JP2020024914A - 発光パネル、電子機器、および発光パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】表示ムラを低減することの可能な発光パネルと、それを備えた電子機器と、発光パネルの製造方法とを提供する。【解決手段】複数の画素１１と、第１の方向に延在し、第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの画素１１を区画する複数の規制部とを備えている。複数の画素１１には、少なくとも、第１の方向の長さが互いに異なり、発光層を共有する第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙが含まれている。第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙは、少なくとも、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとを区画する区画領域を介して、第１の方向に隣接して配置されている。【選択図】図４
Description
本開示は、発光パネル、電子機器、および発光パネルの製造方法に関する。
発光素子を用いた発光パネルとして、種々のものが提案されている。例えば、発光素子として有機材料を用いたＯＬＥＤ（Organic light-emitting diode）パネルが上市されている。そのようなＯＬＥＤパネルは、例えば、特許文献１〜３に開示されている。また、発光素子の発光層に無機材料を用いたＱＬＥＤ（Quantum Dot light-emitting diode）パネルが、現在、開発中である。ＯＬＥＤパネルおよびＱＬＥＤパネルにおいて、発光素子を形成する際に、塗布が用いられる。
ところで、塗布型の発光パネルでは、塗布膜によって画素が形成されるので、塗布膜の膜厚制御が、輝度ムラなどの表示ムラの低減において重要である。そのため、表示ムラを低減することの可能な発光パネルと、それを備えた電子機器と、発光パネルの製造方法とを提供することが望ましい。
本開示の一実施の形態に係る発光パネルは、複数の画素と、第１の方向に延在し、第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの画素を区画する複数の第１規制部と、第２の方向に延在し、第１の方向に隣接する２つの画素を区画する複数の第２規制部とを備えている。複数の画素には、少なくとも、第１の方向の長さが互いに異なり、発光層を共有する第１画素および第２画素が含まれている。第１画素および第２画素は、少なくとも、第２規制部を介して、第１の方向に隣接して配置されている。
本開示の一実施の形態の電子機器は、上記の発光パネルと、上記の発光パネルを駆動する駆動回路とを備えている。
本開示の一実施の形態に係る発光パネルおよび電子機器では、第１の方向の長さが互いに異なり、発光層を共有する第１画素および第２画素が設けられている。これにより、例えば、第１画素および第２画素の発光層を塗布法により形成したときに、発光層の原料を含むインクが第２規制部を介して、第１画素と第２画素との間を連通する。従って、第１画素および第２画素の大きさにかかわらず、発光層の厚さを均一にすることができる。
本開示の一実施の形態の発光パネルの製造方法は、以下の２つを含む。
（１）表示領域と、表示領域の周囲の非表示領域と、表示領域および非表示領域の双方に設けられた複数の画素形成領域と、第１の方向に延在し、第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの画素形成領域を区画する複数の第１規制部と、第２の方向に延在し、第１の方向に隣接する２つの画素形成領域を区画する複数の第２規制部とを備え、複数の画素形成領域には、第１の方向の長さが互いに異なる第１画素および第２画素が含まれ、第１画素および第２画素は、第２規制部を介して、第１の方向に隣接して配置されたパネルを用意すること
（２）パネルのうち、表示領域だけでなく、非表示領域に対しても、インクを塗布することにより、表示領域に含まれる各画素形成領域だけでなく、非表示領域に含まれる各画素形成領域に対しても、発光層を含む画素を形成すること
（１）表示領域と、表示領域の周囲の非表示領域と、表示領域および非表示領域の双方に設けられた複数の画素形成領域と、第１の方向に延在し、第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの画素形成領域を区画する複数の第１規制部と、第２の方向に延在し、第１の方向に隣接する２つの画素形成領域を区画する複数の第２規制部とを備え、複数の画素形成領域には、第１の方向の長さが互いに異なる第１画素および第２画素が含まれ、第１画素および第２画素は、第２規制部を介して、第１の方向に隣接して配置されたパネルを用意すること
（２）パネルのうち、表示領域だけでなく、非表示領域に対しても、インクを塗布することにより、表示領域に含まれる各画素形成領域だけでなく、非表示領域に含まれる各画素形成領域に対しても、発光層を含む画素を形成すること
本開示の一実施の形態の発光パネルの製造方法では、パネルのうち、表示領域だけでなく、非表示領域に対しても、インクを塗布することにより、表示領域に含まれる各画素形成領域だけでなく、非表示領域に含まれる各画素形成領域に対しても、塗布膜を含む画素が形成される。これにより、第１画素および第２画素の大きさにかかわらず、発光層の厚さを均一にすることができる。
本開示の一実施の形態に係る発光パネル、電子機器、および発光パネルの製造方法によれば、第１画素および第２画素の大きさにかかわらず、発光層の厚さを均一にすることができるようにしたので、輝度ムラなどの表示ムラを低減することができる。なお、本開示の効果は、ここに記載された効果に必ずしも限定されず、本明細書中に記載されたいずれの効果であってもよい。
以下、本開示を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは、一例であって本開示を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。
＜１．実施の形態＞
[構成]
図１は、本開示の一実施の形態に係る発光装置１の概略構成例を表したものである。図２は、発光装置１に設けられた各画素１１の回路構成の一例を表したものである。発光装置１は、例えば、発光パネル１０、コントローラ２０およびドライバ３０を備えている。ドライバ３０は、例えば、発光パネル１０の外縁部分に実装されている。発光パネル１０は、行列状に配置された複数の画素１１を有している。コントローラ２０およびドライバ３０は、外部から入力された映像信号Ｄｉｎおよび同期信号Ｔｉｎに基づいて、発光パネル１０（複数の画素１１）を駆動する。
[構成]
図１は、本開示の一実施の形態に係る発光装置１の概略構成例を表したものである。図２は、発光装置１に設けられた各画素１１の回路構成の一例を表したものである。発光装置１は、例えば、発光パネル１０、コントローラ２０およびドライバ３０を備えている。ドライバ３０は、例えば、発光パネル１０の外縁部分に実装されている。発光パネル１０は、行列状に配置された複数の画素１１を有している。コントローラ２０およびドライバ３０は、外部から入力された映像信号Ｄｉｎおよび同期信号Ｔｉｎに基づいて、発光パネル１０（複数の画素１１）を駆動する。
（発光パネル１０）
発光パネル１０は、コントローラ２０およびドライバ３０によって各画素１１がアクティブマトリクス駆動されることにより、外部から入力された映像信号Ｄｉｎおよび同期信号Ｔｉｎに基づく画像を表示する。発光パネル１０は、行方向に延在する複数の走査線ＷＳＬと、列方向に延在する複数の信号線ＤＴＬおよび複数の電源線ＤＳＬと、行列状に配置された複数の画素１１とを有している。
発光パネル１０は、コントローラ２０およびドライバ３０によって各画素１１がアクティブマトリクス駆動されることにより、外部から入力された映像信号Ｄｉｎおよび同期信号Ｔｉｎに基づく画像を表示する。発光パネル１０は、行方向に延在する複数の走査線ＷＳＬと、列方向に延在する複数の信号線ＤＴＬおよび複数の電源線ＤＳＬと、行列状に配置された複数の画素１１とを有している。
走査線ＷＳＬは、各画素１１の選択に用いられるものであり、各画素１１を所定の単位（例えば画素行）ごとに選択する選択パルスを各画素１１に供給するものである。信号線ＤＴＬは、映像信号Ｄｉｎに応じた信号電圧Ｖｓｉｇの、各画素１１への供給に用いられるものであり、信号電圧Ｖｓｉｇを含むデータパルスを各画素１１に供給するものである。電源線ＤＳＬは、各画素１１に電力を供給するものである。
発光パネル１０に設けられた複数の画素１１には、赤色光を発する画素１１、緑色光を発する画素１１、および青色光を発する画素１１が含まれている。以下では、赤色光を発する画素１１は、画素１１Ｒと称され、緑色光を発する画素１１は、画素１１Ｇと称され、青色光を発する画素１１は、画素１１Ｂと称されるものとする。複数の画素１１において、画素１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂは、カラー画像の表示単位である表示画素１２（後述の図３参照）を構成している。なお、各表示画素１２には、例えば、さらに、他の色（例えば、白色や、黄色など）を発する画素１１が含まれていてもよい。また、各表示画素１２には、例えば、同色の複数の画素１１（例えば、青色光を発する２つの画素１１）が含まれていてもよい。従って、発光パネル１０に設けられた複数の画素１１は、所定の数ごとに表示画素１２としてグループ分けされている。各表示画素１２において、複数の画素１１は、所定の方向（例えば、行方向）に一列に並んで配置されている。
各信号線ＤＴＬは、後述の水平セレクタ３１の出力端に接続されている。各画素列には、例えば、複数の信号線ＤＴＬが１本ずつ、割り当てられている。各走査線ＷＳＬは、後述のライトスキャナ３２の出力端に接続されている。各画素行には、例えば、複数の走査線ＷＳＬが１本ずつ、割り当てられている。各電源線ＤＳＬは、電源の出力端に接続されている。各画素行には、例えば、複数の電源線ＤＳＬが１本ずつ、割り当てられている。
各画素１１は、画素回路１１−１と、発光素子１１−２とを有している。発光素子１１−２の構成については、後に詳述する。
画素回路１１−１は、発光素子１１−２の発光・消光を制御する。画素回路１１−１は、後述の書込走査によって各画素１１に書き込んだ電圧を保持する機能を有している。画素回路１１−１は、例えば、駆動トランジスタＴｒ１、書込トランジスタＴｒ２および保持容量Ｃｓを含んで構成されている。
書込トランジスタＴｒ２は、駆動トランジスタＴｒ１のゲートに対する、映像信号Ｄｉｎに対応した信号電圧Ｖｓｉｇの印加を制御する。具体的には、書込トランジスタＴｒ２は、信号線ＤＴＬの電圧をサンプリングするとともに、サンプリングにより得られた電圧を駆動トランジスタＴｒ１のゲートに書き込む。駆動トランジスタＴｒ１は、発光素子１１−２に直列に接続されている。駆動トランジスタＴｒ１は、発光素子１１−２を駆動する。駆動トランジスタＴｒ１は、書込トランジスタＴｒ２によってサンプリングされた電圧の大きさに応じて発光素子１１−２に流れる電流を制御する。保持容量Ｃｓは、駆動トランジスタＴｒ１のゲート−ソース間に所定の電圧を保持するものである。保持容量Ｃｓは、所定の期間中に駆動トランジスタＴｒ１のゲート−ソース間電圧Ｖｇｓを一定に保持する役割を有する。なお、画素回路１１−１は、上述の２Ｔｒ１Ｃの回路に対して各種容量やトランジスタを付加した回路構成となっていてもよいし、上述の２Ｔｒ１Ｃの回路構成とは異なる回路構成となっていてもよい。
各信号線ＤＴＬは、後述の水平セレクタ３１の出力端と、書込トランジスタＴｒ２のソースまたはドレインとに接続されている。各走査線ＷＳＬは、後述のライトスキャナ３２の出力端と、書込トランジスタＴｒ２のゲートとに接続されている。各電源線ＤＳＬは、電源回路と、駆動トランジスタＴｒ１のソースまたはドレインに接続されている。
書込トランジスタＴｒ２のゲートは、走査線ＷＳＬに接続されている。書込トランジスタＴｒ２のソースまたはドレインが信号線ＤＴＬに接続されている。書込トランジスタＴｒ２のソースおよびドレインのうち信号線ＤＴＬに未接続の端子が駆動トランジスタＴｒ１のゲートに接続されている。駆動トランジスタＴｒ１のソースまたはドレインが電源線ＤＳＬに接続されている。駆動トランジスタＴｒ１のソースおよびドレインのうち電源線ＤＳＬに未接続の端子が発光素子１１−２の陽極２１に接続されている。保持容量Ｃｓの一端が駆動トランジスタＴｒ１のゲートに接続されている。保持容量Ｃｓの他端が駆動トランジスタＴｒ１のソースおよびドレインのうち発光素子１１−２側の端子に接続されている。発光素子１１−２の陰極２７が定電圧線（例えばグラウンド線）に接続されている。
（ドライバ３０）
ドライバ３０は、例えば、水平セレクタ３１およびライトスキャナ３２を有している。水平セレクタ３１は、例えば、制御信号の入力に応じて（同期して）、コントローラ２０から入力されたアナログの信号電圧Ｖｓｉｇを、各信号線ＤＴＬに印加する。ライトスキャナ３２は、複数の画素１１を所定の単位ごとに走査する。
ドライバ３０は、例えば、水平セレクタ３１およびライトスキャナ３２を有している。水平セレクタ３１は、例えば、制御信号の入力に応じて（同期して）、コントローラ２０から入力されたアナログの信号電圧Ｖｓｉｇを、各信号線ＤＴＬに印加する。ライトスキャナ３２は、複数の画素１１を所定の単位ごとに走査する。
（コントローラ２０）
次に、コントローラ２０について説明する。コントローラ２０は、例えば、外部から入力されたデジタルの映像信号Ｄｉｎに対して所定の補正を行い、それにより得られた映像信号に基づいて、信号電圧Ｖｓｉｇを生成する。コントローラ２０は、例えば、生成した信号電圧Ｖｓｉｇを水平セレクタ３１に出力する。コントローラ２０は、例えば、外部から入力された同期信号Ｔｉｎに応じて（同期して）、ドライバ３０内の各回路に対して制御信号を出力する。
次に、コントローラ２０について説明する。コントローラ２０は、例えば、外部から入力されたデジタルの映像信号Ｄｉｎに対して所定の補正を行い、それにより得られた映像信号に基づいて、信号電圧Ｖｓｉｇを生成する。コントローラ２０は、例えば、生成した信号電圧Ｖｓｉｇを水平セレクタ３１に出力する。コントローラ２０は、例えば、外部から入力された同期信号Ｔｉｎに応じて（同期して）、ドライバ３０内の各回路に対して制御信号を出力する。
次に、図３〜図１０を参照して、発光素子１１−２について説明する。図３、図４、図５、図６、図７は、発光パネル１０の概略構成例を表したものである。図３には、発光パネル１０の表示領域１０Ａ内の平面構成例が示されている。表示領域１０Ａは、発光パネル１０において映像を表示する領域である。発光パネル１０は、表示領域１０Ａの他に、非表示領域１０Ｂを有している。非表示領域１０Ｂは、表示領域１０Ａの周囲に設けられている。非表示領域１０Ｂは、発光パネル１０の額縁に相当する領域である。非表示領域１０Ｂには、映像は表示されない。図４には、発光パネル１０における、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界部分の平面構成例が示されている。図５には、発光パネル１０全体の平面構成例が示されている。図６には、発光パネル１０における、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界部分の平面構成の一変形例が示されている。図７には、発光パネル１０全体の平面構成の一変形例が示されている。
図８は、図３の発光パネル１０のＡ−Ａ線での断面構成例を表したものである。図８には、画素１１の行方向の断面構成例が示されている。図９は、図３の発光パネル１０のＢ−Ｂ線での断面構成例を表したものである。図９には、複数の画素１１の列方向の断面構成例が示されている。図１０、図１１、図１２は、図４の発光パネル１０のＡ−Ａ線での断面構成例を表したものである。図１０、図１１、図１２には、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界付近の断面構成例が示されている。
発光パネル１０は、行列状に配置された複数の画素１１を有している。発光パネル１０に設けられた複数の画素１１には、上述したように、画素１１Ｒ、画素１１Ｇおよび画素１１Ｂが含まれており、画素１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂのグループごとに表示画素１２が割り当てられている。なお、各表示画素１２には、例えば、上述したように、さらに、他の色（例えば、白色や、黄色など）を発する画素１１が含まれていてもよい。また、各表示画素１２には、例えば、同色の複数の画素１１（例えば、青色光を発する２つの画素１１）が含まれていてもよい。
画素１１Ｒは、赤色の光を発する発光素子１１−２（１１ｒ）を含んで構成されている。画素１１Ｇは、緑色の光を発する発光素子１１−２（１１ｇ）を含んで構成されている。画素１１Ｂは、青色の光を発する発光素子１１−２（１１ｂ）を含んで構成されている。画素１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂは、ストライプ配列となっており、色ごとに行方向に並んで配置されている。各画素行において、同一色の光を発する複数の画素１１が、列方向に並んで配置されている。
発光パネル１０は、基板１６を有している。基板１６は、例えば、各発光素子１１−２および絶縁層１４などを支持する基材１６Ａと、基材１６Ａ上に設けられた配線層１６Ｂとによって構成されている。基材１６Ａは、例えば、透明基板等の光透過性を有する透光基板である。基材１６Ａは、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラスまたは石英などによって形成されている。基材１６Ａは、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、またはアルミナなどによって形成されていてもよい。基板１６Ａを樹脂で形成する場合、形成しやすさの為、例えば、一旦基材１６Ａをガラスなどの基板上に形成し、その後発光パネル１０を作製後に、機械的にガラス基材から剥離させる、または、レーザーを用いて剥離して形成する工程としてもよい。配線層１６Ｂには、例えば、各画素１１の画素回路１１−１が形成されており、各画素１１の画素回路１１−１を埋め込む平坦化膜が形成されている。基板１６の形状は、例えば、図５に示したように、方形状となっている。
発光パネル１０は、さらに、基板１６上に絶縁層１４を有している。絶縁層１４は、各画素１１を区画するためのものである。絶縁層１４の厚さの上限は、膜厚ばらつき、ボトム線幅の制御の観点から製造上形状制御の可能な範囲内となっていることが好ましい。また、絶縁層１４の厚さの上限は、露光工程での露光時間増大によるタクト増加を抑え、量産工程での生産性低下を抑えることの可能な範囲内となっていることがより好ましい。また、絶縁層１４の厚さの下限は、膜厚が薄くなるとともにボトム線幅を膜厚とほぼ同程度に細くする必要があることから、露光機および材料の解像度限界により決定される。絶縁層１４の厚さは、絶縁性の観点から、少なくとも、陽極２１の段差を被覆することの可能な厚さとなっている。
絶縁層１４は、複数の列規制部１４Ｃ、複数の行規制部１４Ｄおよび周囲規制部１４Ｅを有している。複数の列規制部１４Ｃ、複数の行規制部１４Ｄおよび周囲規制部１４Ｅによって、各画素１１が区画されている。図３〜図７において、黒く塗られた箇所が行規制部１４Ｄであり、灰色に塗られた箇所のうち、発光パネル１０の外縁部分が周囲規制部１４Ｅであり、灰色に塗られた箇所のうち、周囲規制部１４Ｅ以外の箇所が列規制部１４Ｃである。列規制部１４Ｃが、本開示の「第１規制部」の一具体例に相当する。行規制部１４Ｄが、本開示の「第２規制部」「第３規制部」「第４規制部」の一具体例に相当する。
各列規制部１４Ｃは所定の方向（第１の方向）に延在しており、各行規制部１４Ｄは列規制部１４Ｃと直交する方向（第２の方向）に延在している。複数の列規制部１４Ｃは、列方向（第１の方向）に延在するとともに、行方向（第２の方向）に所定の間隙を介して並列配置されている。列規制部１４Ｃは、行方向に隣接する２つの画素１１を区画する。複数の行規制部１４Ｄは、行方向に延在するとともに、列方向に所定の間隙を介して並列配置されている。行規制部１４Ｄは、列方向に隣接する２つの画素１１を区画する。複数の列規制部１４Ｃおよび複数の行規制部１４Ｄは、互いに交差（例えば直交）しており、格子状のレイアウトとなっている。周囲規制部１４Ｅは、発光パネル１０の外縁部分に設けられており、環形状となっている。各画素１１は、発光パネル１０の外縁部分以外の箇所において、互いに隣接する２つの列規制部１４Ｃと、互いに隣接する２つの行規制部１４Ｄとによって囲まれている。各画素１１は、発光パネル１０の外縁部分において、列規制部１４Ｃおよび行規制部１４Ｄと、周囲規制部１４Ｅとによって囲まれている。従って、各画素１１は、列規制部１４Ｃ、行規制部１４Ｄおよび周囲規制部１４Ｅのうち、少なくとも、列規制部１４Ｃおよび行規制部１４Ｄによって区画されている。
絶縁層１４は、発光パネル１０の外縁部分以外の箇所において、互いに隣接する２つの列規制部１４Ｃと、互いに隣接する２つの行規制部１４Ｄとによって囲まれた領域内に開口部１４Ａを有している。絶縁層１４は、さらに、発光パネル１０の外縁部分において、列規制部１４Ｃおよび行規制部１４Ｄと、周囲規制部１４Ｅとによって囲まれた領域内に開口部１４Ａを有している。各開口部１４Ａの底面には、後述の陽極２１の表面が露出している。そのため、各開口部１４Ａの底面に露出した陽極２１から供給される正孔と、後述の陰極２７から供給される電子とが、後述の発光層２４で再結合することにより、後述の発光層２４で発光が生じる。従って、後述の発光層２４のうち、開口部１４Ａと対向する領域が、発光領域２４Ａとなる。
行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）は、例えば、図８〜図１０に示したように、列規制部１４Ｃの高さ（基板１６からの高さ）よりも低くなっている。行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）は、例えば、概ね列規制部１４Ｃの高さの半分の高さとなっている。行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）は、例えば、０．１μｍ〜２μｍとなっており、好ましくは、０．１μｍ〜１μｍとなっている。列規制部１４Ｃの高さ（基板１６からの高さ）は、例えば、０．１μｍ〜３μｍとなっており、好ましくは、０．３μｍ〜１．５μｍとなっている。本実施の形態において、行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）が０．５μｍとなっているときに、列規制部１４Ｃの高さ（基板１６からの高さ）が１μｍとなっている。このとき、列方向に並ぶ複数の画素１１は、これらの画素１１の左右の２つの列規制部１４Ｃによって形成された帯状の溝部１７（間隙）の中に配置されており、例えば、塗布膜で構成される層（例えば、後述の正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４）を互いに共有している。列方向に並ぶ複数の画素１１は、例えば、図３〜図７に示したように、列規制部１４Ｃに沿って配置されている。周囲規制部１４Ｅの高さ（基板１６からの高さ）は、行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）よりも高くなっており、例えば、列規制部１４Ｃの高さ（基板１６からの高さ）と等しくなっている。行規制部１４Ｄの高さが列規制部１４Ｃの高さと等しくなっている場合、行規制部１４Ｄおよび列規制部１４Ｃが、同一の層として一括して形成されてもよい。
互いに平行で、かつ互いに隣接する２つの列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅによって囲まれた領域が、溝部１７になっている。各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの表面は、各行規制部１４Ｄの表面と比べて相対的に撥液性を有している。各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの表面は、各行規制部１４Ｄの表面、陽極２１表面に対し、膜の塗布により下地層が形成されている場合は、その下地層の表面と比較して、撥液性を有していることが望ましい。下地層とは、インクを塗布する際に、インクを塗布する直前に塗布された層を指している。例えば、正孔注入層２２を形成するインクを塗布する場合は、下地層は陽極２１を指しており、正孔輸送層２３を形成するインクを塗布する場合は、下地層は正孔注入層２１を指しており、発光層２４を形成するインクを塗布する場合は、下地層は正孔輸送層２３を指している。そのため、各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅは、例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４を塗布法により形成する際に、インクが、隣接する他の溝部１７の内に流れ込むのを防止する。各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの撥液性は、樹脂自体の撥水性によって実現されていてもよいし、フッ素プラズマ処理等により樹脂表面に撥液性を付与することによって実現されていてもよい。各行規制部１４Ｄは、各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅと比べて相対的に親液性を有している。そのため、各行規制部１４Ｄは、例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４を塗布法により形成する際に、インクが溝部１７内で濡れ広がるのを妨げない。各行規制部１４Ｄは、例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４を塗布法により形成する際に、インクが各行規制部１４Ｄの表面に濡れ広がるように構成されている。各列規制部１４Ｃと、各行規制部１４Ｄとは、例えば、互いに別のプロセスで形成されている。
各発光素子１１−２は、例えば、基板１６上に、陽極２１、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、発光層２４、電子輸送層２５、電子注入層２６および陰極２７をこの順に備えた素子である。
発光素子１１−２は、例えば、発光層２４と、発光層２４を挟み込むように配置された、陽極２１および陰極２７を備えている。発光素子１１−２は、例えば、さらに、陽極２１と、発光層２４との間に、正孔注入層２２および正孔輸送層２３を陽極２１側からこの順に備えている。なお、正孔注入層２２および正孔輸送層２３のうち少なくとも一方が省略されていてもよい。発光素子１１−２は、例えば、さらに、発光層２４と、陰極２７との間に、電子輸送層２５および電子注入層２６を発光層２４側からこの順に備えている。なお、電子輸送層２５および電子注入層２６のうち少なくとも一方が省略されていてもよい。発光素子１１−２は、例えば、陽極２１、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、発光層２４、電子輸送層２５、電子注入層２６および陰極２７を基板１６側からこの順に含んで構成された素子構造となっている。発光素子１１−２において、さらに他の機能層が含まれていてもよい。
正孔注入層２２は、正孔注入効率を高めるための層である。正孔輸送層２３は、陽極２１から注入された正孔を発光層２４へ輸送するための層である。発光層２４は、電子と正孔との再結合により、所定の色の光を発する層である。電子輸送層２５は、陰極２７から注入された電子を発光層２４へ輸送するための層である。電子注入層２６は、電子注入効率を高めるための層である。正孔注入層２２および電子注入層２６のうち少なくとも一方が省略されていてもよい。各発光素子１１−２は、上述以外の層をさらに有していてもよい。
陽極２１は、例えば、基板１６の上に形成されている。陽極２１は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、アルミニウムもしくは銀の合金等、または、反射性を有する反射電極である。なお、陽極２１は、反射電極に限るものではなく、例えば、透光性を有する透明電極であってもよい。透明電極の材料としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）又はＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電性材料が挙げられる。陽極２１は、反射電極と透明電極とが積層されたものであってもよい。陽極２１の端縁は、例えば、絶縁層１４内に埋め込まれている。陽極２１の端縁が絶縁層１４内に埋め込まれている場合には、各開口部１４Ａの大きさ（具体的には、各開口部１４Ａの底面の大きさ）を変えることにより、画素１１のサイズ（面積）や、発光領域２４Ａのサイズ（面積）を調整することが可能となる。
陰極２７は、例えば、ＩＴＯ膜等の透明電極である。なお、陰極２７は、透明電極に限るものではなく、光反射性を有する反射電極であってもよい。反射電極の材料としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等が用いられる。本実施の形態において、基板１６及び陽極２１が反射性を有し、陰極２７が透光性を有している場合には、発光素子１１−２は、陰極２７側から光が放出するトップエミッション構造となっている。なお、本実施の形態において、基板１６及び陽極２１が透光性を有し、陰極２７が反射性を有している場合には、発光素子１１−２は、基板１６側から光が放出するボトムエミッション構造となっている。
正孔注入層２２は、導電性ポリマー材料などの有機材料によって形成されている。正孔注入層２２は、例えば、ＰＥＤＯＴ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）などの導電性ポリマー材料の有機高分子溶液を、陽極２１上に塗布し乾燥させることにより形成されている。この場合、正孔注入層２２は、塗布膜によって構成されている。正孔輸送層２３が塗布で形成される場合、正孔注入層２２は、正孔輸送層２３の塗布溶液に対して不溶な材料、もしくは加熱処理などにより架橋された材料によって形成されている。
正孔輸送層２３は、陽極２１から注入された正孔を発光層２４へ輸送する機能を有する。正孔輸送層２３は、例えば、塗布膜である。正孔輸送層２３は、例えば、陽極２１から注入された正孔を発光層２４へ輸送する機能を有する有機材料（以下、「正孔輸送性材料２３Ｍ」と称する。）を溶質の主成分とする溶液を塗布および乾燥することにより形成されている。正孔輸送層２３は、正孔輸送性材料２３Ｍを主成分として含んで構成されている。発光層２４が塗布で形成される場合、正孔輸送層２３は、発光層２４の塗布溶液に対して不溶な材料、もしくは加熱処理などにより架橋された材料によって形成されている。
正孔輸送層２３の原料（材料）である正孔輸送性材料２３Ｍは、例えば、アリールアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体等、または、これらの組み合わせからなる材料である。正孔注入層２２と正孔輸送層２３の各材料のＨＯＭＯ(最高被占軌道，Highest occupied molecular orbital)レベルの差異は、ホール注入性を考慮すると、０．５ｅＶ以下となっていることが好ましい。
発光層２４は、陽極２１から注入された正孔と、陰極２７から注入された電子とが、発光層２４内で再結合することで励起子が生成されて発光する層である。発光層２４は、例えば、塗布膜である。発光層２４は、正孔と電子との再結合により励起子を生成し発光する有機材料（以下、「有機発光材料２４Ｍ」と称する。）を溶質の主成分とする溶液の塗布および乾燥により形成されている。発光層２４は、有機発光材料２４Ｍを主成分として含んで構成されている。画素１１Ｒに含まれる発光素子１２ｒでは、有機発光材料２４Ｍが赤色有機発光材料を含んで構成されている。画素１１Ｇに含まれる発光素子１２ｇでは、有機発光材料２４Ｍが緑色有機発光材料を含んで構成されている。画素１１Ｂに含まれる発光素子１２ｂでは、有機発光材料２４Ｍが青色有機発光材料を含んで構成されている。
発光層２４は、例えば、単層の有機発光層、または、積層された複数の有機発光層によって構成されている。発光層２４が積層された複数の有機発光層によって構成されている場合には、発光層２４は、例えば、主成分が互いに共通の複数の有機発光層を積層したものである。このとき、複数の有機発光層は、ともに、塗布膜である。複数の有機発光層は、ともに、有機発光材料２４Ｍを溶質の主成分とする溶液の塗布および乾燥により形成されている。
発光層２４の原料（材料）である有機発光材料２４Ｍは、例えば、ドーパント材料単独であってもよいが、より好ましくは、ホスト材料とドーパント材料との組み合わせがよい。つまり、発光層２４は、有機発光材料２４Ｍとして、ホスト材料およびドーパント材料を含んで構成されている。ホスト材料は、主に電子又は正孔の電荷輸送の機能を担っており、ドーパント材料は、発光の機能を担っている。ホスト材料およびドーパント材料は１種類のみに限られるものではなく、２種類以上の組み合わせであってもよい。ドーパント材料の量は、ホスト材料に対して、０．０１重量％以上３０重量％以下であるとよく、より好ましくは、０．０１重量％以上１０重量％以下である。
発光層２４のホスト材料としては、例えば、アミン化合物、縮合多環芳香族化合物、ヘテロ環化合物が用いられる。アミン化合物としては、例えば、モノアミン誘導体、ジアミン誘導体、トリアミン誘導体、テトラアミン誘導体が用いられる。縮合多環芳香族化合物としては、例えば、アントラセン誘導体、ナフタレン誘導体、ナフタセン誘導体、フェナントレン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、トリフェニレン誘導体、ペンタセン誘導体、または、ペリレン誘導体等が挙げられる。ヘテロ環化合物としては、例えば、カルバゾール誘導体、フラン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピロール誘導体、インドール誘導体、アザインドール誘導体、アザカルバゾール、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、または、フタロシアニン誘導体等が挙げられる。
また、発光層２４のドーパント材料としては、例えば、ピレン誘導体、フルオランテン誘導体、アリールアセチレン誘導体、フルオレン誘導体、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アントラセン誘導体、または、クリセン誘導体が用いられる。また、発光層２４のドーパント材料としては、金属錯体が用いられてもよい。金属錯体としては、例えば、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、オスミウム（Ｏｓ）、金（Ａｕ）、レニウム（Ｒｅ）、もしくは、ルテニウム（Ｒｕ）等の金属原子と配位子とを有するものが挙げられる。
電子輸送層２５は、陰極２７から注入された電子を発光層２４へ輸送する機能を有する。電子輸送層２５は、電子輸送性を有する有機材料（以下、「電子輸送性材料２５Ｍ」と称する。）を主成分として含んで構成されている。電子輸送層２５は、例えば、蒸着膜またはスパッタ膜で構成されている。電子輸送層２５は、発光層２４から陰極２７への電荷（本実施の形態では正孔）の突き抜けを抑制する電荷ブロック機能や、発光層２４の励起状態の消光を抑制する機能等を有していることが好ましい。
電子輸送層２５の原料（材料）である電子輸送性材料２５Ｍは、例えば、分子内にヘテロ原子を１個以上含有する芳香族ヘテロ環化合物である。芳香族ヘテロ環化合物としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ベンズイミダゾール環、フェナントロリン環、キナゾリン環等を骨格に含む化合物が挙げられる。また、電子輸送層２５は、電子輸送性を有する金属を含んでもよい。電子輸送層２５は、電子輸送性を有する金属を含むことで、電子輸送層２５の電子輸送性を向上できる。電子輸送層２５に含まれる金属としては、例えば、バリウム（Ｂａ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、セシウム（Ｃｓ）、ナトリウム（Ｎａ）、ルビジウム（Ｒｂ）、イットリビウム（Ｙｂ）等を用いることができる。
電子注入層２６は、陰極２７から注入された電子を電子輸送層２５、発光層２４へ注入する機能を有する。電子注入層２６は、例えば、陰極２７から電子輸送層２５、発光層２４への電子の注入を促進させる機能を有する材料（電子注入性材料）によって構成されている。上記の電子注入性材料は、例えば、電子注入性を有する有機材料に、電子注入性を有する金属がドープされたものであってもよい。電子注入層２６に含まれるドープ金属は、例えば、電子輸送層２５に含まれるドープ金属と同じ金属である。電子輸送層２５は、例えば、蒸着膜またはスパッタ膜で構成されている。
本実施の形態では、発光素子１１−２を構成する各層（例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、発光層２４、電子輸送層２５および電子注入層２６）が、溝部１７を共有する各画素１１で共有されている。つまり、発光素子１１−２を構成する各層（例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、発光層２４、電子輸送層２５および電子注入層２６）が、例えば、図９〜図１２に示したように、溝部１７内において、列方向に延在して形成されており、各行規制部１４Ｄをまたいで（つまり、各行規制部１４Ｄ上に）形成されている。
また、本実施の形態では、発光素子１１−２内の一部の層（例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４）が、１つの表示画素１２内の各画素１１で共有されておらず、１つの表示画素１２内の画素１１ごとに別個に形成されている。つまり、発光素子１１−２内の一部の層（例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４）は、例えば、図８に示したように、列規制部１４Ｃによって分離されている。また、本実施の形態では、発光素子１１−２内の一部の層（例えば、電子輸送層２５および電子注入層２６）が、１つの表示画素１２内の各画素１１で共有されている。つまり、発光素子１１−２内の一部の層（例えば、電子輸送層２５および電子注入層２６）は、例えば、図８に示したように、各列規制部１４Ｃをまたいで（つまり、各列規制部１４Ｃ上に）形成されている。
また、本実施の形態では、陰極２７は、発光パネル１０全体（例えば、表示領域１０Ａおよび非表示領域１０Ｂ）に渡って形成されている。具体的には、陰極２７は、電子注入層２６、列規制部１４Ｃおよび行規制部１４Ｄの表面全体に渡って連続して形成されている。
発光素子１１−２は、さらに、例えば、図８〜図１２に示したように、発光素子１１−２を保護および封止する層（封止層２８）を有している。封止層２８は、例えば、ＣＶＤ法などで形成した無機薄膜のＳｉＮｘ膜やＳｉＯＮ膜、またはそれらの積層膜、または、エポキシ樹脂やビニル系樹脂などの樹脂材料、またはこれら無機膜と有機膜の複合膜によって形成されている。
発光パネル１０は、例えば、図４、図５、図１０〜図１２に示したように、非表示領域１０Ｂにも、複数の画素１１を有している。非表示領域１０Ｂの複数の画素１１は、光を発しないダミー画素１１Ｄである。つまり、非表示領域１０Ｂ内の複数の画素１１には、例えば、図４、図５、図１０〜図１２に示したように、複数のダミー画素１１Ｄが含まれている。ダミー画素１１Ｄが、本開示の「第３画素」の一具体例に相当する。複数のダミー画素１１Ｄは、例えば、図４、図５に示したように、非表示領域１０Ｂにおいて、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界に沿って配置されている。図５には、表示領域１０Ａが、複数のダミー画素１１Ｄによって囲まれている様子が例示されている。ダミー画素１１Ｄと、表示領域１０Ａにおいて表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界に配置された画素１１（以下、「境界付近の画素１１」と称する。）とは、例えば、図４、図５に示したように、ダミー画素１１Ｄと境界付近の画素１１とを区画する特定区画領域（行規制部１４Ｄ）を介して、列方向に互いに隣接して配置されている。ダミー画素１１Ｄと、境界付近の画素１１との間に設けられた行規制部１４Ｄが、本開示の「第３規制部」の一具体例に相当する。ダミー画素１１Ｄと、境界付近の画素１１との間には、行規制部１４Ｄが設けられている。ダミー画素１１Ｄと、境界付近の画素１１との間に設けられた行規制部１４Ｄは、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界をまたいで形成されている。
ダミー画素１１Ｄと境界付近の画素１１とを区画する行規制部１４Ｄの高さは、例えば、図８、図１０〜図１２に示したように、列規制部１４Ｃの高さよりも低くなっている。このとき、列方向に並ぶダミー画素１１Ｄおよび境界付近の画素１１は、これらのダミー画素１１Ｄおよび境界付近の画素１１の左右の２つの列規制部１４Ｃによって形成された間隙（帯状の溝部１７の中）に配置されており、塗布膜で構成される層（例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４）を互いに共有している。
また、例えば、図４に示したように、ダミー画素１１Ｄと境界付近の画素１１とを区画する行規制部１４Ｄの、列規制部１４Ｃの延在方向と平行な方向の長さＬ５は、長さＬ３，Ｌ４（後述）よりも長くなっている。長さＬ３は、列方向に並ぶ２つの第１画素１１ｘ（後述）を区画する行規制部１４Ｄの、列規制部１４Ｃの延在方向と平行な方向の長さである。列方向に並ぶ２つの第１画素１１ｘ（後述）を区画する行規制部１４Ｄは、本開示の「第４規制部」の一具体例に相当する。長さＬ４は、列方向に並ぶ第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙ（後述）を区画する行規制部１４Ｄの、列規制部１４Ｃの延在方向と平行な方向の長さである。長さＬ３と、長さＬ４とは、例えば、互いに等しい長さとなっている。
各ダミー画素１１Ｄは、例えば、図１０〜図１２に示したように、表示領域１０Ａに設けられた各画素１１に含まれる発光素子１１−２と共通の素子（発光素子１１−２）を有している。また、各ダミー画素１１Ｄは、例えば、図１０に示したように、陽極２１と電気的に接続された画素回路１１−１を有している。このとき、ドライバ３０は、各ダミー画素１１Ｄ内の画素回路１１−１を駆動しない。各ダミー画素１１Ｄは、例えば、図１１に示したように、陽極２１と電気的に分離された画素回路１１−１を有していてもよい。各ダミー画素１１Ｄにおいて、例えば、図１２に示したように、画素回路１１−１そのものが省略されていてもよい。なお、発光パネル１０において、非表示領域１０Ｂにダミー画素１１Ｄを設ける代わりに、例えば、図６、図７に示したように、列方向に延在する行規制部１４Ｄが設けられていてもよい。このとき、列方向に延在する行規制部１４Ｄは、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界をまたいで形成されている。
ところで、表示領域１０Ａ内の複数の画素１１には、例えば、図４〜図７、図１０〜図１２に示したように、少なくとも、複数の画素１１（第１画素１１ｘ，第２画素１１ｙ）が含まれている。つまり、第１画素１１ｘ，第２画素１１ｙは、表示領域１０Ａに配置されている。第１画素１１ｘが、本開示の「第１画素」の一具体例に相当する。第２画素１１ｙが、本開示の「第２画素」の一具体例に相当する。第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙは、列方向に互いに隣接して配置されている。第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとの間には、区画領域（行規制部１４Ｄ）が設けられている。第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙは、区画領域（行規制部１４Ｄ）を介して、列方向（第１の方向）に隣接して配置されている。列方向に互いに隣接して配置された第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙは、塗布膜で構成される層（例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４）を共有している。
第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとを区画する行規制部１４Ｄの高さは、例えば、図８〜図１２に示したように、列規制部１４Ｃの高さよりも低くなっている。このとき、列方向に並ぶ第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙは、これらの第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの左右の２つの列規制部１４Ｃによって形成された間隙（帯状の溝部１７の中）に配置されており、これらの第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの左右の２つの列規制部１４Ｃに沿って配置されている。また、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとを区画する行規制部１４Ｄの、列方向の長さＬ４は、例えば、図４、図６に示したように、長さＬ３と等しくなっている。
第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙでは、列方向の長さが互いに異なっている。第２画素１１ｙの、列方向の長さＬ２は、第１画素１１ｘの、列方向の長さＬ１よりも短くなっている。つまり、表示領域１０Ａ内の複数の画素１１には、列方向の長さが互いに異なる複数の画素１１（第１画素１１ｘ，第２画素１１ｙ）が含まれている。
第１画素１１ｘと、第２画素１１ｙとは、互いに異なる表示画素１２に含まれている。第１画素１１ｘは、列方向（第１の方向）に互いに隣接する２つの表示画素１２のうちの一方に含まれている。第２画素１１ｙは、列方向（第１の方向）に互いに隣接する２つの表示画素１２のうちの他方に含まれている。複数の第２画素１１ｙからなる複数の表示画素１２（以下、「表示画素１２ｓ」と称する。）は、表示領域１０Ａにおいて、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界に配置されている。つまり、第２画素１１ｙは、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界に配置されている。複数の第１画素１１ｘからなる複数の表示画素１２（以下、「表示画素１２ｎ」と称する。）のうち一部の表示画素１２ｎは、表示領域１０Ａであって、かつ表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界において２つの表示画素１２ｓの間に配置されている。つまり、複数の表示画素１２ｎと、複数の表示画素１２ｓとは、例えば、図４〜図７に示したように、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界にそって、交互に配置されている。また、複数の表示画素１２ｎのうち一部の表示画素１２ｎは、例えば、表示領域１０Ａにおいて、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界に配置された各表示画素１２に対して列方向に隣接して配置されている。表示領域１０Ａのうち、外縁に設けられた複数の表示画素１２を除いた領域では、例えば、複数の表示画素１２ｎがマトリクス状に配置されている。これにより、複数の表示画素１２ｓおよび複数の表示画素１２ｎによって生成される映像の境界が、表示画素１２ｓを用いない場合に生成される映像の境界と比べて、より滑らかな曲線になっている。
表示画素１２ｓに含まれる各画素１１（第２画素１１ｙ）の画素サイズ（開口部１４Ａの面積）と、表示画素１２ｎに含まれる各画素１１（第１画素１１ｘ）の画素サイズ（開口部１４Ａの面積）とは、互いに異なっている。具体的には、表示画素１２ｓに含まれる各画素１１（第２画素１１ｙ）の画素サイズ（開口部１４Ａの面積）は、表示画素１２ｎに含まれる各画素１１（第１画素１１ｘ）の画素サイズ（開口部１４Ａの面積）よりも小さくなっている。このとき、表示画素１２ｓに含まれる各画素１１（第２画素１１ｙ）の画素比率（開口部１４Ａの面積の比率）と、表示画素１２ｎに含まれる各画素１１（第１画素１１ｘ）の画素比率（開口部１４Ａの面積の比率）とは、互いに等しくなっていることが好ましい。発光素子１１−２の輝度は電流密度で制御されるので、表示画素１２ｓ，１２ｎの画素比率が互いに等しくなっている場合には、表示画素１２ｓ，１２ｎの輝度は互いに等しくなる。また、表示画素１２ｓ，１２ｎの画素比率が互いに等しくなっている場合には、表示画素１２ｓ，１２ｎの色度比も互いに等しくなる。なお、表示画素１２ｓに含まれる各画素１１（第２画素１１ｙ）の画素サイズが互いに等しくなっていてもよいし、互いに異なっていてもよい。また、表示画素１２ｎに含まれる各画素１１（第１画素１１ｘ）の画素サイズが互いに等しくなっていてもよいし、互いに異なっていてもよい。
[製造方法]
次に、本実施の形態に係る発光パネル１０の製造方法について説明する。
次に、本実施の形態に係る発光パネル１０の製造方法について説明する。
図１３は、発光パネル１０の製造過程の一例を表したものである。図１３には、表示領域１０Ａと、表示領域１０Ａの周囲の非表示領域１０Ｂと、表示領域１０Ａおよび非表示領域１０Ｂの双方に設けられた複数の画素形成領域１１ａと、複数の列規制部１４Ｃと、複数の行規制部１４Ｄと、周囲規制部１４Ｅとを備えたパネル１０ａが例示されている。
パネル１０ａにおいて、複数の画素形成領域１１ａには、第１画素１１ｘの形成過程である第１画素１１ａｘと、第２画素１１ｙの形成過程である第２画素１１ａｙと、ダミー画素１１Ｄの形成過程である第３画素１１ａＤとが含まれ、第１画素１１ａｘおよび第２画素１１ａｙは、列規制部１４Ｃを介して、列方向に隣接して配置されている。第１画素１１ａｘ、第２画素１１ａｙおよび第３画素１１ａＤにおいて、底面には例えば正孔輸送層２３が形成されている。
まず、図１３に示したようなパネル１０ａと、塗布ヘッド４０とを用意する。塗布ヘッド４０は、例えば、複数の吐出ヘッドが一列に並んで配置された吐出装置であり、１ライン分のインクを周期的に塗布（吐出）するように構成されている。なお、塗布ヘッド４０は、複数の吐出ヘッドが画素１ライン分の幅の中に複数列に並んで配置された吐出装置であってもよい。この場合、複数の吐出ヘッドが一列に並んで配置されている場合と比べて、より細かく吐出量を調整することが可能である。次に、例えば、図１４に示したように、塗布ヘッド４０を行方向に走査しながら、塗布ヘッド４０から、１ライン分のインクを周期的に塗布（吐出）する。
このとき、パネル１０ａのうち、表示領域１０Ａだけでなく、非表示領域１０Ｂに対しても、インクを塗布（吐出）することにより、表示領域１０Ａに含まれる各画素形成領域１１ａだけでなく、非表示領域１０Ｂに含まれる各画素形成領域１１ａに対しても、塗布膜を形成する。例えば、非表示領域１０Ｂのうち、画素形成領域１１ａの未形成領域１０Ｂ２と、非表示領域１０Ｂにおける複数の画素形成領域１１ａ（画素形成領域１１ａの形成領域１０Ｂ１）と、表示領域１０Ａにおける複数の画素形成領域１１ａとに対して、塗布膜を形成する。ここで、非表示領域１０Ｂのうち、画素形成領域１１ａの未形成領域１０Ｂ２からインクの塗布（吐出）を開始し、その後、非表示領域１０Ｂにおける複数の画素形成領域１１ａ（画素形成領域１１ａの形成領域１０Ｂ１）、表示領域１０Ａにおける複数の画素形成領域１１ａ、非表示領域１０Ｂにおける複数の画素形成領域１１ａ（画素形成領域１１ａの形成領域１０Ｂ１）、非表示領域１０Ｂのうち、画素形成領域１１ａの未形成領域１０Ｂ２の順に、インクを塗布（吐出）する。このとき、塗布ヘッド４０の走査方向と直交する方向の両脇にある非表示領域１０Ｂにおける複数の画素形成領域１１ａ（画素形成領域１１ａの形成領域１０Ｂ１）（更には、周囲規制部１４Ｅ）に対しても、インクを塗布（吐出）してもよい。
このようにして、表示領域１０Ａに含まれる各画素形成領域１１ａだけでなく、非表示領域１０Ｂに含まれる各画素形成領域１１ａに対しても、塗布膜を含む画素を形成する。
ところで、列方向に隣接する２つの画素形成領域１１ａにおいて、塗布膜が共有されている。塗布膜は、例えば、所定の乾燥工程を経ることにより、発光層２４となる。発光層２４の膜厚に関しては、吐出のインクの液滴数により制御する。発光層２４の膜厚に関してはナノメートルオーダーでの膜厚制御が必要となり、本来液滴数の制御で画素サイズの異なる塗布膜を同一の膜厚に制御することは実質的に困難であった。しかしながら、本実施の形態を適用することで画素サイズが異なっていても塗布液が塗布後共有されることにより、同一の膜厚を形成、制御することが非常に容易となる。また、液滴サイズを小さくし、より多くの塗布ノズルで1ラインを塗布することにより、より細かな膜厚制御が可能となる。なお、同様の方法を用いることにより、発光層２４下の正孔注入層２２、正孔輸送層２３を形成することができる。
また、周囲規制部１４Ｅの表面のうち、塗布ヘッド４０の走査方向と平行な方向の両端には、塗布ヘッド４０から塗布されたインクが、液滴状のままとなっている。これは、周囲規制部１４Ｅが、塗布ヘッド４０から塗布されたインクに対して発液性を有しているためである。なお、塗布ヘッド４０の走査方向と直交する方向の両脇にある周囲規制部１４Ｅに対しても、インクを塗布（吐出）した場合には、周囲規制部１４Ｅの表面のうち、塗布ヘッド４０の走査方向と直交する方向の両端においても、塗布ヘッド４０から塗布されたインクが、液滴状のままとなり、その後の所定の乾燥により画素１１内には濡れ広がらずに乾燥される。
このように、非表示領域１０Ｂの表面にも、インクを塗布（吐出）することにより、例えば、表示領域１０Ａにだけインクを塗布（吐出）した場合と比べて、表示領域１０Ａにおける、インクの蒸気圧をより均一にすることができる。表示領域１０Ａにおいて、インクの蒸気圧が均一になることにより、表示領域１０Ａの各画素形成領域１１ａに形成された塗布膜の乾燥条件も均一になる。その結果、表示領域１０Ａの各画素形成領域１１ａに形成された発光層２４などの膜厚を均一にすることができる。また、塗布ヘッド４０の塗布始めの熱的不安定に起因して塗布ヘッド４０の塗布始めのインク吐出量が安定しない場合がある。このような場合であっても、表示領域１０Ａにインクを塗布（吐出）する前に、非表示領域１０Ｂの表面にインクを塗布（吐出）することにより、塗布ヘッド４０のインク吐出が安定した状態で、表示領域１０Ａにインクを塗布（吐出）することが可能となる。また、画素形成領域１１ａの未形成領域１０Ｂ２において、周囲規制部１４Ｅが撥液性を有することにより濡れ広がらずに液滴状でとどめることができる。従って、表示領域１０Ａの各画素形成領域１１ａに形成された発光層２４などの膜厚を均一にすることができる。
図１５は、発光パネル１０の製造過程の一変形例を表したものである。図１５には、表示領域１０Ａと、表示領域１０Ａの周囲の非表示領域１０Ｂと、表示領域１０Ａおよび非表示領域１０Ｂの双方に設けられた複数の画素形成領域１１ａと、複数の列規制部１４Ｃと、複数の行規制部１４Ｄと、周囲規制部１４Ｅとを備えたパネル１０ａが例示されている。
パネル１０ａにおいて、複数の画素形成領域１１ａには、第１画素１１ｘの形成過程である第１画素１１ａｘと、第２画素１１ｙの形成過程である第２画素１１ａｙと、ダミー画素１１Ｄの形成過程である第３画素１１ａＤとが含まれ、第１画素１１ａｘおよび第２画素１１ａｙは、列規制部１４Ｃを介して、列方向に隣接して配置されている。第１画素１１ａｘ、第２画素１１ａｙおよび第３画素１１ａＤにおいて、底面には例えば正孔輸送層２３が形成されている。
まず、図１５に示したようなパネル１０ａと、塗布ヘッド４０とを用意する。塗布ヘッド４０は、例えば、複数の吐出ヘッドが一列に並んで配置された吐出装置であり、１ライン分のインクを周期的に塗布（吐出）するように構成されている。次に、例えば、図１５、図１６に示したように、塗布ヘッド４０を列方向に走査しながら、塗布ヘッド４０から、１ライン分のインクを周期的に塗布（吐出）する。
このとき、パネル１０ａのうち、表示領域１０Ａだけでなく、非表示領域１０Ｂに対しても、インクを塗布（吐出）することにより、表示領域１０Ａに含まれる各画素形成領域１１ａだけでなく、非表示領域１０Ｂに含まれる各画素形成領域１１ａに対しても、塗布膜を形成する。例えば、非表示領域１０Ｂのうち、画素形成領域１１ａの未形成領域１０Ｂ２と、非表示領域１０Ｂにおける複数の画素形成領域１１ａ（画素形成領域１１ａの形成領域１０Ｂ１）と、表示領域１０Ａにおける複数の画素形成領域１１ａとに対して、塗布膜を形成する。ここで、非表示領域１０Ｂのうち、画素形成領域１１ａの未形成領域１０Ｂ２からインクの塗布（吐出）を開始し、その後、非表示領域１０Ｂにおける複数の画素形成領域１１ａ（画素形成領域１１ａの形成領域１０Ｂ１）、表示領域１０Ａにおける複数の画素形成領域１１ａ、非表示領域１０Ｂにおける複数の画素形成領域１１ａ（画素形成領域１１ａの形成領域１０Ｂ１）、非表示領域１０Ｂのうち、画素形成領域１１ａの未形成領域１０Ｂ２の順に、インクを塗布（吐出）する。このとき、塗布ヘッド４０の走査方向と直交する方向の両脇にある非表示領域１０Ｂにおける複数の画素形成領域１１ａ（画素形成領域１１ａの形成領域１０Ｂ１）（更には、周囲規制部１４Ｅ）に対しても、インクを塗布（吐出）してもよい。
このようにして、表示領域１０Ａに含まれる各画素形成領域１１ａだけでなく、非表示領域１０Ｂに含まれる各画素形成領域１１ａに対しても、塗布膜を含む画素を形成する。
ところで、列方向に隣接する２つの画素形成領域１１ａにおいて、塗布膜が共有されている。塗布膜は、例えば、所定の乾燥工程を経ることにより、発光層２４となる。
また、周囲規制部１４Ｅの表面のうち、塗布ヘッド４０の走査方向と平行な方向の両端には、塗布ヘッド４０から塗布されたインクが、液滴状のままとなっている。これは、周囲規制部１４Ｅが、塗布ヘッド４０から塗布されたインクに対して発液性を有しているためである。なお、塗布ヘッド４０の走査方向と直交する方向の両脇にある周囲規制部１４Ｅに対しても、インクを塗布（吐出）した場合には、周囲規制部１４Ｅの表面のうち、塗布ヘッド４０の走査方向と直交する方向の両端においても、塗布ヘッド４０から塗布されたインクが、液滴状のままとなり、その後の所定の乾燥により画素１１内には濡れ広がらずに乾燥される。
このように、非表示領域１０Ｂの表面にも、インクを塗布（吐出）することにより、例えば、表示領域１０Ａにだけインクを塗布（吐出）した場合と比べて、表示領域１０Ａにおける、インクの蒸気圧をより均一にすることができる。表示領域１０Ａにおいて、インクの蒸気圧が均一になることにより、表示領域１０Ａの各画素形成領域１１ａに形成された塗布膜の乾燥条件も均一になる。その結果、表示領域１０Ａの各画素形成領域１１ａに形成された発光層２４などの膜厚を均一にすることができる。また、塗布ヘッド４０の塗布始めの熱的不安定に起因して塗布ヘッド４０の塗布始めのインク吐出量が安定しない場合がある。このような場合であっても、表示領域１０Ａにインクを塗布（吐出）する前に、非表示領域１０Ｂの表面にインクを塗布（吐出）することにより、塗布ヘッド４０のインク吐出が安定した状態で、表示領域１０Ａにインクを塗布（吐出）することが可能となる。また、画素形成領域１１ａの未形成領域１０Ｂ２において、周囲規制部１４Ｅが撥液性を有することにより濡れ広がらずに液滴状でとどめることができる。従って、表示領域１０Ａの各画素形成領域１１ａに形成された発光層２４などの膜厚を均一にすることができる。図１５のように列方向へ塗布ヘッド４０をスキャンする塗布方法をとることにより、塗布したインクは列方向には繋がるので、塗布ヘッド４０の吐出ヘッドの間隔は各画素１１の画素間隔には直接は影響を受けなくなる利点を有する。
[効果]
次に、本実施の形態に係る発光パネル１０およびそれを備えた発光装置１の効果について説明する。
次に、本実施の形態に係る発光パネル１０およびそれを備えた発光装置１の効果について説明する。
本実施の形態では、列方向の長さの長さが互いに異なり、発光層２４を共有する第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙが設けられている。第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとを区画する区画領域（行規制部１４Ｄ）の高さは、行方向に隣接する２つの画素１１を区画する列規制部１４Ｃの高さよりも低くなっている。これにより、例えば、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの発光層２４を塗布法により形成したときに、発光層２４の原料を含むインクが上記区画領域（行規制部１４Ｄ）を介して、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとの間を連通する。従って、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの大きさにかかわらず、発光層２４の厚さを均一にすることができる。その結果、輝度ムラなどの表示ムラを低減することができる。さらに、例えば、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの正孔注入層２２および正孔輸送層２３も塗布法により形成したときに、正孔注入層２２および正孔輸送層２３の原料を含むインクが上記区画領域（行規制部１４Ｄ）を介して、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとの間を連通する。従って、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの大きさにかかわらず、正孔注入層２２および正孔輸送層２３の厚さを均一にすることができる。その結果、輝度ムラなどの表示ムラをより一層、低減することができる。
また、本実施の形態では、複数の画素１１が、所定の数ごとに表示画素１２としてグループ分けされており、第１画素１１ｘは、列方向に互いに隣接する２つの表示画素１２のうちの一方に含まれており、第２画素１１ｙは、列方向に互いに隣接する２つの表示画素１２のうちの他方に含まれている。さらに、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙは、列方向に互いに隣接して配置されている。これにより、例えば、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの発光層２４を塗布法により形成したときに、発光層２４の原料を含むインクが上記区画領域（行規制部１４Ｄ）を介して、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとの間を連通する。従って、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとが、塗布の際に完全に分離されている場合と比べて、発光層２４の厚さを均一にすることができる。つまり、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの大きさにかかわらず、発光層２４の厚さを均一にすることができる。その結果、輝度ムラなどの表示ムラを低減することができる。
また、本実施の形態では、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙが、互いに隣接する２つの列規制部１４Ｃの間隙（溝部１７の中）に配置されている。このとき、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙが、列規制部１４Ｃに沿って配置されている。これにより、例えば、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの発光層２４を塗布法により形成したときに、発光層２４の原料を含むインクが上記区画領域（行規制部１４Ｄ）を介して、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとの間を連通する。従って、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとが、塗布の際に完全に分離されている場合と比べて、発光層２４の厚さを均一にすることができる。つまり、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの大きさにかかわらず、発光層２４の厚さを均一にすることができる。その結果、輝度ムラなどの表示ムラを低減することができる。
また、本実施の形態では、第２画素１１ｙの長さＬ２が、第１画素１１ｘの長さＬ１よりも短くなっており、かつ、第２画素１１ｙが、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界に配置されている。これにより、複数の表示画素１２ｓおよび複数の表示画素１２ｎによって生成される映像の境界を、表示画素１２ｓを用いない場合に生成される映像の境界と比べて、より滑らかな曲線にすることができる。
また、本実施の形態において、複数の画素１１には、非表示領域１０Ｂに配置された複数のダミー画素１１Ｄ（第３画素）が含まれているとする。この場合に、第２画素１１ｙおよびダミー画素１１Ｄは、第２画素１１ｙとダミー画素１１Ｄとを区画する特定区画領域（行規制部１４Ｄ）を介して、列方向に隣接して配置されている。このとき、特定区画領域（行規制部１４Ｄ）の、列方向の長さＬ５は、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとを区画する区画領域（行規制部１４Ｄ）の長さＬ４よりも長くなっている。これにより、第２画素１１ｙとダミー画素１１Ｄとを区画する特定区画領域（行規制部１４Ｄ）の長さＬ５を変えるだけで、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界のプロファイルを調整することができる。従って、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界を、第２画素１１ｙを用いない場合と比べて、より滑らかな曲線にすることができる。また、本実施の形態において、非表示領域１０Ｂに複数のダミー画素１１Ｄを形成する場合には、製造過程において、表示領域１０Ａに対してインクを塗布（吐出）する前後に、非表示領域１０Ｂに対してインクを塗布（吐出）することになる。これにより、表示領域１０Ａに塗布（吐出）されたインクの乾燥ムラを抑制することができるので、発光層２４の厚さを均一にすることができる。その結果、輝度ムラなどの表示ムラを低減することができる。
＜２．変形例＞
次に、上記実施の形態に係る発光パネル１０の変形例について説明する。
次に、上記実施の形態に係る発光パネル１０の変形例について説明する。
[変形例Ａ]
図１７は、上記実施の形態に係る発光パネル１０の概略構成の一変形例を表したものである。上記実施の形態に係る発光パネル１０の表示領域１０Ａにおいて、複数の画素１１に、列方向に並んで配置された複数の第１画素１１ｘと、列方向に並んで配置された複数の第２画素１１ｙとが含まれていてもよい。この場合に、列方向に隣接する２つの第２画素１１ｙの間を区画する領域（行規制部１４Ｄ）の、列方向の長さＬ６は、列方向に隣接する２つの第１画素１１ｘの間を区画する領域（行規制部１４Ｄ）の、列方向の長さＬ３よりも短くなっており、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとを区画する行規制部１４Ｄ（区画領域）の長さＬ４と等しくなっている。このようになっている場合には、複数の第２画素１１ｙからなる領域は、発光パネル１０における他の領域と比べて、高精細な領域（高精細領域１０Ｃ）となっている。
図１７は、上記実施の形態に係る発光パネル１０の概略構成の一変形例を表したものである。上記実施の形態に係る発光パネル１０の表示領域１０Ａにおいて、複数の画素１１に、列方向に並んで配置された複数の第１画素１１ｘと、列方向に並んで配置された複数の第２画素１１ｙとが含まれていてもよい。この場合に、列方向に隣接する２つの第２画素１１ｙの間を区画する領域（行規制部１４Ｄ）の、列方向の長さＬ６は、列方向に隣接する２つの第１画素１１ｘの間を区画する領域（行規制部１４Ｄ）の、列方向の長さＬ３よりも短くなっており、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとを区画する行規制部１４Ｄ（区画領域）の長さＬ４と等しくなっている。このようになっている場合には、複数の第２画素１１ｙからなる領域は、発光パネル１０における他の領域と比べて、高精細な領域（高精細領域１０Ｃ）となっている。
このように、本変形例では、表示領域１０Ａ内に高精細領域１０Ｃが設けられている。そのため、高精細領域１０Ｃ内の画素行と、表示領域１０Ａのうち、高精細領域１０Ｃを除いた領域内の画素行とが一致しない。そこで、本変形例では、複数の走査線ＷＳＬが、高精細領域１０Ｃ内の画素行に対応したピッチで配置されている。さらに、高精細領域１０Ｃにおいては、画素行ごとに１本の走査線ＷＳＬが割り当てられ、表示領域１０Ａのうち、高精細領域１０Ｃを除いた領域においては、画素行ごとに１本もしくは２本以上の走査線ＷＳＬが割り当てられている。従って、本変形例では、ライトスキャナ３２は、高精細領域１０Ｃ内の各画素１１については、画素行ごとに１本ずつ割り当てられた複数の走査線ＷＳＬを介して駆動し、表示領域１０Ａのうち、高精細領域１０Ｃを除いた領域内の各画素１１については、画素行ごとに１本ずつもしくは２本以上ずつ割り当てられた複数の走査線ＷＳＬを介して駆動する。
本変形例では、上記実施の形態と同様、第１画素１１ｘと第２画素１１ｙとを区画する行規制部１４Ｄの高さが、列規制部１４Ｃの高さよりも低くなっている。さらに、互いに隣接する２つの第２画素１１ｙの間を区画する行規制部１４Ｄの高さが、列規制部１４Ｃの高さよりも低くなっている。これにより、例えば、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙに対して、塗布法により発光層２４を形成したときに、発光層２４の原料を含むインクが行規制部１４Ｄを介して、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙに渡って連通する。従って、第１画素１１ｘと、第２画素１１ｙとが、塗布の際に完全に分離されている場合と比べて、発光層２４の厚さを均一にすることができる。つまり、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの大きさにかかわらず、発光層２４の厚さを均一にすることができる。その結果、輝度ムラなどの表示ムラを低減することができる。
本変形例において、高精細領域１０Ｃ内の各画素１１に設けられた画素回路１１−１のサイズと、表示領域１０Ａのうち、高精細領域１０Ｃを除いた領域内の各画素１１に設けられた画素回路１１−１のサイズとが互いに等しくなっていてもよいし、互いに異なっていてもよい。
なお、本変形例において、例えば、図１８に示したように、長さＬ６が、長さＬ３や長さＬ４と等しくなっていてもよい。このようにした場合には、上記実施の形態と比べて、表示領域１０Ａのうち、高精細領域１０Ｃを除いた領域内の各画素１１の開口率を大きくすることができる。
[変形例Ｂ]
図１９は、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１（発光パネル１０）を移動体１００のダッシュボード１３０に搭載した様子を表したものである。運転者２００は、移動体１００を運転する際に、フロントガラス１２０越しに、車体１１０や、移動体１００の周囲の状況を視認する。このとき、運転者２００は、運転をしながら、必要に応じて、ダッシュボード１３０に表示された各種情報（例えば、速度や気温、道路地図など）に目を配る。
図１９は、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１（発光パネル１０）を移動体１００のダッシュボード１３０に搭載した様子を表したものである。運転者２００は、移動体１００を運転する際に、フロントガラス１２０越しに、車体１１０や、移動体１００の周囲の状況を視認する。このとき、運転者２００は、運転をしながら、必要に応じて、ダッシュボード１３０に表示された各種情報（例えば、速度や気温、道路地図など）に目を配る。
ここで、発光装置１（発光パネル１０）は、ダッシュボード１３０の表面に沿って配置されている。このとき、例えば、発光パネル１０が湾曲もしくは折れ曲がっていてもよい。例えば、図１９に示したように、発光パネル１０の下部が、運転者２００から見て、ほぼ平行な画面となっており、発光パネル１０の上部が、運転者２００から見て、前方に斜めに倒れた画面となっているとする。発光装置１（発光パネル１０）が、運転者２００から見て、このような凸形状となっている場合、発光パネル１０は、例えば、図２０に示したように、発光パネル１０の下部（垂直領域１０Ｄ）に、行列状に配置された複数の第２画素１１ｙを有しており、発光パネル１０の上部（傾斜領域１０Ｅ）に、行列状に配置された複数の第１画素１１ｘを有していてもよい。このとき、垂直領域１０Ｄは、傾斜領域１０Ｅと比べて、運転者２００に近接して配置されている。
このとき、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの、列方向の長さＬ１，Ｌ２は、発光パネル１０を特定の方向から見たときの、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの見かけの画素サイズ（面積）の差異が、第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの実際の画素サイズ（面積）の差異よりも小さくなるように設定されている。具体的には、垂直領域１０Ｄにおいて、複数の第２画素１１ｙが列規制部１４Ｃに沿って配置されており、傾斜領域１０Ｅにおいて、複数の第１画素１１ｘが列規制部１４Ｃに沿って配置されている。
本変形例では、さらに、列方向に互いに隣接する２つの第１画素１１ｘの間を区画する区画領域（行規制部１４Ｄ）の長さＬ３は、列方向に互いに隣接する２つの第２画素１１ｙの間を区画する区画領域（行規制部１４Ｄ）の長さＬ６よりも長くなっており、列方向に互いに隣接する第１画素１１ｘおよび第２画素１１ｙの間を区画する区画領域（行規制部１４Ｄ）の長さＬ４と等しくなっている。これにより、運転者２００からの、垂直領域１０Ｄの画像の見え方（縮尺、精細度）と、運転者２００からの、傾斜領域１０Ｅの画像の見え方（縮尺、精細度）とを、互いに等しくすることができる。その結果、発光パネル１０の折れ曲がりに寄らず、発光装置１（発光パネル１０）の視認性や表示品質を向上させることができる。
なお、例えば、図２１に示したように、発光パネル１０の下部が、運転者２００から見て、前方に斜めに倒れた画面となっており、発光パネル１０の上部が、運転者２００から見て、ほぼ平行な画面となっていてもよい。発光パネル１０が、運転者２００から見て、このような凹形状となっている場合、発光パネル１０は、例えば、発光パネル１０の上部（垂直領域１０Ｄ）に、行列状に配置された複数の第１画素１１ｘを有しており、発光パネル１０の下部（傾斜領域１０Ｅ）に、行列状に配置された複数の第２画素１１ｙを有していてもよい。これにより、運転者２００からの、垂直領域１０Ｄの画像の見え方（縮尺、精細度）と、運転者２００からの、傾斜領域１０Ｅの画像の見え方（縮尺、精細度）とを、互いに等しくすることができる。その結果、発光パネル１０の折れ曲がりに寄らず、発光パネル１０の視認性や表示品質を向上させることができる。
また、例えば、図２２に示したように、発光パネル１０の下部が、運転者２００から見て、ほぼ平行な画面となっており、発光パネル１０の中部が、運転者２００から見て、前方に斜めに倒れた画面となっており、発光パネル１０の上部が、運転者２００から見て、ほぼ平行な画面となっていてもよい。発光パネル１０が、運転者２００から見て、このようなクランク形状となっている場合、発光パネル１０は、例えば、図２３に示したように、発光パネル１０の上部（上部領域１０Ｆ）に、行列状に配置された複数の第１画素１１ｘを有しており、発光パネル１０の中部（中部領域１０Ｇ）に、行列状に配置された複数の第２画素１１ｙを有しており、発光パネル１０の下部（下部領域１０Ｈ）に、行列状に配置され、列方向の長さＬ７が長さＬ２よりも短い複数の第３画素１１ｚを有していてもよい。このとき、下部領域１０Ｈは、上部領域１０Ｆおよび中部領域１０Ｇと比べて、運転者２００に近接して配置されている。
このとき、第１画素１１ｘ，第２画素１１ｙ，第３画素１１ｚでは、列方向の長さＬ１，Ｌ２，Ｌ７が互いに異なっている。第２画素１１ｙの、列方向の長さＬ２は、第１画素１１ｘの、列方向の長さＬ１よりも短くなっている。第３画素１１ｚの、列方向の長さＬ７は、第２画素１１ｙの、列方向の長さＬ２よりも短くなっている。つまり、表示領域１０Ａ内の複数の画素１１には、方向の長さＬ１，Ｌ２，Ｌ７が互いに異なる複数の画素１１（第１画素１１ｘ，第２画素１１ｙ，第３画素１１ｚ）が含まれている。これにより、運転者２００からの、発光パネル１０の上部（上部領域１０Ｆ）の画像の見え方（縮尺、精細度）と、運転者２００からの、発光パネル１０の中部（中部領域１０Ｇ）の画像の見え方（縮尺、精細度）と、運転者２００からの、発光パネル１０の下部（下部領域１０Ｈ）の画像の見え方（縮尺、精細度）を、互いに等しくすることができる。その結果、発光パネル１０の折れ曲がりに寄らず、発光パネル１０の視認性や表示品質を向上させることができる。
なお、発光パネル１０が、凸状もしくは凹状に湾曲していてもよい。例えば、図２４に示したように、発光パネル１０の、運転者２００から見た前方への傾斜角が、発光パネル１０下部から上部に向かうにつれて大きくなっていてもよい。発光パネル１０が、運転者２００から見て、このような凸状に湾曲している場合、例えば、図２５に示したように、発光パネル１０内の各画素１１の、列方向の長さが、運転者２００から見て、発光パネル１０下部から上部に向かうにつれて大きくなっていてもよい。これにより、運転者２００からの、発光パネル１０全体における画像の見え方（縮尺、精細度）を均一にすることができる。その結果、発光パネル１０の折れ曲がりに寄らず、発光パネル１０の視認性や表示品質を向上させることができる。
[変形例Ｃ]
図２６は、上記実施の形態およびその変形例に係る発光パネル１０の断面構成の一変形例を表したものである。上記実施の形態およびその変形例に係る発光パネル１０は、例えば、図２６に示したように、表示面に円偏光板２９を備えていてもよい。表示面に円偏光板２９を設けることにより、例えば、外光が入り込む環境下で発光パネル１０を用いる場合であっても、発光パネル１０の視認性や表示品質の劣化を防止することができる。
図２６は、上記実施の形態およびその変形例に係る発光パネル１０の断面構成の一変形例を表したものである。上記実施の形態およびその変形例に係る発光パネル１０は、例えば、図２６に示したように、表示面に円偏光板２９を備えていてもよい。表示面に円偏光板２９を設けることにより、例えば、外光が入り込む環境下で発光パネル１０を用いる場合であっても、発光パネル１０の視認性や表示品質の劣化を防止することができる。
なお、表示面に、円偏光板２９の代わりに、カラーフィルタが設けられていてもよい。また、最表面に、アンチリフレクションフィルム、または、アンチグレアフィルムが設けられていてもよい。また、最表面に、アンチリフレクションフィルムとアンチグレアフィルムとの積層フィルムが設けられていてもよい。また、積層フィルムの下に、さらに、タッチパネルが設けられていてもよい。
[変形例Ｄ]
上記実施の形態およびその変形例において、行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）が、列規制部１４Ｃの高さ（基板１６からの高さ）と等しくなっていてもよい。また、上記実施の形態およびその変形例において、行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）が、列規制部１４Ｃの高さ（基板１６からの高さ）よりも高くなっていてもよい。これらの場合、各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの表面は、各行規制部１４Ｄの表面と比べて相対的に撥液性を有している。各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの表面は、例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４を塗布法により形成する際に、インクが各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの表面に濡れ広がるように構成されている。
上記実施の形態およびその変形例において、行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）が、列規制部１４Ｃの高さ（基板１６からの高さ）と等しくなっていてもよい。また、上記実施の形態およびその変形例において、行規制部１４Ｄの高さ（基板１６からの高さ）が、列規制部１４Ｃの高さ（基板１６からの高さ）よりも高くなっていてもよい。これらの場合、各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの表面は、各行規制部１４Ｄの表面と比べて相対的に撥液性を有している。各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの表面は、例えば、正孔注入層２２、正孔輸送層２３および発光層２４を塗布法により形成する際に、インクが各列規制部１４Ｃおよび周囲規制部１４Ｅの表面に濡れ広がるように構成されている。
[変形例Ｅ]
図２７は、上記実施の形態およびその変形例に係る発光パネル１０の平面構成の一変形例を表したものである。なお、図２７に記載の画素１１の数は、あくまでも一例であり、実際の画素数は、実使用に必要な表示エリアに応じた数となる。上記実施の形態およびその変形例において、発光パネル１０は、例えば、図２７に示したように、楕円形状となっていてもよい。このとき、基板１６の形状が、楕円形状となっている。上記実施の形態およびその変形例において、発光パネル１０は、例えば、円形状、台形状、または、円の一部を切り欠いた形状など、種々の形状を採ることができる。このとき、基板１６の形状は、発光パネル１０の形状に対応した形状となっている。また、発光パネル１０が、例えば、楕円形状、円形状、台形状、または、円の一部を切り欠いた形状など、矩形以外の形状となっている場合に、発光パネル１０が、例えば、図１９、図２１または図２２に示したように、凸状、凹状またはクランク状に折り曲げられていてもよいし、例えば、図２４に示したように、凸状に湾曲していてもよい。
図２７は、上記実施の形態およびその変形例に係る発光パネル１０の平面構成の一変形例を表したものである。なお、図２７に記載の画素１１の数は、あくまでも一例であり、実際の画素数は、実使用に必要な表示エリアに応じた数となる。上記実施の形態およびその変形例において、発光パネル１０は、例えば、図２７に示したように、楕円形状となっていてもよい。このとき、基板１６の形状が、楕円形状となっている。上記実施の形態およびその変形例において、発光パネル１０は、例えば、円形状、台形状、または、円の一部を切り欠いた形状など、種々の形状を採ることができる。このとき、基板１６の形状は、発光パネル１０の形状に対応した形状となっている。また、発光パネル１０が、例えば、楕円形状、円形状、台形状、または、円の一部を切り欠いた形状など、矩形以外の形状となっている場合に、発光パネル１０が、例えば、図１９、図２１または図２２に示したように、凸状、凹状またはクランク状に折り曲げられていてもよいし、例えば、図２４に示したように、凸状に湾曲していてもよい。
なお、上記実施の形態およびその変形例において、各画素１１内に、更なる構造が設けられていてもよい。
[変形例Ｆ]
上記実施の形態およびその変形例において、発光素子１１−２が、ＱＬＥＤ（Quantum Dot electro-luminescence）であってもよい。ＱＬＥＤとは、例えば、発光素子１１−２において発光層２４が無機材料で構成され、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、電子輸送層２５および電子注入層２６が有機材料で構成された素子を指している。この場合においても、上記実施の形態およびその変形例と同様の効果を奏することができる。
上記実施の形態およびその変形例において、発光素子１１−２が、ＱＬＥＤ（Quantum Dot electro-luminescence）であってもよい。ＱＬＥＤとは、例えば、発光素子１１−２において発光層２４が無機材料で構成され、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、電子輸送層２５および電子注入層２６が有機材料で構成された素子を指している。この場合においても、上記実施の形態およびその変形例と同様の効果を奏することができる。
[変形例Ｇ]
上記実施の形態およびその変形例において、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、発光層２４、電子輸送層２５および電子注入層２６が塗布ではなく、蒸着によって形成されていてもよい。
上記実施の形態およびその変形例において、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、発光層２４、電子輸送層２５および電子注入層２６が塗布ではなく、蒸着によって形成されていてもよい。
ところで、上記実施の形態およびその変形例では、ユーザが発光パネル１０を列方向から斜めに見ることが想定されている。これは、発光パネル１０の色度視野角は、列方向の方が行方向と比べて大きいからである。しかし、上記実施の形態およびその変形例において、ユーザは、必要に応じて、発光パネル１０を行方向から斜めに見てもよい。行規制部１４Ｄの延在方向である画素の短軸に比べ、列規制部１４Ｃが延在する画素の長軸方向の方が画素幅を確保できるため、輝度視野角特性、ならびに色度視野角特性設計尤度が高く、良好な視野角特性を確保することができる。従って、発光パネル１０の上下方向が発光パネル１０の列方向となるように、発光パネル１０を回転させて使用することにより、９０°回転させた配置により発光パネル１０を配置した後のパネル左右での視野角を向上させることができる。
[変形例Ｈ]
上記実施の形態およびその変形例において、電子輸送層２５や電子注入層２６が、表示画素１２ごとに別個に形成され、表示画素１２内の各画素１１で共有されていてもよい。この場合に、電子輸送層２５や電子注入層２６は、例えば、マスク蒸着、または、塗布により形成されていてもよい。
上記実施の形態およびその変形例において、電子輸送層２５や電子注入層２６が、表示画素１２ごとに別個に形成され、表示画素１２内の各画素１１で共有されていてもよい。この場合に、電子輸送層２５や電子注入層２６は、例えば、マスク蒸着、または、塗布により形成されていてもよい。
[変形例Ｉ]
上記実施の形態およびその変形例において、表示領域１０Ａのうち、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界には、２種類の画素サイズの表示画素（表示画素１２ｎおよび表示画素１２ｓ）が配置されていた。しかし、上記実施の形態およびその変形例において、表示領域１０Ａのうち、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界に、３種類以上の画素サイズの表示画素が配置されていてもよい。
上記実施の形態およびその変形例において、表示領域１０Ａのうち、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界には、２種類の画素サイズの表示画素（表示画素１２ｎおよび表示画素１２ｓ）が配置されていた。しかし、上記実施の形態およびその変形例において、表示領域１０Ａのうち、表示領域１０Ａと非表示領域１０Ｂとの境界に、３種類以上の画素サイズの表示画素が配置されていてもよい。
上記実施の形態およびその変形例において、行と列が入れ換わってもよい。例えば、上記実施の形態およびその変形例において、列規制部１４Ｃと行規制部１４Ｄとが入れ替わってもよい。この場合、行規制部１４Ｄが、本開示の「第１規制部」の一具体例に相当し、列規制部１４Ｃが、本開示の「第２規制部」「第３規制部」「第４規制部」の一具体例に相当する。
[変形例Ｊ]
上記実施の形態およびその変形例において、焼き付き防止のため、表示を定期的に数画素分、動かすウォブリングが行われてもよい。例えば、図２８、図２９に示したように、表示領域１０Ａのうち、外縁に相当する箇所が非発光領域１０Ｂとなっており、表示領域１０Ａのうち、外縁以外の領域に相当する箇所が発光領域１０Ａ−１となっていてもよい。このとき、発光領域１０Ａ−１が、表示領域１０Ａにおいて定期的に数画素分、動く。発光領域１０Ａ−１が、例えば、図２８に示したように表示領域１０Ａの形状と相似形となっていてもよいし、例えば、図２９に示したように表示領域１０Ａの形状とは異なる形状（例えば、円形や楕円形）となっていてもよい。
上記実施の形態およびその変形例において、焼き付き防止のため、表示を定期的に数画素分、動かすウォブリングが行われてもよい。例えば、図２８、図２９に示したように、表示領域１０Ａのうち、外縁に相当する箇所が非発光領域１０Ｂとなっており、表示領域１０Ａのうち、外縁以外の領域に相当する箇所が発光領域１０Ａ−１となっていてもよい。このとき、発光領域１０Ａ−１が、表示領域１０Ａにおいて定期的に数画素分、動く。発光領域１０Ａ−１が、例えば、図２８に示したように表示領域１０Ａの形状と相似形となっていてもよいし、例えば、図２９に示したように表示領域１０Ａの形状とは異なる形状（例えば、円形や楕円形）となっていてもよい。
また、本変形例において、例えば、図３０に示したように、表示領域１０Ａに、２つの発光領域１０Ａ−１が設けられてもよい。この場合、表示領域１０Ａにおいて、各発光領域１０Ａ−１が、表示領域１０Ａにおいて定期的に数画素分、動く。このとき、２つの発光領域１０Ａ−１は、互いに異なる形状となっていてもよい。例えば、一方の発光領域１０Ａ−１が円形や楕円形となっており、他方の発光領域１０Ａ−１が矩形状となっていてもよい。また、本変形例において、例えば、図３１に示したように、表示領域１０Ａに、３つの発光領域１０Ａ−１が設けられてもよい。この場合、表示領域１０Ａにおいて、各発光領域１０Ａ−１が、表示領域１０Ａにおいて定期的に数画素分、動く。このとき、３つの発光領域１０Ａ−１は、互いに異なる形状となっていてもよい。例えば、１つ目の発光領域１０Ａ−１が円形や楕円形となっており、２つ目の発光領域１０Ａ−１が矩形状となっており、３つ目の発光領域１０Ａ−１が円形や楕円形となっていてもよい。なお、図２９、図３０、図３１において、発光領域１０Ａ−１の円形や楕円形の境界線は、便宜上、曲線で示されているが、実際には、画素１１サイズの段差が存在する。
本変形例では、表示領域１０Ａに、定期的に数画素分、動く複数の発光領域１０Ａ−１が設けられている。これにより、焼き付きを防止することができる。
なお、本変形例において、発光領域１０Ａ−１が、表示パネル１０が適用される電子機器の表示画面の形状に応じた形状となっていてもよい。この場合、ウォブリングが行われなくてもよい。このように、発光領域１０Ａ−１の形状を、表示パネル１０が適用される電子機器の表示画面の形状に応じた形状に変化させることができる場合には、表示領域１０Ａの形状を電子機器ごとに変える必要がなく、表示パネル１０の製造コストを低減することができる。
＜３．適用例＞
[適用例その１]
以下では、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１の適用例について説明する。上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、シート状のパーソナルコンピュータ、携帯電話、車載用表示装置、車載用モニター等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
[適用例その１]
以下では、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１の適用例について説明する。上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、シート状のパーソナルコンピュータ、携帯電話、車載用表示装置、車載用モニター等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
図３２は、本適用例に係る電子機器２の外観を斜視的に表したものである。電子機器２は、例えば、筐体３１０の主面に表示面３２０を備えたシート状のパーソナルコンピュータである。電子機器２は、電子機器２の表示面３２０に、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１を表示装置として備えている。上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１は、発光パネル１０が外側を向くように配置されている。本適用例では、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１が表示面３２０に設けられているので、視認性や表示品質の高い電子機器２を実現することができる。
[適用例その２]
以下では、上記実施の形態およびその変形例に係る発光素子１１−２の適用例について説明する。上記実施の形態およびその変形例に係る発光素子１１−２は、卓上用もしくは床置き用の照明装置、または、室内用の照明装置など、あらゆる分野の照明装置の光源に適用することが可能である。
以下では、上記実施の形態およびその変形例に係る発光素子１１−２の適用例について説明する。上記実施の形態およびその変形例に係る発光素子１１−２は、卓上用もしくは床置き用の照明装置、または、室内用の照明装置など、あらゆる分野の照明装置の光源に適用することが可能である。
図３３は、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１が適用される室内用の照明装置の外観を表したものである。この照明装置は、例えば、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１を含んで構成された照明部４１０を有している。照明部４１０は、建造物の天井４２０に適宜の個数および間隔で配置されている。なお、照明部４１０は、用途に応じて、天井４２０に限らず、壁４３０または床（図示せず）など任意の場所に設置することが可能である。
これらの照明装置では、上記実施の形態およびその変形例に係る発光装置１からの光により、照明が行われる。これにより、照明品質の高い照明装置を実現することができる。
以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。なお、本明細書中に記載された効果は、あくまで例示である。本開示の効果は、本明細書中に記載された効果に限定されるものではない。本開示が、本明細書中に記載された効果以外の効果を持っていてもよい。
また、例えば、本開示は以下のような構成を取ることができる。
（１）
複数の画素と、
第１の方向に延在し、前記第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの前記画素を区画する複数の第１規制部と、
前記第２の方向に延在し、前記第１の方向に隣接する２つの前記画素を区画する複数の第２規制部と
を備え、
前記複数の画素には、少なくとも、前記第１の方向の長さが互いに異なり、発光層を共有する第１画素および第２画素が含まれ、
前記第１画素および前記第２画素は、少なくとも、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されている
発光パネル。
（２）
前記複数の画素は、所定の数ごとに表示画素としてグループ分けされており、
前記第１画素は、前記第１の方向に互いに隣接する２つの前記表示画素のうちの一方に含まれ、
前記第２画素は、前記第１の方向に互いに隣接する２つの表示画素のうちの他方に含まれている
（１）に記載の発光パネル。
（３）
前記第１画素および前記第２画素は、互いに隣接する２つの前記第１規制部の間隙に配置されている
（１）または（２）に記載の発光パネル。
（４）
前記第１画素および前記第２画素は、前記第１規制部に沿って配置されている
（３）に記載の発光パネル。
（５）
表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域とを備え、
前記第１画素および前記第２画素は、前記表示領域に配置されており、
前記第２画素の、前記第１の方向の長さが、前記第１画素の、前記第１の方向の長さよりも短くなっており、
前記第２画素は、前記表示領域と前記非表示領域との境界に配置されている
（１）から（４）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（６）
前記複数の画素には、前記非表示領域に配置された第３画素が含まれ、
前記第２画素および前記第３画素は、複数の前記第２規制部のうちの第３規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置され、
前記第３規制部の、前記第１の方向の長さは、複数の前記第２規制部のうち、前記第３規制部以外の第４規制部の、前記第１の方向の長さよりも長くなっている
（５）に記載の発光パネル。
（７）
前記第２画素の、前記第１の方向の長さが、前記第１画素の、前記第１の方向の長さよりも短くなっており、
前記複数の画素には、前記第１の方向に並んで配置された複数の前記第１画素と、前記第１の方向に並んで配置された複数の前記第２画素とが含まれる
（１）から（４）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（８）
前記第１の方向に隣接する２つの前記第２画素の間を区画する領域の、前記第１の方向の長さは、前記第１の方向に隣接する２つの前記第１画素の間を区画する領域の、前記第１の方向の長さよりも短くなっている
（７）に記載の発光パネル。
（９）
当該発光パネルは、湾曲もしくは折れ曲がっており、
前記第１画素および前記第２画素の、前記第１の方向の長さは、当該発光パネルを特定の方向から見たときの、前記第１画素および前記第２画素の見かけの画素サイズの差異が、前記第１画素および前記第２画素の実際の画素サイズの差異よりも小さくなるように設定されている
（１）から（８）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１０）
表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域とを備え、
少なくとも、前記第１画素および前記第２画素は、前記表示領域に配置され、
前記複数の画素には、少なくとも、前記非表示領域に配置された第３画素が含まれ、
前記第１画素もしくは前記第２画素と、前記第３画素とは、少なくとも、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されている
（１）から（４）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１１）
前記発光層は、塗布膜である
（１）から（１０）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１２）
前記第１画素および前記第２画素は、前記発光層の他に、塗布膜で構成される他の層についても共有している
（１１）に記載の発光パネル。
（１３）
前記第３画素と、前記第１画素もしくは前記第２画素とは、前記発光層を共有している
（１０）に記載の発光パネル。
（１４）
前記第３画素と、前記第１画素もしくは前記第２画素とは、前記発光層の他に、塗布膜で構成される他の層についても共有している
（１３）に記載の発光パネル。
（１５）
前記第２規制部は、前記第１規制部と比べて相対的に親液性を有している
（１）から（１４）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１６）
前記第２規制部の高さは、前記第１規制部の高さよりも低くなっている
（１）から（１５）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１７）
（１）から（１６）のいずれか１つの記載の発光パネルを備える電子機器。
（１８）
表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域と、前記表示領域および前記非表示領域の双方に設けられた複数の画素形成領域と、第１の方向に延在し、前記第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの前記画素形成領域を区画する複数の第１規制部と、前記第２の方向に延在し、前記第１の方向に隣接する２つの前記画素形成領域を区画する複数の第２規制部とを備え、前記複数の画素形成領域は、前記第１の方向の長さが互いに異なる第１画素および第２画素が含まれ、前記第１画素および前記第２画素は、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されたパネルを用意することと、
前記パネルのうち、前記表示領域だけでなく、前記非表示領域に対しても、インクを塗布することにより、前記表示領域に含まれる各前記画素形成領域だけでなく、前記非表示領域に含まれる各前記画素形成領域に対しても、発光層を含む画素を形成することと
を含む
発光パネルの製造方法。
（１９）
前記非表示領域のうち、前記画素形成領域の未形成領域と、前記非表示領域における複数の前記画素形成領域と、前記表示領域における複数の前記画素形成領域とに対して前記インクを塗布することにより、前記表示領域に含まれる各前記画素形成領域だけでなく、前記非表示領域に含まれる各前記画素形成領域に対しても、前記発光層を含む画素を形成することを含む
（１８）に記載の発光パネルの製造方法。
（２０）
前記第２規制部は、前記第１規制部と比べて前記インクに対してより親液性を有している
（１８）または（１９）に記載の発光パネルの製造方法。
（２１）
前記第２規制部の高さは、前記第１規制部の高さよりも低くなっている
（１８）から（２０）のいずれか１つに記載の発光パネルの製造方法。
（２２）
前記第２規制部は、前記発光層を塗布法により形成する際に、インクが当該第２規制部の表面に濡れ広がるように構成されている
（１２）に記載の発光パネル。
（１）
複数の画素と、
第１の方向に延在し、前記第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの前記画素を区画する複数の第１規制部と、
前記第２の方向に延在し、前記第１の方向に隣接する２つの前記画素を区画する複数の第２規制部と
を備え、
前記複数の画素には、少なくとも、前記第１の方向の長さが互いに異なり、発光層を共有する第１画素および第２画素が含まれ、
前記第１画素および前記第２画素は、少なくとも、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されている
発光パネル。
（２）
前記複数の画素は、所定の数ごとに表示画素としてグループ分けされており、
前記第１画素は、前記第１の方向に互いに隣接する２つの前記表示画素のうちの一方に含まれ、
前記第２画素は、前記第１の方向に互いに隣接する２つの表示画素のうちの他方に含まれている
（１）に記載の発光パネル。
（３）
前記第１画素および前記第２画素は、互いに隣接する２つの前記第１規制部の間隙に配置されている
（１）または（２）に記載の発光パネル。
（４）
前記第１画素および前記第２画素は、前記第１規制部に沿って配置されている
（３）に記載の発光パネル。
（５）
表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域とを備え、
前記第１画素および前記第２画素は、前記表示領域に配置されており、
前記第２画素の、前記第１の方向の長さが、前記第１画素の、前記第１の方向の長さよりも短くなっており、
前記第２画素は、前記表示領域と前記非表示領域との境界に配置されている
（１）から（４）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（６）
前記複数の画素には、前記非表示領域に配置された第３画素が含まれ、
前記第２画素および前記第３画素は、複数の前記第２規制部のうちの第３規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置され、
前記第３規制部の、前記第１の方向の長さは、複数の前記第２規制部のうち、前記第３規制部以外の第４規制部の、前記第１の方向の長さよりも長くなっている
（５）に記載の発光パネル。
（７）
前記第２画素の、前記第１の方向の長さが、前記第１画素の、前記第１の方向の長さよりも短くなっており、
前記複数の画素には、前記第１の方向に並んで配置された複数の前記第１画素と、前記第１の方向に並んで配置された複数の前記第２画素とが含まれる
（１）から（４）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（８）
前記第１の方向に隣接する２つの前記第２画素の間を区画する領域の、前記第１の方向の長さは、前記第１の方向に隣接する２つの前記第１画素の間を区画する領域の、前記第１の方向の長さよりも短くなっている
（７）に記載の発光パネル。
（９）
当該発光パネルは、湾曲もしくは折れ曲がっており、
前記第１画素および前記第２画素の、前記第１の方向の長さは、当該発光パネルを特定の方向から見たときの、前記第１画素および前記第２画素の見かけの画素サイズの差異が、前記第１画素および前記第２画素の実際の画素サイズの差異よりも小さくなるように設定されている
（１）から（８）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１０）
表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域とを備え、
少なくとも、前記第１画素および前記第２画素は、前記表示領域に配置され、
前記複数の画素には、少なくとも、前記非表示領域に配置された第３画素が含まれ、
前記第１画素もしくは前記第２画素と、前記第３画素とは、少なくとも、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されている
（１）から（４）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１１）
前記発光層は、塗布膜である
（１）から（１０）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１２）
前記第１画素および前記第２画素は、前記発光層の他に、塗布膜で構成される他の層についても共有している
（１１）に記載の発光パネル。
（１３）
前記第３画素と、前記第１画素もしくは前記第２画素とは、前記発光層を共有している
（１０）に記載の発光パネル。
（１４）
前記第３画素と、前記第１画素もしくは前記第２画素とは、前記発光層の他に、塗布膜で構成される他の層についても共有している
（１３）に記載の発光パネル。
（１５）
前記第２規制部は、前記第１規制部と比べて相対的に親液性を有している
（１）から（１４）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１６）
前記第２規制部の高さは、前記第１規制部の高さよりも低くなっている
（１）から（１５）のいずれか１つに記載の発光パネル。
（１７）
（１）から（１６）のいずれか１つの記載の発光パネルを備える電子機器。
（１８）
表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域と、前記表示領域および前記非表示領域の双方に設けられた複数の画素形成領域と、第１の方向に延在し、前記第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの前記画素形成領域を区画する複数の第１規制部と、前記第２の方向に延在し、前記第１の方向に隣接する２つの前記画素形成領域を区画する複数の第２規制部とを備え、前記複数の画素形成領域は、前記第１の方向の長さが互いに異なる第１画素および第２画素が含まれ、前記第１画素および前記第２画素は、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されたパネルを用意することと、
前記パネルのうち、前記表示領域だけでなく、前記非表示領域に対しても、インクを塗布することにより、前記表示領域に含まれる各前記画素形成領域だけでなく、前記非表示領域に含まれる各前記画素形成領域に対しても、発光層を含む画素を形成することと
を含む
発光パネルの製造方法。
（１９）
前記非表示領域のうち、前記画素形成領域の未形成領域と、前記非表示領域における複数の前記画素形成領域と、前記表示領域における複数の前記画素形成領域とに対して前記インクを塗布することにより、前記表示領域に含まれる各前記画素形成領域だけでなく、前記非表示領域に含まれる各前記画素形成領域に対しても、前記発光層を含む画素を形成することを含む
（１８）に記載の発光パネルの製造方法。
（２０）
前記第２規制部は、前記第１規制部と比べて前記インクに対してより親液性を有している
（１８）または（１９）に記載の発光パネルの製造方法。
（２１）
前記第２規制部の高さは、前記第１規制部の高さよりも低くなっている
（１８）から（２０）のいずれか１つに記載の発光パネルの製造方法。
（２２）
前記第２規制部は、前記発光層を塗布法により形成する際に、インクが当該第２規制部の表面に濡れ広がるように構成されている
（１２）に記載の発光パネル。
１…発光装置、２…電子機器、１０…発光パネル、１０Ａ…表示領域、１０Ｂ…非表示領域、１０Ｃ…高精細領域、１０Ｄ…垂直領域、１０Ｅ…傾斜領域、１０Ｆ…上部領域、１０Ｇ…中部領域、１０Ｈ…下部領域、１１，１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂ…画素、１１ｘ…第１画素、１１ｙ…第２画素、１１ｚ…第３画素、１１−１…画素回路、１２−２…発光素子、１４…絶縁層、１４Ａ…開口部、１４Ｃ…列規制部、１４Ｄ…行規制部、１４Ｅ…周囲規制部、１６…基板、１６Ａ…基材、１６Ｂ…配線層、１７…溝部、２０…コントローラ、２１…陽極、２２…正孔注入層、２３…正孔輸送層、２４…発光層、２４Ａ…発光領域、２５…電子輸送層、２６…電子注入層、２７…陰極、２８…封止層、２９…円偏光板、３０…ドライバ、３１…水平セレクタ、３２…ライトスキャナ、１００…移動体、１１０…車体、１２０…フロントガラス、１３０…ダッシュボード、２００…運転者、３１０…筐体、３２０…表示面、４１０…照明部、４２０…天井、４３０…壁、Ｔｒ１…駆動トランジスタ、Ｔｒ２…選択トランジスタ、Ｃｓ…保持容量、ＤＳＬ…電源線、ＤＴＬ…信号線、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４，Ｌ５，Ｌ６，Ｌ７…長さ、Ｖｇｓ…ゲート−ソース間電圧、Ｖｓｉｇ…信号電圧、ＷＳＬ…選択線。
Claims (21)
- 複数の画素と、
第１の方向に延在し、前記第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの前記画素を区画する複数の第１規制部と、
前記第２の方向に延在し、前記第１の方向に隣接する２つの前記画素を区画する複数の第２規制部と
を備え、
前記複数の画素には、少なくとも、前記第１の方向の長さが互いに異なり、発光層を共有する第１画素および第２画素が含まれ、
前記第１画素および前記第２画素は、少なくとも、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されている
発光パネル。 - 前記複数の画素は、所定の数ごとに表示画素としてグループ分けされており、
前記第１画素は、前記第１の方向に互いに隣接する２つの前記表示画素のうちの一方に含まれ、
前記第２画素は、前記第１の方向に互いに隣接する２つの表示画素のうちの他方に含まれている
請求項１に記載の発光パネル。 - 前記第１画素および前記第２画素は、互いに隣接する２つの前記第１規制部の間隙に配置されている
請求項１または請求項２に記載の発光パネル。 - 前記第１画素および前記第２画素は、前記第１規制部に沿って配置されている
請求項３に記載の発光パネル。 - 表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域とを備え、
前記第１画素および前記第２画素は、前記表示領域に配置されており、
前記第２画素の、前記第１の方向の長さが、前記第１画素の、前記第１の方向の長さよりも短くなっており、
前記第２画素は、前記表示領域と前記非表示領域との境界に配置されている
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の発光パネル。 - 前記複数の画素には、前記非表示領域に配置された第３画素が含まれ、
前記第２画素および前記第３画素は、複数の前記第２規制部のうちの第３規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置され、
前記第３規制部の、前記第１の方向の長さは、複数の前記第２規制部のうち、前記第３規制部以外の第４規制部の、前記第１の方向の長さよりも長くなっている
請求項５に記載の発光パネル。 - 前記第２画素の、前記第１の方向の長さが、前記第１画素の、前記第１の方向の長さよりも短くなっており、
前記複数の画素には、前記第１の方向に並んで配置された複数の前記第１画素と、前記第１の方向に並んで配置された複数の前記第２画素とが含まれる
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の発光パネル。 - 前記第１の方向に隣接する２つの前記第２画素の間を区画する領域の、前記第１の方向の長さは、前記第１の方向に隣接する２つの前記第１画素の間を区画する領域の、前記第１の方向の長さよりも短くなっている
請求項７に記載の発光パネル。 - 当該発光パネルは、湾曲もしくは折れ曲がっており、
前記第１画素および前記第２画素の、前記第１の方向の長さは、当該発光パネルを特定の方向から見たときの、前記第１画素および前記第２画素の見かけの画素サイズの差異が、前記第１画素および前記第２画素の実際の画素サイズの差異よりも小さくなるように設定されている
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の発光パネル。 - 表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域とを備え、
少なくとも、前記第１画素および前記第２画素は、前記表示領域に配置され、
前記複数の画素には、少なくとも、前記非表示領域に配置された第３画素が含まれ、
前記第１画素もしくは前記第２画素と、前記第３画素とは、少なくとも、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されている
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の発光パネル。 - 前記発光層は、塗布膜である
請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の発光パネル。 - 前記第１画素および前記第２画素は、前記発光層の他に、塗布膜で構成される他の層についても共有している
請求項１１に記載の発光パネル。 - 前記第３画素と、前記第１画素もしくは前記第２画素とは、前記発光層を共有している
請求項１０に記載の発光パネル。 - 前記第３画素と、前記第１画素もしくは前記第２画素とは、前記発光層の他に、塗布膜で構成される他の層についても共有している
請求項１３に記載の発光パネル。 - 前記第２規制部は、前記第１規制部と比べて相対的に親液性を有している
請求項１から請求項１４のいずれか一項に記載の発光パネル。 - 前記第２規制部の高さは、前記第１規制部の高さよりも低くなっている
請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載の発光パネル。 - 請求項１から請求項１６のいずれか一項に記載の発光パネルを備える電子機器。
- 表示領域と、前記表示領域の周囲の非表示領域と、前記表示領域および前記非表示領域の双方に設けられた複数の画素形成領域と、第１の方向に延在し、前記第１の方向と直交する第２の方向に隣接する２つの前記画素形成領域を区画する複数の第１規制部と、前記第２の方向に延在し、前記第１の方向に隣接する２つの前記画素形成領域を区画する複数の第２規制部とを備え、前記複数の画素形成領域には、前記第１の方向の長さが互いに異なる第１画素および第２画素が含まれ、前記第１画素および前記第２画素は、前記第２規制部を介して、前記第１の方向に隣接して配置されたパネルを用意することと、
前記パネルのうち、前記表示領域だけでなく、前記非表示領域に対しても、インクを塗布することにより、前記表示領域に含まれる各前記画素形成領域だけでなく、前記非表示領域に含まれる各前記画素形成領域に対しても、発光層を含む画素を形成することと
を含む
発光パネルの製造方法。 - 前記非表示領域のうち、前記画素形成領域の未形成領域と、前記非表示領域における複数の前記画素形成領域と、前記表示領域における複数の前記画素形成領域とに対して前記インクを塗布することにより、前記表示領域に含まれる各前記画素形成領域だけでなく、前記非表示領域に含まれる各前記画素形成領域に対しても、前記発光層を含む画素を形成することを含む
請求項１８に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記第２規制部は、前記第１規制部と比べて前記インクに対してより親液性を有している
請求項１８または請求項１９に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記第２規制部の高さは、前記第１規制部の高さよりも低くなっている
請求項１８から請求項２０のいずれか一項に記載の発光パネルの製造方法。
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