JP2020015157A - 加工装置 - Google Patents

加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2020015157A
JP2020015157A JP2018141794A JP2018141794A JP2020015157A JP 2020015157 A JP2020015157 A JP 2020015157A JP 2018141794 A JP2018141794 A JP 2018141794A JP 2018141794 A JP2018141794 A JP 2018141794A JP 2020015157 A JP2020015157 A JP 2020015157A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cover
opening
spindle
cylindrical portion
flange
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2018141794A
Other languages
English (en)
Inventor
典彦 岡本
Norihiko Okamoto
典彦 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2018141794A priority Critical patent/JP2020015157A/ja
Publication of JP2020015157A publication Critical patent/JP2020015157A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

【課題】メンテナンス作業が容易な加工装置を提供する。【解決手段】スピンドルモータと、前記スピンドルモータの回転軸に取り付けられるフランジと、前記フランジの側面の少なくとも一部を覆うスピンドルカバーと、を備え、前記スピンドルカバーは、前記スピンドルモータの回転軸が挿通する内側円筒部、前記フランジの側面を覆う外側円筒部、前記外側円筒部に設けられた開口部を有するカバー本体と、前記開口部を開閉する曲板部を有する開閉カバーと、を備える、加工装置。【選択図】図4

Description

本開示は、加工装置に関する。
半導体ウェハのような板状の被加工物の板厚を薄くするように加工する加工装置が知られている。
特許文献1には、スピンドルユニットを備える研削装置が開示されている。また、2つ割り構造のスピンドルカバーを備えるスピンドルユニットが開示されている。
特開2017−222003号公報
本開示の一態様は、メンテナンス作業が容易な加工装置を提供する。
本開示の一態様に係る加工装置は、スピンドルモータと、前記スピンドルモータの回転軸に取り付けられるフランジと、前記フランジの側面の少なくとも一部を覆うスピンドルカバーと、を備え、前記スピンドルカバーは、前記スピンドルモータの回転軸が挿通する内側円筒部、前記フランジの側面を覆う外側円筒部、前記外側円筒部に設けられた開口部を有するカバー本体と、前記開口部を開閉する曲板部を有する開閉カバーと、を備える。
本開示の一態様によれば、メンテナンス作業が容易な加工装置を提供することができる。
一実施形態に係る加工装置の平面図。 一実施形態に係る加工装置の1次加工ユニットの断面図。 一実施形態に係る加工装置のスピンドルカバーの閉状態の斜視図。 一実施形態に係る加工装置のスピンドルカバーの開状態の斜視図。 一実施形態に係る加工装置の上側カバーおよび開閉カバーを取り外したスピンドルカバーの斜視図。 一実施形態に係る加工装置のガイド機構の断面模式図。 一実施形態に係る加工装置のロック機構および検知機構の斜視図。 一実施形態に係る加工装置のスピンドルカバーを下方から見た斜視図。
以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
一実施形態に係る加工装置10について、図1および図2を用いて説明する。図1は、一実施形態に係る加工装置10の平面図である。図2は、一実施形態に係る加工装置10の1次加工ユニット41の断面図である。なお、図2の断面図において、スピンドルモータ411の内部構造は省略して図示している。
加工装置10は、基板Wを加工する。基板Wは、例えば、シリコンウェハなどの半導体基板、またはガラス基板である。加工装置10は、回転テーブル20と、4つの回転チャック30と、1次加工ユニット41と、2次加工ユニット42と、3次加工ユニット43と、液供給機構50と、液受け部60と、筐体70(図2参照)と、制御装置80を備える。
尚、加工装置10は、基板Wの1次加工、2次加工および3次加工を行うため、基板Wを加工する加工ユニットを3つ有するが、加工ユニットの数は3つには限定されない。加工ユニットの数は、1つでもよいし、2つでもよく、4つ以上でもよい。
回転テーブル20は、鉛直軸周りに回転させられる。回転テーブル20の回転中心線の周りには、4つの回転チャック30が等間隔で配設される。4つの回転チャック30のそれぞれは、回転テーブル20と共に回転し、受渡位置A0、1次加工位置A1、2次加工位置A2および3次加工位置A3に移動する。
受渡位置A0は、外部の基板搬送装置(図示せず)が加工前の基板Wを回転チャック30に載せる位置と、基板搬送装置が加工後の基板Wを回転チャック30から受け取る位置とを兼ねる。1次加工位置A1は、1次加工ユニット41が1次加工(例えば1次研削)を行う位置である。2次加工位置A2は、2次加工ユニット42が2次加工(例えば2次研削)を行う位置である。3次加工位置A3は、3次加工ユニット43が3次加工(例えば3次研削)を行う位置である。
4つの回転チャック30は、それぞれの回転中心線を中心に回転自在に、回転テーブル20に取り付けられている。4つの回転チャック30のそれぞれは、保持している基板Wが加工ユニットによって加工される間、回転させられる。4つの回転チャック30のそれぞれは、基板搬送装置との間で加工前または加工後の基板Wを受け渡す間、回転停止させられる。
4つの回転チャック30のそれぞれは、基板Wを下方から保持する。4つの回転チャック30のそれぞれは、基板Wの直径よりも大きい直径の円形の吸着面を有し、その吸着面に基板Wを吸着する。
1次加工ユニット41は、基板Wの1次研削を行う。1次加工ユニット41は、スピンドルモータ411と、スピンドル支持部412と、鉛直移動機構413と、支持構造体414と、研削ホイール416を取り付けるフランジ415と、を備えている。スピンドルモータ411は、フランジ415を介して研削ホイール416を回転させる。スピンドル支持部412は、スピンドルモータ411を支持する。鉛直移動機構413は、スピンドル支持部412と支持構造体414の間に設けられ、スピンドル支持部412を鉛直方向に移動させる。支持構造体414は、加工装置10のフレーム(図示せず)に固定されている。
このように、スピンドルモータ411は、研削ホイール416を回転させる。また、鉛直移動機構413は、スピンドル支持部412に支持されたスピンドルモータ411を鉛直方向に移動させることにより、研削ホイール416を加工送り方向(鉛直下方向)に移動させる。研削ホイール416は、回転しながら下降し、回転チャック30と共に回転する基板Wの上面を研削する。
2次加工ユニット42は、基板Wの2次研削を行う。2次加工ユニット42は、1次加工ユニット41と同様の構成を有している。但し、2次加工ユニット42の研削ホイールの砥粒の平均粒径は、1次加工ユニット41の研削ホイール416の砥粒の平均粒径よりも小さい。
3次加工ユニット43は、基板Wの3次研削を行う。3次加工ユニット43は、スピンドルモータ431と、スピンドル支持部432と、鉛直移動機構433と、支持ブロック434と、水平移動機構435と、支持構造体436と、研削ホイール(図示せず)を取り付けるフランジ(図示せず)と、を備えている。スピンドルモータ431は、フランジを介して研削ホイールを回転させる。スピンドル支持部432は、スピンドルモータ431を支持する。鉛直移動機構433は、スピンドル支持部432と支持ブロック434の間に設けられ、スピンドル支持部432を鉛直方向に移動させる。水平移動機構435は、支持ブロック434と支持構造体436の間に設けられ、スピンドル支持部432を水平方向に移動させる。支持構造体436は、加工装置10のフレーム(図示せず)に固定されている。
このように、スピンドルモータ431は、研削ホイールを回転させる。また、鉛直移動機構433は、スピンドル支持部432に支持されたスピンドルモータ431を鉛直方向に移動させることにより、研削ホイールを加工送り方向(鉛直下方向)に移動させる。研削ホイールは、回転しながら下降し、回転チャック30と共に回転する基板Wの上面を研削する。なお、3次加工ユニット43の研削ホイールの砥粒の平均粒径は、2次加工ユニット42の研削ホイールの砥粒の平均粒径よりも小さい。また、水平移動機構435は、スピンドルモータ431を水平方向に移動させることにより、研削ホイールの回転中心軸と回転チャック30の回転中心軸との水平距離を変更する。
液供給機構50は、1次加工位置A1、2次加工位置A2、3次加工位置A3において、回転チャック30に吸着された基板Wの上面である加工面(研削面)に液を供給する装置である。なお、供給される液は、水であってもよく、スラリー液であってもよく、限定されるものではない。
液受け部60は、回転テーブル20の下に設けられ、使用済の液を回収する。
筐体70(図2参照)は、回転テーブル20を収納するように設けられ、加工室を形成する。筐体70は、受渡位置A0において、基板搬送装置による基板Wの受け渡しが可能に開口(図示せず)している。また、筐体70は、1次加工位置A1において、1次加工ユニット41が挿通する開口部71を有している。筐体70は、2次加工位置A2において、2次加工ユニット42が挿通する開口部(図示せず)を有している。筐体70は、3次加工位置A3において、3次加工ユニット43が挿通する開口部(図示せず)を有している。
制御装置80は、たとえばコンピュータであり、制御部81と記憶部82とを備える。記憶部82には、加工装置10において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部81は、記憶部82に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって加工装置10の動作を制御する。
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置80の記憶部82にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルディスク(MO)、メモリカードなどがある。
次に、1次加工位置A1に設けられた1次加工ユニット41について、図2を用いてさらに説明する。
スピンドル支持部412の底部には、スピンドルモータ411の傾きを調整する傾き調整機構412aが設けられている。傾き調整機構412aは、例えば、スピンドルモータ411の軸の周りに沿って等間隔に3つ設けられている。傾き調整機構412aによりスピンドルモータ411の傾きが調整され、スピンドルモータ411の回転軸411aを鉛直方向と平行にすることができる。
フランジ415は、スピンドルモータ411の回転軸411aに取り付けられている。フランジ415は、軸部415aと、円板部415bと、を有している。軸部415aと円板部415bは、同心に形成される。また、円板部415bの外径は軸部415aの外径よりも大きくなっている。フランジ415の軸部415aの下面側からボルト417が挿入され、回転軸411aに固定される。研削ホイール416は、フランジ415の円板部415bの下面側に取り付けられている。研削ホイール416は、フランジ415の円板部415bの上面側からボルト418が挿入され、フランジ415に固定される。
スピンドルカバー100は、スピンドル支持部412に取り付けられている。スピンドルカバー100は、スピンドルモータ411の回転軸411aが挿通する第1円筒部101と、第1円筒部101よりも外側に設けられた第2円筒部102と、を有している。第1円筒部101と第2円筒部102は、同心に形成されている。また、第1円筒部101と第2円筒部102との間は、上方が塞がれている。以下の説明において、図2に示すように、第1円筒部101で囲まれる空間を第1内空間103とし、第1円筒部101と第2円筒部102で囲まれる空間を第2内空間104と称するものとする。
第1円筒部101の下端は、フランジ415の円板部415bの上面よりも上側に形成されている。第2円筒部102の下端は、フランジ415の円板部415bの上面よりも下側まで形成されており、フランジ415の円板部415bの側面の少なくとも一部を覆うように形成されている。また、第2円筒部102の内径は、フランジ415の外径よりもわずかに大きく形成されている。第2円筒部102の内周面とフランジ415の円板部415bの側面との隙間を狭めることにより、研削ホイール416で基板Wを研削した際に液や研削屑等が第2内空間104に侵入することを抑制している。また、第1円筒部101の下端とフランジ415の円板部415bの上面との隙間を狭めることにより、液や研削屑等が第1内空間103に侵入することを抑制している。
また、第2円筒部102の外径は、筐体70の開口部71の内径よりもわずかに小さく形成されている。第2円筒部102の外周面と筐体70の開口部71との隙間を狭めることにより、液や研削屑等が筐体70の外に流出することを抑制している。また、第2円筒部102の軸方向長さは研削ホイール416を加工送り量よりも長く形成されており、1次加工ユニット41による加工を行う際は、開口部71の位置から第2円筒部102の外周面が外れないようになっている。
次に、スピンドルカバー100の構造について図3から図8を用いてさらに説明する。図3は、一実施形態に係る加工装置10のスピンドルカバー100の閉状態の斜視図である。図4は、一実施形態に係る加工装置10のスピンドルカバー100の開状態の斜視図である。図5は、一実施形態に係る加工装置10の上側カバー110および開閉カバー130を取り外したスピンドルカバー100の斜視図である。なお、スピンドルカバー100の閉状態とは、開閉カバー130を下して開口部124を閉じた状態である。スピンドルカバー100の開状態とは、開閉カバー130を上げて開口部124を開いた状態である。
スピンドルカバー100は、上側カバー110と、下側カバー120と、開閉カバー130と、把持部140と、ガイド機構150と、保持機構160と、ロック機構170と、検知機構180と、ラビリンス構造190(後述する図8参照)と、を備えている。
上側カバー110は、円筒部111と、上フランジ112と、下フランジ113と、を備えている。また、上フランジ112から円筒部111に亘って切欠き部114が設けられている。切欠き部114よりも下側の円筒部111の内周面には、隙間埋め部材115が設けられている。図2に示すように、切欠き部114は、傾き調整機構412aとの干渉を回避するために設けられている。また、スピンドルカバー100を取り付けた際、スピンドルモータ411と円筒部111との隙間はスポンジやゴム等の隙間埋め部材115により閉塞される。
上フランジ112には、スピンドルカバー100をスピンドル支持部412に固定するためのボルト117が挿通する取付穴116が設けられている。取付穴116は、ボルト117の頭部より大径の大径穴部と、ボルト117の頭部より小径の円弧スロット穴と、を有している。これにより、スピンドルカバー100をスピンドル支持部412から取り外す際、スピンドル支持部412からボルト117を完全に抜去しなくても、大径穴部にボルト117の頭部を通すことで、スピンドルカバー100の取り付け、取り外しが可能な構造となっている。
下側カバー120は、内側円筒部121と、天面部122と、外側円筒部123と、を備えている。また、天面部122から外側円筒部123に亘って開口部124が設けられている。
内側円筒部121は、上側カバー110の円筒部111と略同径に形成される。上側カバー110と下側カバー120とは、円筒部111と内側円筒部121とが同軸となるように、かつ、下フランジ113が天面部122と接するように固定される。なお、上側カバー110と下側カバー120の固定方法は、ボルト締結でもよく、溶接、接着等の他の方法を用いて固定してもよい。これにより、円筒部111と内側円筒部121によって、スピンドルカバー100の第1円筒部101が形成される。
天面部122は、内側円筒部121の上端から径方向外側に形成され、内側円筒部121を内径とし外側円筒部123を外径とする略二重円状に形成される。また、開口部124の範囲は、天面部122の外側が切り欠かれており、径方向の幅が小さくなっている。
外側円筒部123は、天面部122の径方向外側端から下方向に形成され、円筒形状の一部として形成される。また、外側円筒部123の下端は、内側円筒部121の下端よりも下側まで伸びている。
開閉カバー130は、曲板部131と、天面部132と、を有している。曲板部131の曲率半径は、外側円筒部123の曲率半径と等しく形成されている。曲板部131の上端から径方向内側に向かって天面部132が設けられている。開閉カバー130は、開口部124を開閉可能に構成されている。これにより、外側円筒部123と曲板部131によって、スピンドルカバー100の第2円筒部102が形成される。
把持部140は、作業者が開閉カバー130を開閉する際に把持する。把持部140は、開閉カバー130の天面部132の上面に固定されている。例えば、把持部140は、不図示のボルト等により天面部132と固定される。
ガイド機構150は、開閉カバー130の移動をガイドする。ガイド機構150は、シャフト151と、ガイドブロック152と、で構成される。ここで、図6を用いて、ガイド機構150について説明する。図6は、一実施形態に係る加工装置10のガイド機構150の断面模式図であり、(a)は開閉カバー130を上げて開口部124を閉じた状態の図、(b)は開閉カバー130を下して開口部124を開いた状態の図である。
図3および図4に示すように、シャフト151は、その軸が上下方向となるように、換言すれば回転軸411aと平行となるように、設けられている。また、図5に示すように、シャフト151は、下側カバー120の天面部122の上面に固定されている。例えば、シャフト151は、不図示のボルト等により天面部122と固定される。また、図6に示すように、開閉カバー130の天面部132には、シャフト151を挿通する挿通穴133が設けられている。ガイドブロック152は、軸穴152bを有し、挿通穴133と軸穴152bが連通する位置で、開閉カバー130の天面部132の上面に固定されている。例えば、ガイドブロック152は、不図示のボルト等により天面部132と固定される。シャフト151は、ガイドブロック152の軸穴152bおよび天面部132の挿通穴133を挿通するように配置される。これにより、開閉カバー130は、シャフト151に沿って、上下方向に開閉する。
シャフト151は、テーパを有する基底部151aと、軸部151bと、テーパを有する先端部151cと、を有している。ガイドブロック152は、テーパ穴152aと、軸穴152bと、を有している図6(a)に示すように、開閉カバー130を下して開口部124を閉じた際には、シャフト151の基底部151aとガイドブロック152のテーパ穴152aとが嵌合することにより、位置決めがなされる。一方、図6(b)に示すように、軸穴152bの径は、軸部151bの径よりも大きく形成されており、開閉カバー130を上下させる際の摺動による抵抗を抑制することができる。
図4に示すように、保持機構160は、開閉カバー130を上げた状態で保持する。保持機構160は、マグネットキャッチ161,162で構成される。一方のマグネットキャッチ161は、上側カバー110の側面に設けられた取付プレート163に固定されている。例えば、取付プレート163は、不図示のボルト等により円筒部111と固定される。また、例えば、マグネットキャッチ161は、不図示のボルト等により取付プレート163と固定される。他方のマグネットキャッチ162は、開閉カバー130の天面部132に固定されている。例えば、マグネットキャッチ162は、不図示のボルト等により天面部132と固定される。図4に示すように、開閉カバー130を開いた状態でマグネットキャッチ161,162が磁力で吸着することにより、開閉カバー130を上げた状態で保持される。
ここで、図7を用いて、ロック機構170および検知機構180について説明する。図7は、一実施形態に係る加工装置10のロック機構170および検知機構180の斜視図であり、(a)はロック状態を示し、(b)は解除状態を示す。
ロック機構170は、開閉カバー130が閉じた状態で、開閉カバー130が振動等で開かないようにロックする。ロック機構170は、揺動軸部材171と、係止板172と、起立板174と、を有している。揺動軸部材171は、上側カバー110、下側カバー120の側に設けられている。係止板172は、揺動軸部材171を揺動軸として、図7(a)に示す係止板172が開閉カバー130の天面部132の上に位置する状態(係止位置)をとることができる。また、図7(b)に示す開閉カバー130の天面部132の上から退避する位置する状態(解除位置)と、を取ることができる。また、係止板172には、係止穴173が設けられている。また、開閉カバー130の天面部132には突起部134が設けられている。係止板172が開閉カバー130の天面部132の上に位置する際、突起部134を乗り上げて揺動し、突起部134が係止穴173に入り込む。これにより、振動等により意図せずロックが解除されることを防止する。起立板174は、係止板172を揺動させる際のノブとして用いることができる。
検知機構180は、開閉カバー130の開閉を検知する。検知機構180は、近接センサ181と、起立板174と、を有している。近接センサ181は、ブラケット182により下側カバー120の天面部122に固定されている。係止板172が図7(a)に示す係止位置にきた際、起立板174が近接センサ181に近接する。一方、係止板172が図7(b)に示す解除位置に来た際は起立板174が近接センサ181から離れている。近接センサ181は、例えば、磁性金属を検出する近接センサを用いることができる。起立板174は磁性金属で形成されていてもよく、起立板174に磁性金属が接着されていてもよい。また、検知機構180の検出方式は、磁気に限定されるものではなく、光学式の近接センサであってもよく、リミットスイッチ等を用いる方法であってもよい。
近接センサ181の検知結果は、制御装置80の制御部81に送信される。制御部81は、近接センサ181が起立板174を検知した場合、加工装置10の運転を許可する。一方、制御部81は、近接センサ181が起立板174を検知していない場合、加工装置10の運転を不許可する。例えば、回転テーブル20、回転チャック30、1次加工ユニット41、2次加工ユニット42、3次加工ユニット43、液供給機構50等の動作を不許可とする。
図8を用いて、ラビリンス構造190について説明する。図8は、一実施形態に係る加工装置10のスピンドルカバー100を下方から見た斜視図である。ラビリンス構造190は、外側円筒部123の端部に設けられたリブ部材191と、曲板部131に設けられたリブ部材192と、を備えている。例えば、リブ部材191は、溶接等により外側円筒部123と固定される。また、例えば、リブ部材192は、溶接等により曲板部131と固定される。リブ部材191は、外側円筒部123の内周面側に設けられ、外側円筒部123の周方向端部よりも突出するように設けられている。リブ部材192は、曲板部131の内周面側に設けられ、曲板部131の周方向端部よりも突出するように設けられている。また、リブ部材192は、外側円筒部123とリブ部材191とで挟まれる位置に設けられる。
リブ部材192が、外側円筒部123とリブ部材191との間に入り込むことにより、スピンドルカバー100の第2内空間104とスピンドルカバー100の外側との通流を制限する。これにより、外側円筒部123と曲板部131との隙間から第2内空間104に液等が侵入することを抑制する。また、開閉カバー130を移動させる際は、ガイドとしても機能する。
また、ラビリンス構造190の下端は、フランジ415の円板部415bの上面よりも上側に配置される。これにより、フランジ415の円板部415bの側面と第2円筒部102(外側円筒部123、曲板部131)との隙間を狭めることができ、第2内空間104への液等の侵入を抑制することができる。
以上、一実施形態に係る加工装置10によれば、図3等に示すスピンドルカバー100を備えている。開閉カバー130を閉じた状態において、スピンドルカバー100は、外側円筒部123および曲板部131を同一円周にすることができるので、スピンドルカバー100と筐体70の開口部71との隙間を均等に狭めることができる。これにより、液や研削屑等が筐体70の外に流出することを抑制することができる。また、スピンドルカバー100は、外側円筒部123および曲板部131を同一円周にすることができるので、スピンドルカバー100とフランジ415との隙間を均等に狭めることができる。これにより、液や研削屑等が第2内空間104に流入することを抑制することができる。
前述のように、研削ホイール416はフランジ415の円板部415bの上面からボルト418で固定されている。開閉カバー130を開けることにより、フランジ415の円板部415bの上面が露出する。作業者は、開口部124からボルト418の締結・緩め作業をすることができる。これにより、スピンドルカバー100を取り外さなくても、研削ホイール416の交換等のメンテナンス作業を行うことができる。
また、ガイド機構150は、スピンドルカバー100の外側に設けられているので、液や研削屑等がガイド機構150の摺動面に付着することを回避することができる。これにより、開閉カバー130の開閉動作をスムーズに行うことができる。また、シャフト151の基底部151aのテーパと、ガイドブロック152のテーパ穴152aにより、開閉カバー130を下した際の位置決めをすることができる。
また、開閉カバー130を上げた際、保持機構160により開閉カバー130を上げた状態で保持される。これにより、開閉カバー130を取り外さなくても、開口部124が開いた状態を保つことができるので、メンテナンス作業性が向上する。また、作業後は、手動で開閉カバー130を下して所定の位置に戻すことができる。
以上、本開示に係る加工装置の実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。
10 加工装置
41 1次加工ユニット
70 筐体
71 開口部
80 制御装置
81 制御部
82 記憶部
411 スピンドルモータ
411a 回転軸
412 スピンドル支持部
413 鉛直移動機構
414 支持構造体
415 フランジ
416 研削ホイール(加工ホイール)
100 スピンドルカバー
101 第1円筒部
102 第2円筒部
103 第1内空間
104 第2内空間
110 上側カバー(カバー本体)
111 円筒部
112 上フランジ
113 下フランジ
114 切欠き部
115 隙間埋め部材
116 取付穴
120 下側カバー(カバー本体)
121 内側円筒部
122 天面部
123 外側円筒部
124 開口部
130 開閉カバー
131 曲板部
132 天面部
133 挿通穴
134 突起部
140 把持部
150 ガイド機構(ガイド部)
151 シャフト
151a 基底部
151b 軸部
151c 先端部
152 ガイドブロック
152a テーパ穴
152b 軸穴
160 保持機構
170 ロック機構(ロック部)
171 揺動軸部材
172 係止板
173 係止穴
174 起立板
180 検知機構(検知部)
181 近接センサ
190 ラビリンス構造(通流制限部)
191,192 リブ部材

Claims (10)

  1. スピンドルモータと、
    前記スピンドルモータの回転軸に取り付けられるフランジと、
    前記フランジの側面の少なくとも一部を覆うスピンドルカバーと、を備え、
    前記スピンドルカバーは、
    前記スピンドルモータの回転軸が挿通する内側円筒部、前記フランジの側面を覆う外側円筒部、前記外側円筒部に設けられた開口部を有するカバー本体と、
    前記開口部を開閉する曲板部を有する開閉カバーと、を備える、加工装置。
  2. 前記開閉カバーを閉じた際、前記曲板部と前記外側円筒部とで円筒を形成する、
    請求項1に記載の加工装置。
  3. 前記開閉カバーは、
    前記スピンドルカバーの内部空間よりも外側に設けられ、前記回転軸と平行なガイド軸に沿って移動する、
    請求項1または請求項2に記載の加工装置。
  4. 前記カバー本体に設けられた前記ガイド軸は、テーパ部を有し、
    前記開閉カバーに設けられ、前記ガイド軸を挿通するガイドブロックは、テーパ穴を有し、
    前記テーパ部と前記テーパ穴が嵌合することにより、前記開閉カバーが位置決めされる、
    請求項3に記載の加工装置。
  5. 前記開口部を開いた際、前記開閉カバーを保持する保持部を備える、
    請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の加工装置。
  6. 前記開口部を閉じた状態で、前記開閉カバーをロックするロック部を備える、
    請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の加工装置。
  7. 前記開閉カバーの開閉状態を検知する検知部を備える、
    請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の加工装置。
  8. 前記加工装置の運転を制御する制御部を備え、
    前記制御部は、前記検知部が前記開閉カバーが閉じていない状態と検知した場合、前記加工装置の運転を不許可とする、
    請求項7に記載の加工装置。
  9. 前記外側円筒部と前記曲板部との間の隙間において、前記スピンドルカバーの内側と前記スピンドルカバーの外側との通流を制限する通流制限部を有する、
    請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の加工装置。
  10. 前記フランジに取り付けられる加工ホイールを備え、
    前記加工ホイールは、前記フランジの上面からボルトが挿通して固定される、
    請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の加工装置。
JP2018141794A 2018-07-27 2018-07-27 加工装置 Pending JP2020015157A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018141794A JP2020015157A (ja) 2018-07-27 2018-07-27 加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018141794A JP2020015157A (ja) 2018-07-27 2018-07-27 加工装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2020015157A true JP2020015157A (ja) 2020-01-30

Family

ID=69579908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018141794A Pending JP2020015157A (ja) 2018-07-27 2018-07-27 加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2020015157A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7422047B2 (ja) 2020-10-20 2024-01-25 株式会社スギノマシン ウォータージェット加工装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5855847U (ja) * 1981-10-12 1983-04-15 株式会社日立工機原町 電動工具の安全装置
JPS6313640U (ja) * 1986-07-11 1988-01-29
JP2002059361A (ja) * 2000-08-21 2002-02-26 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造装置及びその製造方法
JP2011142156A (ja) * 2010-01-06 2011-07-21 Disco Abrasive Syst Ltd 光デバイスウエーハの製造方法
JP2017222003A (ja) * 2016-06-16 2017-12-21 株式会社ディスコ スピンドルユニット

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5855847U (ja) * 1981-10-12 1983-04-15 株式会社日立工機原町 電動工具の安全装置
JPS6313640U (ja) * 1986-07-11 1988-01-29
JP2002059361A (ja) * 2000-08-21 2002-02-26 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造装置及びその製造方法
JP2011142156A (ja) * 2010-01-06 2011-07-21 Disco Abrasive Syst Ltd 光デバイスウエーハの製造方法
JP2017222003A (ja) * 2016-06-16 2017-12-21 株式会社ディスコ スピンドルユニット

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7422047B2 (ja) 2020-10-20 2024-01-25 株式会社スギノマシン ウォータージェット加工装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6037439B2 (ja) 基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法
JP6143572B2 (ja) 基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法
TWI538044B (zh) 用來清洗基板處理裝置的清洗治具及清洗方法、與基板處理系統
JP5990010B2 (ja) 研磨装置
JP6461748B2 (ja) 基板処理方法および基板処理装置
US20110290283A1 (en) Closed chamber with fluid separation feature
CN105810577A (zh) 安装法兰
JP2020015157A (ja) 加工装置
JP4467379B2 (ja) 基板処理装置
TW201131692A (en) High temperature chuck and method of using same
US9165806B2 (en) Substrate treatment apparatus
JPWO2019102868A1 (ja) 基板搬送装置、基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体
US6071184A (en) Fluid deflecting device for use in work piece holder during a semiconductor wafer grinding process
JP2009141122A (ja) ウェーハ加工装置
CN209804597U (zh) 加工装置
TWI779164B (zh) 磨削裝置
JPS6057992B2 (ja) バレル研摩装置及び方法
JP4102250B2 (ja) 研削装置
JPH09232410A (ja) 基板回転保持装置および回転式基板処理装置
JP2006015457A (ja) 吸着装置、研磨装置、半導体デバイス製造方法およびこの方法により製造される半導体デバイス
US20140202491A1 (en) Method and apparatus for cleaning grinding work chuck using a scraper
JP2015100865A (ja) 研削装置
JP2007294588A (ja) ウエーハ保持具
JP2019093474A (ja) 基板処理システム
JP2007144531A (ja) 渦流バレル研磨機

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210528

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220331

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220405

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20221011