JP2020053217A5 - - Google Patents
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Description
上記第２のＸ線源及び上記第３のＸ線源では、異なる波長のＸ線それぞれの焦点位置が異なってしまうし、焦点位置を同じくしようとすると、移動制御系をさらに備えることが必要となる。上記第２のＸ線源では対象となるＸ線封入管の位置を移動させ、Ｘ線の光軸調整が必要となる。上記第３のＸ線源では、Ｘ線封入管の位置を移動させて、対象となる陽極の位置を調整させることとなる。加えて、第２のＸ線源及び第３のＸ線源では、装置の大型化を招く。第２のＸ線源では、発生源の焦点サイズを小さくするのは困難である。
（７）本発明に係るＸ線分析装置は、上記（１）乃至（６）のいずれかに記載のＸ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置より出射されるＸ線ビームが照射される試料を支持する、支持台と、前記試料から発生する散乱Ｘ線を検出する、検出器と、を備えていてもよい。
図５Ａ及び図５Ｂは、関連技術２に係るＸ線源部１１の構成を示す概略図である。図５Ａ及び図５Ｂは、図４Ａ及び図４Ｂに対応しており、図５Ａに第１のＸ線Ｘ１を発生させる場合の陽極４２の平面図が、図５Ｂに第２のＸ線Ｘ２を発生させる場合の陽極４２の平面図が、それぞれ示されている。関連技術２に係るＸ線源部１１は、陽極４２の−ｘ軸方向側に、第１の防磁シャッター３５Ａ及び第１の永久磁石３２Ａが順に、陽極４２の＋ｘ軸方向側に、第２の防磁シャッター３５Ｂ及び第２の永久磁石３２Ｂが順に、それぞれ配置されている。なお、関連技術２に係るＸ線源部１１は回転駆動系３３は備えていない。
図６Ａ及び図６Ｂは、関連技術３に係るＸ線源部１１の構成を示す概略図である。図６Ａ及び図６Ｂは、関連技術１に係る陽極４２を示す図４Ａ及び図４Ｂに、関連技術２に係る陽極４２を示す図５Ａ及び図５Ｂに、それぞれ対応しており、図６Ａに第１のＸ線Ｘ１を発生させる場合の陽極４２の平面図が、図６Ｂに第２のＸ線Ｘ２を発生させる場合の陽極４２の平面図が、それぞれ示されている。関連技術３に係るＸ線源部１１は、陽極４２の−ｘ軸方向側に、防磁シャッター３５及び永久磁石３２が順に配置されている。なお、関連技術３に係るＸ線源部１１は回転駆動系３３は備えていない。
Claims (7)
- 熱電子が放出される陰極と、印加される電位差により前記熱電子が加速され電子線となり照射される陽極と、を備える、Ｘ線封入管と、
前記電子線の進行方向と交差する第１の方向に延伸する磁場を前記電子線に印加するよう、前記Ｘ線封入管の近傍に配置される、磁場発生部と、
前記Ｘ線封入管を、前記陰極と前記陽極との中心軸に対して回転させる、回転駆動系と、
を備える、Ｘ線発生装置であって、
前記陽極の表面は、前記中心軸との交点を通る分割直線に対して、一方側に第１の領域が、他方側に第２の領域が、それぞれ配置され、
前記第１の領域には第１の金属が、前記第２の領域には前記第１の金属とは異なる第２の金属が、それぞれ配置され、
前記回転駆動系が前記Ｘ線封入管を回転させることにより、駆動時には、前記分割直線が前記第１の方向に沿うよう、前記Ｘ線封入管が前記磁場発生部に対して配置される、
ことを特徴とする、Ｘ線発生装置。 - 請求項１に記載のＸ線発生装置であって、
前記電子線の断面は延伸する偏平形状を有し、
駆動時には、前記偏平形状の延伸方向が前記第１の方向に沿うよう、前記Ｘ線封入管が前記磁場発生部に対して配置される、
ことを特徴とする、Ｘ線発生装置。 - 請求項１又は２に記載のＸ線発生装置であって、
前記磁場発生部は、永久磁石である、
ことを特徴とする、Ｘ線発生装置。 - 請求項１乃至３のいずれかに記載のＸ線発生装置であって、
前記陽極の表面は円形状を有し、前記中心軸との交点は前記円形状の中心と実質的に一致する、
ことを特徴とする、Ｘ線発生装置。 - 請求項１乃至４のいずれかに記載のＸ線発生装置であって、
前記第１の方向は、前記電子線の進行方向と実質的に直交する、
ことを特徴とする、Ｘ線発生装置。 - 請求項１乃至５のいずれかに記載のＸ線発生装置であって、
前記Ｘ線封入管は、前記第１の領域に配置される前記第１の金属に前記電子線が照射される第１の照射領域から発生するＸ線を通過させる第１のＸ線窓と、前記第２の領域に配置される前記第２の金属に前記電子線が照射される第２の照射領域から発生するＸ線を通過させる第２のＸ線窓と、を備える、
ことを特徴とする、Ｘ線発生装置。 - 請求項１乃至６のいずれかに記載のＸ線発生装置と、
前記Ｘ線発生装置より出射されるＸ線ビームが照射される試料を支持する、支持台と、
前記試料から発生する散乱Ｘ線を検出する、検出器と、
を備える、Ｘ線分析装置。
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