JP2020079248A - 高純度医薬品等級タシメルテオン - Google Patents

高純度医薬品等級タシメルテオン Download PDF

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デーパック ファーデク、
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ナタリー エム. プラット、
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Abstract

【課題】高純度医薬品等級タシメルテオンのバッチを調製するためのプロセスを提供する。【解決手段】GMP条件下で合成されたタシメルテオンのバッチを、1つまたは複数の特定されている不純物の存在について分析し、予め設定された仕様を満たす場合、タシメルテオンの処理を継続して、製剤用のタシメルテオンのバルク原薬を調製すること、または、予め設定された仕様を満たさない場合、(再結晶、摩砕、抽出、またはクロマトグラフィー等により)タシメルテオンを更に精製すること、を含むプロセス。【選択図】なし

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2014年2月12日に出願された同時係属の米国特許仮出願第61/938,932号、および2014年12月4日に出願された同時係属の米国特許仮出願第62/087,394号の利益を主張するものである。両出願は、参照により本明細書に組み込まれる。
本開示は、概してタシメルテオンの合成に関する。幾つかの実施形態では、不純物を下記の予め設定された仕様に維持するために、不純物が分析および管理される。不純物は、副産物であってもよく、または分解産物であってもよい。
タシメルテオン、つまりN−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−プロピオンアミドは、ある睡眠関連障害を罹患する個人の治療に有用なメラトニンアゴニストである。
タシメルテオンの合成は、例えば、米国特許第5,856,529号明細書の実施例2に開示されている。この実施例における最終ステップ合成は、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンを、塩化プロピオニルと反応させることを含む。メタンアミン中間体の合成は、調製24に記載されており、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル))シクロプロパンカルボキサルデヒドを、ヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させることを含む。カルボキサルデヒド中間体の合成は、調製18に記載されており、プロペノイル中間体、具体的には(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)プロペノイル)−2,10−カンファースルタムを、パラジウム触媒で環化することを含む。
1つの例示的な実施形態では、本発明は、
高純度医薬品等級タシメルテオンを合成するためのプロセスであって、
(a)((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩をプロピオニル化して、タシメルテオンを得ること、
(b)ステップ(a)で生成されたタシメルテオンを結晶化させること、
(c)ステップ(b)の結晶化タシメルテオンを、不純物5(N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド)および不純物6(2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート)のうちの1つまたは両方の存在について分析すること、および
(d)(i)結晶化タシメルテオンが、不純物5もしくは不純物6もしくはその両方についての、予め設定された仕様を満たす場合、高純度医薬品等級タシメルテオンを回収する、または
(d)(ii)結晶化タシメルテオンが、不純物5もしくは不純物6もしくはその両方についての、予め設定された仕様を満たさない場合、タシメルテオンを更に精製してステップ(c)および(d)を繰り返すか、または前記バッチを廃棄する、ことを含むプロセスに関する。
別の例示的な実施形態では、本発明は、高純度医薬品等級タシメルテオンのバッチを調製するためのプロセスであって、
(a)製造管理および品質管理基準(「GMP条件」)の条件下で合成されたタシメルテオンのバッチを、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、
のうちの1つまたは複数の存在について分析すること、および
(b)前記バッチが、不純物1、不純物2、不純物3、不純物4、不純物5、不純物6、および不純物7の1つまたは複数の量に関する予め設定された仕様を満たす場合、タシメルテオンの処理を継続して、製剤用のバルクタシメルテオン原薬を調製すること、または
(c)タシメルテオンが、前記予め設定された仕様を満たさない場合、(再結晶、摩砕、抽出、またはクロマトグラフィー等により)タシメルテオンを更に精製しステップ(a)および(b)を繰り返すか、または前記バッチを廃棄する、
ことを含むプロセスに関する。
別の例示的な実施形態では、タシメルテオンの処理を継続するための更なる仕様が、事前に設定されており、例えば、タシメルテオンは、95.0%以上(「not less than:NLT」)または98.0%NLTの純度(曲線下面積による)であり、および/または他の不純物の量が各々単独では、0.10面積%以下(「not more than:NMT」)である。
別の例示的な実施形態では、本発明は、タシメルテオン製剤(つまりタシメルテオンおよび賦形剤)のバッチを調製するためのプロセスであって、タシメルテオン製剤の製造に使用されるタシメルテオンバルク原薬のバッチの放出が、以下の不純物の1つまたは複数の量に関する許容基準の試験および適用に依存するプロセスに関する:
・N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
・N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
・1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
・N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
・N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
・2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
・N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)。
更なる例示的な実施形態では、本発明は、約0.15%を超える濃度の不純物1〜7をいずれも含有しない精製タシメルテオンに関する。関連する例示的な実施形態では、そのような組成物は、約0.15重量%を超える濃度の関連不純物質(つまり、分解産物、二量体等の、タシメルテオンと構造的に関連する不純物)を一切含有しない。
タシメルテオンの合成は、最終ステップ合成後、複数の不純物をもたらす場合がある。タシメルテオンの例示的な合成は、米国特許第5,856,529号明細書に記載されているプロセス等によりメタンアミン中間体を経由し、4つの精製ステップ:下述のような3つの単離中間体ならびに未微粉化タシメルテオン原薬の各々につき1つの精製ステップを含む、線形プロセスである。(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキシラート(本明細書では、中間体3または段階9と称する)、(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミド(本明細書では、中間体4または段階10と称する)、およびメタンアミン中間体(本明細書では、中間体5または段階11)、およびタシメルテオン(未微粉化)原薬は、各々結晶化により単離され、必要に応じて、純度を向上させるために再結晶にかけられる。
本発明者らは、タシメルテオンの合成において、ある不純物が副産物および分解産物の両方として形成される場合があり、そうした不純物は、検出不能なレベルまたは容認可能な検出可能レベルに抑制または低減することができることを見出した。理論に束縛されることは望まないが、本発明者らは、これら不純物の幾つかを質量分析データ、核磁気共鳴データ、および他のデータに基づいて特定した。本発明者らは、上記不純物としては、以下の1つまたは複数を挙げることができることを見出した:
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
およびN−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)。
不純物1〜3および5〜6は、タシメルテオン合成のあるステップの副産物である可能性があり、不純物4および7は分解産物である可能性がある。
また、本発明者らは、タシメルテオン合成において、ある更なる不純物が、分解産物、反応副産物、残留試薬、および残留中間体として生じ得ることを見出した。これら更なる不純物は、検出不能なレベルまたは容認可能な検出可能レベルに抑制または低減することができる。これら不純物としては、以下のものを挙げることができる:(+)−デヒドロアビエチルアミン、塩化プロピオニル、プロピオン酸、プロピオン酸エチル[おそらくは塩化プロピオニルの更なる潜在的な分解物]、ジアゾ酢酸エチル、中間体2、4、および5、4−ビニル−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF)、4−(2−クロロエチル)−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF−int−2)、ベンゼン、ならびにAs、Al、Fe、Li、Ni、Ru、Pd、Mn、Rh、Cu、およびCo等の重金属。
ジアゾ酢酸エチルおよび塩化プロピオニル等の幾つかのそのような不純物は、潜在的に遺伝毒性であるため、バルクGMPタシメルテオンをバルク医薬品組成物への製剤化に好適なものにし、その後医薬品用量単位へと分配するために、ppmレベルに抑制しなければならない。
そのような不純物を特定することにより、製品の品質管理および一貫性が容易となる。これら不純物が何であるかについての知識があれば、タシメルテオンの製造業者は、バルクGMPタシメルテオン中の不純物の最大許容量に関する仕様を設定することができ、その後バルクGMPタシメルテオンをバルク医薬品組成物に製剤化し、次いで医薬品用量単位へと分配することができる。
したがって、1つの態様では、本発明は、これら不純物のいずれかまたは各々の存在について分析され、これら不純物の1つまたは複数が所定量未満であることが決定された、医薬品等級の高純度タシメルテオンのバッチを含む。これら中間体の所定量、つまり予め設定された仕様は、規制要件を満たすように設定することができる。例えば、不純物1〜7および更なる不純物についての予め設定された仕様は、0.15wt%であってもよい。更なる実施形態では、予め設定された仕様は、例えば未同定不純物の場合は、0.10面積%であってもよい。加えて、予め設定された仕様には、l00ppm以下(NMT)または10ppm以下(NMT)のジアゾ酢酸エチル(EDA)が含まれていてもよい。
不純物は、特にクロマトグラフィー技法および質量分析技法等の分析化学技法により検出可能である。例えば、HPLC、GC、または他のクロマトグラフィー法を使用することができる。その場合には、不純物の1つまたは各々の量は、wt%または曲線下面積に基づいて決定することができる。
本明細書で使用される場合、方法および技法の略語としては、以下のものを挙げることができる:高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、超高速液体クロマトグラフィー(UPLC)、超臨界流体クロマトグラフィー(SFC)、ガスクロマトグラフィー(GC)、製造管理および品質管理基準(GMP)、医薬品適正製造基準(cGMP)、以下(NMT)、および以上(NLT)。
本明細書において、パーセント(%)純度を指す場合、それは面積に基づく。そのような相対的量は、重量%の近似であるが、当業者であれば、必要に応じて、より正確な重量%での量を決定する方法は知られている。
タシメルテオンの合成は、例えば、米国特許第5,856,529号明細書の実施例2に開示されている。その例における最終ステップ合成は、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンを塩化プロピオニルと反応させることを含む。メタンアミン中間体の合成は、調製24に記載されており、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル))シクロプロパンカルボキサルデヒドをヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させることを含む。カルボキサルデヒド中間体の合成は、調製18に記載されており、プロペノイル中間体、具体的には((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)プロペノイル)−2,10−カンファースルタムを、パラジウム触媒で環化することを含む。
メタンアミン中間体またはその塩(本明細書では中間体5と称する)の代替経路では、(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキシラート(中間体3)から、(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパン−カルボキサミド(中間体4)を経て、その後中間体5またはその塩に至る。
4−ビニル−2,3−ジヒドロベンゾフランの立体選択的環化による中間体2の合成は、例えば、米国特許第7,754,902号明細書に記載されている。
中間体5からのタシメルテオンの例示的な最終ステップ合成は、下記のスキーム6に提示されている。概して、この合成は、
(a)((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩をプロピオニル化して、タシメルテオンを得ること、
(b)ステップ(a)で生成されたタシメルテオンを結晶化させること、
(c)ステップ(b)の結晶化タシメルテオンを、不純物5(N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド)および不純物6(2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート)のうちの1つまたは両方の存在について分析すること、および

(d)(i)結晶化タシメルテオンが、不純物5もしくは不純物6もしくはその両方についての、予め設定された仕様を満たす場合、高純度医薬品等級タシメルテオンを回収する、または
(d)(ii)結晶化タシメルテオンが、不純物5もしくは不純物6もしくはその両方についての、予め設定された仕様を満たさない場合、タシメルテオンを更に精製してステップ(c)および(d)を繰り返すか、または前記バッチを廃棄する、ことを含む。
そのような最終ステップ合成では、プロピオニル化ステップは、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を、ハロゲン化プロピオニル、無水プロピオニル、プロピオニルエステル、プロピオニルアミド、プロピオニルイミダゾリド、または、プロピオン酸および脱水剤もしくはその産物と接触させることを含んでいてもよい。水は、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンをプロピオン酸とカップリングして、タシメルテオンを形成する際の副産物である。脱水剤は、ペプチドカップリング試薬としても知られており、プロピオン酸を活性化して、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンとの反応を促進させ、副産物である水を消費する作用剤である。一般的に使用される脱水剤としては、これらに限定されないが、以下のものが挙げられる:ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、DCCおよびアミノピリジン、Ν、Ν’−カルボニルジイミダゾール、クロロシラン、Amberlyst−15、MeSO2Cl−Et3N、BF3、TiC14、他のルイス酸、ArB(OH)型の試薬、Sn[N(TMS)]、POCl、モレキュラーシーブ、ローソン試薬、および(MeO)POCl。
有機溶媒(例えば、ter−ブチルメチルエーテル)および水溶性塩基(例えば、NaOH)の存在下でプロピオニル化を実施し、プロピオニル化ステップの後だが結晶化ステップの前に、タシメルテオンの混合物を、中間体5(または、その遊離塩基または他の塩)の存在について分析してもよく、混合物が中間体5についての予め設定された仕様(例えば、0.15%以下または0.10%以下)を満たさない場合、ステップ(a)を繰り返すか、または混合物を廃棄する。プロピオニル化ステップの後だが、結晶化ステップの前に、タシメルテオンの混合物を水溶性塩基で洗浄し、水層を破棄してもよい。その後、洗浄した混合物を蒸留してもよい(例えば、エタノール中、約58℃以下および約100mmHg未満にて)。結晶化ステップは、タシメルテオンとC1〜C4アルカノールの混合物を撹拌および加温すること(例えば、約35〜約40℃)によりタシメルテオンを溶解し、その後冷却すること(例えば、約13〜約17℃に)を含んでいてもよい。結晶化ステップは、所望によりシーディングを含んでいてもよい。
1つの実施形態では、例示的なタシメルテオン合成は、下記の反応スキームで、まず幾つかの中間体を合成することを含んでいてもよい。
4−(2−クロロエチル)−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF−int−2)の合成
VBF−int−2の合成は、2,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)フェノール(トリオール)を、有機溶媒中でN,N−ジメチルクロロメチレンイミニウムクロライド(ビルスマイヤー試薬)と接触および反応させ、その後、得られたN,N’−[(3−ヒドロキシ−1,2−フェニレン)−ビス(エタン−2,1−ジイルオキシメチリデン)]−ビス(N−メチルメタンアミニウム)ジクロライド(VBF−int−1)を、有機溶媒中でトリエチルアミンと反応させることを含んでいてもよい。ビルスマイヤー試薬は、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)および塩化オキサリルからin situで生成することができる。この反応は、下記のスキームで示される。

[スキーム1]
例えば、第1の反応混合物は、バッチ温度を−10±5℃に維持しつつ、塩化オキサリル(およそ、2.45〜2.55当量)を、CHCN中のDMF(およそ、2.45〜2.55当量)の溶液(アセトニトリル(例えば、16重量%DMF))にゆっくりと添加することにより調製することができる。この温度でおよそ30〜40分間撹拌を継続し、ビルスマイヤー試薬(N,Nジメチルクロロメチレンイミニウムクロライド)のin situでの形成を完了させてもよい。バッチ温度を−10±5℃に維持しつつ、トリオール(段階3)(1.00当量;例えば、30kg)を、添加ロートから何回かに別けてビルスマイヤー試薬の溶液に添加する。高圧液体クロマトグラフィー(HPLC)による試験が、2.0%以下(NMT)のトリオール(段階3)しか溶液に残留しないことを示すまで、少なくとも90分間約−20〜約−5℃にて撹拌を継続する。必要に応じて、混合物を、150分時に再度サンプリングし、トリオールレベルを再度試験してもよい。その後、バッチ温度を−10±5℃に維持しつつ、CHCN中のEtN(トリエチルアミン(およそ、3.8〜4.1当量)の溶液(例えば、47重量%のEtN)を、ゆっくりと反応混合物に添加してもよい。このステップは、発熱性ステップである。CHCNの総容積は、投入トリオール(段階3)1kg当りおよそ5〜17Lであればよく、1つの実施形態では、投入トリオール(段階3)1kg当り10L/kgであってもよい。添加が完了したら、混合物を、3〜3.5時間55±5℃に加熱してもよい。その後、混合物を25±5℃に冷却し、HPLCにより、VBF−int−1(段階4)が2.0面積%NMTであることが示されるまで、各々が最大およそ1時間の最大4増分で撹拌してもよい。その後、水道水(例えば、トリオール(段階3)1kg当り2.3L)を、この反応混合物に添加し、撹拌を30〜40分間継続する。有機留出物がもはや収集されなくなるまで、混合物を、およそ40℃未満で、<100torrにて蒸留する。その後、TBME(例えば、トリオール(段階3)1kg当り5.6kg)および水道水(例えば、トリオール(段階3)1kg当り3.2L)を、バッチ残留分に添加する。混合物を30〜40分間撹拌し、30〜40分間沈降させる。水層を除去する。ブライン水溶液(例えば、トリオール(段階3)1kg当り5kgのHPO溶液)中のHPO溶液(8.5重量%)を、残りの有機層にゆっくりと添加する。混合物を30〜40分間撹拌し、30〜40分間沈降させてもよい。水層をもう一度除去する。有機層を、水道水(例えば、トリオール(段階3)1kg当り5L)で1回または複数回洗浄してもよく、毎回およそ30〜40分間撹拌し、およそ30〜40分間沈降させ、水層を除去する。水道水で洗浄した後、有機層を、留出物がもはや収集されなくなるまで、およそ40℃未満で、<100torrにて蒸留する。バッチ残留分を、0.1〜4torrにてショートパス蒸留にかける。105℃未満で沸騰する留出物を全て廃棄する。105〜130℃で沸騰する留出物を、HPLC分析にかける。予め設定された仕様、例えば、95.0%以上(NLT)のVBF−int−2(段階5)が存在することを満たす材料を、そのまま次のステップで使用する。
4−ビニル−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF)(段階6)の合成
VBFの合成は、4−(2−クロロエチル)−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF−int−2)を、有機溶媒の存在下で、水酸化テトラブチルアンモニウムと接触および反応させることを含んでいてもよい。この反応は、下記のスキームで示される。

[スキーム2]
1つの実施形態では、水酸化テトラブチルアンモニウム(VBF−int−2(段階5)1kg当り0.78kg)、ヨウ化カリウム(VBF−int−2(段階5)1kg当り0.09kg)を、TBME(tert−ブチルメチルエーテル)(VBFint−2(段階5)1kg当り5.60kg)および45%NaOH水溶液(VBF−int−2(段階5)1kg当り4.80kg)の混合物に添加する。幾つかの実施形態では、NaOH、水酸化テトラブチルアンモニウム、およびKIの投入量は、それぞれ、7〜10、0.15〜0.50、および0.08〜0.10モル当量の範囲である。混合物を、50±5℃に加熱し、およそ3〜3.5時間撹拌してもよい。その後、混合物を25±5℃に冷却し、HPLCによる試験により、VBF−int−2 段階5)が1.0%NMTであることが示されるまで、各々が1時間NLTの最大4増分で撹拌する。混合物を、20〜30分間沈降させ、40〜60Lの水層を排出する。混合物のpHが、9.5〜10.5になるまで、16%HC1水溶液(例えば、VBFint−2(段階5)1kg当り6.2kg以下)を、残りの混合物にゆっくりと添加する。必要に応じて、4.5%のNaOH水溶液を添加して、pHをこの範囲に調整する。その後、混合物を、TBME(VBF−int−2(段階5)1kg当り1kg)を使用してろ過し、移動を完了させ、ろ過液を20〜30分間沈降させてもよい。その後、水層を除去してもよい。9%ブライン水溶液中の8%Na(例えば、VBF−int−2(段階5)1kg当り4.3kgのNa溶液)を、有機層に添加し、その後混合物を10〜15分間撹拌し、20〜30分間沈降させ、水層を除去する。9%ブライン水溶液中4%のNaOH(例えば、VBF−int−2(段階5)1kg当り4.2kgのNaOH溶液)を有機層に添加し、その後撹拌し、沈降させ、水層を除去する。その後、キノール(例えば、VBF−int−2(段階5)1kg当り7gまたは1mol%)を、有機層に添加し、混合物を、20〜30分間撹拌する。得られた溶液を、HPLC分析にかけて純度を分析する。予め設定された純度仕様、例えば、95.0面積%NLTのVBF(段階6)を満たす材料を、そのまま次のステップで使用する。HPLCの分析結果は、wt/wt%として報告されている。
(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル(中間体3)(段階9)の合成
中間体3(段階9)の合成は、キラル触媒の存在下で、4−ビニル−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF(段階6))をEDAと接触および反応させることにより、4−ビニル−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF(段階6))を不斉シクロプロパン化することを含んでいてもよい。また、合成は、2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−シクロプロパンカルボキシル酸エチルエステル(VEC−int−1(段階7))のエステル基を加水分解し、その後、有機溶媒中にて(+)−デヒドロアビエチルアミン(DAA)により、2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−シクロプロパンカルボキシル酸(中間体2(段階8))の分割を向上させることを含んでいてもよい。この反応は、下記のスキームで示される。

[スキーム3]
1つの実施形態では、中間体3を形成するために、幾つかのプロセスを調製に使用することができる。
リチウムジイソプロピルアミド(LDA)溶液を調製してもよい。例えば、n−ブチルリチウム(0.03当量;ヘキサン中1M)の溶液を、5±5℃にて、THF中のジイソプロピルアミン(DISPA;0.04当量;例えば、10M)溶液にゆっくりと添加する。添加が完了した後、30〜40分間5±5℃にて撹拌を継続する。得られたリチウムジイソプロピルアミド(LDA)溶液を、下記に更に記載されているように、BTBSC(R,R)−(−)−N、N’ビス(3,5−ジ−tert−ブチルサリチリデン)−1,2シクロヘキサンジアミン)のその後の脱プロトン化にそのまま使用する。
Ru触媒は、BTBSCおよびLDA溶液から調製してもよい。例えば、調製は、THF(テトラヒドロフラン)中のBTBSCの混合物(0.02当量;例えば、0.04M)を30〜40分間25±5℃にて撹拌し、その後、混合物を5±5℃に冷却することを含んでいてもよい。その後、この混合物に、上記のLDA溶液を5±5℃にてゆっくりと添加し、混合物をおよそ60分間撹拌してもよい。得られた混合物に、[Ru(pシメン)Cl(0.02当量、[Ru(p−シメン)Cl1mole当り2当量のRuと仮定する)を何回かに別けて添加する。反応器を、Nで3回パージする。混合物を30〜40分間25±5℃で撹拌する。最後に、TBME中のVBF(段階6)溶液(約0.01当量)を、この混合物に添加する。得られた混合物を、少なくともおよそ8時間20〜25℃で撹拌する。得られたRu触媒混合物を、その後のVBFシクロプロパン化ステップにそのまま使用する。
VBF(段階6)は、シクロプロパン化を起こすことができる。例えば、1つの実施形態では、そのような調製は、TBME中で前述のステップに記載のように調製されたVBF(段階6)溶液(1.00当量)に、トルエン(例えば、20kg)を添加すること(例えば、溶液の重量(kg)=8.9/分析%)、および反応器に残る残留分が約20Lになるまで、<100torrおよび<50℃にて混合物を蒸留することを含んでいてもよい。トルエン(例えば、60L)を添加し、反応器に残る残留分が約20Lになるまで、混合物を<100torrおよび<50℃にて再度蒸留する。バッチ残留分を30±2℃に冷却し、上記で調製したRu触媒を添加する。Ru触媒投入量は、およそ0.02モル当量の量を含んでいてもよい。この混合物に、30±2℃にて8〜16時間にわたってEDAのトルエン溶液を添加する。ジアゾ酢酸エチル投入量は、およそ2.5モル当量を含んでいてもよい。添加が完了したら、混合物を少なくともおよそ3時間30±2℃にて撹拌する。UPLC分析によりVBF(段階6)がおよそ2.0%NMTであることが示された材料を、下記で更に詳述する次の調製ステップにそのまま使用する。
VEC−int−1(段階7)は、鹸化を起こすことができる。説明的な例は、VBFのシクロプロパン化に由来する最終反応混合物に、45%NaOH水溶液(4当量)、55%水酸化テトラブチルアンモニウム水溶液(TBAH;0.45当量)および水道水(例えば、10L)を添加することを含んでいてもよい。その後、HPLCによりVEC−int−1(段階7)が<2.0%であることが示されるまで、この混合物を50〜70℃にて16〜18時間撹拌する。この限界が満たされない場合、撹拌を50〜70℃にて2〜4時間継続し、分析を繰り返す。限界が満たされたら、混合物を25〜30℃に冷却する。水道水(例えば、60.0L)を添加し、混合物を少なくともおよそ30分間撹拌し、30〜40分間沈降させる。有機層を廃棄する。TBME(例えば、107.0kg)を、得られた水層に添加し、混合物を0〜10℃に冷却する。リン酸(85%水溶液、例えば、24.0kg)を、水層のpHが4.0〜4.5になるまで、0〜25℃にてゆっくりと添加する。必要に応じて、10%NaOH水溶液を添加して、pHをこの範囲に調整する。その後、混合物を少なくともおよそ30分間撹拌し、更に30〜40分間沈降させ、水層を破棄する。水道水(例えば、70.0L)を添加し、混合物を少なくともおよそ30分間撹拌し、およそ30〜40分間再度沈降させ、水層を破棄する。この水道水洗浄は繰り返してもよく、例えば、更に3回の洗浄を使用してもよい。
最後に、中間体3(段階9)(DAA塩)を形成してもよい。説明的な例では、TBME(例えば、VBF(段階6)1kg当り22.9kg)およびエタノール(EtOH;無水、例えば、VBF(段階6)1kg当り4.49kgを、上記の鹸化調製ステップで得られた有機層に添加してもよい。中間体2(段階8)対TBMEの比は、TBME 1L当り0.040〜0.079kgの中間体2(段階8)の範囲に含まれていてもよく、更なる実施形態では、TBME 1L当り0.040kgの中間体2(段階8)の設定ポイントを含んでいてもよい。1つの実施形態では、TBME(kg):EtOH(kg)の比は、7.78〜9.08であってもよく、更なる実施形態では、7.78であってもよい。次に、TBME中28%wt/wt溶液としての(+)−デヒドロアビエチルアミン(1.44当量)を、得られた混合物に添加してもよい。1つの実施形態では、(+)−デヒドロアビエチルアミン投入量は、1.44〜1.76モル当量であってもよく、更なる実施形態では、1.44モル当量であってもよい。この反応混合物を、45〜55℃に加熱し、20分間NLT撹拌し、2時間NLTの期間にわたって25〜30℃に冷却し、この温度で1時間NLT撹拌し、45〜55℃に加熱し、20分間NLT撹拌し、2時間NLTの期間にわたって15〜25℃に冷却し、4時間NLT撹拌し、1時間NLTの期間にわたって0〜5℃に冷却し、1時間NLT撹拌してもよく、沈殿固形物を、遠心分離で収集し、TBMEで洗浄し、例えば最高速度で20±5分間遠心する。収集したウェットケーキを、0〜5℃に冷却しておいたエタノール(無水、例えば、VBF(段階6)1kg当り11.2kg)に添加する。混合物を、この温度で30〜40分間撹拌し、その後、例えば最高速度で20±5分間遠心分離する。この洗浄ウェットケーキを、HPLCによる純度分析にかける。予め設定された仕様、例えば、(R,R)−trans−中間体3(段階9)が99.0面積%NLTであることおよび総不純物が2.0%NMTであることを満たす材料を、乾燥減量(LOD)が予め設定された仕様、例えば、LODが2.0%NMTであることを満たすまで、80torr NMTおよび60±5℃にて12時間NLT乾燥する。この仕様に合格しない材料を、80torr NMTおよび60±5℃にて6時間NLT更に乾燥し、再サンプリングする。
仕様を満たす材料を放出する。純度試験に合格しない場合、ウェットケーキを再度処理する。第2の処理は、ウェットケーキを、45%NaOH水溶液(例えば、VBF(段階6)1kg当り3.60kg)、水道水(例えば、VBF(段階6)1kg当り11.9kg)、およびトルエン(例えば、VBF(段階6)1kg当り4.49kg)の冷却(例えば、0〜10℃)混合物に添加すること、約30分間撹拌すること、約30分間沈降させること、および相分離することを含んでいてもよい。水層に、TBME(例えば、VBF(段階6)1kg当り12.0kg)を添加し、混合物を冷却する(例えば、0〜10℃に)。水層のpHを、リン酸(85%水溶液、例えば、24.0kg)および必要に応じて10%NaOH水溶液で、4.0〜4.5の値に調整する。十分に混合および沈降させた後、層を分離し、有機相を水道水で数回洗浄する。中間体3(段階9)DAA塩の形成、単離、乾燥、ならびにLODおよび純度分析を、上述のように繰り返す。仕様を満たす材料を放出する。
(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミド(中間体4)(段階10)の合成
中間体4の合成は、(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキシル酸(+)−デヒドロアビエチルアミン塩(中間体3)から遊離カルボン酸を遊離させ、その後対応する酸塩化物を経て、アミドである(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパン−カルボキサミド(中間体4(段階10))へと変換することを含んでいてもよい。この反応は、下記のスキームで示される。

[スキーム4]
説明的な例では、中間体4は、中間体3(段階9)(1当量、例えば、20.0〜21.0kg)を、20〜30℃にて、水道水(例えば、中間体3(段階9)1kg当り5.2L)、45%NaOH水溶液(4当量)、およびトルエン(例えば、中間体3(段階9)1kg当り1.8kg)の第1の反応混合物に添加することにより合成してもよい。その後、混合物を、25〜30℃にて30分間NLT撹拌し、30〜40分間沈降させ、有機層を廃棄した。トルエン(例えば、中間体3(段階9)1kg当り1.8kg)を、水層に添加し、その後60分間NLT撹拌し、30〜40分間沈降させ、有機層を廃棄する。トルエン洗浄を繰り返してもよい。次に、塩化ナトリウム(例えば、中間体3(段階9)1kg当り0.3kg)を、残りの水層に添加する。温度を15〜20℃に調整する。酢酸ブチル(例えば、中間体3(段階9)1kg当り1.2kg)を添加する。塩酸(32%水溶液、2.9当量)をゆっくりと添加する。60分間NLT撹拌し、30〜40分間沈降させる間、温度を15〜20℃に維持する。水層のpHが3を超える場合、pHが3未満になるまで、追加の32%HC1を添加する。層を分離させ、後の使用のために有機層を取っておく。水層を酢酸ブチル(例えば、中間体3(段階9)1kg当り1.1kg)に添加する。60分間NLT撹拌し、30〜40分間沈降させる間、温度を15〜20℃に維持する。水層を破棄する。有機層を混合し、バッチ残留物が約30Lになるまで、<100torrおよび82℃ NMTのポット温度にて蒸留する。留出物を廃棄する。酢酸ブチル(例えば、中間体3(段階9)1kg当り0.71kg)をバッチ残留物に添加する。バッチ残留物が約30Lになるまで、<100torrおよび82℃ NMTのポット温度にて、この混合物を蒸留する。留出物を廃棄する。カールフィッシャー水分分析が、およそ0.1%未満の値を示すまで、このステップを、更に1回または2回繰り返す。バッチ残留物を15〜20℃に冷却する。DMF(0.03当量)および塩化チオニル(1.3当量)を添加する。混合物を、50〜55℃に加熱し、1.5〜2.0時間撹拌し、21±4℃に冷却し、HPLCで分析する。予め設定された仕様、例えば中間体2(段階8)が1.0%NMTであることを満たす材料を、更に処理する。この仕様を満たさない場合、追加の塩化チオニル(0.12当量)を添加し、混合物を50〜55℃に加熱し、1.5〜2.0時間撹拌し、21±4℃に冷却し、再サンプリングする。その後、水酸化アンモニウム(9.0当量)および水道水(例えば、中間体3(段階9)1kg当り0.8L)の混合物を、0〜5℃に冷却する。バッチ温度を0〜10℃に維持しつつ、予め設定された仕様を満たした前段階ステップの酸塩化物溶液を、何回かに別けて添加する。添加した後、撹拌を0〜10℃にて30〜40分間継続する。その後、n−ヘプタン(例えば、中間体3(段階9)1kg当り1.3kg)を添加し、撹拌を0〜10℃にて2〜3時間継続する。得られた沈殿物を遠心分離で収集する。ウェットケーキを、水道水(例えば、15L/カート)を用いて遠心分離カートで洗浄し、その後、最大速度で20±5分間遠心する。このウェットケーキを、0〜10℃にて、酢酸ブチル(例えば、中間体3(段階9)1kg当り0.71kg)およびn−ヘプタン(例えば、中間体3(段階9)1kg当り0.3kg)の混合物に添加する。得られた混合物を、0〜10℃にて30〜40分間撹拌し、その後、最高速度で20±5分間遠心分離する。ウェットケーキをHPLCで分析して、予め設定された仕様、例えば中間体4(段階10)が98.0%NLTであることを満たすか否かを決定する。この仕様を満たさない場合、ウェットケーキを、酢酸ブチルおよびn−ヘプタンの別の混合物に添加し、ウェットケーキが、HPLCにより分析される仕様、例えば、中間体4(段階10)が98.0%NLTであることを満たすまで、撹拌および遠心分離を繰り返す。予め設定された仕様を満たしたウェットケーキを、予め設定された仕様、例えば、LODが1.0%NMTであり、カールフィッシャー分析による水分が0.2%NMTであることが満たされるまで、80torr NMTおよび45±5°Cにて12時間NLT乾燥する。これら予め設定された仕様に合格しない材料は、80torr NMTおよび45±5℃で6時間NLT更に乾燥し、再サンプリングする。予め設定された仕様を満たす材料を、中間体4(段階10)として放出し、それを、1つまたは複数のポリエチレン(PE)バッグに保管してもよく、また、それらを紙製ドラム内に密封してもよい。
((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミニウムクロライド(中間体5)の合成
中間体5の合成は、(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミド(中間体4)を、有機溶媒中で水素化アルミニウムリチウムと接触および反応させ、その後、水性精密検査し、得られたアミンをその塩酸塩として単離することを含んでいてもよい。この反応は、下記のスキームで示される。

[スキーム5]
1つの例では、中間体5(段階11)を上記のスキームにより合成してもよく、合成は、下記の手順を含んでいてもよい。例えば、反応器(例えば、SS316)を、還流アセトン(例えば、100kg)で洗浄し、排出し、減圧下で1〜2時間乾燥し、Nガスを充満させる。上記で作成した中間体4(段階10)(1.00当量)、およびTHF(例えば、中間体4(段階10)1kg当り8kg)を、乾燥反応器に添加し、−10℃に冷却する。水素化アルミニウムリチウム(LAH)溶液(THF中10%、3.5〜3.8当量、1当量=中間体4(段階10)1mol当り1mol)を、バッチ温度を25℃ NMTに維持しつつ、何回かに別けて添加する。LAH供給ラインをTHF(例えば、10kg)ですすぐ。混合物を20〜30℃に加温し、20〜30分間撹拌する。その後、0.1kg/cm NMTの内圧を維持しつつ、混合物を65〜70℃にゆっくりと加温する。混合物を、65〜70℃にて3〜4時間撹拌し、15〜25℃に冷却し、予め設定された仕様、例えば、中間体4(段階10)が1.0%NMTであることが満たされるか否かをHPLCにより分析する。この条件が満たされない場合、前段階の加温および冷却を撹拌しながら繰り返す。およそ1.0%以下の中間体4しか残留していないことがHPLCにより示されたら、反応混合物を−5〜5℃に冷却する。THF水溶液(91%、例えば、10%LAH 1kg当り1.09kg)を、25℃ NMTにて添加し、撹拌を20〜30分間継続する。水の投入量(THF水溶液として)は、LAH 1kg当り1.0〜1.1Lの水であってもよく、更なる実施形態では、LAH 1kg当り1.1Lの水であってもよい。NaOH水溶液(5.3%、例えば、10%LAH 1kg当り0.37kg)を、25℃ NMTにて添加し(発熱反応を引き起こす)、撹拌を20〜30分間継続する。NaOH投入量は、LAH 1mol当り0.17〜0.19molであってもよく、更なる実施形態では、LAH 1mol当り0.18〜0.19mol/molであってもよい。混合物を、ゆっくりと65〜70℃に加温し、3〜4時間撹拌し、15〜25℃に冷却する。THF(例えば、30kg)を使用して混合物をろ過し、反応混合物のフィルターへの移動を完了させる。ろ過液を容器に保管する。その後、このろ過ケーキを、反応器に戻し、新たなTHF(10%LAH 1kg当り1.3kg)に再懸濁する。混合物を、15〜25℃にて1〜1.5時間撹拌し、その後、THF(10%LAH 1kg当り0.65kg)を使用してろ過し、再度移動を完了させる。ウェットケーキを廃棄する。ろ過液を混合し、バッチ残留物が約40Lになるまで、<100torrおよび40℃ NMTにて蒸留する。留出物を廃棄する。TBME(例えば、30kg)を、残りのバッチ残留物に添加し、バッチ残留物が約40Lになるまで、混合物を<100torrおよび40℃ NMTにて蒸留する。留出物を廃棄する。その後、TBME(例えば、20kg)および水道水(例えば、20kg)をバッチ残留物に添加し、混合物を15〜20℃にて60〜70分間撹拌し、30〜40分間沈降させる。水層を破棄する。その後、水道水(例えば、20kg)を有機層に添加し、混合物を15〜20℃にて60〜70分間撹拌し、30〜40分間沈降させる。水層を破棄する。有機層を、誘導結合プラズマ発光分光法で分析して、予め設定された仕様、例えば、Liが10ppm NMT、Alが10ppm NMTであることが満たされているか否かを決定する。これら仕様が満たされない場合、仕様が満たされるまで、水道水による洗浄を繰り返す。仕様が満たされたら、無水エタノール(例えば、30kg)を、仕様を満たす有機層に添加し、混合物を、バッチ残留物が約40Lになるまで、<100torrおよび40℃ NMTのポット温度にて蒸留する。留出物を廃棄する。無水エタノール(例えば、82.8kg)を残留物に添加し、混合物を、バッチ残留物が約40Lになるまで、<100torrおよび40℃ NMTにて再度蒸留する。留出物を廃棄する。予め設定された仕様が満たされるまで、例えば、カールフィッシャー水分分析が0.5%NMTの値を示すまで、この共沸蒸留ステップを、更に1または2回繰り返してもよい。その後、バッチ残留物を、15〜25℃に冷却し、TBME((tert−ブチルメチルエーテル)、例えば、中間体4(段階10)1kg当り13.8kg)を、残留物に添加する。混合物を0〜5℃に冷却する。塩化水素(HC1)ガス(3.3当量)を、25℃ NMTにて何回かに別けて添加し、添加完了後、撹拌を20〜25℃にて60〜70分間継続する。予め設定された仕様、例えば、pHが1.0NMTであることが満たされない場合、仕様が満たされるまで、更なるHC1ガスを添加する。得られた沈殿物を遠心分離により収集する。ウェットケーキを、TBME:EtOH(無水、1.5:1.0、例えば、5.0kg)を用いて遠心分離カートで洗浄し、ケーキを最大速度で20±5分間遠心分離する。ケーキをHPLCで分析して、予め設定された仕様、例えば中間体5(段階11)が98.0%NLTであることを満たすか否かを決定する。この仕様が満たされない場合、仕様が満たされるまで、ケーキを、TBME:EtOH(無水、1.5:1.0、中間体4(段階10)1kg当り6.6kg)に再懸濁し、遠心分離し、洗浄することができる。仕様を満たすケーキを、LODが1.0%NMTになるまで、80torr NMTおよび35±5℃にて12時間NLT乾燥する。予め設定された仕様を満たさない材料は、80torr NMTおよび35±5℃にて6時間NLT更に乾燥し、再サンプリングする。予め設定された仕様を満たす材料を、中間体5(段階11)として放出する。得られた中間体5(段階11)を、1つまたは複数のPEバッグに保管してもよく、次いでそれを紙製ドラムに密封してもよい。
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)−メチル)プロピオンアミド(タシメルテオン、粒径低減前(すなわち未微粉化))の合成
上記で開示した中間体を合成した後、未微粉化のタシメルテオンを合成してもよい。タシメルテオンの最終ステップ合成は、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミニウムクロライド(中間体5)を、有機溶媒および塩基の存在下で塩化プロピオニルと接触および反応させることを含んでいてもよい。この反応は、下記のスキームで示される。

[スキーム6]
例えば、例示的な最終ステップ合成では、45%NaOH水溶液(8当量)を、0〜10℃にて、中間体5(段階11、1.00当量)、TBME(例えば、中間体5(段階11)1kg当り15.2kg)、および水道水(例えば、中間体5(段階11)1kg当り14.6kg)の混合物に添加することにより、第1の反応混合物を調製する。塩化プロピオニル(1.28〜1.46当量)を5〜10℃にて添加し、その後、混合物をこの温度にて90〜120分間撹拌する。この混合物をHPLCで分析して、得られた溶液が、予め設定された仕様、例えば中間体5(段階11)が0.10%NMTであることを満たすか否かを決定することができる。25〜30Cで撹拌し、その後沈降させた後、水層を廃棄する。有機層を5%NaOH水溶液で洗浄し、その後、水で2回洗浄することができる。有機層をろ過し、約<100Torr(1Torr〜=1mmHg=133.3Pa)および約</=58℃で蒸留し、留出物を廃棄する。この残留物を含有するポットに、95%EtOH(例えば、24.0kg)を清浄フィルターから投入する。得られた混合物を、約<100Torrおよび約</=58℃で蒸留し、留出物を廃棄し、この溶媒交換ステップを、新たな95%EtOHを用いて更に2回繰り返す。残留物を含有するポットに、95%EtOHおよびプロセス水を、フィルターを介して添加する。EtOHの容積は、2.8〜5.0当量容積であってもよく、タシメルテオン(未微粉化)の収率が中間体5(段階11)投入量に基づき90%であると仮定して、1当量容積=タシメルテオン(未微粉化)1kg当り1LのEtOH/kgである。別の実施形態では、EtOHの容積は、3.0〜5.0当量容積であってもよい。EtOH:水の比は、0.7:1〜1.4:1(容積/容積)であってもよい。別の実施形態では、EtOH:水の比は、1.0:1.0であってもよい。混合物を、35〜40℃に加温し、30〜40分間撹拌し、60〜120分間の期間にわたって13〜17℃に冷却し、60〜90分間13〜17°Cにて撹拌してもよい。結晶化が生じない場合、タシメルテオン(未微粉化)結晶を混合物にシーディングしてもよい。プロセス水を添加した後(例えば、中間体5(段階11)1kg当り19.2kgを、10〜15℃にて2〜2.5時間にわたって添加し、その後、同じ温度にて60〜90分間撹拌する)、沈殿物を、遠心分離により収集し、ケーキをHPLCで分析して、産物が、予め設定された仕様、例えば、タシメルテオンが99%NLTであり、不純物5および6が0.15%NMT a/aであり、他の個々の不純物、例えば不純物1、2、3、4、および7が0.10%NMT a/aであることを満たすか否かを決定する。予め設定された仕様を満たす材料を、例えば、n−ヘプタンで洗浄し、その後、例えばLODが0.7%NMTになるまで乾燥する。また、乾燥した材料の粒径を分析する。例えば不純物5および6に関する予め設定された仕様を満たさない材料を、上述のように反応槽に戻して再結晶化する、つまり加温したEtOH:水に再溶解し、ろ過し、混合物を冷却して結晶化させ、更に、水をゆっくりと添加することにより沈殿させ、遠心分離により収集する。上記の不純物仕様を満たすそのような再処理材料を、上述のように洗浄、乾燥、および分析し、その後、それを、微粉化、破棄、または更に再処理するために放出する。
上述の最終ステップ合成は例示に過ぎない。例えば、他の有機溶媒またはそれらの混合物を、tert−ブチルメチルエーテル(TBME)の代わりに使用することができる。また、NaOH以外にまたはNaOHと共に塩基を使用することができる。結晶化用の溶媒は、C1〜C4アルコール水溶液、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、またはtert−ブタノール等の水性溶媒、またはMTBE−EtOH−シクロヘキサン等の有機溶媒の混合物であってもよい。
タシメルテオン原薬を、未微粉化原薬として保管し、カプセル製剤製造で使用する直前に、必要に応じて微粉化する。ジェットミルおよび乾燥窒素雰囲気の使用が、均一な粒径の達成、良好な取扱特性および損失最小化に有利であることが判明している。粒径仕様を満たす原薬(例えば、プロセスでは、D0.1<15μm(つまり、粒子の10%が直径15μm以下である);放出の場合は、D0.5<30μm;D0.9<75μm;および(i)D90仕様は<105μmに設定;(ii)D50仕様は<45μmに設定;および(iii)D10仕様は<15μmに設定)を、例えば、シリカ乾燥剤等の乾燥剤と共に、例えばPEバッグおよび/またはアルミニウムバッグにしっかりと密封する。
医薬品等級タシメルテオン、つまりヒトでの使用が意図されているタシメルテオンを製造する場合、該当する管轄の規制当局により要求される場合があるもの等の、製造管理および品質管理基準(GMP)が使用される。その後、バルク医薬品等級タシメルテオンを、賦形剤と混合してバルク製剤化タシメルテオンを調製し、その後、各々が10mg〜100mgの、例えば20mgのタシメルテオンを含む、カプセル剤等の適切な医薬品剤形に形成する。
上記の記載では、微粉化が参照されている。しかしながら、当業者であれば、他の粒径低減技法、例えばふるい分け、高剪断流体処理等も使用することができることを認識するだろう。同様に、ジェットミル以外の微粉化技法、例えば粉砕、低温粉砕、切断、または衝撃付与等も使用することができる。
本発明は、限定的な数の実施形態のみに関して詳細に記載されているが、本発明は、そのような開示されている実施形態に限定されないことは容易に理解されるはずである。むしろ、本発明は、本明細書に記載されていないが、本発明の趣旨および範囲に対応する、任意の数の変異、変更、置換、または等価な構成を組み込むように改変することができる。加えて、本発明の種々の実施形態が記載されているが、本発明の態様は、記載されている実施形態の幾つかのみを含んでいてもよいことが理解される。したがって、本発明は、上述の記載により限定されず、添付の特許請求の範囲の範囲によってのみ限定されるものとする。
本発明は、限定的な数の実施形態のみに関して詳細に記載されているが、本発明は、そのような開示されている実施形態に限定されないことは容易に理解されるはずである。むしろ、本発明は、本明細書に記載されていないが、本発明の趣旨および範囲に対応する、任意の数の変異、変更、置換、または等価な構成を組み込むように改変することができる。加えて、本発明の種々の実施形態が記載されているが、本発明の態様は、記載されている実施形態の幾つかのみを含んでいてもよいことが理解される。したがって、本発明は、上述の記載により限定されず、添付の特許請求の範囲の範囲によってのみ限定されるものとする。
本発明の例示的な態様を以下に記載する。
<1>
高純度医薬品等級タシメルテオンを合成するためのプロセスであって、
(a)((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩をプロピオニル化して、タシメルテオンを得ること、
(b)ステップ(a)で生成されたタシメルテオンを結晶化させること、
(c)ステップ(b)の結晶化タシメルテオンを、不純物5(N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド)および不純物6(2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート)のうちの1つまたは両方の存在について分析すること、および
(d)(i)結晶化タシメルテオンが、不純物5もしくは不純物6もしくはその両方についての、予め設定された仕様を満たす場合、高純度医薬品等級タシメルテオンを回収する、または
(d)(ii)結晶化タシメルテオンが、不純物5もしくは不純物6もしくはその両方についての、予め設定された仕様を満たさない場合、タシメルテオンを更に精製してステップ(c)および(d)を繰り返すか、または前記バッチを廃棄する、ことを含むプロセス。
<2>
前記プロピオニル化ステップが、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を、ハロゲン化プロピオニル、無水プロピオニル、プロピオニルエステル、プロピオニルアミド、プロピオニルイミダゾリド、または、プロピオン酸および脱水剤もしくはその産物と接触させることを含む、<1>に記載のプロセス。
<3>
前記プロピオニル化ステップが、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を、有機溶媒の存在下で、ハロゲン化プロピオニル、無水プロピオニル、プロピオニルエステル、プロピオニルアミド、プロピオニルイミダゾリド、または、プロピオン酸および脱水剤もしくはその産物と接触させることを含む、<2>に記載のプロセス。
<4>
前記プロピオニル化ステップが、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を、有機溶媒および水溶性塩基の存在下で、塩化プロピオニルと接触させることを含む、<3>に記載のプロセス。
<5>
前記有機溶媒が、tert−ブチルメチルエーテル(TBME)を含み、前記水溶性塩基が、NaOHを含む、<4>に記載のプロセス。
<6>
前記((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩が、中間体5(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミニウムクロライド)であり、前記プロピオニル化ステップの後で、前記結晶化ステップの前に、タシメルテオンの前記混合物を、中間体5の存在について分析し、前記混合物が、中間体5についての予め設定された仕様を満たさない場合、ステップ(a)を繰り返すか、または前記混合物を廃棄する、<3>、<4>、または<5>に記載のプロセス。
<7>
前記プロピオニル化ステップの後で、前記結晶化ステップの前に、タシメルテオンの前記混合物を水溶性塩基で洗浄し、水層を廃棄する、<3>、<4>、<5>、または<6>に記載のプロセス。
<8>
前記洗浄された混合物を蒸留し、留出物を廃棄する、<7>に記載のプロセス。
<9>
前記蒸留ステップが、エタノール中で、約58℃以下のポット温度および約100mmHg未満の圧力にて実施される、<8>に記載のプロセス。
<10>
前記結晶化ステップが、タシメルテオンとC1〜C4アルカノールの混合物を撹拌および加温することにより、タシメルテオンを溶解することを含む、<1>、<2>、<3>、<4>、<5>、<6>、<7>、<8>、または<9>に記載のプロセス。
<11>
C1〜C4アルカノールとタシメルテオンの前記混合物が、撹拌しながら約35〜40℃に加温され、その後撹拌しながら約13〜17℃に冷却される、<10>に記載のプロセス。
<12>
前記結晶化ステップが、所望によりシーディングを含んでいてもよい、<1>〜<11>のいずれか1項に記載のプロセス。
<13>
前記分析ステップが、HPLCにより実施される、<1>〜<12>のいずれか1項に記載のプロセス。
<14>
不純物5および不純物6の1つまたは両方についての前記予め設定された仕様が、各々0.15%以下(面積/面積)である、<1>〜<13>のいずれか1項に記載のプロセス。
<15>
前記更なる精製が、タシメルテオンを再結晶化させることを含む、<1>〜<14>のいずれか1項に記載のプロセス。
<16>
ステップ(d)で回収した結晶の粒径が、医薬品等級タシメルテオンの粒径仕様を満たすように低減される、<1>に記載のプロセス。
<17>
医薬品等級タシメルテオンの粒径仕様を満たす結晶を、1つまたは複数の賦形剤と混合し、医薬品等級タシメルテオンを含む医薬組成物を調製する、<16>に記載のプロセス。
<18>
高純度医薬品等級タシメルテオンのバッチを調製するためのプロセスであって、
(a)GMP条件下で合成されたタシメルテオンのバッチを、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、
のうちの1つまたは複数の存在について分析すること、および
(b)前記バッチが、不純物1、不純物2、不純物3、不純物4、不純物5、不純物6、および不純物7の1つまたは複数の量に関する予め設定された仕様を満たす場合、タシメルテオンの処理を継続して、製剤用のタシメルテオンのバルク原薬を調製すること、または
(c)タシメルテオンが、前記予め設定された仕様を満たさない場合、(再結晶、摩砕、抽出、またはクロマトグラフィー等により)タシメルテオンを更に精製しステップ(a)および(b)を繰り返すか、または前記バッチを廃棄する、
ことを含むプロセス。
<19>
前記1つまたは複数の不純物の各々についての予め設定された仕様が、0.15wt%以下である、<18>に記載のプロセス。
<20>
前記ステップ(a)分析が、HPLCにより実施される、<18>または<19>に記載のプロセス。
<21>
ステップ(a)が、前記バッチを、不純物3、不純物5、および不純物6の存在について分析することを含み、前記ステップ(a)分析が、HPLCにより実施される、<18>または<19>に記載のプロセス。
<22>
ステップ(a)が、前記バッチを、不純物1、不純物2、不純物3、不純物4、不純物5、不純物6、および不純物7の全てについてその存在を分析することを含み、前記ステップ(a)分析が、HPLCにより実施される、<21>に記載のプロセス。
<23>
タシメルテオンの処理を継続するための更なる予め設定された仕様が、タシメルテオンが面積で純度95.0%以上であることを含む、<18>または<19>に記載のプロセス。
<24>
タシメルテオンの処理を継続するための更なる予め設定された仕様が、他の任意の不純物の量が各々単独では0.10面積%以下であることを含む、<23>に記載のプロセス。
<25>
前記ステップ(b)のタシメルテオン処理が、粒径仕様を満たすようにタシメルテオン粒径を低減することを含む、<18>、<19>、<20>、<21>、または<22>に記載のプロセス。
<26>
前記粒径低減が、不活性ガス(例えば、窒素、アルゴン、またはヘリウム)下でジェットミルを使用して実施され、前記粒径仕様が、(i)約105μm未満に設定されたD90仕様;(ii)約45μm未満に設定されたD50仕様;および(iii)約15μm未満に設定されたD10仕様の1つまたは複数を含む、<25>に記載のプロセス。
<27>
前記ステップ(b)のタシメルテオン処理が、前記微粉化タシメルテオンを、1つまたは複数の薬学的に許容される賦形剤と混合して、タシメルテオンのバルク原薬を調製することを更に含む、<26>に記載のプロセス。
<28>
前記混合されたタシメルテオンが、ヒトに使用するための医薬品用量単位の医薬組成物に使用するために調製される、<27>に記載のプロセス。
<29>
ステップ(a)で分析されるタシメルテオンの前記バッチが、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミニウムクロライド(中間体5)を、有機溶媒および塩基の存在下で塩化プロピオニルと接触および反応させることにより合成される、<18>、<19>、<20>、<21>、<22>、<23>、<24>、または<25>に記載のプロセス。
<30>
((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミニウムクロライド(中間体5)を、前記塩基の存在下で塩化プロピオニルと接触および反応させることにより合成されたタシメルテオンが、その後、前記ステップ(a)分析の前に、前記反応混合物をろ過してタシメルテオンを含むろ過液を調製し、その後タシメルテオンを溶媒中で結晶化させることにより、結晶形態で調製される、<29>に記載のプロセス。
<31>
タシメルテオンを結晶化するための前記溶媒が、アルコール水溶液、例えばEtOHおよび水である、<30>に記載のプロセス。
<32>
タシメルテオンを再結晶化するための前記溶媒が、アルコール水溶液、例えば、EtOHおよび水である、<18>、<19>、<20>、<21>、<22>、<23>、<24>、<25>、<26>、<27>、<28>、<29>、または<30>に記載のプロセス。
<33>
前記有機溶媒がTBMEであり、前記塩基がNaOHである、<29>、<30>、<31>、または<32>に記載のプロセス。
<34>
(i)前記ろ過液が、結晶化の前に蒸留により濃縮され、
(ii)アルコール、例えばEtOHが添加され、
(iii)残留物/アルコールの前記混合物が、蒸留により濃縮され、
(iv)残留物が、アルコール水溶液、例えばEtOHおよび水に溶解され、
(v)タシメルテオンが、アルコール/水の前記溶液から結晶化され、および
(vi)タシメルテオン結晶が、前記ステップ(a)分析のために回収される、<30>、<31>、<32>、または<33>に記載のプロセス。
<35>
前記ステップ(c)再結晶が、必要に応じて、前記予め設定された仕様を満たさなかったタシメルテオンを、ステップ(iv)、(v)、および(vi)にかけることにより実施される、<34>に記載のプロセス。
<36>
前記結晶化ステップ(v)が、シーディングにより促進される、<34>または<35>に記載のプロセス。
<37>
高純度医薬品等級タシメルテオンのバッチを分析するための方法であって、
(a)GMP条件下で合成されたタシメルテオンのバッチを準備すること、
(b)タシメルテオンの前記バッチを、HPLCを使用して、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、のうちの1つまたは複数の存在について分析することを含む方法。
<38>
高純度タシメルテオンのバッチを調製するプロセスであって、
(a)結晶形態のタシメルテオンのバッチを合成すること、および
(b)前記バッチを、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、のうちの1つまたは複数について分析すること;
ならびに
(c)タシメルテオンの前記バッチが、
(i)不純物1〜7の1つまたは複数を0.15wt%以下含み、
および
(ii)前記バッチに含まれる未同定不純物がいずれも単独で、0.10wt%以下である場合、
(d)タシメルテオンを、粒径仕様を満たすように微粉化すること、または
(e)タシメルテオンの前記バッチが、(c)(i)および(ii)に記載の純度仕様を満たさない場合、タシメルテオンの前記バッチを再結晶化および再分析する、ことを含むプロセス。
<39>
バルクタシメルテオン組成物の純度を評価するための方法であって、
(a)不純物1〜7のうちの1つまたは複数について各々の標準バッチを準備すること、および
(b)前記標準バッチを参照マーカとして使用して、不純物1〜7のうちの前記1つまたは複数の、タシメルテオン組成物中におけるレベルを決定することを含む方法。
<40>
ヒト使用用の医薬組成物の調製に使用されるタシメルテオンのバッチであって、
少なくとも98.0面積%の純度であり、不純物1〜7のうちの1つまたは複数が0.15wt%以下しか含まれていないことが分析および示されているタシメルテオンを含む、タシメルテオンのバッチ。
<41>
以下の制限:
タシメルテオンの前記バッチが、前記1つまたは複数の不純物の各々に関する予め設定された仕様を順守しているかについて分析され、前記予め設定された仕様が、前記1つまたは複数の不純物がいずれも0.15wt%を超える量で存在しないことであること、
前記分析がHPLCにより実施されること、
前記分析が、不純物3、5、および6の全ての存在を検出するために実施されること、
前記分析が、不純物1、2、3、4、5、6、および7の全ての存在を検出するために実施されること、
前記分析が、タシメルテオンが、少なくとも98.0面積%を占めることを決定することを含むこと、
前記分析が、他の不純物の量が、いずれも単独では0.10面積%以下であることを決定することを含むこと、
のうちの1つまたは複数が当てはまる、<37>、<38>、または<39>に記載の方法。
<42>
以下の不純物:
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
N−(((1R,2R)−2−(2−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)のどれも約0.15%を超える濃度では含有しない精製タシメルテオン。
<43>
約0.15%を超える濃度の他の不純物を含有しない、<42>に記載の組成物。
<44>
以下の不純物:
(+)−デヒドロアビエチルアミンまたはその塩、
2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−シクロプロパンカルボン酸またはその塩(中間体3)、
(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミド(中間体4)、
((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩(中間体5)、
4−ビニル−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF)のどれも約0.15重量%を超える濃度では含有しない、<42>に記載のタシメルテオン。
<45>
約0.1重量%を超える濃度の関連不純物質を含有しない、<42>〜<44>のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
<46>
ジアゾ酢酸エチルを約10ppmを超える濃度で含有しない、<42>〜<45>のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
<47>
以下の不純物:塩化プロピオニル、無水プロピオニル、プロピオン酸、またはプロピオン酸エチルのいずれも、個々にまたは全体で、約20ppmを超える濃度で含有しない、<42>〜<46>のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
<48>
不純物の合計量が約2.0%未満である、<42>〜<47>のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
<49>
N−(((1S,2S)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミドを、N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミドの両エナンチオマーの合計量に対して、約0.4%を超える濃度で含有しない、<42>〜<48>のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
<50>
<1>〜<36>および<38>のいずれか1項に開示されているプロセスにより調製される、<42>〜<49>のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
<51>
タシメルテオンのバッチの純度を決定するための方法であって、
a)前記バッチの試料の高速液体クロマトグラムまたは超高速液体クロマトグラムを取得すること、
b)不純物に対応する前記クロマトグラムのピークを特定すること、および
c)前記ピークの面積測定を行って、それらの相対的濃度を決定することを含み、
前記方法が、
(i)以下の物質:
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、のうちの1つまたは複数について各々の標準バッチを準備すること、
(ii)前記標準バッチを参照マーカとして使用して、前記タシメルテオン組成物の分析に使用されたクロマトグラフィー条件下での前記物質の溶出特性を決定することを更に含む方法。
<52>
タシメルテオンを合成するための方法であって、
(1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミドを、有機溶媒中で還元剤および酸と接触および反応させて、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を調製すること;および
((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンを、プロピオニル化試薬と接触および反応させて、タシメルテオンを調製することを含む方法。
<53>
前記還元剤が、LiAlH4を含む、<52>に記載の方法。
<54>
前記酸が、HClを含む、<52>または<53>に記載の方法。
<55>
前記有機溶媒が、TBMEを含む、<52>、<53>、または<54>に記載の方法。
<56>
前記プロピオニル化剤が、塩化プロピオニルを含む、<52>、<53>、<54>、または<55>に記載の方法。
<57>
前記プロピオニル化ステップが、有機溶媒および塩基を更に含む、<52>、<53>、<54>、<55>、または<56>に記載の方法。
<58>
前記塩基がNaOHを含む、<57>に記載の方法。
<59>
前記((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミドを還元して、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を調製する、<52>に記載の方法。
<60>
<52>〜<58>のいずれか1項に記載のプロセスにより調製されたタシメルテオンを含む組成物。

Claims (60)

  1. 高純度医薬品等級タシメルテオンを合成するためのプロセスであって、
    (a)((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩をプロピオニル化して、タシメルテオンを得ること、
    (b)ステップ(a)で生成されたタシメルテオンを結晶化させること、
    (c)ステップ(b)の結晶化タシメルテオンを、不純物5(N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド)および不純物6(2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート)のうちの1つまたは両方の存在について分析すること、および
    (d)(i)結晶化タシメルテオンが、不純物5もしくは不純物6もしくはその両方についての、予め設定された仕様を満たす場合、高純度医薬品等級タシメルテオンを回収する、または
    (d)(ii)結晶化タシメルテオンが、不純物5もしくは不純物6もしくはその両方についての、予め設定された仕様を満たさない場合、タシメルテオンを更に精製してステップ(c)および(d)を繰り返すか、または前記バッチを廃棄する、ことを含むプロセス。
  2. 前記プロピオニル化ステップが、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を、ハロゲン化プロピオニル、無水プロピオニル、プロピオニルエステル、プロピオニルアミド、プロピオニルイミダゾリド、または、プロピオン酸および脱水剤もしくはその産物と接触させることを含む、請求項1に記載のプロセス。
  3. 前記プロピオニル化ステップが、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を、有機溶媒の存在下で、ハロゲン化プロピオニル、無水プロピオニル、プロピオニルエステル、プロピオニルアミド、プロピオニルイミダゾリド、または、プロピオン酸および脱水剤もしくはその産物と接触させることを含む、請求項2に記載のプロセス。
  4. 前記プロピオニル化ステップが、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を、有機溶媒および水溶性塩基の存在下で、塩化プロピオニルと接触させることを含む、請求項3に記載のプロセス。
  5. 前記有機溶媒が、tert−ブチルメチルエーテル(TBME)を含み、前記水溶性塩基が、NaOHを含む、請求項4に記載のプロセス。
  6. 前記((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩が、中間体5(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミニウムクロライド)であり、前記プロピオニル化ステップの後で、前記結晶化ステップの前に、タシメルテオンの前記混合物を、中間体5の存在について分析し、前記混合物が、中間体5についての予め設定された仕様を満たさない場合、ステップ(a)を繰り返すか、または前記混合物を廃棄する、請求項3、請求項4、または請求項5に記載のプロセス。
  7. 前記プロピオニル化ステップの後で、前記結晶化ステップの前に、タシメルテオンの前記混合物を水溶性塩基で洗浄し、水層を廃棄する、請求項3、請求項4、請求項5、または請求項6に記載のプロセス。
  8. 前記洗浄された混合物を蒸留し、留出物を廃棄する、請求項7に記載のプロセス。
  9. 前記蒸留ステップが、エタノール中で、約58℃以下のポット温度および約100mmHg未満の圧力にて実施される、請求項8に記載のプロセス。
  10. 前記結晶化ステップが、タシメルテオンとC1〜C4アルカノールの混合物を撹拌および加温することにより、タシメルテオンを溶解することを含む、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、または請求項9に記載のプロセス。
  11. C1〜C4アルカノールとタシメルテオンの前記混合物が、撹拌しながら約35〜40℃に加温され、その後撹拌しながら約13〜17℃に冷却される、請求項10に記載のプロセス。
  12. 前記結晶化ステップが、所望によりシーディングを含んでいてもよい、請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載のプロセス。
  13. 前記分析ステップが、HPLCにより実施される、請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載のプロセス。
  14. 不純物5および不純物6の1つまたは両方についての前記予め設定された仕様が、各々0.15%以下(面積/面積)である、請求項1〜請求項13のいずれか1項に記載のプロセス。
  15. 前記更なる精製が、タシメルテオンを再結晶化させることを含む、請求項1〜請求項14のいずれか1項に記載のプロセス。
  16. ステップ(d)で回収した結晶の粒径が、医薬品等級タシメルテオンの粒径仕様を満たすように低減される、請求項1に記載のプロセス。
  17. 医薬品等級タシメルテオンの粒径仕様を満たす結晶を、1つまたは複数の賦形剤と混合し、医薬品等級タシメルテオンを含む医薬組成物を調製する、請求項16に記載のプロセス。
  18. 高純度医薬品等級タシメルテオンのバッチを調製するためのプロセスであって、
    (a)GMP条件下で合成されたタシメルテオンのバッチを、
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
    1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
    N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
    N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
    2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
    N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、
    のうちの1つまたは複数の存在について分析すること、および
    (b)前記バッチが、不純物1、不純物2、不純物3、不純物4、不純物5、不純物6、および不純物7の1つまたは複数の量に関する予め設定された仕様を満たす場合、タシメルテオンの処理を継続して、製剤用のタシメルテオンのバルク原薬を調製すること、または
    (c)タシメルテオンが、前記予め設定された仕様を満たさない場合、(再結晶、摩砕、抽出、またはクロマトグラフィー等により)タシメルテオンを更に精製しステップ(a)および(b)を繰り返すか、または前記バッチを廃棄する、
    ことを含むプロセス。
  19. 前記1つまたは複数の不純物の各々についての予め設定された仕様が、0.15wt%以下である、請求項18に記載のプロセス。
  20. 前記ステップ(a)分析が、HPLCにより実施される、請求項18または請求項19に記載のプロセス。
  21. ステップ(a)が、前記バッチを、不純物3、不純物5、および不純物6の存在について分析することを含み、前記ステップ(a)分析が、HPLCにより実施される、請求項18または請求項19に記載のプロセス。
  22. ステップ(a)が、前記バッチを、不純物1、不純物2、不純物3、不純物4、不純物5、不純物6、および不純物7の全てについてその存在を分析することを含み、前記ステップ(a)分析が、HPLCにより実施される、請求項21に記載のプロセス。
  23. タシメルテオンの処理を継続するための更なる予め設定された仕様が、タシメルテオンが面積で純度95.0%以上であることを含む、請求項18または請求項19に記載のプロセス。
  24. タシメルテオンの処理を継続するための更なる予め設定された仕様が、他の任意の不純物の量が各々単独では0.10面積%以下であることを含む、請求項23に記載のプロセス。
  25. 前記ステップ(b)のタシメルテオン処理が、粒径仕様を満たすようにタシメルテオン粒径を低減することを含む、請求項18、請求項19、請求項20、請求項21、または請求項22に記載のプロセス。
  26. 前記粒径低減が、不活性ガス(例えば、窒素、アルゴン、またはヘリウム)下でジェットミルを使用して実施され、前記粒径仕様が、(i)約105μm未満に設定されたD90仕様;(ii)約45μm未満に設定されたD50仕様;および(iii)約15μm未満に設定されたD10仕様の1つまたは複数を含む、請求項25に記載のプロセス。
  27. 前記ステップ(b)のタシメルテオン処理が、前記微粉化タシメルテオンを、1つまたは複数の薬学的に許容される賦形剤と混合して、タシメルテオンのバルク原薬を調製することを更に含む、請求項26に記載のプロセス。
  28. 前記混合されたタシメルテオンが、ヒトに使用するための医薬品用量単位の医薬組成物に使用するために調製される、請求項27に記載のプロセス。
  29. ステップ(a)で分析されるタシメルテオンの前記バッチが、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミニウムクロライド(中間体5)を、有機溶媒および塩基の存在下で塩化プロピオニルと接触および反応させることにより合成される、請求項18、請求項19、請求項20、請求項21、請求項22、請求項23、請求項24、または請求項25に記載のプロセス。
  30. ((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミニウムクロライド(中間体5)を、前記塩基の存在下で塩化プロピオニルと接触および反応させることにより合成されたタシメルテオンが、その後、前記ステップ(a)分析の前に、前記反応混合物をろ過してタシメルテオンを含むろ過液を調製し、その後タシメルテオンを溶媒中で結晶化させることにより、結晶形態で調製される、請求項29に記載のプロセス。
  31. タシメルテオンを結晶化するための前記溶媒が、アルコール水溶液、例えばEtOHおよび水である、請求項30に記載のプロセス。
  32. タシメルテオンを再結晶化するための前記溶媒が、アルコール水溶液、例えば、EtOHおよび水である、請求項18、請求項19、請求項20、請求項21、請求項22、請求項23、請求項24、請求項25、請求項26、請求項27、請求項28、請求項29、または請求項30に記載のプロセス。
  33. 前記有機溶媒がTBMEであり、前記塩基がNaOHである、請求項29、請求項30、請求項31、または請求項32に記載のプロセス。
  34. (i)前記ろ過液が、結晶化の前に蒸留により濃縮され、
    (ii)アルコール、例えばEtOHが添加され、
    (iii)残留物/アルコールの前記混合物が、蒸留により濃縮され、
    (iv)残留物が、アルコール水溶液、例えばEtOHおよび水に溶解され、
    (v)タシメルテオンが、アルコール/水の前記溶液から結晶化され、および
    (vi)タシメルテオン結晶が、前記ステップ(a)分析のために回収される、請求項30、請求項31、請求項32、または請求項33に記載のプロセス。
  35. 前記ステップ(c)再結晶が、必要に応じて、前記予め設定された仕様を満たさなかったタシメルテオンを、ステップ(iv)、(v)、および(vi)にかけることにより実施される、請求項34に記載のプロセス。
  36. 前記結晶化ステップ(v)が、シーディングにより促進される、請求項34または請求項35に記載のプロセス。
  37. 高純度医薬品等級タシメルテオンのバッチを分析するための方法であって、
    (a)GMP条件下で合成されたタシメルテオンのバッチを準備すること、
    (b)タシメルテオンの前記バッチを、HPLCを使用して、
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
    1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
    N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
    N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
    2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
    N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、のうちの1つまたは複数の存在について分析することを含む方法。
  38. 高純度タシメルテオンのバッチを調製するプロセスであって、
    (a)結晶形態のタシメルテオンのバッチを合成すること、および
    (b)前記バッチを、
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
    1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
    N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
    N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
    2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
    N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、のうちの1つまたは複数について分析すること;
    ならびに
    (c)タシメルテオンの前記バッチが、
    (i)不純物1〜7の1つまたは複数を0.15wt%以下含み、
    および
    (ii)前記バッチに含まれる未同定不純物がいずれも単独で、0.10wt%以下である場合、
    (d)タシメルテオンを、粒径仕様を満たすように微粉化すること、または
    (e)タシメルテオンの前記バッチが、(c)(i)および(ii)に記載の純度仕様を満たさない場合、タシメルテオンの前記バッチを再結晶化および再分析する、ことを含むプロセス。
  39. バルクタシメルテオン組成物の純度を評価するための方法であって、
    (a)不純物1〜7のうちの1つまたは複数について各々の標準バッチを準備すること、および
    (b)前記標準バッチを参照マーカとして使用して、不純物1〜7のうちの前記1つまたは複数の、タシメルテオン組成物中におけるレベルを決定することを含む方法。
  40. ヒト使用用の医薬組成物の調製に使用されるタシメルテオンのバッチであって、
    少なくとも98.0面積%の純度であり、不純物1〜7のうちの1つまたは複数が0.15wt%以下しか含まれていないことが分析および示されているタシメルテオンを含む、タシメルテオンのバッチ。
  41. 以下の制限:
    タシメルテオンの前記バッチが、前記1つまたは複数の不純物の各々に関する予め設定された仕様を順守しているかについて分析され、前記予め設定された仕様が、前記1つまたは複数の不純物がいずれも0.15wt%を超える量で存在しないことであること、
    前記分析がHPLCにより実施されること、
    前記分析が、不純物3、5、および6の全ての存在を検出するために実施されること、
    前記分析が、不純物1、2、3、4、5、6、および7の全ての存在を検出するために実施されること、
    前記分析が、タシメルテオンが、少なくとも98.0面積%を占めることを決定することを含むこと、
    前記分析が、他の不純物の量が、いずれも単独では0.10面積%以下であることを決定することを含むこと、
    のうちの1つまたは複数が当てはまる、請求項37、請求項38、または請求項39に記載の方法。
  42. 以下の不純物:
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
    N−(((1R,2R)−2−(2−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
    1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
    N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
    N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
    2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
    N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)のどれも約0.15%を超える濃度では含有しない精製タシメルテオン。
  43. 約0.15%を超える濃度の他の不純物を含有しない、請求項42に記載の組成物。
  44. 以下の不純物:
    (+)−デヒドロアビエチルアミンまたはその塩、
    2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−シクロプロパンカルボン酸またはその塩(中間体3)、
    (1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミド(中間体4)、
    ((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩(中間体5)、
    4−ビニル−2,3−ジヒドロベンゾフラン(VBF)のどれも約0.15重量%を超える濃度では含有しない、請求項42に記載のタシメルテオン。
  45. 約0.1重量%を超える濃度の関連不純物質を含有しない、請求項42〜請求項44のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
  46. ジアゾ酢酸エチルを約10ppmを超える濃度で含有しない、請求項42〜請求項45のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
  47. 以下の不純物:塩化プロピオニル、無水プロピオニル、プロピオン酸、またはプロピオン酸エチルのいずれも、個々にまたは全体で、約20ppmを超える濃度で含有しない、請求項42〜請求項46のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
  48. 不純物の合計量が約2.0%未満である、請求項42〜請求項47のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
  49. N−(((1S,2S)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミドを、N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミドの両エナンチオマーの合計量に対して、約0.4%を超える濃度で含有しない、請求項42〜請求項48のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
  50. 請求項1〜請求項36および請求項38のいずれか1項に開示されているプロセスにより調製される、請求項42〜請求項49のいずれか1項に記載のタシメルテオン。
  51. タシメルテオンのバッチの純度を決定するための方法であって、
    a)前記バッチの試料の高速液体クロマトグラムまたは超高速液体クロマトグラムを取得すること、
    b)不純物に対応する前記クロマトグラムのピークを特定すること、および
    c)前記ピークの面積測定を行って、それらの相対的濃度を決定することを含み、
    前記方法が、
    (i)以下の物質:
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−3−メチルブタンアミド(不純物1)、
    N−(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)−ペンタンアミド(不純物2)、
    1,3−ビス(((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)尿素(不純物3)、
    N−(((1R,2R)−2−(ベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物4)、
    N−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)−1−((2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)(プロピオンアミド)メチル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物5)、
    2−ヒドロキシ−6−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェネチル2−(2−ヒドロキシエチル)−3−(2−(プロピオンアミドメチル)シクロプロピル)フェニルカーボネート(不純物6)、
    N−(((1R,2R)−2−(3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メチル)プロピオンアミド(不純物7)、のうちの1つまたは複数について各々の標準バッチを準備すること、
    (ii)前記標準バッチを参照マーカとして使用して、前記タシメルテオン組成物の分析に使用されたクロマトグラフィー条件下での前記物質の溶出特性を決定することを更に含む方法。
  52. タシメルテオンを合成するための方法であって、
    (1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミドを、有機溶媒中で還元剤および酸と接触および反応させて、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を調製すること;および
    ((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンを、プロピオニル化試薬と接触および反応させて、タシメルテオンを調製することを含む方法。
  53. 前記還元剤が、LiAlH4を含む、請求項52に記載の方法。
  54. 前記酸が、HClを含む、請求項52または請求項53に記載の方法。
  55. 前記有機溶媒が、TBMEを含む、請求項52、請求項53、または請求項54に記載の方法。
  56. 前記プロピオニル化剤が、塩化プロピオニルを含む、請求項52、請求項53、請求項54、または請求項55に記載の方法。
  57. 前記プロピオニル化ステップが、有機溶媒および塩基を更に含む、請求項52、請求項53、請求項54、請求項55、または請求項56に記載の方法。
  58. 前記塩基がNaOHを含む、請求項57に記載の方法。
  59. 前記((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロパンカルボキサミドを還元して、((1R,2R)−2−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−4−イル)シクロプロピル)メタンアミンまたはその塩を調製する、請求項52に記載の方法。
  60. 請求項52〜請求項58のいずれか1項に記載のプロセスにより調製されたタシメルテオンを含む組成物。
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