酸エッチング処理段階を同時に実施する場合には、デスマット処理を実施しない場合もある。
めっき前処理工程が実施された磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、無電解Ni−Pめっき処理が施されて磁気ディスク用アルミニウム合金基盤(以下、単に「アルミニウム合金基盤」と記す場合がある)となる。無電解Ni−Pめっき処理が施されて得られる磁気ディスク用アルミニウム合金基盤の表面、裏面、内周面及び外周面には、円形の凸部形状を成すノジュールが点在する。
4−1.磁気ディスク用アルミニウム合金基盤表面
Ni−Pめっき工程が施されたアルミニウム合金基盤の表面と裏面は、後の研磨工程によりノジュールが除去される。従って、表面と裏面においてはノジュールの存在が問題となることは無い。
前述の通り、Ni−Pめっきが施されたアルミニウム合金基盤の両端面である内周面と外周面にもノジュールが発生する。これら内周面と外周面は、無電解Ni−Pめっき後に更なる処理が施されることは無い。従って、発生したノジュールはそのままの状態で磁気ディスク製品に残存する。無電解Ni−Pめっき工程後には、研磨工程やスパッタリング工程等の工程があり、特にスパッタリング工程においては磁気ディスク用アルミニウム合金基盤の外周面を治具で支えて処理を施すことがある。この際、凸部形状のノジュールが治具に擦れると、摩耗粉が発生してこれがアルミニウム合金基盤面(表面、裏面、外周面、内周面)に付着することがある。このような摩耗粉が付着すると、スパッタリング時において形成される磁性膜が不均一となる問題が発生する。従って、アルミニウム合金基盤の外周面のノジュールを極力低減することが必須である。
上述のノジュールは、無電解Ni−Pめっきを施すアルミニウム合金基板表面の不均一性に由来する。主として化合物上、孔の端部、表面の凸部など均一な表面以外の部分において発生し易い。無電解Ni−Pめっきは、Ni−Pが表面全体にランダムに析出し、析出して島を形成する部分同士が一つになることで均一な膜として成長していく。しかしながら、Ni−Pめっきの析出のタイミングが表面とは僅かに異なる部分が存在すると、その部分のみで凸部として残存してノジュールとなる。後述するように、本発明に係るアルミニウム合金基板には化合物が多量に存在しているため、無電解Ni−Pめっき工程後におけるアルミニウム合金基盤表面には化合物や孔などに起因するノジュールは極めて多く存在する。
本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板に用いるアルミニウム合金の組成は、Fe:0.1〜3.0mass%(以下、「%」と略記する)、Cu:0.005〜1.000%,Zn:0.005〜1.000%を必須元素として含有し、残部Al及び不可避不純物からなる。また、Mn:0.1〜3.0%、Si:0.1〜3.0%、Ni:0.1〜8.0%、Cr:0.01〜1.00%、Zr:0.01〜1.00%から選択される1種又は2種以上を、第1選択元素として更に含有していてもよい。更に、合計の含有量が0.005〜0.500%であるTi、B及びVから選択される1種又は2種以上を、第2選択元素として更に含有していてもよい。以下に、これら各合金成分の含有量と作用について説明する。
Feは主として第二相粒子(Al−Fe系化合物等)として、一部は母相に固溶して存在し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性を向上させる効果を有する。このようなアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクに振動を加えると、第二相粒子と母相との界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて高いフラッタリング特性が得られる。
Cuは主として第二相粒子(Al−Cu系化合物等)として存在し、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を有する。また、ジンケート皮膜を均一に、薄く緻密に生成させ、無電解Ni−Pめっきの平滑性を向上させる効果も発揮する。
Znはジンケート皮膜を均一に、薄く緻密に生成させ、無電解Ni−Pめっきの平滑性及び密着性を向上させる効果を有する。また、他の添加元素と第二相粒子を形成し、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクのフラッタリング特性を向上させる効果も発揮する。
Mnは主として第二相粒子(Al−Mn系化合物等)として存在し、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を有する。このようなアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクに振動を加えると、第二相粒子と母相との界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて高いフラッタリング特性が得られる。
Siは主として第二相粒子(Si粒子等)として存在し、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を有する。このようなアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクに振動を加えると、第二相粒子と母相との界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて高いフラッタリング特性が得られる。
Niは主として第二相粒子(Al−Ni系化合物等)として存在し、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を有する。このようなアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクに振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて高いフラッタリング特性が得られる。
Crは主として第二相粒子(Al−Cr系化合物等)として存在し、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を有する。Crの含有量が0.01%未満では、このようなアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの強度とフラッタリング特性が不十分である。一方、Crの含有量が1.00%を超えると、粗大なAl−Cr系化合物が多数生成する。粗大なAl−Cr系化合物であっても、前記化合物除去工程により除去することは可能であるが、化合物除去後に形成される窪みが大きく、無電解Ni−Pめっき後の外周面に多数のノジュールが生成される。従って、Cr含有量は、0.01〜1.00%の範囲とする。Cr含有量は、好ましくは0.10〜0.50%の範囲であり、より好ましくは0.15〜0.40%とすることがより好ましい。
Zrは主として第二相粒子(Al−Zr系化合物等)として存在し、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を有する。Zrの含有量が0.01%未満では、このようなアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの強度とフラッタリング特性が不十分である。一方、Zrの含有量が1.00%を超えると、粗大なAl−Zr系化合物が多数生成する。粗大なAl−Zr系化合物であっても、前記化合物除去工程により除去することは可能であるが、化合物除去後に形成される窪みが大きく、無電解Ni−Pめっき後の外周面に多数のノジュールを生成する。従って、Zr含有量は、0.01〜1.00%の範囲とする。Zr含有量は、好ましくは0.10〜0.50%の範囲である。
Ti、B及びVは鋳造時の凝固過程において、第2相粒子(TiB2などのホウ化物、或いは、Al3TiやTi−V−B粒子等)を形成し、これらが結晶粒核となるため結晶粒を微細化する効果を有する。結晶粒が微細化することで、第二相粒子のサイズの不均一性を抑制し、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクにおける強度とフラッタリング特性のバラつきを低減させる効果が得られる。Ti、B及びVの含有量の合計が0.005%未満では、上記効果が得られない。Ti、B及びVの含有量の合計が0.500%を超えてもその効果は飽和するので、顕著な改善効果が得られない。従って、Ti、B及びV含有量の合計は、0.005〜0.500%の範囲とする。Ti、B及びV含有量の合計は、好ましくは0.005〜0.100%の範囲である。なお、Ti、B及びVの含有量の合計とは、これら元素が全て含有される場合は三元素の合計であり、二元素のみ含有される場合はこれら二元素の合計であり、一元素のみ含有される場合はこの一元素の合計である。
本発明のアルミニウム合金基板に用いるアルミニウム合金基材の残部は、Alと不可避的不純物とからなる。不可避的不純物としては、Mg、Pb、Ga、Snなどが挙げられ、各々が0.10%未満で、且つ、合計で0.20%未満であれば、本発明で得られるアルミニウム合金基板としての特性を損なうことはない。
本発明に係るディスクフラッタが低減されたアルミニウム合金基板は、Feを含有するため化合物は大きく、且つ、存在密度が高い。従って、無電解Ni−Pめっき工程後のアルミニウム合金基盤には、ノジュールが多量に発生する。しかしながら、前述の通り、アルミニウム合金基盤の表面及び裏面は研磨工程によってノジュールは除去されるために問題とならない。一方、アルミニウム合金基盤の内周面と外周面に発生したノジュールはそのまま残存することとなる。そのため、アルミニウム合金基板に対して化合物除去工程を適用することによって内周面と外周面の化合物を予め除去しておくことにより、無電解Ni−Pめっき工程後のアルミニウム合金基盤の内周面と外周面におけるノジュールの発生を防止することが可能となる。ここで、本発明でいう化合物とは、Al−Fe、Al−Fe−Mnなどの金属間化合物をいう。
8−1.概略
図1に従って、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板の第1発明に係る製造方法について説明する。本発明に係るアルミニウム合金基板は、まず、所定の合金組成となるように溶湯を溶製し(S101)、これを半連続鋳造し(S102)、鋳塊を任意の均質化処理にかけ(S103)、熱間圧延(S104)、冷間圧延(S105)を実施して、アルミニウム合金板を作製する(S106)。なお、冷間圧延の前又は途中において圧延板を任意の焼鈍処理にかけてもよい。
まず、所定の合金組成範囲となるようにアルミニウム合金溶湯を常法にしたがって加熱・溶融することによって調製する。このようにして調製したアルミニウム合金溶湯を、半連続鋳造法(DC鋳造法)に従って鋳造する。鋳造時の冷却速度は、好ましくは0.1〜1000℃/sの範囲である。
次に、鋳造されたアルミニウム合金鋳塊に必要に応じて均質化処理を実施する。均質化処理の条件は特に限定されるものではなく、例えば500℃以上で0.5時間以上の1段加熱処理を用いることができる。均質化処理時の加熱温度の上限は特に限定されるものではないが、650℃を超えるとアルミニウム合金の溶融が発生する虞があるため、上限は650℃とする。
均質化処理を施した、又は均質化処理を施さないアルミニウム合金の鋳塊は、熱間圧延によって板材に加工する。熱間圧延工程では、均質化処理を行っている場合は熱間圧延開始温度を300〜550℃とするのが好ましく、熱間圧延終了温度については380℃未満とするのが好ましく、300℃以下とするのがより好ましい。熱間圧延終了温度の下限は特に限定されるものではないが、耳割れ等の不具合の発生を防止するため下限は200℃とする。一方、均質化処理を行っていない場合は熱間圧延開始温度を380℃以下とするのが好ましく、350℃以下とするのがより好ましい。熱間圧延終了温度については特に限定されるものではないが、耳割れ等の不具合の発生を防止するため下限は200℃とする。
次いで、熱間圧延板を冷間圧延によって0.45〜1.8mm程度の冷間圧延板に加工する。このように、熱間圧延板を冷間圧延によって所要の製品板厚に仕上げる。冷間圧延の条件は特に限定されるものではなく、必要な製品板強度や板厚に応じて定めれば良く、冷間圧延率については10〜95%とするのが好ましい。冷間圧延の前又は冷間圧延の途中において、冷間圧延加工性を確保するために焼鈍処理工程を設けても良い。焼鈍処理を実施する場合には、例えばバッチ式焼鈍では200℃以上380℃以下の温度で0.1〜10時間の条件である。
上記のようにして作製したアルミニウム合金板を円環状に打ち抜いて、円環状のアルミニウム合金板を調製する。次いで、この円環状のアルミニウム合金板に220〜450℃で、30分以上の加圧平坦化焼鈍処理を実施して、平坦化した円環状のディスクブランクを調製する。
次いで、平坦化したディスクブランクに、上述の図1に示すように、内径外径加工(S109)、歪取り加熱処理(S110)、化合物除去(S111)、研削加工を施し(S112)、或いは、図2に示すように、図1の工程におけるS109とS110の間に予備研削工程(S109−1)を設け、或いは、図3に示すように、同じく図1の工程におけるS109とS110の間に切削工程(S109−2)を設ける。ここで、歪取り加熱処理工程では、アルミニウム合金板を好ましくは250〜400℃の温度で5〜15分加熱処理する。また、化合物除去(S111)は、上述の通りに実施される。以上によって、アルミニウム合金基板が得られる。
9−1.概略
図4に従って、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法について説明する。本発明に係るアルミニウム合金基板は、まず、所定の合金組成となるように溶湯を溶製し(S101)、これを連続鋳造し(S102)、鋳塊を任意の均質化処理にかけ(S103)、冷間圧延(S104)を実施して、アルミニウム合金板を作製する(S105)。なお、冷間圧延の前又は途中において圧延板を任意の焼鈍処理にかけてもよい。
まず、所定の合金組成範囲となるようにアルミニウム合金溶湯を常法にしたがって加熱・溶融することによって調製する。このようにして調製したアルミニウム合金溶湯から、連続鋳造法(CC鋳造法)によって、2.0〜10.0mm程度のアルミニウム合金の薄い鋳造板を鋳造する。ここで、連続鋳造法では、一対のロール(又は、ベルトキャスタ、ブロックキャスタ)の間に鋳造ノズルを通して溶湯を供給し、ロールからの抜熱でアルミニウム合金の鋳造板を直接鋳造する。連続鋳造法によるアルミニウム合金の薄い鋳造板の鋳造では、鋳造後から1分経過後における鋳造板の温度を230〜350℃とするのが好ましい。更に、鋳造後から10分経過後における鋳造板の温度を150℃以上230℃未満とするのが好ましい。このように、鋳造後から1分経過後における鋳造板の温度を230〜350℃とし、更に鋳造後から10分経過後の鋳造板の温度を150℃以上230℃未満とすることによって、微細な第二相粒子(主にAl−Fe系化合物)を多数分布させ、強度向上の効果を得ることができる。このような微細な第二相粒子の多数分布によって、DC鋳造法に比べて強度向上の効果を一層図ることができる。
なお、CC法において鋳造板を冷却する方法としては、例えばファン空冷、ミスト冷却、シャワー冷却及び水冷等の方法を採用することができる。
次に、鋳造されたアルミニウム合金の鋳造板に必要に応じて均質化処理を実施する。均質化処理の条件は特に限定されるものではなく、例えば300〜450℃で0.5〜24時間の加熱条件とするのが好ましい。これにより、第二相粒子のサイズの不均一性を抑制し、アルミニウム合金基板の強度とフラッタリング特性のバラツキを低減する効果が得られる。
次いで、熱間圧延板を冷間圧延によって0.45〜1.8mm程度の冷間圧延板に加工する。このように、熱間圧延板を冷間圧延によって所要の製品板厚に仕上げる。冷間圧延の条件は特に限定されるものではなく、必要な製品板強度や板厚に応じて定めれば良く、冷間圧延率については10〜95%とするのが好ましい。冷間圧延の前又は冷間圧延の途中において、冷間圧延加工性を確保するために焼鈍処理工程を設けても良い。焼鈍処理を実施する場合には、例えばバッチ式焼鈍では200℃以上380℃以下の温度で0.1〜10時間の条件である。
上記のようにして作製したアルミニウム合金板を円環状に打ち抜いて、円環状のアルミニウム合金板を調製する。次いで、この円環状のアルミニウム合金板に220〜450℃で、30分以上の加圧平坦化焼鈍処理を実施して、平坦化した円環状のディスクブランクを調製する。
次いで、平坦化したディスクブランクに、上述の図1に示すように、内径外径加工(S108)、歪取り加熱処理(S109)、化合物除去(S110)、研削加工を施し(S111)、或いは、図2に示すように、図1の工程におけるS108とS109の間に予備研削工程(S108−1)を設け、或いは、図3に示すように、同じく図1の工程におけるS108とS109の間に切削工程(S108−2)を設ける。ここで、歪取り加熱処理工程では、アルミニウム合金板を好ましくは250〜400℃の温度で5〜15分加熱処理する。また、化合物除去(S110)は、上述の通りに実施される。以上によって、アルミニウム合金基板が得られる。
以上のようして作製したアルミニウム合金基板を処理してアルミニウム合金基盤を作製する工程は、第1発明で製造したアルミニウム合金基板と第2のアルミニウム合金基板で同じである。すなわち、アルミニウム合金基板の表面に脱脂処理、酸エッチング処理、デスマット処理を施した後にジンケート処理(Zn置換処理)を施し(図1のS114、図4のS113)、更に、ジンケート処理を施した表面に下地処理として無電解Ni−Pめっき処理を施す(図1のS115、図4のS114)。このようにして、磁気ディスク用アルミニウム合金基盤が作製される(図1のS116、図4のS115)。以下に、各工程について詳細に説明する。
最後に、下地めっき処理したアルミニウム合金基盤の表面を研磨により平滑し、研磨表面に下地層を設け、その上に磁性体層をスパッタリングにより付着させて形成することにより(図1のS117、図4のS116)、磁気ディスクとする。なお、磁性体層の上に保護膜及び潤滑層を更に設けるのが好ましい。
本発明例1〜47、比較例1〜23
この第1の実施例では、アルミニウム合金の鋳造方法に、DC鋳造法を用いた例を示す。
まず、表1に示す成分組成の各アルミニウム合金を常法に従って溶解し、アルミニウム合金溶湯を溶製した。次に、アルミニウム合金溶湯をDC鋳造法により鋳造し鋳塊を作製した。上記鋳塊の両面15mmを面削し520℃で1時間の均質化処理を施した。次に、熱間圧延開始温度460℃、熱間圧延終了温度280℃で熱間圧延を行ない、板厚3.0mmの熱間圧延板とした。熱間圧延板は中間焼鈍を行なわずに冷間圧延(圧延率73.3%)により板厚0.8mmまで圧延して最終圧延板とした。このようにして得たアルミニウム合金板を外径98mm、内径24mmの円環状に打抜き、円環状アルミニウム合金板を作製した。尚、表1において「−」は検出限界未満を示す。
めっき前処理直前の研削加工後のアルミニウム合金基板を評価用サンプルとして用い、外周面をデジタルマイクロスコープ(キーエンス製VHX−6000)を用い,2000倍で5視野撮影した。撮影像から、孔の最大径の測定と個数を評価した。5視野の平均から1mm2当たりの孔数を算出し、最大径10μm以上の孔が100個/mm2未満であれば優良(◎)、100個/mm2以上200個/mm2以下であれば良好(○)、200個/mm2より多ければ不良(×)とした。◎と○を合格とし、×を不合格とした。結果を表4、5に示す。
無電解Ni−Pめっき処理後のアルミニウム合金基盤を評価用サンプルとして用い、この外周面をSEMにより1000倍で5視野撮影した。撮影像から、凸部の最大径の測定と個数を評価した。5視野の平均から1mm2当たりの凸部の数を算出し,最大径4〜10μmの凸部が150個/mm2未満であれば優良(◎)、150個/mm2以上300個/mm2以下であれば良好(○)、300個/mm2より多ければ不良(×)とした。◎と○を合格とし、×を不合格とした。結果を表4、5に示す。
無電解Ni−Pめっき後のアルミニウム合金基盤を評価用サンプルとして用い、これを50℃の50vol%硝酸に3分間浸漬して、Ni−Pめっき表面をエッチングした。エッチング後のNi−Pめっき表面を、SEMを用いて5000倍の倍率で5視野撮影した。なお、1視野の面積は536μm2とした。5視野撮影した画像からめっき欠陥数を測定し、5視野の算術平均値を求めた。この算術平均値が、5個未満/視野を優良(◎)、5個以上10個未満/視野を良好(○)、10個以上/視野を不良(×)とした。◎と○を合格とし、×を不合格とした。結果を表4、5に示す。
無電解Ni−Pめっき処理及び表面研磨後のアルミニウム合金基盤を評価用サンプルとして用い、フラッタリング特性を評価した。なお、製品としての磁性体を塗布した磁気ディスクで評価すべきであるが、アルミニウム合金基盤の評価結果が磁気ディスクのものと変わらないことを確認済みである。
本発明例48〜94、比較例24〜46
この第2の実施例では、アルミニウム合金の鋳造方法に、CC鋳造法を用いた例を示す。
めっき前処理直前の研削加工後のアルミニウム合金基板を評価用サンプルとして用い、外周面をデジタルマイクロスコープ(キーエンス製VHX−6000)を用い,2000倍で5視野撮影した。撮影像から、孔の最大径の測定と個数を評価した。5視野の平均から1mm2当たりの孔数を算出し、最大径10μm以上の孔が100個/mm2未満であれば優良(◎)、100個/mm2以上200個/mm2以下であれば良好(○)、200個/mm2より多ければ不良(×)とした。◎と○を合格とし、×を不合格とした。結果を表6、7に示す。
無電解Ni−Pめっき処理後のアルミニウム合金基盤を評価用サンプルとして用い、この外周面をSEMにより1000倍で5視野撮影した。撮影像から、凸部の最大径の測定と個数を評価した。5視野の平均から1mm2当たりの凸部の数を算出し,最大径4〜10μmの凸部が150個/mm2未満であれば優良(◎)、150個/mm2以上300個/mm2以下であれば良好(○)、300個/mm2より多ければ不良(×)とした。◎と○を合格とし、×を不合格とした。結果を表6、7に示す。
無電解Ni−Pめっき後のアルミニウム合金基盤を評価用サンプルとして用い、これを50℃の50vol%硝酸に3分間浸漬して、Ni−Pめっき表面をエッチングした。エッチング後のNi−Pめっき表面を、SEMを用いて5000倍の倍率で5視野撮影した。なお、1視野の面積は536μm2とした。5視野撮影した画像からめっき欠陥数を測定し、5視野の算術平均値を求めた。この算術平均値が、5個未満/視野を優良(◎)、5個以上10個未満/視野を良好(○)、10個以上/視野を不良(×)とした。◎と○を合格とし、×を不合格とした。結果を表6、7に示す。
無電解Ni−Pめっき処理及び表面研磨後のアルミニウム合金基盤を評価用サンプルとして用い、フラッタリング特性を評価した。なお、製品としての磁性体を塗布した磁気ディスクで評価すべきであるが、アルミニウム合金基盤の評価結果が磁気ディスクのものと変わらないことを確認済みである。
Claims (13)
- Fe:0.1〜3.0mass%、Cu:0.005〜1.000mass%、Zn:0.005〜1.000mass%を含有し、残部Al及び不可避不純物からなるアルミニウム合金からなり、外周面において、最長径10μm以上の孔が200個/mm2以下であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
- 前記アルミニウム合金が、Mn:0.1〜3.0mass%、Si:0.1〜3.0mass%、Ni:0.1〜8.0mass%、Cr:0.01〜1.00mass%及びZr:0.01〜1.00mass%から選択される1種又は2種以上を更に含有する、請求項1に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
- 前記アルミニウム合金が、合計の含有量が0.005〜0.500mass%であるTi、B及びVから選択される1種又は2種以上を更に含有する、請求項1又は2に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板表面に無電解Ni−Pめっき層を備える磁気ディスク用アルミニウム合金基盤であって、外周面において、最長径4〜10μmの凸部が300個/mm2以下であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基盤。
- 請求項4に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基盤の表面に磁性体層を備えることを特徴とする磁気ディスク。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて鋳塊を半連続鋳造する半連続鋳造工程と、鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧平坦化焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクの内周面及び外周面を加工する内径外径加工工程と、内径外径加工を施したディスクブランクに歪取り加熱を施す歪取り加熱処理工程と、歪取り加熱処理を施したディスクブランク表面の化合物を除去する化合物除去工程と、化合物除去を施したディスクブランクに研削加工を施す研削工程とを備え、前記化合物除去工程が、10〜30℃の10〜60mass%のHNO3溶液であって10〜80g/LのHFを含有するHNO3/HFの混合溶液にディスクブランクを5〜60秒浸漬することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて鋳塊を半連続鋳造する半連続鋳造工程と、鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧平坦化焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクの内周面及び外周面を加工する内径外径加工工程と、内径外径加工を施したディスクブランクに予備研削加工を施す予備研削工程と、予備研削加工を施したディスクブランクに歪取り加熱を施す歪取り加熱処理工程と、歪取り加熱処理を施したディスクブランク表面の化合物を除去する化合物除去工程と、化合物除去を施したディスクブランクに研削加工を施す研削工程とを備え、前記化合物除去工程が、10〜30℃の10〜60mass%のHNO3溶液であって10〜80g/LのHFを含有するHNO3/HFの混合溶液にディスクブランクを5〜60秒浸漬することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて鋳塊を半連続鋳造する半連続鋳造工程と、鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧平坦化焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクの内周面及び外周面を加工する内径外径加工工程と、内径外径加工を施したディスクブランクに切削加工を施す切削工程と、切削加工を施したディスクブランクに歪取り加熱を施す歪取り加熱処理工程と、歪取り加熱処理を施したディスクブランク表面の化合物を除去する化合物除去工程と、化合物除去を施したディスクブランクに研削加工を施す研削工程とを備え、前記化合物除去工程が、10〜30℃の10〜60mass%のHNO3溶液であって10〜80g/LのHFを含有するHNO3/HFの混合溶液にディスクブランクを5〜60秒浸漬することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて鋳塊を連続鋳造する連続鋳造工程と、鋳塊を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧平坦化焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクの内周面及び外周面を加工する内径外径加工工程と、内径外径加工を施したディスクブランクに歪取り加熱を施す歪取り加熱処理工程と、歪取り加熱処理を施したディスクブランク表面の化合物を除去する化合物除去工程と、化合物除去を施したディスクブランクに研削加工を施す研削工程とを備え、前記化合物除去工程が、10〜30℃の10〜60mass%のHNO3溶液であって10〜80g/LのHFを含有するHNO3/HFの混合溶液にディスクブランクを5〜60秒浸漬することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて鋳塊を連続鋳造する連続鋳造工程と、鋳塊を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧平坦化焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクの内周面及び外周面を加工する内径外径加工工程と、内径外径加工を施したディスクブランクに予備研削加工を施す予備研削工程と、予備研削加工を施したディスクブランクに歪取り加熱を施す歪取り加熱処理工程と、歪取り加熱処理を施したディスクブランク表面の化合物を除去する化合物除去工程と、化合物除去を施したディスクブランクに研削加工を施す研削工程とを備え、前記化合物除去工程が、10〜30℃の10〜60mass%のHNO3溶液であって10〜80g/LのHFを含有するHNO3/HFの混合溶液にディスクブランクを5〜60秒浸漬することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて鋳塊を連続鋳造する連続鋳造工程と、鋳塊を冷間圧延する冷間圧延工程と、冷間圧延板を円環状に打ち抜くディスクブランク打抜き工程と、打ち抜いたディスクブランクを加圧焼鈍する加圧平坦化焼鈍工程と、加圧焼鈍したディスクブランクの内周面及び外周面を加工する内径外径加工工程と、内径外径加工を施したディスクブランクに切削加工を施す切削工程と、切削加工を施したディスクブランクに歪取り加熱を施す歪取り加熱処理工程と、歪取り加熱処理を施したディスクブランク表面の化合物を除去する化合物除去工程と、化合物除去を施したディスクブランクに研削加工を施す研削工程とを備え、前記化合物除去工程が、10〜30℃の10〜60mass%のHNO3溶液であって10〜80g/LのHFを含有するHNO3/HFの混合溶液にディスクブランクを5〜60秒浸漬することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 請求項4に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基盤の製造方法であって、請求項6〜11のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法において、前記研削工程後に、ディスクブランクのアルカリ脱脂処理段階、酸エッチング処理段階、デスマット処理段階及びジンケート処理段階をこの順序で含むめっき前処理工程と、当該めっき前処理工程を施したディスクブランク表面に無電解Ni−Pめっき処理を施す無電解Ni−Pめっき処理工程とを備えることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基盤の製造方法。
- 請求項5に記載される磁気ディスクの製造方法であって、請求項4に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金基盤の表面を研磨し、この研磨表面に、磁性体層をスパッタリングによって付着させることを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
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