JP2020025932A - 制御装置及び固液分離システム - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、従来の固液分離システムの構成例を示す図である。固液分離システム90は、溶解槽91、第1攪拌機92、高分子溶液注入ポンプ93(注入装置の一例)、凝集槽94、第2攪拌機95及び固液分離装置96を備える。溶解槽91は、顆粒状の高分子凝集剤を溶媒である水(以下「希釈水」という。)に溶解させ、高分子凝集剤の水溶液(以下「高分子溶液」という。)を調製するための水槽である。第1攪拌機92は、溶解槽91に投入された高分子凝集剤及び希釈水を攪拌する装置である。高分子溶液注入ポンプ93は、溶解槽91において調製された高分子溶液を凝集槽94に注入する装置である。凝集槽94は、高分子溶液と被処理水とを混和させて被処理水中の固形物を凝集させるための水槽である。第2攪拌機95は、高分子溶液と被処理水とを混和させるために攪拌する装置である。固液分離装置96は、固形物が凝集した被処理水を固形物と水分とに分離する装置である。
図2は、第1の実施形態の固液分離システムの構成例を示す図である。第1の実施形態の固液分離システム100は、溶解槽1、高分子溶液注入ポンプ2、凝集槽3、固液分離装置4及び制御装置5を備える。溶解槽1は、顆粒状の高分子凝集剤を溶媒である水(以下「希釈水」という。)に溶解させ、高分子凝集剤の水溶液(以下「高分子溶液」という。)を調製するための水槽である。溶解槽1には、高分子溶液を攪拌する第1撹拌機11が備えられる。
[手順1]高分子凝集剤と純水との混合比が異なる複数パターンの高分子溶液を調製する。
[手順2]手順1で調製した各パターンの高分子溶液の濃度指標値を測定する。
[手順3]手順2で測定された濃度指標値と、混合比から算出される凝集剤濃度とをパターンごとに対応づける。
図4は、第2の実施形態の固液分離システムの構成例を示す図である。第2の実施形態の固液分離システム100aは、流量計32及び固形物濃度計33を備えない点、制御装置5に代えて制御装置5aを備える点で第1の実施形態の固液分離システム100と異なる。また、制御装置5aは、高分子溶液注入ポンプ2の注入率を制御することに代えて高分子溶液注入ポンプ2の動作状態を切り替える制御を行う点で第1の実施形態における制御装置5と異なる。その他の構成は、第1の実施形態と同様であるため、図4では同様の構成について図2と同じ符号を付すことにより説明を省略する。
図6は、第3の実施形態の固液分離システムの構成例を示す図である。第3の実施形態の固液分離システム100bは、水質計12、流量計32及び固形物濃度計33を備えない点、制御装置5に代えて制御装置5bを備える点、改質装置6、希釈水注入ポンプ7及び水質計71をさらに備える点で第1の実施形態の固液分離システム100と異なる。また、制御装置5bは、高分子溶液注入ポンプ2の注入率を制御することに代えて改質装置6及び希釈水注入ポンプ7の動作状態を切り替える制御を行う点で第1の実施形態における制御装置5と異なる。その他の構成は、第1の実施形態と同様であるため、図6では同様の構成について図2と同じ符号を付すことにより説明を省略する。
第1実施形態の制御装置5は、注入率制御部54に加え、第2の実施形態における動作状態制御部55、及び第3の実施形態における動作状態制御部55bのいずれか一方又は両方を備えるように構成されてもよい。
Claims (10)
- 高分子凝集剤と希釈水とを混合して高分子溶液を調製する溶解槽と、前記溶解槽において調製された高分子溶液を被処理水に注入して被処理水中の固形物を凝集させる凝集槽と、前記固形物が凝集した被処理水を固形物と水分とに分離する固液分離装置と、を備える固液分離システムの制御装置であって、
前記希釈水の水質に基づいて前記高分子溶液の調製処理を制御する、又は前記高分子溶液の水質に基づいて前記被処理水に対する高分子溶液の注入処理を制御する制御部を備える、
制御装置。 - 前記固液分離システムは、前記希釈水から所定の成分を除去し、前記成分の除去によって改質した希釈水を前記溶解槽に供給する改質装置をさらに備え、
前記制御部は、前記改質装置によって改質された希釈水の水質に基づいて前記改質装置の動作を制御する、
請求項1に記載の制御装置。 - 前記改質装置は、活性炭処理によって前記希釈水中の残留塩素成分を除去し、
前記制御部は、前記改質装置によって改質された希釈水の残留塩素濃度に基づいて前記改質装置の動作を制御する、
請求項2に記載の制御装置。 - 前記制御部は、前記残留塩素濃度が所定の閾値以上である場合、前記改質装置が希釈水を改質する動作、又は改質後の希釈水を前記溶解槽に供給する動作を抑止する、
請求項3に記載の制御装置。 - 前記改質装置は、逆浸透膜処理によって前記希釈水中の2価イオン成分を除去し、
前記制御部は、前記改質装置によって改質された希釈水の2価イオン濃度又は導電率に基づいて前記改質装置の動作を制御する、
請求項2から4のいずれか一項に記載の制御装置。 - 前記2価イオン成分は、硫酸イオン、カルシウムイオン又はマグネシウムイオンである、
請求項5に記載の制御装置。 - 前記制御部は、前記2価イオン濃度又は導電率が所定の閾値以上である場合、前記改質装置が希釈水を改質する動作、又は改質後の希釈水を前記溶解槽に供給する動作を抑止する、
請求項5又は6に記載の制御装置。 - 前記固液分離システムは、前記高分子溶液を被処理水に注入する注入装置をさらに備え、
前記制御部は、前記高分子溶液の紫外可視光吸光度、コロイド電荷量又は流動電流値の測定値の分散値が所定の閾値以下である場合に、前記注入装置が高分子溶液を被処理水に注入する動作を抑止する、
請求項1に記載の制御装置。 - 前記制御部は、高分子溶液の紫外可視光吸光度、コロイド電荷量又は流動電流値と、前記高分子溶液の高分子凝集剤濃度との関係性に基づき、前記凝集槽内の高分子溶液の紫外可視光吸光度、コロイド電荷量又は流動電流値の測定値から前記凝集槽内の高分子溶液の高分子凝集剤濃度を推定し、推定した前記高分子凝集剤濃度に基づいて、被処理水に対する前記高分子溶液の注入量を決定する、
請求項1に記載の制御装置。 - 高分子凝集剤と希釈水とを混合して高分子溶液を調製する溶解槽と、
前記溶解槽において調製された高分子溶液を被処理水に注入して被処理水中の固形物を凝集させる凝集槽と、
前記固形物が凝集した被処理水を固形物と水分とに分離する固液分離装置と、
前記希釈水の水質に基づいて前記高分子溶液の調製処理を制御する、又は前記高分子溶液の水質に基づいて前記被処理水に対する高分子溶液の注入処理を制御する制御装置と、
を備える固液分離システム。
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