JP2020023426A - 複合鉄酸化物焼結体および複合鉄酸化物粉末ならびにこれらの製造方法 - Google Patents
複合鉄酸化物焼結体および複合鉄酸化物粉末ならびにこれらの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020023426A JP2020023426A JP2018243058A JP2018243058A JP2020023426A JP 2020023426 A JP2020023426 A JP 2020023426A JP 2018243058 A JP2018243058 A JP 2018243058A JP 2018243058 A JP2018243058 A JP 2018243058A JP 2020023426 A JP2020023426 A JP 2020023426A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- iron oxide
- composite iron
- thin film
- sintered body
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 252
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 131
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 17
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 title abstract description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 23
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000011019 hematite Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052595 hematite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- LIKBJVNGSGBSGK-UHFFFAOYSA-N iron(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Fe+3].[Fe+3] LIKBJVNGSGBSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 24
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 24
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N germanium monoxide Inorganic materials [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 107
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 63
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 38
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 35
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 32
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 11
- 238000000731 high angular annular dark-field scanning transmission electron microscopy Methods 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 11
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 7
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 7
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 5
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000001106 transmission high energy electron diffraction data Methods 0.000 description 4
- 229910002552 Fe K Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910003110 Mg K Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000005293 ferrimagnetic effect Effects 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000000619 electron energy-loss spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000026 X-ray photoelectron spectrum Methods 0.000 description 1
- IHTFTOGFXXXQBO-UHFFFAOYSA-B [C+4].[C+4].[C+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O Chemical compound [C+4].[C+4].[C+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O IHTFTOGFXXXQBO-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000005430 electron energy loss spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910001448 ferrous ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 229940031182 nanoparticles iron oxide Drugs 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Compounds Of Iron (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
複合鉄酸化物薄膜(Fe3O4/α−Fe2O3薄膜)は、図1に模式的に示されているように、マグネタイト(Fe3O4)結晶相またはマグヘマイト(γ−Fe2O3)結晶層により構成される第1鉄酸化物層X1と、ヘマタイト(α−Fe2O3)結晶相により構成される表面層としての第2鉄酸化物層X2と、を有している。第1鉄酸化物層X1と第2鉄酸化物層X2とはヘテロ構造を有している。ここで「ヘテロ構造」とは、2つの層がヘテロ接合されたかのような境界面を有し、一体不可分的な形態で積み重なっている構造を意味する。第2鉄酸化物層X2の表面は平坦度が低く、粗さ曲線が不規則的であり、表面粗さRaは200nm以下の範囲に含まれている。
マグネタイト(Fe3O4)のターゲットにGe、Mo、W、およびMgからなる群から選択される一種以上の金属元素のチップが配置された複合ターゲットが、薄膜製造装置(例えば、スパッタリング装置)に設置される。金属添加濃度としては、金属添加Fe3O4薄膜の磁化が最大化されるような濃度、すなわちGeの場合は3.4at.%、Moの場合は1.3at.%、Wの場合は1.3at.%、Mgの場合は5.1at.%が採用された(例えば、非特許文献21、22参照)。そのうえで、例えばコーニング社製#7059ガラス基板等の基板が適当な時間にわたりスパッタエッチングされた後、交流電圧がターゲットに印加されて、Arガス等の雰囲気中で当該金属が添加されたFe3O4薄膜の成膜が行われる(例えば、特許文献1、非特許文献21参照)。この際、基板付近におけるバイアス電圧などの特殊な処理を施すことなく当該薄膜が作製される。
振動型試料磁力計(Tamakawa、TM−VSM−2430、Japan)を用いて、雰囲気温度における薄膜の磁化が測定された。薄膜の構造は、CuKα線(Rigaku、RAD−X、Japan)を用いたX線回折(XRD)を用いて同定された。走査透過型電子顕微鏡(STEM)、高角環状暗視野(HAADF)STEM、電子エネルギー損失分光法(EELS)、および、Ge−K、Mo−L、WL、Mg−K、Fe−K、およびO−Kの元素分析のための200kVで動作するエネルギー分散型X線分光法(EDX)(JEOL ARM200F、Tokyo、Japan)を用いて観察された。イオンミリングおよび集束イオンビームを用いて、断面および平面画像のそれぞれが準備された。
図2には、673Kの空気中における熱処理時間の関数としての無添加Fe3O4薄膜の磁化が示されている。単相Fe3O4薄膜が出発材料として確実に準備されるように、セラミックFe1-xOターゲットが用いられてAr/希薄酸素雰囲気中で成膜が行われた。磁化は熱処理時間が長くなるにつれて徐々に減少し、1日後に完全に消失した。無添加Fe3O4薄膜は、1日間にわたり熱処理されたα−Fe2O3の弱いフェロ磁性挙動(下部枠に示される磁化曲線参照)とは対照的に、熱処理前にはフェリ磁性挙動(上部枠に示される磁化曲線参照)を示した。
Geが添加された実施例1の複合鉄酸化物薄膜の微細構造が調べられることにより、熱処理過程において形成された相混合物(α−Fe2O3およびFe3O4)の形態が調べられた。図7A左側には、Geが添加されたFe3O4薄膜のHAADF−STEM画像が示されているがほぼ均一である。これは、元素が均一に分散していることを示すGe−K(図7B左側参照)、Fe−K(図7C左側参照)およびO−K(図7D左側参照)のそれぞれのSTEM−EDX元素マップ画像と一致している。図7A右側には、673Kで空気中において500日間にわたり熱処理されたGeが添加された実施例1の複合鉄酸化物薄膜のHAADF−STEM画像が示されている。表面層(第2鉄酸化物層X2)において、Fe(図7C右側参照)およびO(図7D右側参照)が全体的に分布している一方で、Geが存在していない(図7B右側参照)、表面の粗さ曲線が不規則的な構造を示している。
金属元素(Ge、Mo、W、およびMgからなる群から選択される一種以上の金属)は、複合鉄酸化物薄膜において異なる酸化挙動をもたらした。Geが添加された複合鉄酸化物薄膜が最も高い耐酸化性を示す理由として、(1)最も安定な酸化鉄であるα−Fe2O3表面層が残りのFe3O4の酸化を防止することおよび(2)GexFe3-xO4固溶体を形成することが考えられる。
本発明の一実施形態としての複合鉄酸化物焼結体は、組成式GexFe3-xO4(0<x<1)で表わされるGeが固溶したマグネタイト結晶相と、組成式GeyFe2-yO3(0≦y≦0.01)で表わされるヘマタイト結晶相と、の混合相により構成される。
本発明の一実施形態としての複合鉄酸化物焼結体を作製するため、まず、Fe3O4、FeOおよびGeO2の混合粉末を成形することにより成形体が作製される。Fe3O4、FeOおよびGeO2の混合粉末(1次粒子)が用いられ、スプレードライ法により造粒された顆粒(2次粒子)が成形されることにより成形体が作製されてもよい。非酸化雰囲気または真空において、第1温度範囲1073〜1573Kに含まれる温度で、第1時間範囲0.1〜170hrに含まれる時間にわたって成形体が熱処理することにより焼結体(または仮焼体)が作製される。酸化雰囲気において、第2温度範囲673〜973Kに含まれる温度で、第2時間範囲10分〜500日に含まれる時間にわたって焼結体が熱処理される。これらの結果、本発明の一実施形態としての複合鉄酸化物焼結体が作製される。
Claims (4)
- 組成式GexFe3-xO4(0<x<1)で表わされるGeが固溶したマグネタイト結晶相と、組成式GeyFe2-yO3(0≦y≦0.01)で表わされるヘマタイト結晶相と、の混合相により構成されることを特徴とする複合鉄酸化物焼結体。
- 組成式GexFe3-xO4(0<x<1)で表わされるGeが固溶したマグネタイト結晶相と、組成式GeyFe2-yO3(0≦y≦0.01)で表わされるヘマタイト結晶相と、の混合相により構成されることを特徴とする複合鉄酸化物粉末。
- 組成式GexFe3-xO4(0<x<1)で表わされるGeが固溶したマグネタイト結晶相と、組成式GeyFe2-yO3(0≦y≦0.01)で表わされるヘマタイト結晶相と、の混合相により構成される焼結体を製造する方法であって、
Fe3O4、FeOおよびGeO2の混合粉末を成形することにより成形体を作製する工程と、
非酸化雰囲気または真空において、第1温度範囲1073〜1573Kに含まれる温度で、第1時間範囲0.1〜170hrに含まれる時間にわたって前記成形体を熱処理することにより焼結体を作製する工程と、
酸化雰囲気において、第2温度範囲673〜973Kに含まれる温度で、第2時間範囲10分〜500日に含まれる時間にわたって前記焼結体を熱処理する工程と、を含んでいることを特徴とする複合鉄酸化物焼結体の製造方法。 - 組成式GexFe3-xO4(0<x<1)で表わされるGeが固溶したマグネタイト結晶相と、組成式GeyFe2-yO3(0≦y≦0.01)で表わされるヘマタイト結晶相と、の混合相により構成される粉末を製造する方法であって、
非酸化雰囲気または真空において、第1温度範囲1073〜1573Kに含まれる温度で、第1時間範囲0.1〜170hrに含まれる時間にわたって、Fe3O4、FeOおよびGeO2の混合粉末を熱処理する工程と、
酸化雰囲気において、第2温度範囲673〜973Kに含まれる温度で、第2時間範囲10分〜500日に含まれる時間にわたって前記混合粉末をさらに熱処理する工程と、を含んでいることを特徴とする複合鉄酸化物粉末の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018145343 | 2018-08-01 | ||
JP2018145343 | 2018-08-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020023426A true JP2020023426A (ja) | 2020-02-13 |
JP7391505B2 JP7391505B2 (ja) | 2023-12-05 |
Family
ID=69618230
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018243058A Active JP7391505B2 (ja) | 2018-08-01 | 2018-12-26 | 複合鉄酸化物焼結体および複合鉄酸化物粉末ならびにこれらの製造方法 |
JP2018243057A Active JP7153555B2 (ja) | 2018-08-01 | 2018-12-26 | 複合鉄酸化物薄膜およびその製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018243057A Active JP7153555B2 (ja) | 2018-08-01 | 2018-12-26 | 複合鉄酸化物薄膜およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7391505B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021122758A (ja) * | 2020-02-03 | 2021-08-30 | 公益財団法人電磁材料研究所 | 光触媒 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61265808A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-25 | Res Dev Corp Of Japan | 鉄酸化物系垂直磁気異方性薄膜 |
JPH04124270A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-24 | Tdk Corp | 反応性連続スパッタ方法および磁気記録媒体の製造方法 |
JPH04168620A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-16 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録再生方法 |
JP2005072521A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-03-17 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2008060516A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Res Inst Electric Magnetic Alloys | 発光素子用材料及び発光素子 |
JP2008091602A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 抵抗変化型メモリ素子材料の製造方法 |
JP2009143784A (ja) * | 2007-12-17 | 2009-07-02 | Kobe Steel Ltd | マグネタイトバルク材の製造方法 |
JP2009212480A (ja) * | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Res Inst Electric Magnetic Alloys | 強磁性薄膜材料とその製造方法 |
JP2011091083A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品およびその製造方法、積層セラミック電子部品用の扁平状導電性微粉末ならびに積層セラミック電子部品用の扁平状導電性微粉末分散液 |
JP2015151572A (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-24 | 公益財団法人電磁材料研究所 | 鉄酸化物薄膜およびその製造方法 |
JP2016074981A (ja) * | 2014-10-03 | 2016-05-12 | 日本碍子株式会社 | 耐熱性部材及びその製造方法 |
-
2018
- 2018-12-26 JP JP2018243058A patent/JP7391505B2/ja active Active
- 2018-12-26 JP JP2018243057A patent/JP7153555B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61265808A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-25 | Res Dev Corp Of Japan | 鉄酸化物系垂直磁気異方性薄膜 |
JPH04124270A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-24 | Tdk Corp | 反応性連続スパッタ方法および磁気記録媒体の製造方法 |
JPH04168620A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-16 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録再生方法 |
JP2005072521A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-03-17 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2008060516A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Res Inst Electric Magnetic Alloys | 発光素子用材料及び発光素子 |
JP2008091602A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 抵抗変化型メモリ素子材料の製造方法 |
JP2009143784A (ja) * | 2007-12-17 | 2009-07-02 | Kobe Steel Ltd | マグネタイトバルク材の製造方法 |
JP2009212480A (ja) * | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Res Inst Electric Magnetic Alloys | 強磁性薄膜材料とその製造方法 |
JP2011091083A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品およびその製造方法、積層セラミック電子部品用の扁平状導電性微粉末ならびに積層セラミック電子部品用の扁平状導電性微粉末分散液 |
JP2015151572A (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-24 | 公益財団法人電磁材料研究所 | 鉄酸化物薄膜およびその製造方法 |
JP2016074981A (ja) * | 2014-10-03 | 2016-05-12 | 日本碍子株式会社 | 耐熱性部材及びその製造方法 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
BICH, G. V.,MEN, A. N.,PETROV, YU. A.: "Magnetic, electrical, and crystallographic properties of germanium-substituted iron oxide", FIZIKA TVERDOGO TELA, vol. 30, no. 10, JPN6022052698, 1988, pages 2924 - 2928, ISSN: 0005069870 * |
SEISHI ABE ET AL.: "magnetite thin films containing a small amaount of ge", APPL. PHYS. EXPRESS, vol. 1, no. 111304, JPN6023021731, pages 111304 - 1, ISSN: 0005069872 * |
阿部世嗣ら: "金属元素を添加したマグネタイト薄膜の耐酸化性", 2016年(第159回)日本金属学会講演概要集, vol. 159, JPN6023021728, 7 September 2016 (2016-09-07), pages 389, ISSN: 0005069871 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021122758A (ja) * | 2020-02-03 | 2021-08-30 | 公益財団法人電磁材料研究所 | 光触媒 |
JP7422552B2 (ja) | 2020-02-03 | 2024-01-26 | 公益財団法人電磁材料研究所 | 光触媒 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7391505B2 (ja) | 2023-12-05 |
JP2020023744A (ja) | 2020-02-13 |
JP7153555B2 (ja) | 2022-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Manikandan et al. | Effect of high energy milling on the synthesis temperature, magnetic and electrical properties of barium hexagonal ferrite | |
Keluskar et al. | High permeability of low loss Mn–Zn ferrite obtained by sintering nanoparticle Mn–Zn ferrite | |
Remya et al. | Development of BiFeO 3/MnFe 2 O 4 ferrite nanocomposites with enhanced magnetic and electrical properties | |
Torkian et al. | Structural and magnetic consequences of Mn 0.6 Zn 0.4 Fe 2− x Gd x O 4 ferrite | |
Liu et al. | Effect of Ho substitution on structure and magnetic property of BiFeO3 prepared by sol–gel method | |
Garg et al. | Characterizing the defects and ferromagnetism in metal oxides: The case of magnesium oxide | |
JP7391505B2 (ja) | 複合鉄酸化物焼結体および複合鉄酸化物粉末ならびにこれらの製造方法 | |
Ray et al. | Modification of structural and dielectric properties of polycrystalline Gd-doped BFO–PZO | |
Harris et al. | One-step processing of spinel ferrites via the high-energy ball milling of binary oxides | |
Brajesh et al. | Room‐temperature structural, magnetic, and dielectric characteristics of La‐doped CuO bulk multiferroic | |
Sokovnin et al. | Effect of electron beam irradiation on the magnetic, thermal and luminescence properties of various oxide metal nanopowders | |
Mousa et al. | Electrical conduction in γ-irradiated and unirradiated Fe 3 O 4, CdFe 2 O 4 and Co x ZN 1− x Fe 2 O 4 (0⩽ x⩽ 1) ferrites | |
Ravi et al. | Multiferroism in new Bi2FeMoO6 material | |
Bammannavar et al. | Preparation, characterization and physical properties of Mg-Zn ferrites | |
Khan et al. | Optical and temperature-dependent magnetic properties of Mn-doped CoFe2O4 nanostructures | |
Abe | Ge-doped magnetite thin films with an enhanced resistance to oxidation | |
Kaya et al. | Nanostructural characterization and defect-mediated room temperature ferromagnetism of Zn1− xFexO (x= 0.00–0.07) nanorods prepared via hydrothermal method | |
Bhushan et al. | Aliovalent Doping of Multiferroic BiFeO3 Nanoparticles for Enhanced Functionality | |
Shisode et al. | Influence of Ba 2+ on opto-electric properties of nanocrystalline BiFeO 3 multiferroic | |
Takegahara et al. | Electronic band structures of f-electron ternary compounds with an energy gap | |
Jayakumar et al. | Experimental and theoretical investigations on magnetic behavior of (Al, Co) co-doped ZnO nanoparticles | |
Kumar et al. | Effect of process parameters on the crystalparameters of Cu-Zn spinel-ferrites | |
Pal et al. | Preparation of nanocomposites containing iron and nickel–zinc ferrite | |
Waseem et al. | Absence of room temperature ferromagnetism in Co and Cr co-doped TiO2 based dilute magnetic semiconductors | |
Chauhan et al. | Preparation, characterization and optical properties of α-Fe 2 O 3 films by sol-spinning process |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211119 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20230207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230530 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230728 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230911 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231114 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7391505 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |