JP2020025045A - 導電ペースト、配線基板、導電ペーストの製造方法、および、配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本開示の一態様では、AlレジネートまたはZrレジネートが0.5〜5.0重量%含有されているようにしてもよい。含有量が5.0重量%を超える場合には、白金粉末の焼結が過度に阻害され、配線層を形成することができないためである。また、含有量が0.5重量%未満である場合には、焼成による配線層の収縮を抑制する効果が小さいためである。
本開示の更に別の態様は、少なくとも1つのセラミック層と少なくとも1つの配線層とが積層された配線基板における配線層の形成に用いられる導電ペーストの製造方法であって、ペースト化工程と、レジネート添加工程とを備える。ペースト化工程では、Pt粉末に、ペースト化のためのペースト用成分を加えることによりペーストを作製する。レジネート添加工程では、ペースト化工程により作製されたペーストに、AlレジネートまたはZrレジネートを添加する。
本実施形態の配線基板1は、図1に示すように、例えば、2層のセラミック層11,12と、2層の配線層21,22とを備える。
配線層21,22はそれぞれ、セラミック層11,12上に形成される導電層である。配線層21,22は、導電成分である白金(Pt)と、アルミナ(Al2O3)等のセラミック成分と、アルミニウム(Al)とを含有している。配線層21,22におけるAlの含有量は、0.2重量%以下である。
次に、導電ペースト100の製造方法を説明する。なお、導電ペースト100は、図4に示す。
配線基板1を製造するためには、図3に示すように、まず、S110にて、セラミックグリーンシートを準備する。具体的には、まず、セラミック層11,12を作製するための原料粉末として、アルミナ(Al2O3)粉末と、シリカ等の金属酸化物の粉末とを用意する。本実施形態では、アルミナ粉末の平均粒径は約2μmである。また、バインダ成分としてのブチラール系樹脂と、成形後のグリーンシートに適度な柔軟性を与える可塑剤成分としてのジ・オチクル・フタレート(以下、DOP)と、適当なスラリー粘度とシート強度を持たせる溶剤とを用意する。
次に、配線基板1におけるAlレジネートの効果を評価するために実施した評価試験と、その試験結果について説明する。
比較例は、Alレジネートを含有していない導電ペーストを用いて配線パターンを印刷したグリーンシート積層体を焼成して作製された評価基板である。
また導電ペースト100では、Pt粉末の平均粒径は0.6μm以下である。これにより、導電ペースト100は、細い配線層21,22を形成することができる。
このように構成された配線基板1は、導電ペースト100を用いて製造された配線基板であり、導電ペースト100と同様の効果を得ることができる。すなわち、配線基板1は、セラミック層11,12の表面における欠陥の発生を抑制することができる。
例えば上記実施形態では、導電ペースト100がPt粉末とAlレジネートとを含有する形態を示したが、導電ペースト100は、Alレジネートの代わりにZrレジネートを含有するようにしてもよい。
Claims (11)
- 少なくとも1つのセラミック層と少なくとも1つの配線層とが積層された配線基板における前記配線層の形成に用いられる導電ペーストであって、
Pt粉末と、AlレジネートまたはZrレジネートを含有する導電ペースト。 - 請求項1に記載の導電ペーストであって、
前記Pt粉末の平均粒径は1μm以下である導電ペースト。 - 請求項2に記載の導電ペーストであって、
前記Pt粉末の平均粒径は0.6μm以下である導電ペースト。 - 請求項1〜請求項3の何れか1項に記載の導電ペーストであって、
前記Alレジネートまたは前記Zrレジネートが0.5〜5.0重量%含有されている導電ペースト。 - 少なくとも1つのセラミック層と少なくとも1つの配線層とが積層された配線基板であって、
前記配線層は、Ptを主成分として含有するとともに、AlまたはZrを含有する配線基板。 - 請求項5に記載の配線基板であって、
前記配線層におけるAlまたはZrの含有量は、0.2重量%以下である配線基板。 - 少なくとも1つのセラミック層と少なくとも1つの配線層とが積層された配線基板における前記配線層の形成に用いられる導電ペーストの製造方法であって、
Pt粉末に、ペースト化のためのペースト用成分を加えることによりペーストを作製するペースト化工程と、
前記ペースト化工程により作製された前記ペーストに、AlレジネートまたはZrレジネートを添加するレジネート添加工程と
を備える導電ペーストの製造方法。 - 請求項7に記載の導電ペーストの製造方法であって、
前記レジネート添加工程では、前記Alレジネートまたは前記Zrレジネートを0.5〜5.0重量%添加する導電ペーストの製造方法。 - 請求項7または請求項8に記載の導電ペーストの製造方法であって、
前記Pt粉末の平均粒径は1μm以下である導電ペーストの製造方法。 - 請求項9に記載の導電ペーストの製造方法であって、
前記Pt粉末の平均粒径は0.6μm以下である導電ペーストの製造方法。 - 少なくとも1つのセラミック層と少なくとも1つの配線層とが積層された配線基板の製造方法であって、
焼成後に前記セラミック層となるグリーンシートの表面に、請求項1に記載の導電ペーストを用いて、焼成後に前記配線層となる配線パターンを形成する配線形成工程と、
前記配線形成工程において前記グリーンシートの表面に前記配線パターンを形成した後に、前記グリーンシートと前記配線パターンとを同時焼成する焼成工程と
を備える配線基板の製造方法。
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