JP2019537039A - ディスプレイ基板、ディスプレイ装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

本出願はピクセル領域とサブピクセル間の領域を備えるディスプレイ基板を開示している。ディスプレイ基板は、ベース基板とサブピクセル間の領域内に位置する反射構造体を含む。当該反射構造体は、バックライトからディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光をバックライトまで反射し返し、同時に光がサブピクセル領域を透過できるよう構成される。

Description

（関連出願との相互参照）
本発明は、出願番号が２０１６１０９１１９７５．９であり、出願日が２０１６年１０月１９日である中国出願特許を基に提出するものであり、当該中国特許出願の優先権を主張し、当該中国特許出願の全ての内容は、参考のため本願に援用する。

本発明は、ディスプレイ技術に関し、特にディスプレイ基板、ディスプレイ装置およびその製造方法に関する。

液晶ディスプレイパネルはすでに広く応用されている。通常、液晶ディスプレイパネルは、対向に設置したカラーフィルム基板と配列基板を含む。薄膜トランジスタ、ゲート線、データ線、ピクセル電極、共通電極および共通電極線は、配列基板またはカラーフィルム基板上に設置している。配列基板とカラーフィルム基板の間に液晶材料を注入し、液晶層を形成する。不動態化層は、薄膜トランジスタ上に沈積している。ピクセル電極層は、不動態化層上に設置している。

一態様として、本発明は、サブピクセル領域とサブピクセル間の領域を備えるディスプレイ基板を提供しており、前記ディスプレイ基板は、ベース基板と前記サブピクセル間の領域内に位置する反射構造体を含む。前記反射構造体は、バックライトからディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光をバックライトまで反射し返し、同時に光がサブピクセル領域を透過できるよう構成される。

好ましくは、前記ディスプレイ基板は、前記ディスプレイ基板の発光を駆動するための複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線をさらに含む。ここで、前記反射構造体は、前記複数の薄膜トランジスタと前記複数の信号回線の前記バックライトに近い側に位置する。

好ましくは、前記反射構造体の前記ベース基板上の投影は、複数のゲート線と複数のデータ線の前記ベース基板上での投影を大体カバーする。

好ましくは、前記反射構造体は、タッチを検出するよう構成された複数のタッチ電極を含む。複数のタッチ電極における各々は反射性を有し、バックライトから前記ディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光をバックライトまで反射し返すよう構成される。

好ましくは、前記反射構造体は、各々が大体第２方向に沿って延伸する、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンドと、各々が大体第１方向に沿って延伸する、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンドとを含む。

好ましくは、前記反射構造体は、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンドを備える第１反射層を含み、前記複数の第１反射バンドにおける各々が大体第１方向に沿って延伸する。さらに前記反射構造体は、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンドを備える第２反射層含み、前記複数の第２反射バンドにおける各々が大体第１方向に沿って延伸する。さらに前記反射構造体は、前記第１反射層と前記第２反射層間に位置する絶縁層を含む。

好ましくは、前記複数の第１反射バンドは、複数の第１タッチ電極を構成し、複数の第２反射バンドは、複数の第２タッチ電極を構成する。

好ましくは、前記複数の第１反射バンド中の隣接ド中の隣接するｍ個の反射バンドは並列に接続し、前記複数の第１タッチ電極のうちの１個を形成する。前記複数の第２反射バンド中の隣接するｎ個の反射バンドは並列に接続し、前記複数の第２タッチ電極のうちの１個を形成する。ｍ＝３ｎである。

好ましくは、前記ディスプレイ基板は、複数の第１透明導電ブロックをさらに含み、各第１透明導電ブロックは前記複数の第１反射バンドのうちの１個に電気的に接続する。ここで、前記複数の第１透明導電ブロックにおける各第１透明導電ブロックの前記ベース基板上の投影は、前記複数の第２反射バンド中の隣接する２個の第２反射バンドの前記ベース基板上での投影間に位置する。

好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックは、複数行の第１透明導電ブロックを含む。さらに、前記複数行の第１透明導電ブロックの各行におけるいずれかの隣接する２個の第１透明導電ブロックは、前記複数の第１反射バンド中の隣接する２個の第１反射バンドに電気的に接続する。

好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックの各々は矩形である。

好ましくは、前記ディスプレイ基板は、複数の第２透明導電ブロックをさらに含み、各第２透明導電ブロックは、前記複数の第２反射バンドのうちの１個に電気的に接続する。ここで、前記複数の第２透明導電ブロックにおける各々の前記ベース基板上での投影は、前記複数の第１反射バンド中の隣接する２個の第１反射バンドの前記ベース基板上での投影間に位置する。

好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックは、複数行の第１透明導電ブロックを含む。前記複数の第２透明導電ブロックは、複数行の第２透明導電ブロックを含む。前記複数行の第１透明導電ブロックにおける各行と前記複数行の第２透明導電ブロックにおける各行は互いに交錯し、前記複数行の第１透明導電ブロックの各行におけるいずれかの隣接する２個の第１透明導電ブロックは、前記複数の第１反射バンド中の隣接する２個の第１反射バンドに電気的に接続する。前記複数行の第２透明導電ブロックの同じ行における各第２透明導電ブロックと前記複数の第２反射バンドにおける同じ第２反射バンドは電気的に接続する。

好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックと前記複数の第２透明導電ブロックは同じ層に位置する。

好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックの各々は菱形であり、前記複数の第２透明導電ブロックの各々は菱形である。

好ましくは、前記ディスプレイ基板は、前記ベース基板上における偏光板をさらに含む。ここで、前記偏光板は、前記複数の薄膜トランジスタと前記複数の信号回線の前記ベース基板に遠い側に位置する。

好ましくは、前記反射構造体は、前記ベース基板の前記偏光板に近い側に位置する。

好ましくは、前記反射構造体は、前記偏光板の前記ディスプレイ基板の入光側に近い側に位置する。

もう一態様として、本発明は、本文に記載したディスプレイ基板を含むディスプレイ装置を提供する。

もう一態様として、本発明は、サブピクセル領域とサブピクセル間の領域を備えるディスプレイ基板を製造する方法を提供する。当該方法は、前記サブピクセル間の領域内にて反射構造体を形成するステップと、反射構造体がバックライトから前記ディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光をバックライトまで反射し返し、同時に光がサブピクセル領域を透過できるよう構成されるステップとを含む。

以下の図は開示した実施形態を説明することにのみ使用し、本発明の範囲はこの限りではない。

図１は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイ基板のサブピクセル領域とサブピクセル間の領域を示す図である。 図２は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイ基板のサブピクセル間の領域内での反射構造体の構造を示す図である。 図３は、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図４は、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図５は、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図６Ａは、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図６Ｂは、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図６Ｃは、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図６Ｄは、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図６Ｅは、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図６Ｆは、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。 図７は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の構造を示す図である。 図８は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の断面図である。 図９は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の構造を示す図である。 図１０は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の断面図である。 図１１は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の構造を示す図である。 図１２は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の断面図である。 図１３は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の構造を示す図である。 図１４は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の断面図である。 図１５は、本発明の一部実施形態に基づく偏光板の構造を示す図である。 図１６は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイパネルの構造を示す図である。 図１７は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイ装置の構造を示す図である。 図１８は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイ装置の構造を示す図である。

以下に実施形態をさらに詳細に説明する。しかし、注意すべき点は、以下の一部実施形態は説明と記載のみを目的としていることである。開示した適切な形態を限定する意図はない。

従来のディスプレイパネルは、複数のサブピクセルを含む。ディスプレイパネルは、サブピクセル領域とサブピクセル間の領域を備える。例えば、ゲート線とデータ線の信号回線は、通常は、光を透過しないサブピクセル間の領域内に設置している。バックライトからサブピクセル間の領域までに光を放射して吸收された時、ディスプレイパネルの光利用率は低下する。従来のディスプレイパネルの光利用率を高めるため、サブピクセル間の領域は出来る限り小さく作られる。例えば、従来のディスプレイパネルにおける信号回線とブラックマトリックスは小さい幅を備えるよう作成される。但し、これらの方法の有効性は非常に限られている。

従って、本発明は特にディスプレイ基板を提供しており、当該ディスプレイ基板のディスプレイ装置およびその製造方法を備え、従来技術の制限と欠点により引き起こされる１つまたは複数の問題を大体解決する。一方で、本発明は、サブピクセル領域とサブピクセル間の領域を備えるディスプレイ基板を提供する。一部実施形態において、ディスプレイ基板は、ベース基板、サブピクセル間の領域に位置する反射構造体を含む。当該反射構造体は、バックライトからディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光をバックライトまで反射し返し、同時に光がサブピクセル領域を透過できるよう構成される。

本文にて使用するように、サブピクセル領域とは、例えば液晶ディスプレイにおけるピクセル電極と対応する領域または有機発光ダイオードディスプレイパネルにおける発光層と対応する領域である、サブピクセルの発光領域を指す。好ましくは、ピクセルは、ピクセルにおける複数のサブピクセルと対応する複数の独立した発光領域を含むことができる。好ましくは、サブピクセル領域は赤色のサブピクセルの発光領域である。好ましくは、サブピクセル領域は緑色のサブピクセルの発光領域である。好ましくは、サブピクセル領域は青色のサブピクセルの発光領域である。好ましくは、サブピクセル領域は白色のサブピクセルの発光領域である。

本文にて使用するように、サブピクセル間の領域とは、隣接のサブピクセル間の領域，例えば液晶ディスプレイにおけるブラックマトリックスと対応する領域または有機発光ダイオードディスプレイパネルにおけるピクセル定義層と対応する領域を指す。好ましくは、サブピクセル間の領域は、同じピクセルにおける隣接のサブピクセル間の領域である。好ましくは、サブピクセル間の領域は２つの隣接のピクセルにおける隣接のサブピクセル間の領域である。好ましくは、サブピクセル間の領域は、赤色のサブピクセルのサブピクセル区域と隣接の緑色のサブピクセルのサブピクセル区域間の領域である。好ましくは、サブピクセル間の領域は、緑色のサブピクセル的サブピクセル区域と隣接の青色のサブピクセルのサブピクセル領域間の領域である。

図１は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイ基板のサブピクセル領域とサブピクセル間の領域を示す図である。図１に示す通り、一部実施形態におけるディスプレイ基板は、例えば複数のゲート線ＧＬ（ｇａｔｅ ｌｉｎｅｓ）と複数のデータ線ＤＬ（ｄａｔａ ｌｉｎｅｓ）である、複数の信号回線をさらに含む。複数の信号回線は、通常は、サブピクセル間の領域ＩＳＲ内かつサブピクセル領域ＳＲ外に設置されている。

図２は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイ基板のサブピクセル間の領域内での反射構造体の構造を示す図である。図２に示す通り、一部実施形態において、ディスプレイ基板は反射構造体３０をさらに含む。反射構造体３０は、サブピクセル間の領域ＩＳＲ（ｉｎｔｅｒ−ｓｕｂｐｉｘｅｌ ｒｅｇｉｏｎ）内に設置している。好ましくは、前記ディスプレイ基板は配列基板であり、前記配列基板は複数の薄膜トランジスタと前記ディスプレイ基板の発光を駆動するための複数の信号回線をさらに含む。複数の信号回線はサブピクセル間の領域ＩＳＲに対応する。好ましくは、前記ディスプレイ基板はカラーフィルム基板であり、前記カラーフィルム基板は複数のカラーフィルターとブラックマトリックスをさらに含む。カラーフィルム基板におけるブラックマトリックスは、サブピクセル間の領域ＩＳＲに対応し、複数のカラーフィルターは、サブピクセル領域ＳＲ（ｓｕｂｐｉｘｅｌ ｒｅｇｉｏｎ）に対応する。

図３は、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。図３に示す通り、一部実施形態において、ディスプレイ基板は、第１ベース基板１０と第１ベース基板１０上に位置する反射構造体３０を含む。反射構造体３０は、サブピクセル間の領域ＩＳＲ内に位置し、バックライトからディスプレイ基板へ放射したサブピクセル間の領域ＩＳＲの光をバックライトまで反射するよう構成される。サブピクセル領域ＳＲの光へ放射した光は、反射構造体３０の影響を受けず、画像を表示するサブピクセル領域ＳＲを透過する。サブピクセル間の領域ＩＳＲ内に反射構造体３０を備えることにより、サブピクセル間の領域ＩＳＲにおける複数の信号回線（例：複数のゲート線と複数のデータ線）のバックライトから放射した光の吸收を避けることができる。反射構造体３０は、この部分の光をバックライトまで反射し返し、この部分の光が改めて画像を表示できるようにする。本ディスプレイ基板を備えるディスプレイ装置の光利用率を著しく高めることができる。

ディスプレイ基板は、第１ベース基板１０上の各種ピクセルコンポーネントをさらに含む。好ましくは、例えば図３に示す領域２０内のように、ディスプレイ基板は配列基板であり、サブピクセル領域ＳＲにおける複数のピクセル電極と複数の共通電極を含む。好ましくは、例えば図３に示す領域２０ａ内のように、ディスプレイ基板は配列基板であり、サブピクセル間の領域ＩＳＲ内に複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線（例：複数のゲート線と複数のデータ線）を含む。好ましくは、例えば図３に示す領域２０内のように、ディスプレイ基板はカラーフィルム基板であり、サブピクセル領域ＳＲにおける複数のカラーフィルターを含む。好ましくは、例えば図３に示す領域２０ａ内のように、ディスプレイ基板はカラーフィルム基板であり、サブピクセル間の領域ＩＳＲにおけるブラックマトリックス層を含む。図３に示す通り、反射構造体３０は、バックライトに近いピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）側に位置する。好ましくは、反射構造体３０はピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）のディスプレイ基板に近い入光側に位置する。

好ましくは、図３に示す通り、第１ベース基板１０は、反射構造体３０とディスプレイ基板の各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）の間に位置する。反射構造体３０は、例えばバックライトに近い、第１ベース基板１０のディスプレイ基板に近い入光側に位置する。

図４は、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。図４に示す通り、反射構造体３０は、第１ベース基板１０とディスプレイ基板の各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）との間に位置する。反射構造体３０は、例えばバックライトに遠い、第１ベース基板１０のディスプレイ基板に遠い入光側に位置する。

一部実施形態において、図３と図４に示す通り、反射構造体３０は、パターニングプロセスにより第１ベース基板１０上に直接形成する。反射構造体３０を第１ベース基板１０上に直接形成させることにより、反射構造体３０と第１ベース基板１０はともに大体同じ程度で熱を受ける時は膨張し、冷却する時は収縮する。従って、環境温度が変化する時、反射構造体３０のピクセルコンポーネントに対する位置は大体変わらない。この設計を使用することにより、反射構造体３０とディスプレイ基板のピクセルコンポーネントの間に位置の不一致を避けることができ、当該ディスプレイ基板を備えるディスプレイパネルにおける画像を表示する表示品質を高める。

一部実施形態において、反射構造体３０は、第１ベース基板１０上に付着される。図５は、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。図５に示す通り、ディスプレイ基板は第２ベース基板４０をさらに含む。反射構造体３０は、第１ベース基板１０と第２ベース基板４０の間に位置する。図５におけるディスプレイ基板は図３と図４とは異なり、図５における反射構造体３０は、例えばバインダー層を使用して、第２ベース基板４０上に形成し、第１ベース基板１０上に付着される。しかし、図３と図４では、例えば図案化することにより、反射構造体３０は第１ベース基板１０上に直接形成する。

一部実施形態において、ディスプレイ基板は偏光板をさらに含む。好ましくは、偏光板は反射構造体３０とディスプレイ基板のピクセルコンポーネントの間に位置する。好ましくは、反射構造体３０は偏光板とディスプレイ基板のサブピクセルの間に位置する。好ましくは、当該偏光板と当該反射構造体３０は第１ベース基板１０の同じ側に位置する。好ましくは、当該偏光板と当該反射構造体３０は当該第１基礎ベース１０の異なる側に位置する。例えば、当該偏光板は第１ベース基板１０の反射構造体３０に遠い側に位置する。

図６Ａから６Ｆは、本発明の一部実施形態に基づく図２に沿ったディスプレイ基板のＡ−Ａ’線の断面図である。図６Ａから６Ｆにおいて、ディスプレイ基板は偏光板５０を含む。図６Ａと図６Ｂに示す通り、偏光板５０は第１ベース基板１０の反射構造体３０に遠い側に位置する。例えば偏光板５０と反射構造体３０は第１ベース基板１０の相反する両側に位置する。図６Ａにおいて、ディスプレイ基板は反射構造体３０をさらに含む。反射構造体３０上の第１ベース基板１０は第１ベース基板１０の反射構造体３０に遠い側の偏光板５０に位置し、偏光板の第１ベース基板１０に遠い側の各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）に位置する。図６Ｂに示す通り、ディスプレイ基板は偏光板５０を含み、偏光板５０上の第１ベース基板１０は第１ベース基板１０の偏光板５０に遠い側の反射構造体３０に位置し、偏光板の第１ベース基板１０に遠い側の各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）に位置する。

図６Ｃと６Ｄに示す通り、偏光板５０と反射構造体３０は第１ベース基板１０の同じ側に位置する。図６Ｃと図６Ｄにおいて、図６Ｄに示す通り、ディスプレイ基板の偏光板５０、反射構造体３０およびピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）は第１基体基板１０の同じ側に位置する。図６Ｃに示す通り、前記ディスプレイ基板は、第１ベース基板１０、第１ベース基板１０上に位置する反射構造体３０、反射構造体３０の前記第１ベース基板１０に遠い側に位置する偏光板５０、および偏光板５０の反射構造体３０に遠い側に位置する各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）を含む。図６Ｄに示す通り、ディスプレイ基板は、第１ベース基板１０、第１ベース基板１０上に位置する偏光板５０、偏光板の第１ベース基板１０に遠い側に位置する反射構造体３０、および反射構造体の偏光板５０に遠い側に位置する各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）を含む。

図６Ｅと図６Ｆに示す通り、偏光板５０と反射構造体３０は第１基材１０の同じ側に位置する。この他に、偏光板５０と反射構造体３０は第１ベース基板１０の各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）に遠い側に位置する。図６Ｅにおいて、ディスプレイ基板は、反射構造体３０、反射構造体３０上に位置する偏光板５０、偏光板５０に位置する反射構造体３０に遠い側の第１ベース基板１０および第１ベース基板１０の偏光板５０に遠い側に位置する各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）を含む。図６Ｆにおいて、ディスプレイ基板は、偏光板５０、偏光板５０上に位置する反射構造体３０、反射構造体３０の偏光板５０に遠い側に位置する第１ベース基板１０および第１ベース基板１０の反射構造体３０に遠い側に位置する各種ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）を含む。

図６Ａ、図６Ｃおよび図６Ｅに示す通り、一部実施形態において、例えばディスプレイ基板に入光側に近い、反射構造体３０は偏光板５０バックライトに近い側に位置する。偏光板５０バックライトに近い側に反射構造体３０を備えさせることにより、バックライトからのディスプレイ基板のサブピクセル間の領域の方を向いた光は、偏光板５０に吸收される前にバックライトまで反射し返され、ディスプレイ基板の光利用率をさらに高める。

図７は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の構造を示す図である。図８は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の断面図である。図７に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンド３１１を含み、複数の第１反射バンド３１１における各々が大体第１方向に沿って延伸する。さらに反射構造体３０は、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンド３１２を含み、複数の第２反射バンド３１２における各々が大体第２方向に沿って延伸する。一部実施形態において、ベース基板上に位置する反射構造体３０の投影は、ベース基板上の複数の信号回線の投影を大体カバーする。図７と図８に示す通り、一部実施形態において、複数の第１反射バンド３１１と複数の第２反射バンド３１２は同じ層に位置する。本文にて使用する用語の「同じ層」とは、同じステップにおいて同時に形成された層間の関係を指す。１つの例において、当複数の第１反射バンド３１１と複数の第２反射バンド３１２が、同じ材料層において実行した同じパターニングプロセスの１つまたは複数のステップにより形成される時、複数の第１反射バンド３１１と複数の第２反射バンド３１２は同じ層に位置する。別の例において、複数の第１反射バンド３１１と複数の第２反射バンド３１２を、複数の第１反射バンド３１１を形成するステップと複数の第２反射片３１１を形成するステップを同時に実行することにより、同じ層に形成することができる。ここで言う「同じ層」という用語は、常に横断面図における層の厚さまたは層の高さが同じであることを指すものではない。

好ましくは、ディスプレイ基板は、大体前記第１方向に沿って列状に配列した複数のデータ線を含み、前記複数のデータ線における各々は大体前記第２方向沿って延伸する。さらにディスプレイ基板は、大体第２方向に沿って配置した複数のゲート線を含み、前記複数のデータ線における各々は大体前記第１方向に沿って延伸する。好ましくは、複数の第１反射バンド３１１のベース基板上の投影は、複数のデータ線ベース基板上での投影を大体カバーし、複数の第２反射バンド３１２のベース基板上の投影は、複数のゲート線ベース基板上での投影を大体カバーする。

好ましくは、ディスプレイ基板は、大体前記第１方向に沿って列状に配列した複数のゲート線を含み、前記複数のゲート線における各々は大まかに前記第２方向に沿って延伸する。さらにディスプレイ基板は、大体前記第２方向に沿って配置した複数のデータ線を含み、前記複数のゲート線における各々は大体前記第１方向に沿って延伸する。好ましくは、複数の第１反射バンド３１１のベース基板上の投影は、前記複数のゲート線ベース基板上での投影を大体カバーし、複数の第２反射バンド３１２ベース基板上の投影は、複数のデータ線ベース基板上での投影を大体カバーする。

一部実施形態において、ディスプレイ基板は、複数のカラーフィルターのカラーフィルム基板とブラックマトリックスを備える。好ましくは、反射構造体３０のベース基板上での投影は、ブラックマトリックス層の投影と大体重複する。好ましくは、ブラックマトリックス層ベース基板上での投影は、反射構造体３０の投影を大体カバーする。

各種適切な反射材料を使用して複数の第１反射バンド３１１と複数の第２反射バンド３１２を作成することができる。一部実施形態において、複数の第１反射バンド３１１と複数の第２反射バンド３１２は金属材料により作成される。

図８に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、第１反射バンド３１１と複数の第２反射バンド３１２上に位置する透明保護層３１３をさらに含み、第１反射バンド３１１と複数の第２反射バンド３１２を保護する。適切な保護材料は、樹脂、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、ポリエチレンテレフタラート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、略称ＰＥＴ）等を含むがこの限りではない。

図９は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の構造を示す図である。図１０は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の断面図である。図９と図１０における反射構造体の異なる点は、複数の第１反射バンド３２１と複数の第２放射バンド３２２は２個の異なる層に位置することである。具体的には、一部実施形態において、反射構造体３０は、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンド３２１を備える第１反射層を含み、数の第１反射バンド３２１における各々が大体第２方向に沿って延伸する。さらに反射構造体３０は、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンド３２２を備える第２反射層を含み、複数の第２反射バンド３２２における各々が大体第１方向に沿って延伸する。図１０に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、第１反射層と第２反射層間に位置する絶縁層３２４をさらに含む。

一部実施形態において、反射構造体３０ベース基板上の投影は、複数の信号回線ベース基板上での投影を大体カバーする。好ましくは、複数の第１反射バンド３２１ベース基板上の投影は、複数のデータ線ベース基板上での投影を大体カバーし、複数の第２反射バンド３２２ベース基板上の投影は、複数のゲート線ベース基板上での投影を大体カバーする。好ましくは、前記底基板上の複数の第１反射バンド３２１ベース基板上の投影は、前記複数のゲート線ベース基板上での投影を大体カバーし、複数の第２反射バンド３２２ベース基板上の投影は、複数のデータ線ベース基板上での投影を大体カバーする。

図１０に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、第１反射バンド３２１と複数の第２反射バンド３２２上に位置する透明保護層３２３をさらに含み、第１反射バンド３２１と複数の第２反射バンド３２２を保護する。適切な保護材料は、樹脂、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、ポリブチレンテレフタレート、グリコールエステル等を含むがこの限りではない。

各種適切な導電反射材料を使用して複数の第１反射バンド３２１と複数の第２反射バンド３２２を作成することができる。一部実施形態において、複数の第１反射バンド３２１と複数の第２反射バンド３２２は、例えばアルミニウムとチタン合金のような金属材料により作成される。

各種適切な絶縁材料を使用して絶縁層３２４を作成することができる。適切な絶縁材料は、樹脂、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、ポリブチレンテレフタレート、グリコールエステル等を含むがこの限りではない。

図９と図１０に示す通り、一部実施形態において、複数の第１反射バンド３２１は、複数の第１タッチ電極を構成し、複数の第２反射バンド３２２は、複数の第２タッチ電極を構成する。前記複数の第１タッチ電極は、第１方向に沿って排列し、前記複数の第１タッチ電極における各々が大体第２方向に沿って延伸する。かつ、複数の第２タッチ電極は、第２方向に沿って排列し、複数の第２タッチ電極における各々が大体第１方向に沿って延伸する。反射構造体３０は、光を反射することと、タッチを検出することを備える二重機能構造である。反射層とタッチ電極層を単数の構造中に統合することにより、ディスプレイ基板とディスプレイ基板を備えるディスプレイ装置は例えば最小の厚さを備えるように小型化できる。

一部実施形態において、前記複数の第１反射バンド３２１にて隣接するｍ個の反射バンドは並列に接続し、前記複数の第１タッチ電極のうちの１個を形成する。前記複数の第２反射バンド３２２におけるｎ個の隣接する反射バンドは並列に接続し、前記複数の第２タッチ電極のうちの１個を形成する。ｍ≧１、Ｎ≧１である。好ましくは、ｍ＝ｎである。好ましくは、ｍ≠ｎである。好ましくは、ｍ＝３ｎである。複数の反射バンドを並列に接続し、複数のタッチ電極のうちの１個を形成することにより、タッチドライバーチップの出力端子数を減らすことができる。一般的なディスプレイ装置において、データ線数量はゲート線数量の約３倍である。ｍを３ｎとほぼ等しく設定することにより、第１方向と第２方向に沿うタッチ解像度は大体同じであることを維持できる。別の例において、ディスプレイパネルは、１９２０×１０８０の高解像度ディスプレイパネルであり、ｎ＝３６であり、複数の第２反射バンド３２２は３０個のタッチ電極を構成する。

図１１は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の構造を示す図である。図１２は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の断面図である。図１１に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンド３３１を備える第１反射層を含み、複数の第１反射バンド３３１における各々が大体第２方向に沿って延伸する。さらに反射構造体３０は、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンド３３２を備える第２反射層を含み、複数の第２反射バンド３３２における各々が大体第１方向に沿って延伸する。図１２に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、第１反射層と第２反射層間に位置する絶縁層３３４をさらに含む。一部実施形態において、反射構造体３０は、第１反射バンド３３１と複数の第２反射バンド３３２上に位置する透明保護層３３３をさらに含み、第１反射バンド３３１と複数の第２反射バンド３３２を保護する。

図１１に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、複数の第１透明導電ブロック３３５を含み、各第１透明導電ブロック３３５は複数の第１反射バンド３３１における１個に電気的に接続をさらに含む。複数の第１透明導電ブロック３３５における各々のベース基板上の投影は、複数の第２反射バンド３３２にて隣接する２個の第２反射バンドのベース基板上での投影間に位置する。複数の第１透明導電ブロック３３５を備えることにより、複数の第１タッチ電極と複数の第２タッチ電極間の電気容量を増やすことができ、タッチ検出の精度と敏感性を高める。

図１２に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、複数の第１透明導電ブロック３３５と複数の第１反射バンド３３１間に位置する第２絶縁層３３６をさらに含む。複数の第１透明導電ブロック３３５は、それぞれ第２絶縁層３３６における複数のビア３３７により複数の第１反射バンド３３１に電気的に接続する。

一部実施形態において、複数の第１透明導電ブロック３３５は、複数行の第１透明導電ブロックを含む。複数行の第１透明導電ブロックの各行におけるいずれかの隣接する２個の第１透明導電ブロックは、複数の第１反射バンド３３１にて隣接する２個の第１反射バンドに電気的に接続する。好ましくは、複数の第１透明導電ブロックの各々は矩形である。

一部実施形態において、複数の第１透明導電ブロック３３５における各々は、複数の第２反射バンド３３２における１個に電気的に接続する。複数の第１透明導電ブロック３３５における各ベース基板上の投影は、前記複数の第１反射バンド３３１にて隣接する２個の第１反射バンドの前記ベース基板上での投影間に位置する。

各種適切な透明導電材料を使用して複数の第１透明導電ブロック３３５を作成することができる。好ましくは、複数の第１透明導電ブロック３３５は透明金属材料により作成される。好ましくは、複数の第１透明導電ブロック３３５は、例えば酸化インジウムスズのような金属酸化物材料により作成される。

図１３は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の構造を示す図である。図１４は、本発明の一部実施形態に基づく反射構造体の断面図である。図１３に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンド３４１を備える第１反射層を含み、複数の第１反射バンド３４１における各々が大体第２方向に沿って延伸する。さらに反射構造体３０は、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンド３４２に備える第２反射層を含み、複数の第２反射バンド３４２における各々が大体第１方向に沿って延伸する。図１２に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は第１反射層と第２反射層間に位置する絶縁層３４４をさらに含む。一部実施形態において、反射構造体３０は、第１反射バンド３４１と複数の第２反射バンド３４２上に位置する透明保護層３４３をさらに含み、第１反射バンド３４１と複数の第２反射バンド３４２を保護する。

図１３に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、複数の第１透明導電ブロック３４５ａをさらに含み、各第１透明導電ブロック３４５ａは複数の第１反射バンド３４１における１個に電気的に接続する。さらに反射構造体３０は、複数の第２透明導電ブロック３４５ｂをさらに含み、各第２透明導電ブロック３４５ｂは複数の第２反射バンド３４２における１個に電気的に接続する。複数の第１透明導電ブロック３４５ａにおける各ベース基板上の投影は、複数の第２反射バンド３４２にて隣接する２個の第２反射バンドベース基板上での投影間に位置する。複数の第２透明導電ブロック３４５ｂにおける各ベース基板上の投影は、複数の第１反射バンド３４１にて隣接する２個の第１反射バンドベース基板上での投影間に位置する。複数の第１透明導電ブロック３４５ａと複数の第２透明導電ブロック３４５ｂを備えることにより、複数の第１タッチ電極と複数の第２タッチ電極間の電気容量を増やすことができ、タッチ検出の精度と敏感性を高める。

一部実施形態において、複数の第１透明導電ブロック３４５ａは、複数行の第１透明導電ブロックを含み、複数の第２透明導電ブロック３４５ｂは、複数行の第２透明導電ブロックを含む。好ましくは、前記複数行の第１透明導電ブロックにおける各行と前記複数行の第２透明導電ブロックにおける各行は互いに交錯する。好ましくは、前記複数行の第１透明導電ブロックの各行におけるいずれかの隣接する２個の第１透明導電ブロックと前記複数の第１反射バンド３４１にて隣接する２個の第１反射バンドは電気的に接続する。好ましくは、前記複数行の第２透明導電ブロックにおける同じ行の各第２透明導電ブロックは、前記複数の第２反射バンド３４２における同じ第２反射バンドにまで電気的に接続する。

好ましくは、複数の第１透明導電ブロック３４５ａと複数の第２透明導電ブロック３４５ｂは同じ層に位置する。好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックの各々は菱形であり、前記複数の第２透明導電ブロックの各々は菱形である。

図１３に示す通り、複数の第１透明導電ブロック３４５ａは、複数の第１反射バンド３４１（複数の第１タッチ電極）上に均等に配置されており、複数の第２透明導電ブロック３４５ｂは、複数の第２反射バンド３４２（複数の第２タッチ電極）上に均等に配置されている。当該設計により、複数の第１タッチ電極と複数の第２タッチ電極間の電気容量は、ディスプレイ基板上の異なる位置においても大体同じとなることから、タッチ精度と敏感度をさらに高める。

各種適切な透明導電材料を使用して複数の第１透明導電ブロック３４５ａと複数の第２透明導電ブロック３４５ｂを作成することができる。好ましくは、複数の第１透明導電ブロック３４５ａと複数の第２透明導電ブロック３４５ｂは透明金属材料により作成される。好ましくは、複数の第１透明導電ブロック３４５ａと複数の第２透明導電ブロック３４５ｂは、例えば酸化インジウムスズのような金属酸化物材料により作成される。

図１４に示す通り、一部実施形態において、反射構造体３０は、複数の第１反射バンド３４１と複数の第２反射バンド３４２間に位置する第１絶縁層３４４と複数の第１透明導電ブロック３４５ａと第２透明導電条３４５間に位置する第２絶縁層３４６をさらに含む。複数の第１透明導電ブロック３４５ａは、それぞれ第２絶縁層３３６上にて延伸して横切る第１ビア３４７により複数の第１反射バンド３４１に電気的に接続する。複数の第２透明導電ブロック３４５ｂは、それぞれ延伸して横切る第１絶縁層３４４と第２絶縁層３３６の複数の第２ビア３４８により複数の第２反射バンド３４２に電気的に接続する。

一部実施形態において、ディスプレイ基板は偏光板をさらに含む。好ましくは、前記偏光板は、前記複数の薄膜トランジスタと前記複数の信号回線の前記ベース基板に遠い側に位置する。好ましくは、前記反射構造体は、前記偏光板の前記ベース基板に近い側に位置する。好ましくは、前記反射構造体は、前記偏光板の前記ディスプレイ基板の入光側に近い側に位置する。好ましくは、前記ディスプレイ基板は、前記偏光板と前記反射構造体間に位置する前記偏光板を保護する保護層をさらに含む。

図１５は、本発明の一部実施形態に基づく偏光板の構造を示す図である。図１５に示す通り、一部実施形態において、偏光板は、ワイヤーグリッド偏光格子５１とワイヤーグリッド偏光格子５１上の保護層５２を含む。ワイヤーグリッド偏光格子５１は例えばナノインプリント（ｎａｎｏ−ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）により、作成できる。当該偏光板は、ワイヤーグリッド偏光格子５１とワイヤーグリッド偏光格子５１上にてカバーする保護層５２を含む。ここで、当該ワイヤーグリッド偏光格子５１は、例えばナノインプリント技術を使用して作成できる。好ましくは、図１５に示す偏光板１５は、ベース基板におけるディスプレイ基板に遠い入光側に位置する偏光板（例：は、図６Ａ、６Ｃおよび６Ｄにおける偏光板５０を参照できる）である。ワイヤーグリッド偏光格子５１は、複数の平行列状に配列した金属線を含み、隣接する金属線の間に複数の溝を形成する。ワイヤーグリッド偏光格子５１のピッチは、バックライトからの入射光の波長の半分または４分の１と設定することができる。

もう一方で、本発明は、本文に記載したディスプレイ基板を含むディスプレイパネルをさらに提供する。図１６は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイパネルの構造を示す図である。図１６に示す通り、一部実施形態において、ディスプレイパネルは、配列基板１００、カラーフィルム基板２００および配列基板１００とカラーフィルム基板２００間に位置する液晶層３００を含む。好ましくは、配列基板１００は、本文に記載したディスプレイ基板（例：図３から５および６Ａから６Ｆに示すディスプレイ基板）である。好ましくは、カラーフィルム基板２００は、本文に記載したディスプレイ基板（例：図３から図５、図６Ａから図６Ｆに示すディスプレイ基板）である。

もう一方で、本発明は、本文に記載したディスプレイ基板を含むディスプレイ装置をさらに提供する。適切なディスプレイデバイスの例は、電子ペーパー、携帯電話、タブレットコンピュータ、テレビ、モニタ装置、ノートパソコン、デジタルアルバム、ＧＰＳ等を含むがこの限りではない。

図１７は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイ装置の構造を示す図である。図１７に示す通り、一部実施形態において、ディスプレイ装置はバックライト４００とディスプレイパネルを含む。ディスプレイパネルは、配列基板１００、カラーフィルム基板２００および配列基板１００とカラーフィルム基板２００間に位置する液晶層３００を含む。図１７に示す通り、配列基板１００は、本文に記載したディスプレイ基板（例：図３から５以及６Ａから６Ｆに示すディスプレイ基板）である。配列基板１００バックライト４００とカラーフィルム基板２００の間に位置する。

図１８は、本発明の一部実施形態に基づくディスプレイ装置の構造を示す図である。図１８に示す通り、一部実施形態において、ディスプレイデバイスはバックライト４００とディスプレイパネルを含む。ディスプレイパネルは、配列基板１００、カラーフィルム基板２００および配列基板１００とカラーフィルム基板２００間に位置する液晶層３００を含む。図１８に示す通り、カラーフィルム基板２００は、本文に記載したディスプレイ基板（例：図３から図５、図６Ａから図６Ｆに示すディスプレイ基板）である。カラーフィルム基板２００は、バックライト４００と配列基板１００の間に位置する。

もう一方で、本発明は、サブピクセル領域とサブピクセル間の領域を備えるディスプレイ基板を製造する製造方法を提供する。一部実施形態において、当該方法は、サブピクセル間の領域内にて反射構造体を形成するステップと、当該反射構造体がバックライトからディスプレイ基板へ放射したサブピクセル間の領域の光をバックライトまで反射し返し、同時に光がサブピクセル領域を透過できるよう構成されるステップと含む。

一部実施形態において、当該方法は、ベース基板上にてピクセルコンポーネントを形成するステップをさらに含む。好ましくは、前記ディスプレイ基板は配列基板である。前記方法は、前記サブピクセル領域内にて複数のピクセル電極と複数の共通電極を形成し、サブピクセル間の領域内にて複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線（例：複数のゲート線と複数のデータ線）を形成するステップを含む。好ましくは、前記ディスプレイ基板はカラーフィルム基板であり、前記方法は前記サブピクセル領域内にて複数のカラーフィルム基板を形成し、前記サブピクセル領域内にてブラックマトリックス層を形成するステップをさらに含む。好ましくは、前記反射構造体は、前記ピクセルコンポーネント（例：前記複数の薄膜トランジスタと前記複数の信号回線）における前記バックライトに近いピクセルコンポーネント側を形成する。好ましくは、反射構造体は、ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）におけるディスプレイ基板に近い入光側を形成する。好ましくは、前記ディスプレイ基板は、前記ベース基板上での前記反射構造体の投影が、前記基板上の前記複数の信号回線の投影を大体カバーさせるように形成する。

好ましくは、前記反射構造体を形成するステップは、複数のタッチ電極を形成し、前記複数のタッチ電極はタッチを検出するよう構成されるステップを含む。好ましくは、前記複数のタッチ電極における各々は反射性を有し、前記バックライトから前記ディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光を前記バックライトまで反射し返すよう構成される。

好ましくは、反射構造体は、ベース基板におけるディスプレイ基板上のピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）に遠い側を形成する。好ましくは、前記反射構造体は、例えば前記バックライトに近い、前記ベース基板における前記ディスプレイ基板に近い入光側を形成する。

好ましくは、前記反射構造体は、前記ベース基板における前記ディスプレイ基板に近いピクセルコンポーネント（例：前記複数の薄膜トランジスタと前記複数の信号回線）側を形成する。好ましくは、反射構造体は、例えばバックライトに遠い、ディスプレイ基板における光の入射側に遠いベース基板側を形成する。

好ましくは、前記反射構造体は、パターニングプロセスにより前記ベース基板上に直接形成する。好ましくは、反射構造体はベース基板上に付着される。好ましくは、当該方法は、反射構造体をベース基板上に付着するバインダー層を形成するステップをさらに含む。

一部実施形態において、当該方法は偏光板を形成するステップをさらに含む。好ましくは、偏光板は、反射構造体３０とディスプレイ基板のピクセルコンポーネントの間に位置する。好ましくは、前記反射構造体は、前記ディスプレイ基板の前記偏光板と前記ピクセルコンポーネントの間に形成する。好ましくは、前記偏光板と前記反射構造体は、前記ベース基板の同じ側に形成する。好ましくは、前記偏光板と前記反射構造体は、例えば前記偏光板前記ベース基板における前記反射構造体に遠い側である、前記ベース基板における異なる側に形成する。

好ましくは、前記偏光板は、前記ベース基板における前記反射構造体に遠い側を形成する。例えば、前記偏光板と前記反射構造体は、前記基材において２つの対向する側を形成する。好ましくは、前記偏光板と前記反射構造体は、前記ベース基板において対向する側を形成する。好ましくは、ディスプレイ基板の偏光板、反射構造体およびピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）は、ベース基板における同じ側を形成する。好ましくは、前記偏光板と前記反射構造体は、前記ベース基板における同じ側を形成する。好ましくは、前記偏光板と反射構造体は、前記ベース基板における前記ディスプレイ基板に遠い各ピクセルコンポーネント（例：複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線）側を形成する。好ましくは、前記反射構造体は、例えば前記ディスプレイ基板に入光側に近い、前記偏光板における前記バックライトに近い側を形成する。

一部実施形態において、反射構造体を形成するステップは、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンドを形成するステップと、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンドを形成するステップとを含む。好ましくは、前記複数の第１反射バンドにおける各々が大体第２方向に沿って延伸するように形成される。好ましくは、前記複数の第２反射バンドにおける各々は大体前記第１方向に沿って延伸するように形成される。

好ましくは、前記複数の第１反射バンドと前記複数の第２反射バンドを、単一のパターニングプロセスと同じ材料を使用することにより同じ層に形成する。

好ましくは、前記複数の第１反射バンドと前記複数の第２反射バンドを異なる層に形成する。具体的には、反射構造体を形成するステップは、第１反射層と第２反射層を形成するステップを含む。第１反射層を形成するステップは、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンドを形成し、複数の第１反射バンドにおける各々が大体第２方向に沿って延伸するよう形成するステップを含む。第２反射層を形成ステップは、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンドを形成し、複数の第２反射バンドにおける各々が大体第１方向に沿って延伸するよう形成するステップとを含む。好ましくは、前記反射構造体を形成するステップは、前記第１反射層と前記第２反射層間に絶縁層を形成するステップをさらに含む。

好ましくは、前記反射構造体は、前記複数の第１反射バンドの前記ベース基板上の投影が、前記複数のデータ線の前記ベース基板上での投影を大体カバーさせるよう形成し、前記複数の第２反射バンドの前記ベース基板上の投影は、前記複数のゲート線の前記ベース基板上での投影を大体カバーする。好ましくは、前記反射構造体は、前記前記複数の第１反射バンドの前記ベース基板上の投影が、前記複数のゲート線の前記ベース基板上での投影を大体カバーさせるよう形成し、複数の第２反射バンドベース基板上の投影は、複数のデータ線ベース基板上での投影を大体カバーする。

一部実施形態において、前記ディスプレイ基板はカラーフィルム基板であり、前記方法は前記ベース基板上において複数のカラーフィルターとブラックマトリックスを形成するステップを含む。好ましくは、前記反射構造体を、前記反射構造体の前記ベース基板上での投影が前記ブラックマトリックス層の投影と大体重複するように形成する。好ましくは、前記反射構造体を、前記ブラックマトリックス層前記ベース基板上での投影が前記反射構造体の投影を大体カバーするよう形成する。

好ましくは、前記反射構造体を形成するステップは、前記第１反射バンドと前記複数の第２反射バンド上にて透明保護層を形成し、前記第１反射バンドと前記複数の第２反射バンドを保護するステップをさらに含む。

一部実施形態において、前記複数の第１反射バンドは、複数の第１タッチ電極を構成し、前記複数の第２反射バンドは、複数の第２タッチ電極を構成する。好ましくは、前記方法は、前記複数の第１反射バンド中の隣接ド中の隣接するｍ個の反射バンドは並列に電気的に接続し、前記複数の第１タッチ電極のうちの１個を形成するステップと、前記複数の第２反射バンド中の隣接するｎ個の反射バンドを平行に電気的に接続し、前記複数の第２タッチ電極のうちの１個を形成するステップと、ｍ≧１、Ｎ≧１であるステップとをさらに含む。好ましくは、ｍ＝ｎである。好ましくは、ｍ≠ｎである。好ましくは、ｍ＝３ｎである。

一部実施形態において、前記方法は、複数の第１透明導電ブロックを形成するステップと、前記複数の第１透明導電ブロックにおける各々は、前記複数の第１反射バンドのうちの１個に電気的に接続するステップとをさらに含む。好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックは、前記複数の第１透明導電ブロックにおける各第１透明導電ブロックの前記ベース基板上の投影が、前記複数の第２反射バンド中の隣接する２個の第２反射バンドの前記ベース基板上での投影間に位置するよう形成する。好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックを形成するステップは、複数行の第１透明導電ブロックを形成するステップを含む。好ましくは、前記複数行の第１透明導電ブロックは、前記複数行の第１透明導電ブロックの各行におけるいずれかの隣接する２個の第１透明導電ブロックが、前記複数の第１反射バンド中の隣接する２個の反射バンドに電気的に接続するよう形成する。好ましくは、複数の第１透明導電ブロックにおける各々は矩形であるよう形成する。

一部実施形態において、前記方法は、複数の第１透明導電ブロックを形成し、前記複数の第１透明導電ブロックにおける各々を前記複数の第１反射バンドのうちの１個に電気的に接続するステップと、複数の第２透明導電ブロックを形成し、前記複数の第２透明導電ブロックにおける各々を前記複数の第２反射バンドのうちの１個に電気的に接続するステップとをさらに含む。好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックは、前記複数の第１透明導電ブロックにおける各第１透明導電ブロックの前記ベース基板上の投影が、前記複数の第２反射バンド中の隣接する２個の第２反射バンドの前記ベース基板上での投影間に位置するよう形成する。好ましくは、前記複数の第２透明導電ブロックは、前記複数の第２透明導電ブロックにおける各第２透明導電ブロックの前記ベース基板上の投影が、前記複数の第１反射バンド中の隣接する２個の第１反射バンドのベース基板上での投影間に位置するよう形成する。

一部実施形態において、複数の第１透明導電ブロックを形成するステップは、複数行の第１透明導電ブロックを形成するステップを含み、複数の第２透明導電ブロックを形成するステップは、複数行の第２透明導電ブロックを形成するステップを含む。複数行の第１透明導電ブロックと複数行の第２透明導電ブロックは、複数行の第１透明導電ブロックにおける各行と複数行の第２透明導電ブロックにおける各行は交錯するよう形成する。前記複数行の第１透明導電ブロックブロックの各行におけるいずれかの隣接する２個の第１透明導電ブロックは、前記複数の第１反射バンド中の隣接する２個の第１反射バンドに電気的に接続する。前記複数行の第２透明導電ブロックの同じ行における各第２透明導電ブロックは、前記複数の第２反射バンドにおける同じ第２反射バンドに電気的に接続する。好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックにおける各々は菱形であるよう形成し、前記複数の第２透明導電ブロックにおける各々は菱形であるよう形成する。

好ましくは、前記複数の第１透明導電ブロックと前記複数の第２透明導電ブロックは、単一のパターニングプロセスと同じ材料を使用することにより同じ層に形成する。

一部実施形態において、当該方法は、ベース基板上において偏光板を形成するステップをさらに含む。好ましくは、前記偏光板は、前記複数の薄膜トランジスタと前記複数の前記ベース基板における信号回線に遠い側を形成する。好ましくは、前記反射構造体は前記偏光板における前記ベース基板に近い側を形成する。好ましくは、前記反射構造体は、前記ディスプレイ基板における入光側に近い前記偏光板側に形成する。

本願を詳細に説明し記載するために本発明の前記実施形態を提供するが、網羅的であることを意図するものでも、本発明を開示された正確な形態または例示的な実施形態に限定することも意図していない。従って、以上の記載は制限的ではなく例示的なものとみなされるべきである。無論、当業者にとっては多くの修正と変更ができることは明らかである。実施形態は、本発明の原理およびその最良の形態への実際的な適用を説明し、当業者は本発明の各種実施形態および特定の使用または実施に適した様々な修正を理解できる。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲およびそれらの均等物によって定義され、すべての用語は他に示されない限り最も広い合理的な概念で示される。従って、「発明」、「本発明」などの用語は、特許請求の範囲を特定の実施形態に限定するものではなく、本発明の例示的な実施形態への言及は本発明を限定することを意図するものではなく、そのような制限は推測することができない。本発明は、添付の特許請求の範囲の精神および範囲によってのみ限定される。さらに、これらの特許請求の範囲は「第１」、「第２」等を使用し、名詞または要素に続く。これら用語は、用語として理解されるべきであり、特定の数が与えられていない限り、そのような用語によって修飾された要素の数を限定するものとして解釈されるべきではない。記載した利点および利点のいずれも本発明のすべての実施形態に適用されるわけではない。添付の特許請求の範囲によって規定される本発明の範囲から逸脱することなく、当業者によって記載された実施形態において変更がなされてもよいことを理解されたい。この他に、本発明の要素および構成要素のすべては、添付の特許請求の範囲に明示的に列挙されているかどうかにかかわらず、公衆に捧げることを意図するものではない。

Claims (20)

1. ベース基板と、サブピクセル間の領域内に位置する反射構造体とを含み、前記反射構造体は、バックライトからディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光をバックライトまで反射し返し、同時に光がサブピクセル領域を透過できるよう構成されることを特徴とするサブピクセル領域とサブピクセル間の領域を備えるディスプレイ基板。
2. 前記ディスプレイ基板の発光を駆動するための複数の薄膜トランジスタと複数の信号回線をさらに含み、
   前記反射構造体は、前記複数の薄膜トランジスタと前記複数の信号回線の前記バックライトに近い側に位置することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ基板。
3. 前記反射構造体の前記ベース基板上の投影は、複数のゲート線と複数のデータ線の前記ベース基板上での投影を大体カバーすることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ基板。
4. 前記反射構造体は、タッチを検出するよう構成された複数のタッチ電極を含み、
   複数のタッチ電極における各々は反射性を有し、バックライトから前記ディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光をバックライトまで反射し返すよう構成されることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のディスプレイ基板。
5. 前記反射構造体は、
   各々が大体第２方向に沿って延伸する、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンドと、
   各々が大体第１方向に沿って延伸する、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンドとを含むことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のディスプレイ基板。
6. 前記反射構造体は、
   各々が大体第２方向に沿って延伸する、第１方向に沿って列状に配列した複数の第１反射バンドを含む第１反射層と、
   各々が大体第１方向に沿って延伸する、第２方向に沿って列状に配列した複数の第２反射バンドを含む第２反射層と、
   前記第１反射層と前記第２反射層間に位置する絶縁層とを含むことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のディスプレイ基板。
7. 前記複数の第１反射バンドは、複数の第１タッチ電極を構成し、
   前記複数の第２反射バンドは、複数の第２タッチ電極を構成することを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ基板。
8. 前記複数の第１反射バンド中の隣接ド中の隣接するｍ個の反射バンドは並列に接続し、前記複数の第１タッチ電極のうちの１個を形成し、
   前記複数の第２反射バンド中の隣接するｎ個の反射バンドは並列に接続し、前記複数の第２タッチ電極のうちの１個を形成し、
   ｍ＝３ｎであることを特徴とする請求項７に記載のディスプレイ基板。
9. 複数の第１透明導電ブロックをさらに含み、各第１透明導電ブロックは、前記複数の第１反射バンドのうちの１個に電気的に接続し、
   前記複数の第１透明導電ブロックにおける各第１透明導電ブロックの前記ベース基板上での投影は、前記複数の第２反射バンド中の隣接する２個の第２反射バンドの前記ベース基板上での投影間に位置することを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ基板。
10. 前記複数の第１透明導電ブロックは、複数行の第１透明導電ブロックを含み、
    前記複数行の第１透明導電ブロックの各行におけるいずれかの隣接する２個の第１透明導電ブロックは、前記複数の第１反射バンド中の隣接する２個の第１反射バンドに電気的に接続することを特徴とする請求項９に記載のディスプレイ基板。
11. 前記複数の第１透明導電ブロックの各々は矩形であることを特徴とする請求項９に記載のディスプレイ基板。
12. 複数の第２透明導電ブロックをさらに含み、各第２透明導電ブロックは前記複数の第２反射バンドのうちの１個に電気的に接続し、
    前記複数の第２透明導電ブロックにおける各々の前記ベース基板上での投影は、前記複数の第１反射バンドの隣接する２個の第１反射バンドの前記ベース基板上での投影間に位置することを特徴とする請求項９に記載のディスプレイ基板。
13. 前記複数の第１透明導電ブロックは、複数行の第１透明導電ブロックを含み、
    前記複数の第２透明導電ブロックは、複数行の第２透明導電ブロックを含み、
    前記複数行の第１透明導電ブロックにおける各行と前記複数行の第２透明導電ブロックにおける各行は互いに交錯し、
    前記複数行の第１透明導電ブロックの各行におけるいずれかの隣接する２個の第１透明導電ブロックは、前記複数の第１反射バンド中の隣接する２個の第１反射バンドに電気的に接続する。
    前記複数行の第２透明導電ブロックの同じ行における各第２透明導電ブロックと前記複数の第２反射バンドにおける同じ第２反射バンドは電気的に接続することを特徴とする請求項１２に記載のディスプレイ基板。
14. 前記複数の第１透明導電ブロックと前記複数の第２透明導電ブロックは同じ層に位置することを特徴とする請求項１２に記載のディスプレイ基板。
15. 前記複数の第１透明導電ブロックの各々は菱形であり、前記複数の第２透明導電ブロックの各々は菱形であることを特徴とする請求項１２に記載のディスプレイ基板。
16. 前記ベース基板上における偏光板をさらに含み、
    前記偏光板は、前記複数の薄膜トランジスタと前記複数の信号回線の前記ベース基板に遠い側に位置することを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ基板。
17. 前記反射構造体は、前記ベース基板の前記偏光板に近い側に位置することを特徴とする請求項１６に記載のディスプレイ基板。
18. 前記反射構造体は、前記偏光板の前記ディスプレイ基板の入光側に近い側に位置することを特徴とする請求項１７に記載のディスプレイ基板。
19. 請求項１から１８のいずれかに記載の前記ディスプレイ基板を含むディスプレイ装置。
20. 前記サブピクセル間の領域内にて反射構造体を形成するステップと、前記反射構造体は、バックライトから前記ディスプレイ基板の前記サブピクセル間の領域に放射した光をバックライトまで反射し返し、同時に光がサブピクセル領域を透過できるよう構成されるステップとを含むことを特徴とするサブピクセル領域とサブピクセル間の領域とを備えるディスプレイ基板を製造する方法。