JP2019533632A - 被膜工程中にガラス系物品の周縁端部をマスクする装置および方法、ならびに装置および方法により作成される物品 - Google Patents

Abstract

ガラス系物品、例えばカバーガラスを、ガラス系物品の周縁端部に蒸着されない被膜層で被膜する方法を提供する。本方法は、蒸着行程中にガラス系物品の周縁部を被膜層の塗布から保護するために、ガラス系物品の上に庇を有するマスクを配置することを含み得る。庇は、被膜層の端部の周りの裸眼では見えない不均一な被膜厚さ領域を有する被膜層を、ガラス系物品の表面に形成するために、寸法決めされてもよい。本方法は、縁なしではない被膜層を備えるガラス系物品を作成するために用いることができる。

Description

関連出願の相互参照

本出願は、米国特許法第１１９条の下、２０１６年１１月４日出願の韓国特許出願第１０−２０１６−０１４６６２１号の優先権の利益を主張するものであり、当該出願の内容は依拠され、参照によりその全体が本明細書に援用される。

本開示は、ガラス系物品、例えばカバーガラスの被膜に関する。特に、本開示は、被膜蒸着工程中に被膜からガラス系物品の周縁端部を保護することに関する。

例えば携帯電話用等のカバーガラス等のガラス系物品は、１つ以上の表面処理を用いて製造して、その機能を強化しエンドユーザーの有意義な体験を提供することができる。例えば、カバーガラスを１つ以上の被膜層で被膜し、所望の特性を付与できる。かかる被膜層としては、反射防止被膜層、易洗浄被膜層、および防傷性被膜層が挙げられる。例えば、スパッタリング、物理蒸着法（ＰＶＤ）、および化学蒸着法（ＣＶＤ）等の様々な真空蒸着法を用いて、これらの被膜層をカバーガラスの表面に施すことができる。これらの被膜層をカバーガラスの表面全体に施すこと、すなわち、カバーガラス表面の縁なし（ｅｄｇｅ−ｔｏ−ｅｄｇｅ）被膜加工が可能である。場合によっては、縁なし被膜加工工程中に感圧接着剤（例えば、カプトン（登録商標）両面テープ）を用いてカバーガラスを支持板に保持してもよい。

防傷性被膜層は、ガラス表面（例えばカバーガラスの表面）に非常に高硬度という特性を付与でき、それにより使用中に、ガラス表面の傷の形成を防止でき、ガラスの破損（例えば、破壊）が生じる可能性を最低限にできる。かかる被膜層は、カバーガラスの他の特性（例えば、他の機械的特性）に悪影響を与えずに高硬度を付与するものである。したがって、ガラス系物品用の被膜層、およびこれらの被膜層をガラス系物品の表面に蒸着する方法の技術革新に対する継続的な必要性が存在する。

本開示は、カバーガラス等のガラス系物品、およびガラス系物品の表面の所望の領域を被膜層で被膜する方法を対象とする。

いくつかの実施形態は、ガラス系物品を被膜する方法であって、ガラス系物品の上にマスクを配置するステップと、上記マスクが上記ガラス系物品の上に配置されている間に、被膜層を上記ガラス系物品の上に蒸着するステップと、を含み、（ａ）上記ガラス系物品は、周縁端部と、上記周縁端部から延在し内側に配置される第１の環状周縁部と、上記第１の環状周縁部から延在し内側に配置される第２の環状周縁部と、上記第２の環状周縁部の内側に配置された内側部分とを有しており、（ｂ）上記マスクは、端部厚さ０．３ｍｍ以下の庇のある周囲を含む開口部を含んでおり、（ｃ）上記マスクが上記ガラス系物品の上に配置されているときに、上記マスクが上記ガラス系物品の上記第１の環状周縁部の少なくとも一部に接触し、上記庇が上記ガラス系物品の上記第２の環状周縁部にわたって延在し、上記開口部が上記ガラス系物品の上記内側部分の上に配置され、上記庇の底面が上記ガラス系物品の上記第２の環状周縁部の少なくとも１５０マイクロメートル上に配置される、方法を対象とする。

いくつかの実施形態において、前述した段落の実施形態による方法は、上記庇の上面が、上記庇の上記端部から離れて延在している、上記ガラス系物品の平面に対して測定した場合に３０度以下の正の傾斜を有する、マスクを含んでもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、上記マスクを上記ガラス系物品の上に配置する際に上記ガラス系物品を上記マスクで基板に固定するステップをさらに含んでもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、第１の方向に測定した長さを有する２つの長辺と、上記第１の方向に対して垂直な第２の方向に測定した長さを有する２つの短辺とを含むガラス系物品であって、上記被膜層の上記蒸着ステップの前には室温で、上記庇が、上記ガラス系物品の上記長辺の上記第２の環状周縁部上に第１の距離だけ延在していてもよく、上記ガラス系物品の上記短辺の上記第２の環状周縁部上に上記第１の距離と異なる第２の距離だけ延在していてもよい、ガラス系物品を含んでもよい。いくつかの実施形態において、第１の距離が第２の距離より小さくてもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、上記ガラス系物品の上記周縁端部から始まり、上記周縁端部の内側に距離Ａだけ延在し、上記距離Ａが０．１ｍｍから１．０ｍｍの範囲である、第１の環状部、および／または上記第１の環状周縁部の内側端部から始まり、上記第１の環状周縁部の上記内側端部の内側に距離Ｂだけ延在し、距離Ｂが０．５ｍｍから２．０ｍｍの範囲である、第２の環状部を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、上記ガラス系物品の上記周縁端部から始まり、上記周縁端部の内側に距離Ａだけ延在している第１の環状部を含んでいてもよく、第２の環状部は、上記第１の環状周縁部の内側端部から始まり、上記第１の環状周縁部の上記内側端部の内側に距離Ｂだけ延在していてもよく、距離Ａと距離Ｂの合計が３．０ｍｍ以下である。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、防傷性被膜層を含む被膜層を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、上記ガラス系物品の上記第２の環状周縁部の少なくとも一部の上に蒸着される被膜層を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、上記ガラス系物品の上記第２の環状周縁部において不均一な被膜厚さを有している被膜層を含んでもよい。いくつかの実施形態において、上記不均一な被膜厚さが、上記内側部分から上記ガラス系物品の上記第１の環状周縁部に向けて移動する際に徐々に減少してもよい。いくつかの実施形態において、上記不均一な被膜厚さは上記ガラス系物品上で裸眼では見えない場合がある。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、ガラス系物品の上に配置されたときに、上記ガラス系物品の上記第１の環状周縁部の少なくとも一部に接触している弾性部を含むマスクを含んでもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態は、カバーガラスであるガラス系物品を含んでもよい。

いくつかの実施形態は、被膜工程中にガラス系物品の周縁端部をマスクする装置であって、上記ガラス系物品の第１の環状周縁部と接触するよう構成された接触部と、上記ガラス系物品の第２の環状周縁部にわたって延在するよう構成された庇部であって、開口部を画定し、上面、底面および周縁を含む庇部とを含むマスクを含み、上記周縁は２５０℃で測定した場合に０．３ｍｍ以下の端部厚さを有し、上記周縁における上記庇部の上記底面は、２５０℃の温度では、上記ガラス系物品の第２の環状周縁部の内側端部の少なくとも１５０マイクロメートル上に位置するよう構成された、装置を対象とする。

いくつかの実施形態において、前述した段落の実施形態による装置は、２５０℃の温度で上記底面に対して計測した場合に３０度以下の傾斜を有する上面を備える庇部を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態による装置は、弾性材料を含む接触部を有するマスクを含んでもよい。

いくつかの実施形態において、室温で、前述した任意の段落の実施形態による装置は、第１の方向に測定した長さを有する２つの長辺と、上記第１の方向に対して垂直な第２の方向に測定した長さを有する２つの短辺とを含む庇部を有するマスクであって、上記長辺が上記接触部から第１の距離だけ延在していてもよく、上記短辺が上記接触部から上記第１の距離と異なる第２の距離だけ延在していてもよい、マスクを含んでもよい。いくつかの実施形態において、第１の距離が第２の距離より小さくてもよい。

いくつかの実施形態において、前述した任意の段落の実施形態による装置は、所定の位置に上記ガラス系物品を保持するよう構成された基板を含んでもよい。いくつかの実施形態において、装置は、上記基板に配置され、上記マスクで解放可能に上記基板に固定されたガラス系物品を含んでもよい。

いくつかの実施形態は、周縁部と中央部とを含む上面を含む本体部であって、上記周縁部が上記上面の周縁端部の少なくとも一部を含む、本体部と、中央部に配置されているが上記周縁部には配置されていない防傷性被膜であって、上記周縁部に隣接する上記防傷性被膜の周囲に不均一な被膜厚さの領域を含む防傷性被膜と、を含むカバーガラスを含む、物品を対象とする。

いくつかの実施形態において、前述した段落の実施形態による物品は、前面、後面、および側面を有する筐体と、少なくとも部分的には上記筐体内に設けられた電気部品であって、少なくともコントローラー、メモリー、上記筐体の上記前面に、または上記前面に隣接して設けられたディスプレイ、および上記ディスプレイの上に配置された、先述の段落の実施形態によるカバーガラスを含む、電気部品とを含む、家電製品である物品を含んでもよい。

添付の図面は、本明細書に援用されるものであり、本開示の明細書の一部をなし、実施形態を説明するものである。明細書と共に、図面はさらに原理を説明し、関連分野の当業者が開示の実施形態を実施し使用できるのに役立つ。これらの図面は説明を目的としており、限定を目的とするものではない。本開示は一般にこれらの実施形態の文脈に従って記載されているが、本開示の範囲をこれらの特定の実施形態に限定するものではないと理解されるべきである。図面では、同一の符号は、同一または機能的に類似の要素を示す。
図１は、いくつかの実施形態による、カバーガラスの周囲をマスクする装置の分解図である。 図２は、いくつかの実施形態によるカバーガラスの説明図である。 図３は、いくつかの実施形態による基板およびマスクの断面図である。 図４は、いくつかの実施形態による基板およびマスクの断面図である。 図５は、いくつかの実施形態によるカバーガラスおよび物品の説明図である。 図６は、図５のカバーガラスの側面図である。 図７Ａは、第１のカバーガラスの写真である。 図７Ｂは、第２のカバーガラスの写真である。 図７Ｃは、第３のカバーガラスの写真である。 図８Ａは、目に見える端部を有する被膜層の顕微鏡画像である。 図８Ｂは、目に見えない端部を有する被膜層の顕微鏡画像である。 図９は、いくつかの実施形態による被膜層のコーティングプロファイルのグラフである。 図１０Ａは、いくつかの実施形態による、被膜蒸着工程中に高温下でカバーガラスの周囲にわたって延在する庇の説明図である。 図１０Ｂは、いくつかの実施形態による、室温でカバーガラスの周囲にわたって延在する庇の説明図である。 図１１は、いくつかの実施形態によるマスクの底面図である。 図１２は、いくつかの実施形態による、カバーガラスの周囲にわたって延在する庇の説明図である。 図１３Ａは、様々な実施形態による庇の説明図である。 図１３Ｂは、様々な実施形態による庇の説明図である。 図１３Ｃは、様々な実施形態による庇の説明図である。 図１４は、いくつかの実施形態による基板およびマスクの断面図である。 図１５は、いくつかの実施形態による基板およびマスクの断面図である。 図１６Ａは、様々な実施形態によるカバーガラス端部の説明図である。 図１６Ｂは、様々な実施形態によるカバーガラス端部の説明図である。 図１６Ｃは、様々な実施形態によるカバーガラス端部の説明図である。 図１７は、基板およびマスクの断面図である。 図１８は、いくつかの実施形態による消費者製品の説明図である。

以下の例は、本開示の説明を目的とするものであり、限定を目的としていない。当該分野で通常遭遇する様々な条件およびパラメーターに関する、他の好適な改変形態および適合形態であって当業者に明白なものは、本開示の趣旨および範囲に含まれる。

ガラス系物品のための被膜層、例えばカバーガラスは、とりわけ、望ましくない反射を低減し、ガラス中の機械的欠陥（例えば、傷またはひび）の形成を防止し、かつ／あるいは洗浄しやすい透明な表面を提供するために機能してもよい。本明細書に開示したガラス系物品は、ディスプレイ（またはディスプレイ用物品）を備えた物品（例えば、携帯電話、タブレット端末、コンピューター、ナビゲーションシステム、ウェアラブル端末（例えば、時計）等の家電製品）、建築用物品、輸送用物品（例えば、自動車、列車、航空機、船舶等）、電気器具物品、またはある程度の透明性、防傷性、耐磨耗性、またはこれらの組み合わせが必要な任意の物品等の他の物品に組み込まれてもよい。本明細書に開示したガラス系物品のいずれかを組み込む物品の例としては、前面、後面、および側面を有する筐体と、少なくとも部分的には上記筐体内に設けられ、少なくともコントローラー、メモリー、および上記筐体の上記前面にまたは上記前面に隣接して設けられたディスプレイを含む電気部品と、上記ディスプレイの上になるように、上記筐体の上記前面にまたは上記前面の上にあるカバー基板を含む、家電機器が挙げられる。いくつかの実施形態において、カバー基板は本明細書に開示した任意のガラス系物品を含んでもよい。いくつかの実施形態において、筐体の一部またはカバーガラスの少なくともどちらかは、本明細書に開示したガラス系物品を含む。

ガラス系物品のための被膜層は、ガラス系物品の他の特性に悪影響を与えずに、１つ以上の望ましい特性を与えなければならない。例えば、防傷性被膜層の縁なし被膜加工がカバーガラスの縁端強度に悪影響を与える恐れがあり、カバーガラスの４点曲げ強度および衝撃強度を低下させる恐れがあることが観察されている。これらの悪影響は、カバーガラスの端部（例えば、周縁端部）に位置する防傷性被膜層の高剛性および高硬度に原因がある。衝撃強度は落下性能に直接関係するため、防傷性被膜を含むことで、電子機器に設置されたカバーガラスの構造一体性が低下する可能性がある。これは、ひびの形成やカバーガラスの完全な破壊により、ユーザーにとって電子機器を使用することが難しくなる可能性があり、電子機器の部品（例えば、ディスプレイ部品）をこれらの部品にとって有害となり得る環境要素にさらす恐れがあるので、望ましくない。

被膜層、例えば防傷性被膜層を蒸着するために用いる被膜工程および工具は、ガラス系物品の他の特性に悪影響を与えずに所望の特性を与えるように調整してもよい。例えば、ガラス系物品（例えば、カバーガラス）の周縁端部およびその周辺における被膜層の形成を防止する被膜工程は、かかる被膜層の縁なし被膜加工により生じるあらゆる有害作用を最小限にし得る。

縁なし被膜の防止は、ガラス系物品の構造一体性にとっては有益になり得るが、かかる縁なし被膜を防止する工程も、ガラス系物品の使用中に裸眼では見えない端部を備えた被膜層を作成し、場合によって有益になり得る。ガラス系物品の使用中に裸眼で見える被膜端部は、美観上望ましくなくユーザーを引き付けることができない可能性がある。本明細書に述べるマスクは、使用中に裸眼では見えない被膜端部も形成しながら、ガラス系物品において、１つ以上の被膜層の縁なし被膜の付与を防止する。

本明細書に述べるマスクは、被膜工程中（例えば、真空蒸着工程中）に、ガラス系物品（例えば、カバーガラス）をマスクして、その前面（ユーザーに面する表面）および端部上の１つ以上の領域が被膜されないよう保護するために用いられてもよい。いくつかの実施形態において、マスクおよび基板は、被膜工程中にガラス系物品を固定してマスクし、ガラス系物品の前方周囲の部分が被膜されないよう保護するために使用されてもよい。いくつかの実施形態において、目に見えない被膜端部の形成を容易にするよう寸法決めされた接触部および庇部を有するマスクは、被膜工程中にガラス系物品の前方周囲の部分が被膜されないよう保護するために、ガラス系物品の上に配置されてもよい。いくつかの実施形態において、庇部は、特定の種類のガラス系物品（例えば、図１６Ａから図１６Ｃを参照して述べた２Ｄカバーグラス、２．５Ｄカバーグラス、および３Ｄカバーグラス）用に調整されてもよい。

図１は、いくつかの実施形態による、１つ以上のカバーガラス１３０を固定しマスクする装置１００を示している。装置１００は、被膜工程中にカバーガラス１３０の周縁部を固定しマスクするために、基板１１０およびマスク１５０を含んでもよい。基板１１０は、カバーガラス１３０を支持するように構成された（寸法および形状に合わせた）プラットフォーム表面１１６を有する１つ以上のプラットフォーム１１４を含む上面１１２を含んでもよい。いくつかの実施形態において、プラットフォーム表面１１６は、カバーガラス１３０の周縁端部１３２と実質的に同じ周囲形状を有してもよい。いくつかの実施形態において、基板１１０は、基板１１０からカバーガラス１３０を容易に除去するために、プラットフォーム１１４に形成された開口１２０を含んでもよい。例えば、開口１２０は、カバーガラス１３０を基板１１０から除去するために、カバーガラス１３０の底面に（例えば、ロボットまたは人間の指によって）外部押力を付与できるようにしてもよい。

図１に示すように、マスク１５０は、１つ以上の開口部１５４を備えたフレーム１５２を含んでもよい。開口部１５４は、庇１５８を備えた周囲１５６を含んでもよい。庇１５８は、後述する庇部３５６および庇部４５６と同一のものであってもよい。開口部１５４は、カバーガラス１３０上の上面１３４に開口部を通じて１つ以上の被膜層の蒸着を可能にする。マスク１５０がカバーガラス１３０の上に配置されているとき、庇１５８はカバーガラス１３０の上面１３４上の第２の環状周縁部（例えば、図２の第２の環状周縁部２１０）にわたって延在している。第２の環状周縁部にわたって延在することにより、庇１５８は、庇１５８の下および被膜層の端部の近隣における不均一な被膜層厚さの形成を容易にして、裸眼では見えない端部を備えた被膜層を形成する。

本明細書で用いる「裸眼では見えない」という用語は、照度が１５００から２０００ルクスの範囲（ルーメン毎平方メートル）にあるという照明条件下で、構造物が視力２０／２０を有する人間には見えないということを意味する。

１つ以上のカバーガラス１３０を中心に組み立てる場合、マスク１５０はカバーガラス１３０を基板１１０に解放可能に固定してもよい。いくつかの実施形態において、基板１１０および／またはマスク１５０は、金属材料、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、またはステンレス鋼で構成されてもよい。いくつかの実施形態において、基板１１０および／またはマスク１５０は、ポリテトラフルオロエチレン（テフロン（登録商標））で被膜された金属材料で構成されてもよい
図２は、いくつかの実施形態によるカバーガラス２００を示している。カバーガラス２００は、周縁端部２０２から延在し内側に配置される第１の環状周縁部２０４を備えた周縁端部２０２を含んでもよい。第１の環状周縁部２０４は、周縁端部２０２から、周縁端部２０２から距離２０８の位置にある第１の内側端部２０６まで延在してもよい。言い換えれば、距離２０８が、カバーガラス２００の周縁端部２０２の周りにある第１の環状周縁部２０４の幅を画定し得る。

いくつかの実施形態において、距離２０８は、０．１ｍｍから１．０ｍｍの範囲またはその部分範囲であってもよい。言い換えれば、距離２０８は、０．１ｍｍ、０．２ｍｍ、０．３ｍｍ、０．４ｍｍ、０．５ｍｍ、０．６ｍｍ、０．７ｍｍ、０．８ｍｍ、０．９ｍｍ、または１．０ｍｍであってもよく、あるいはこれらの値の任意の２つを端点として有する範囲内であってもよい。いくつかの実施形態において、距離２０８は０．２ｍｍから１．０ｍｍの範囲であってもよい。いくつかの実施形態において、距離２０８は０．２ｍｍから０．５ｍｍの範囲であってもよい。

また、カバーガラス２００は、第１の環状周縁部２０４から延在し内側に配置される（すなわち、第１の環状周縁部２０４の内側端部２０６から延在する）、第２の環状周縁部２１０を含んでもよい。第２の環状周縁部２１０は、第１の環状周縁部２０４から、第１の環状周縁部２０４から距離２１４の位置にある第２の内側端部２１２まで延在してもよい。言い換えれば、距離２１４は第２の環状周縁部２１０の幅を画定し得る。

いくつかの実施形態において、距離２１４は、０．５ｍｍから２．０ｍｍの範囲またはその部分範囲であってもよい。言い換えれば、距離２１４は、０．５ｍｍ、０．６ｍｍ、０．７ｍｍ、０．８ｍｍ、０．９ｍｍ、１．０ｍｍ、１．１ｍｍ、１．２ｍｍ、１．３ｍｍ、１．４ｍｍ、１．５ｍｍ、１．６ｍｍ、１．７ｍｍ、１．８ｍｍ、１．９ｍｍ、２．０ｍｍ、２．１ｍｍ、２．２ｍｍ、２．３ｍｍ、２．４ｍｍ、または２．５ｍｍであってもよく、あるいはこれらの値の任意の２つを端点として有する範囲内であってもよい。いくつかの実施形態において、距離２０８と距離２１４の合計は３．０ｍｍ以下であってもよい。

また、カバーガラス２００は、第２の環状周縁部２１０の内側に配置された内側部分２１６を含んでもよい。内側部分２１６は、カバーガラス２００のうち、上に実質的に均一な被膜厚さが蒸着され得る部分であるが、それは、カバーガラス２００のこの部分が、被膜工程中にマスクの開口部（例えば、図１に示す開口部１５４）のすぐ下に位置し得るためである。カバーガラス２００の第２の環状周縁部２１０は、カバーガラス２００のうち、上に不均一な被膜厚さが蒸着され得る部分であるが、それは、カバーガラス２００のこの部分が、マスクの庇部（例えば、図３に示す庇部３５６）のすぐ下に位置し得るためである。また、被膜層の端部は、カバーガラス２００の第２の環状部に位置し得るが、それは、第１の環状周縁部２０４が、接触部（例えば、図３に示す接触部３５４）によってマスクされ、それにより第１の環状周縁部２０４において被膜層の形成を阻害し得るからである。

本出願の目的のために、図２で表示されている部分および内側端部は、一般にカバーガラスの部分を画定するために使用されてもよく、カバーガラスの表面の部分（例えば、カバーガラスの上面、またはユーザーに面する表面）を画定するために使用されてもよい。図２で表示されている部分および内側端部は、本明細書に述べる任意のカバーガラスの部分を画定するために使用されてもよい。距離２０８、２１４は、カバーガラス２００の周縁端部２０２から、内側端部２０６、２１２のそれぞれと交差し周縁端部２０２に平行して伸びる線までを測定した場合の水平距離であってもよい。図１６Ａから図１６Ｃは、カバーガラスの周縁端部から被膜層の端部までの距離「Ｙ」をカバーガラス上で測定する方法の様々な例を示している。距離２０８および距離２１４を同じ方法で測定してもよい。

図３は、いくつかの実施形態による、カバーガラス３３０を固定しマスクする装置３００を示している。カバーガラス３３０は、周縁端部３３２、上面３３４、および底面３３６を含む。また、カバーガラス３３０は、図２に関連して上述した、第１の環状周縁部２０４、第２の環状周縁部２１０、および内側部分２１６と同様に画定される、第１の環状周縁部３４０、第２の環状周縁部３４２、および内側部分３４４を含む。

いくつかの実施形態において、カバーガラス３３０は、被膜層の蒸着中にカバーガラス３３０を支持するように構成された基板３１０に配置されてもよい。基板３１０は、基板１１０の上面１１２およびプラットフォーム１１４と同じまたは類似の、上面３１２およびプラットフォーム３１４を含んでもよい。いくつかの実施形態において、カバーガラス３３０の底面３３６は、カバーガラス３３０が基板３１０に配置された場合に、プラットフォーム３１４のプラットフォーム表面３１６に配置されてもよい。

また図３に示すように、装置３００は、カバーガラス３３０を基板３１０に固定するよう構成され、カバーガラス３３０の環状部をマスクするように構成されたマスク３５０を含んでもよい。被膜蒸着行程中にカバーガラス３３０を解放可能に所定の位置に保持するために、基板３１０およびマスク３５０は、使用中にカバーガラス３３０を中心に組み立て得る。マスク３５０は、フレーム３５２と、接触部３５４と、開口部３６０を画定する端部３５８を含む庇部３５６とを含んでもよい。いくつかの実施形態において、庇部３５６の端部３５８は０．３ｍｍ以下の厚さＴ_Ｅを有してもよい。厚さＴ_Ｅが小さい場合、例えば０．３ｍｍ以下の場合は、被膜層の端部の近傍および／または端部における、モアレ模様（モアレ縞ともいわれる）の形成の防止に寄与し得る。モアレ模様の形成は、被膜層に裸眼で見える可視欠陥をもたらす恐れがある。

マスク３５０がカバーガラス３３０の上に配置されている場合、被膜層は、カバーガラス３３０の上に蒸着されてもよく、この場合、マスクとカバーガラスの間に以下の５つの関係のうち１つ以上が存在する。いくつかの実施形態において、５つの関係すべてが存在してもよい。いくつかの実施形態において、少なくとも４つの関係が存在してもよい。いくつかの実施形態において、少なくとも３つの関係が存在してもよい。いくつかの実施形態において、少なくとも２つの関係が存在してもよい。

特に記載のない限り、後述する寸法Ｔ_Ｅはもとより、寸法Ｇ_Ｅ、寸法Ｄ_Ｅ、および寸法Ｄ_Ｍ、ならびに角θは、マスク３５０が高温下にある場合、例えば被膜層が蒸着行程中に蒸着される間の時間平均温度である場合、値として表される。いくつかの実施形態において、蒸着行程中に被膜層が蒸着されている間の時間平均温度は、１５０℃から２５０℃の範囲であってもよい。いくつかの実施形態において、これらの寸法は、１５０℃から２５０℃の範囲、またはその部分範囲の時間平均温度の値として表されてもよい。言い換えれば、時間平均温度は、１５０℃、１６０℃、１７０℃、１８０℃、１９０℃、２００℃、２１０℃、２２０℃、２３０℃、２４０℃、または２５０℃であってもよく、あるいはこれらの値の任意の２つを端点として有する範囲内であってもよい。いくつかの実施形態において、これらの寸法は、マスクの温度が２５０℃である場合の値として表されてもよい。高温下の寸法の値は、室温での測定値および温度差および熱膨張係数（ＣＴＥ）等のパラメーターの知識に基づいて計算してもよい。

第一に、マスク３５０の接触部３５４が、カバーガラス３３０の第１の環状周縁部３４０の少なくとも一部に接触している。接触部３５４と第１の環状周縁部３４０の接触が、第１の環状周縁部３４０における被膜層の形成を防止する。いくつかの実施形態において、少なくとも接触部３５４の遠位端部３５５は、第１の環状周縁部３４０の内側端部で第１の環状周縁部３４０に接触している。

いくつかの実施形態において、接触部３５４がカバーガラス３３０の上面３３４の第１の環状周縁部３４０全体に接触していてもよい。かかる実施形態において、接触部３５４は、カバーガラス３３０の第１の環状周縁部３４０において、上面３３４の表面プロファイルの形状に対応する形状を含んでもよい。例えば、図３に示すように、接触部３５４は、マスク３５０のフレーム３５２からフレーム３５２からの距離Ｄ_Ｍだけ延在してもよい。距離Ｄ_Ｍは、距離２０８について本明細書で述べた任意の数値と同じであってもよく、あるいは同じ範囲内であってもよい。いくつかの実施形態において、接触部３５４がカバーガラス３３０の第１の環状周縁部３４０全体にわたって延在するように、距離Ｄ_Ｍは、カバーガラス３３０の第１の環状周縁部の幅と同じであってもよい（すなわち、距離２０８に等しい）。

第二に、庇部３５６がカバーガラス３３０の第２の環状周縁部３４２にわたって延在している。いくつかの実施形態において、庇部３５６は、カバーガラス３３０の第２の環状周縁部３４２全体にわたって延在してもよい。かかる実施形態において、庇部３５６の端部３５８は、第２の環状周縁部３４２の内側端部すぐ上に配置されてもよい。庇部３５６は、接触部３５４から、接触部３５４からの距離Ｄ_Ｅだけ延在してもよい。距離Ｄ_Ｅは、距離２１４について本明細書で述べた任意の数値と同じであってもよく、あるいは同じ範囲内であってもよい。いくつかの実施形態において、庇部３５６がカバーガラス３３０の第２の環状周縁部３４２全体にわたって延在するように、Ｄ_Ｅがカバーガラス３３０の第２の環状周縁部３４２の幅と同じであってもよい（すなわち、距離２１４に等しい）。

第三に、開口部３６０がカバーガラス３３０の内側部分３４４の上に配置されている。開口部３６０は、被膜工程中にコーティング粒子が上面３３４の内側部分３４４に蒸着できるようにする。マスク３５０による干渉がない、またはほとんどない状態で開口部３６０を通過したコーティング粒子は、上面３３４の内側部分３４４において全体的に均一な厚さを有する被膜層を形成し得る。しかし、マスク３５０の庇部３５６の近傍を移動するコーティング粒子の経路は、庇部３５６の影響を受ける。庇部３５６は第２の環状周縁部３４２を覆い、庇部３５６の下に蒸着され得るコーティング粒子の量を制御する（これは「シャドーイング効果」といわれることがある）。このため、庇部３５６の下に、被膜層の不均一な厚さ（例えば、徐々に減少する厚さ）を有する部分が蒸着される。カバーガラス３３０の上面３３４に対する庇部３５６の寸法および位置は、上面３３４上で庇部３５６の下に被膜層の所望の不均一な厚さプロファイルを得るために調整されてもよい。

第四に、庇部３５６の上面３５７が、庇部３５６の端部３５８から離れて（かつ図３の右側へ向かって、すなわち開口部３６０から離れて）延在しており、カバーガラス３３０の平面（例えば上面３３４上の平面）に対して測定された場合に正である傾斜（θ）を有している。いくつかの実施形態において、θは３０度以下であってもよい。いくつかの実施形態において、θは、庇部３５６の底面３５９に対して測定してもよい。角θが３０度以下の場合、被膜層の端部の近傍および／または端部において、被膜層に可視欠陥をもたらす恐れがあるモアレ模様（モアレ縞ともいわれる）の形成の防止に寄与する。

第五に、庇部３５６の底面３５９が、カバーガラス３３０の上面３３４の第２の環状周縁部３４２において、少なくとも１５０マイクロメートルである距離Ｇ_Ｅだけ上に配置されている。いくつかの実施形態において、端部３５８にある庇部３５６の底面３５９は、上面３３４の第２の環状周縁部３４２の少なくとも１５０マイクロメートル上に配置されてもよい。かかる実施形態において、端部３５８にある庇部３５６の底面３５９は、カバーガラス３３０の第２の環状周縁部３４２の内側端部の少なくとも１５０マイクロメートル上に配置されてもよい。庇部３５６の底面３５９を上面３３４の少なくとも１５０マイクロメートル上に位置することにより、庇の下の不均一な被膜厚さの形成が容易になり、被膜層における目に見える白色マークの形成を防止できる（図７Ａおよび図７Ｂの白色マーク参照）。

図４は、いくつかの実施形態による、カバーガラス３３０を固定しマスクする装置４００を示している。装置４００は、基板３１０と同じまたは類似の基板４１０を含んでもよい。また、装置４００は、マスク３５０に関して上述したものと同じ寸法および関係をカバーガラス３３０に関して有するフレーム４５２と、弾性接触部４５４と、庇部４５６と、を有するマスク４５０を含んでもよい。接触部３５４と同様に、弾性接触部４５４は、カバーガラス３３０の上面３３４の少なくとも一部と接触するよう構成されてもよい。いくつかの実施形態において、弾性接触部４５４の材料は、上面３３４のうち弾性接触部４５４が接触する部分の形状に適合できるように選択されてもよい。弾性接触部４５４は、全体にまたは部分的に、弾性材料で構成されてもよい。当該弾性材料は、限定するわけではないが、パーフルオロエラストマーまたはポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）であってもよい。

弾性接触部４５４は、マスク４５０とカバーガラス３３０の上面３３４との間において、シールの形成に寄与し得る。いくつかの実施形態において、弾性接触部４５４は、蒸着中に、弾性接触部４５４と上面３３４との間の被膜層の漏れの防止に寄与し得る。いくつかの実施形態において、弾性接触部４５４は、マスク４５０とカバーガラスの上面３３４との間に、蒸着中に弾性接触部４５４と上面３３４との間の被膜層の漏れを防止するシールを形成してもよい。かかる被膜層の漏れは、被膜層の端部において、端部に可視欠陥をもたらす恐れがある、被膜層の蒸着異常を引き起こす可能性がある。また、弾性接触部４５４は、カバーガラス３３０を損傷することなく、マスク４５０とカバーガラス３３０との間にシールを形成するのに必要な機械公差を削減するのに寄与し得る。

カバーガラス３３０とマスク３５０およびマスク４５０の部分との間の関係、ならびに上述した庇部３５６、４５６の寸法により、カバーガラス３３０の第２の環状周縁部３４２において、カバーガラス３３０の上面３３４に不均一な被膜厚さを持つ被膜層を形成できる。いくつかの実施形態において、不均一な被膜厚さが、内側部分３４４から離れてカバーガラス３３０の第１の環状周縁部３４０に向けて移動する際に徐々に減少してもよい。図５および図６は、いくつかの実施形態によるカバーガラス５００上に不均一な厚さの領域を有する例示の被膜層５２０を示している。

カバーガラス５００は、本体部５０１、上面５０２、および周縁端部５０４を含む。カバーガラス５００の上面５０２は、被膜層５２０および被膜層５２０により被膜された中央部５１０を含まない、周縁部５０６を含む。言い換えれば、被膜層５２０は、周縁部５０６ではなく中央部５１０に配置され得る。カバーガラス５００は、２Ｄカバーガラス、２．５Ｄカバーガラス、または３Ｄカバーガラスであってもよい。

周縁部５０６は、上面５０２に、周縁端部５０４の少なくとも一部と、周縁端部５０４からの距離５０８だけ周縁端部５０４から延在する領域とを含む。いくつかの実施形態において、周縁部５０６は、カバーガラス５００の周縁端部５０４全体と、上面５０２の周縁端部５０４からの距離５０８だけ周縁端部５０４から延在する領域とを含んでもよい。言い換えれば、周縁部５０６は、カバーガラス５００の上面５０２上の境界の形状である区域であってもよい。

距離５０８が、カバーガラス５００の周縁端部５０４の周りの周縁領域５０６の幅を画定してもよい。いくつかの実施形態において、距離５０８は、０．１ｍｍから１．０ｍｍの範囲またはその部分範囲であってもよい。言い換えれば、距離５０８は、０．１ｍｍ、０．２ｍｍ、０．３ｍｍ、０．４ｍｍ、０．５ｍｍ、０．６ｍｍ、０．７ｍｍ、０．８ｍｍ、０．９ｍｍ、または１．０ｍｍであってもよく、あるいはこれらの値の任意の２つを端点として有する範囲内であってもよい。いくつかの実施形態において、距離５０８は０．２ｍｍから１．０ｍｍの範囲であってもよい。いくつかの実施形態において、距離５０８は０．２ｍｍから０．５ｍｍの範囲であってもよい。

いくつかの実施形態において、距離５０８は、カバーガラス５００の第１の環状周縁部の幅と同じ（すなわち距離２０８と同じ）であってもよい。かかる実施形態において、被膜層５２０はカバーガラス５００の第２の環状周縁部全体を覆ってもよい。言い換えれば、被膜層５２０の周縁端部５２２は、カバーガラス５００の第１の環状周縁部の第１の内側端部に位置してもよい。いくつかの実施形態において、距離５０８は距離２０８より大きくてもよい。かかる実施形態において、被膜層５２０は、カバーガラス５００の第２の環状周縁部の、第２の環状周縁部全体より小さい部分を含む、部分を覆ってもよい。かかる実施形態において、被膜層５２０の周縁端部５２２は、カバーガラス５００の第２の環状周縁部内に位置してもよい。庇部３５６、４５６の寸法は、カバーガラスの周縁端部５０４から所望の距離５０８に位置する周縁端部５２２を備える被膜層５２０を提供するように調整されてもよい。

例えば図６に示すように、被膜層５２０は、周縁端部５２２の近傍の被膜層５２０の周囲５２６において、不均一な被膜厚さの領域５２４を含んでもよい。いくつかの実施形態において、不均一な被膜厚さの領域５２４は、中央部５１０から周縁端部５２２（および周縁部５０６）に向けて移動する際に厚さが徐々に減少するコーティングプロファイルを含んでもよい。本明細書で用いる「徐々に」という用語は、不均一な被膜厚さの領域のうち、その領域の全幅の少なくとも３３％に等しい幅を有する任意の部分について測定した場合の、不均一な被膜厚さの領域全幅の少なくとも３３％に等しい距離にわたる、平均傾斜３以下を有する厚さの変化を意味する。言い換えれば、不均一な被膜厚さの領域の全幅の少なくとも３３％に等しい幅を有する、コーティングプロファイルの任意の部分については、その部分の始めとその部分の終わりにおけるコーティングプロファイルの厚さが、その部分の幅の３倍を超える違いはない。

不均一な被膜厚さの領域５２４は、周縁端部５０４からＸｍｍの位置での最大厚さ５２５、および周縁端部５２２に位置し周縁端部５０４からＹｍｍでの最小厚さを含んでもよい。最大厚さ５２５は、被膜層５２０の均一の厚さを有する部分の厚さと同じであってもよい。いくつかの実施形態において、Ｘは０．５ｍｍから３．０ｍｍの範囲またはその部分範囲であってもよい。言い換えれば、Ｘは、０．５ｍｍ、０．６ｍｍ、０．７ｍｍ、０．８ｍｍ、０．９ｍｍ、１．０ｍｍ、１．１ｍｍ、１．２ｍｍ、１．３ｍｍ、１．４ｍｍ、１．５ｍｍ、１．６ｍｍ、１．７ｍｍ、１．８ｍｍ、１．９ｍｍ、２．０ｍｍ、２．１ｍｍ、２．２ｍｍ、２．３ｍｍ、２．４ｍｍ、２．５ｍｍ、２．６ｍｍ、２．７ｍｍ、２．８ｍｍ、２．９ｍｍ、３．０ｍｍ、３．１ｍｍ、３．２ｍｍ、３．３ｍｍ、３．４ｍｍ、または３．５ｍｍであってもよく、あるいはこれらの値の任意の２つを端点として有する範囲内であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｘは、距離２０８と距離２１４の合計（すなわち、第１の環状周縁部の幅とカバーガラス５００の第２の環状周縁部の幅の合計）に等しくてもよい。

いくつかの実施形態において、Ｙは、０．１ｍｍから１．０ｍｍの範囲、またはその部分範囲であってもよい。言い換えれば、Ｙは、０．１ｍｍ、０．２ｍｍ、０．３ｍｍ、０．４ｍｍ、０．５ｍｍ、０．６ｍｍ、０．７ｍｍ、０．８ｍｍ、０．９ｍｍ、または１．０ｍｍであってもよく、あるいはこれらの値の任意の２つを端点として有する範囲内であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｙは距離２０８（すなわち、カバーガラス５００の第１の環状周縁部の幅）に等しくてもよい。いくつかの実施形態において、Ｙは距離２０８より大きくてもよい。距離Ｙは、図５では距離５０８という。

庇部３５６、４５６の寸法Ｇ_Ｅおよび寸法Ｄ_Ｅは、カバーガラス５００の第２の環状周縁部に蒸着され得るコーティング粒子の量を制御することによって距離Ｘおよび距離Ｙを制御するために調整してもよい。例えば、寸法Ｇ_Ｅおよび寸法Ｄ_Ｅは、被膜層の周縁端部５２２がカバーガラス５００の第２の環状周縁部に確実に位置するように調整してもよい。かかる実施形態において、上記によって、周縁端部５２２がマスク３５０の接触部３５４またはマスク４５０の接触部４５４から確実に離間する。周縁端部５２２が接触部３５４または接触部４５４から離間している場合、上面５０２と接触部３５４または接触部４５４との間の被膜漏れの可能性は解消され得る。さらに、周縁端部５２２が接触部３５４または接触部４５４から離間している場合、均一な周縁端部５２２（すなわち、上面５０２に対して約９０度（例えば８５度から９５度まで）の角度で形成された端部）を形成する可能性は解消され得る。

いくつかの実施形態において、カバーガラス５００上の不均一な被膜厚さの領域５２４は、カバーガラスの上面では裸眼で見えない可能性がある。いくつかの実施形態において、不均一な被膜厚さの領域５２４は、不均一な被膜厚さの領域５２４内のコーティングプロファイルの欠陥により生じる白色マークがない場合がある（白色マークのない図７Ｃ参照、また白色マークがある図７Ａおよび図７Ｂと比較されたい）。いくつかの実施形態において、不均一な被膜厚さの領域５２４は、中央部５１０から周縁部５０６に向けて移動する際に厚さが減少し、０次および１次の不連続性のない表面プロファイルを有してもよい。

０次および１次の不連続性は、曲面または表面の平滑度の尺度である。０次の不連続性とは、２つの曲面／表面区分がその境界線で一致しないことを意味する。言い換えれば、０次の不連続性とは、第１の曲面／表面および第２の曲面／表面が連続していないがその境界線で分離している（例えば垂直段差により）ことを意味する。１次の不連続性とは、２つの曲面／表面区分の第１のパラメトリックな導函数がその境界で比例しないことを意味する。言い換えれば、１次の不連続性とは、第１の曲面／表面と第２の曲面／表面との交点で、第１の曲面／表面と第２の曲面／表面の第１の導函数が連続していないことを意味する。０次および１次の不連続性は、カバーガラス上で、裸眼で見え得る。

いくつかの実施形態において、カバーガラス５００は、物品５３０の部分、例えば、物品５３０のディスプレイ部品を保護するために、物品５３０上に含まれてもよい（説明する目的で、破線で図５に示す）。物品５３０は、限定するわけではないが、携帯電話、タブレット型コンピューター、およびウェアラブル端末（例えば、時計）であってもよい。

いくつかの実施形態において、被膜層５２０の均一の厚さを有する部分は、１．０マイクロメートルから３．０マイクロメートルの範囲の厚さＴ_Ｕを有してもよい。いくつかの実施形態において、厚さＴ_Ｕは、約２．０マイクロメートル（例えば、１．５マイクロメートルから２．５マイクロメートル）であってもよい。いくつかの実施形態において、被膜層５２０は防傷性被膜層であってもよい。防傷性被膜層に使用される材料の例としては、無機炭化物、無機窒化物、無機酸化物、ダイヤモンド様材料、またはこれらの組み合わせが挙げられる。

いくつかの実施形態において、防傷性被膜層は、窒化アルミニウム（ＡｌＯＮ）および二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）の多層構造体を含んでもよい。いくつかの実施形態において、防傷性被膜層は、金属酸化物層、金属窒化物層、金属炭化物層、金属ホウ化物層、またはダイヤモンドライクカーボン層を含んでもよい。かかる酸化物層、窒化物層、炭化物層、またはホウ化物層の金属の例としては、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、チタン、バナジウム、クロム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、スズ、ハフニウム、タンタル、およびタングステンが挙げられる。いくつかの実施形態において、被膜層は無機材料を含んでもよい。無機層の非限定的な例としては、アルミニウム酸化物層およびジルコニウム酸化物層が挙げられる。

いくつかの実施形態において、防傷性被膜層は、参照によりその全体が本明細書に援用される、２０１６年５月３日発行の米国特許第９３２８０１６号に記載の防傷性被膜層を含んでもよい。いくつかの実施形態において、防傷性被膜層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物、アルミニウム含有窒化物（例えばＡｌＮおよびＡｌ_ｘＳｉ_ｙＮ）、アルミニウム含有酸窒化物（例えばＡｌＯ_ｘＮ_ｙおよびＳｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ）、アルミニウム含有酸化物、またはこれらの組み合わせを含んでもよい。いくつかの実施形態において、防傷性被膜層は、ＳｉＯ_２、ＧｅＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３等の透明誘電材料、および他の類似の材料、ならびにこれらの組み合わせを含んでもよい。いくつかの実施形態において、防傷性被膜層は、参照によりその全体が本明細書に援用される、２０１５年８月１８日発行の米国特許第９１１０２３０号に記載の防傷性被膜層を含んでもよい。いくつかの実施形態において、防傷性被膜層は、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ_ｘＣ_ｙ、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＣ_ｚ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_ｘＮ_ｙ、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、およびＳｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙのうちの１つ以上を含んでもよい。いくつかの実施形態において、防傷性被膜層は、どちらも参照によりその全体が本明細書に援用される２０１６年６月７日発行の米国特許第９３５９２６１号または２０１６年５月１０日発行の米国特許第９３３５４４４号に記載の防傷性被膜層を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、被膜層５２０は反射防止被膜層であってもよい。反射防止被膜層に使用するのに好適な例示の材料としては、ＳｉＯ２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ_２、ＢａＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｎＯ_２、ＨｆＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ＤｙＦ_３、ＹｂＦ_３、ＹＦ_３、ＣｅＦ_３、ポリマー類、フルオロポリマー類、プラズマ重合ポリマー類、シロキサンポリマー類、シルセスキオキサン類、ポリイミド類、フッ素化ポリイミド類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタラート、アクリル系ポリマー類、ウレタンポリマー類、ポリメタクリル酸メチル、および防傷性層に使用するのに好適と上述した他の材料が挙げられる。反射防止被膜層は、異なる材料の亜層を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、反射防止被膜層は、六方充填されたナノ粒子層、限定するものではないが例えば、参照によりその全体が本明細書に援用される、２０１６年３月１日発行の米国特許第９２７２９４７号に記載の六方充填されたナノ粒子層を含んでもよい。いくつかの実施形態において、反射防止被膜層は、Ｓｉ含有ナノポーラス被膜層、限定するものではないが例えば、参照によりその全体が本明細書に援用される２０１３年７月１８日発行の国際公開第２０１３／１０６６２９号に記載のＳｉ含有ナノポーラス被膜層を含んでもよい。いくつかの実施形態において、反射防止被膜は、多層被膜、限定するものではないが例えば、いずれも参照によりその全体が本明細書に援用される、２０１３年７月１８日発行の国際公開第２０１３／１０６６３８号、２０１３年６月６日発行の国際公開第２０１３／０８２４８８号、および２０１６年５月１０日発行の米国特許第９３３５４４４号に記載の多層被膜を含んでもよい。

いくつかの実施形態において、被膜層５２０は易洗浄被膜層であってもよい。いくつかの実施形態において、易洗浄被膜層は、フルオロアルキルシラン類、ペルフルオロポリエーテルアルコキシシラン類、ペルフルオロアルキルアルコキシシラン類、フルオロアルキルシラン−（非フルオロアルキルシラン）コポリマー類、およびフルオロアルキルシラン類の混合物からなる群から選択される材料を含んでもよい。いくつかの実施形態において、易洗浄被膜層は、ペルフルオロ化基、例えば、式（ＲＦ）_ｙＳｉＸ_４−ｙのペルフルオロアルキルシランであり、式中ＲＦは直鎖のＣ_６−Ｃ_３０のペルフルオロアルキル基であり、ＸはＣｌ、アセトキシ、−ＯＣＨ_３、または−ＯＣＨ_２ＣＨ_３であり、ｙ＝２または３であるペルフルオロアルキルシランを含有する、選択された種類のシランである材料を１つ以上含んでもよい。上記ペルフルオロアルキルシランは、Ｄｏｗ−Ｃｏｒｎｉｎｇ社（例えばフルオロカーボン２６０４および２６３４）、３Ｍ社（例えばＥＣＣ−１０００およびＥＣＣ−４０００）を含む多くの製造元、ならびにＤａｉｋｉｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社、Ｃｅｋｏ社（韓国）、Ｃｏｔｅｃ社（ＤＵＲＡＬＯＮ ＵｌｔｒａＴｅｃ材料）およびＥｖｏｎｉｋ社等の他のフルオロカーボン供給元から市販品を入手できる。いくつかの実施形態において、易洗浄被膜層は、参照によりその全体が本明細書に援用される、２０１３年６月６日発行の国際公開第２０１３／０８２４７７号に記載の易洗浄被膜層を含んでもよい。いくつかの実施形態において、カバーガラス５００は複数の被膜層５２０を含んでもよい。

図７Ａから図７Ｃは、異なる距離Ｇ_Ｅに配置された庇部がカバーガラス上の被膜層の視認性に対して有する効果の説明図である。図７Ａは、被膜のないカバーガラス７００の上面の５０から６０マイクロメートル上（すなわち、５０から６０マイクロメートルのＧ_Ｅ）に配置された庇部を有するマスクを用いて蒸着された被膜層を有するカバーガラス７００を示している。図７Ｂは、被膜のないカバーガラス７１０の上面の１００から１２０マイクロメートル上に配置された庇部を有するマスクを用いて蒸着された被膜層を有するカバーガラス７１０を示している。図７Ｃは、被膜のないカバーガラス７２０の上面の１５０から１８０マイクロメートル上に配置された庇部を有するマスクを用いて蒸着された被膜層を有するカバーガラス７２０を示している。

カバーガラス７００、カバーガラス７１０、およびカバーガラス７２０のそれぞれは、同じ被膜層材料を用いてメタモードスパッタ法により被膜された。スパッタリング工程にはＡｌ／Ｓｉターゲットを用いた。スパッタリングチャンバーの圧力は、１から０．０５パスカル（Ｐａ）であった。スパッタリング工程の中周波電力は、８から９キロワット（ｋｗ）であった。また、標的域上のアルゴン流は、１２０から１８０標準立方センチメートル毎分（ｓｃｃｍ）であった。カバーガラス７００、カバーガラス７１０、およびカバーガラス７２０のそれぞれは、ガラスから作成した、端部厚さ０．５ｍｍの庇部を用いて被膜した。

図７Ａおよび図７Ｂに示すように、５０から６０マイクロメートルのＧ_Ｅおよび１００から１２０マイクロメートルのＧ_Ｅは、結果として、カバーガラス７００およびカバーガラス７１０に蒸着された被膜層の端部に沿って白色マークを形成した。この白色マークは、カバーガラス７００および７１０の被膜加工中に、使用された庇部の端部のすぐ下に形成された。対照的に、図７Ｃに示すように、１５０から１８０マイクロメートルのＧ_Ｅでは、結果的にこの白色マークのない被膜層を得た。

図７Ａから図７Ｃに示す写真は、１５００ルクスの照度を有する検査ブース内で、Ｎｉｋｏｎ Ｄ４０デジタルカメラを用いて撮影された。通常の室内の周囲照明条件下でカバーガラス７００およびカバーガラス７１０上に白色マークが存在することは、美観上望ましくなく、カバーガラス７００およびカバーガラス７１０を含んだ電子機器のユーザーにとって魅力的ではない恐れがある。

図８Ａおよび図８Ｂは、カバーガラスに直角に形成された端部を有する被膜層（すなわち均一な厚さ）（図８Ａ）と、端部と不均一な厚さの領域とを端部に隣接した被膜層の周囲に有する被膜層（図８Ｂ）との比較を示している。図８Ａに示す被膜層は、図１７に示すものと類似の接触マスクを用いて形成されてもよい。図８Ｂに示す被膜層は、本明細書に述べる庇部を備えたマスクを用いて形成されてもよい。図８Ｂに示すように、被膜層における、本明細書に述べる庇部を備えたマスクを用いて形成された不均一な被膜厚さは、顕微鏡下で１００倍の倍率では目に見えない。

図９は、いくつかの実施形態による被膜層のコーティングプロファイルを示している。図９にプロファイルした被膜層は、４．０ｍｍのＤ_Ｅおよび０．３ｍｍのＧ_Ｅを有する庇部を用いてカバーガラスに蒸着した。被膜層のプロファイルの測定を容易にするために、４．０ｍｍのＤ_Ｅを用いて被膜層全体がカバーガラスの平坦な表面に確実に蒸着されるようにした。

図９は、カバーガラスの周縁端部からのｍｍ単位の距離（Ｘ軸）に対するマイクロメートル単位での被膜厚さ（Ｙ軸）のプロット図である。図９において、距離４．０ｍｍでの庇部の端部を示しており、カバーガラスのうち庇部の下の部分はグレーの印影で示す。図９に示すように、被膜層の厚さは、庇部の端部の内側約０．２ｍｍから約０．３ｍｍまで著しく減少し始める。これは、庇部がその下方（すなわちＧ_ＥおよびＤ_Ｅで画定される空間）で蒸着され得るコーティング粒子の量を制御しているためである。また、図９は、被膜厚さのわずかな減少が、その区域に蒸着しているコーティング粒子に対する庇部の影響により、庇部の端部の外側約０．３ｍｍから０．４ｍｍで始まっていることを示している。庇部の下方の厚さは、庇部の端部から約０．８ｍｍの位置で約０．１マイクロメートルの最小値に達するまで、徐々に減少する。図９に示すコーティングプロファイルは、２．５Ｄカバーガラスの湾曲した端部上では裸眼では見えず、白色マスクを含まない（図７Ｃ参照）。

いくつかの実施形態において、カバーガラスの異なる辺に沿った庇部（例えば、庇部３５６）の寸法Ｄ_ＥおよびＧ_Ｅは、カバーガラス（例えば、カバーガラス５００）の異なる辺上で距離Ｘおよび／または距離Ｙを制御するために調整されてもよい。いくつかの実施形態において、カバーガラスの異なる辺に沿った寸法Ｄ_Ｅは、距離Ｘおよび／または距離Ｙがカバーガラスの周囲全体に沿って同じになるように調整されてもよい。いくつかの実施形態において、カバーガラスの異なる辺に沿った寸法Ｄ_Ｅは、距離Ｘおよび／または距離Ｙがカバーガラスの異なる辺に沿って異なるように調整されてもよい。いくつかの実施形態において、カバーガラスの異なる辺に沿った寸法Ｇ_Ｅは、距離Ｘおよび／または距離Ｙがカバーガラスの周囲全体に沿って同じになるように調整されてもよい。いくつかの実施形態において、カバーガラスの異なる辺に沿った寸法Ｇ_Ｅは、距離Ｘおよび／または距離Ｙがカバーガラスの異なる辺に沿って異なるように調整されてもよい。

図１０Ａおよび図１０Ｂに示すように、カバーガラス１０００の長辺１０１０（第１の方向１０１２に測定した場合の長さを有する）および短辺１０２０（第１の方向１０１２に対して垂直な第２の方向１０２２に測定した場合の長さを有する）に沿った寸法Ｄ_Ｅは、温度により変わり得る。Ｄ_Ｅは、マスクを作成するために用いた材料の線熱膨張により変わり得る。図１０Ａおよび図１０Ｂでは、長辺１０１０に沿ったＤ_Ｅを１０３２ａまたは１０３２ｂと表している。図１０Ａおよび図１０Ｂでは、短辺１０２０に沿ったＤ_Ｅを１０３４ａまたは１０３４ｂと表している。

図１０Ａは、被膜工程中に高温下で（例えば、２００℃超）、カバーガラス１０００の周囲にわたって延在する庇１０３０を示している。図１０Ｂは、室温でカバーガラス１０００の周囲にわたって延在する庇１０３０を示している。図１０Ｂに示すように、庇１０３０は、カバーガラス１０００の周囲の上に長辺１０１０に沿って距離１０３２ｂだけ延在してもよく、カバーガラス１０００の周囲の上に短辺１０２０に沿って距離１０３４ｂだけ延在してもよい。室温では、距離１０３２ｂと距離１０３４ｂとは同じであってもよい。

しかし、高温下では、庇１０３０は、カバーガラス１０００の周囲の上に長辺１０１０に沿って距離１０３２ａだけ延在してもよく、カバーガラス１０００の周囲の上に短辺１０２０に沿って距離１０３４ａだけ延在してもよい。いくつかの実施形態において、庇１０３０の線熱膨張によって、距離１０３２ａが距離１０３２ｂより大きくてもよい。いくつかの実施形態において、庇１０３０の熱膨張によって、距離１０３４ａが距離１０３４ｂより大きくてもよい。いくつかの実施形態において、庇１０３０が矩形形状である結果生じる第１の方向１０１２および第２の方向１０２２における庇の熱膨張の度合いの違いによって、距離１０３２ｂと距離１０３２ａとの差は、距離１０３４ｂと距離１０３４ａとの差より大きくてもよい。

いくつかの実施形態において、短辺１０２０に沿ったカバーガラスの周縁端部よりカバーガラス１０００の周縁端部から長辺１０１０に沿ってさらに離れて位置する端部を有する被膜層を蒸着することが望ましい（すなわち、長辺１０１０に沿った距離Ｙが短辺１０２０に沿った距離より大きい）。いくつかの実施形態において、上記は、カバーガラス１０００の長辺１０１０に沿ったＤ_Ｅ以下である、カバーガラス１０００の短辺１０２０に沿ったＤ_Ｅを有する庇を用いて達成されてもよい（例えば、１０３２ｂが１０３４ｂに等しい、図１０Ｂに示す庇の寸法）。被膜加工中に高温で庇１０３０が線熱膨張すると、かかる被膜層が蒸着される。かかる実施形態において、室温で、庇１０３０は、カバーガラス１０００の長辺１０１０の第２の環状周縁部にわたってに第１の距離だけ延在してもよく、カバーガラス１０００の短辺１０２０の第２の環状周縁部にわたって第１の距離以下である第２の距離だけ延在してもよい。

いくつかの実施形態において、カバーガラス１０００の周縁端部からカバーガラス１０００の周囲全体に沿って同じ距離に位置する（すなわち、距離Ｙがカバーガラス１０００の周囲全体に沿って同じ）端部を有する被膜層を蒸着することが望ましい。いくつかの実施形態において、熱膨張を補償するために、室温で、カバーガラス１０００の長辺１０１０に沿ったＤ_Ｅより大きい、カバーガラス１０００の短辺１０２０に沿ったＤ_Ｅを有する庇を使用して上記を達成してもよい（例えば、図１０Ａに示した庇の相対寸法と逆）。かかる実施形態において、室温で、庇１０３０は、カバーガラス１０００の長辺１０１０の第２の環状周縁部にわたって第１の距離だけ延在してもよく、カバーガラス１０００の短辺１０２０の第２の環状周縁部にわたって第１の距離より大きい第２の距離だけ延在してもよい（すなわち、第１の距離が第２の距離より小さい）。

図１１は、いくつかの実施形態によるマスク１１００の底面図を示す。マスク１１００は、フレーム１１１０と、カバーガラスの第１の環状周縁部に接触するよう構成された接触部１１１２とを含む。接触部１１１２は、図３および図４に関連して上述した接触部３５４、４５４と同じまたは類似していてもよい。また、マスク１１００は、カバーガラスの第２の環状周縁部にわたって延在するよう構成された庇部１１１４を含む。庇部１１１４は、開口部１１２０を画定する端部１１１６を含んでおり、図３および図４に関連して上述した庇部３５６、４５６と同じまたは類似していてもよい。例えば、端部１１１６は、０．３ｍｍ以下の厚さを有してもよく、端部１１１６における庇部１１１４の底面は、カバーガラスの第２の環状周縁部の内側端部の少なくとも１５０マイクロメートル上に位置するよう構成されていてもよく、庇部１１１４の上面は、庇部１１１４の底面に対して測定した場合、３０度以下の傾斜を有してもよい。

庇部１１１４は、第１の方向１１３２に測定した長さを有する２つの長辺１１３０と、上記第１の方向１１３２に対して垂直な第２の方向１１４２に測定した長さを有する２つの短辺１１４０とを含んでもよい。庇部１１１４の長辺１１３０は接触部１１１２から第１の距離１１３４だけ延在しており、庇部１１１４の短辺１１４０は接触部１１１２から第２の距離１１４４だけ延在している。いくつかの実施形態において、室温で、第１の距離１１３４は第２の距離１１４４と異なっていてもよい。例えば、マスク１１００の熱膨張を補償し、カバーガラスの周囲全体に沿ったカバーガラスの周縁端部から同じ距離に位置する周縁端部を有する被膜層を作成するために、第１の距離１１３４は第２の距離１１４４より小さくてもよい。言い換えれば、カバーガラスの周囲全体に沿って距離Ｙが同じ被膜層である。

いくつかの実施形態において、マスク１１００の熱膨張を補償し、カバーガラスの周囲全体に沿ったカバーガラスの周縁端部から同じ距離に位置する周縁端部を有する被膜層を作成するために、第１の距離１１３４は、第２の距離１１４４よりも１％、５％、１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、もしくは１００％、またはこれらの値の任意の２つを端点として有する範囲内で、小さい距離であってもよい。

いくつかの実施形態において、第１の距離１１３４は、第２の距離１１４４と同じであってもよい。かかる実施形態において、マスク１１００は、カバーガラスの短辺に沿ったカバーガラスの周縁よりも、カバーガラスの長辺に沿ったカバーガラスの周縁からさらに離れて位置する周縁端部を有する被膜層を蒸着するために用いてもよい。言い換えれば、距離Ｙがカバーガラスの短辺よりもカバーガラスの長辺に沿ってより大きい被膜層である。いくつかの実施形態において、第１の距離１１３４および第２の距離１１４４は、カバーガラスの短辺に沿ったカバーガラスの周縁端部よりも、カバーガラスの長辺に沿ったカバーガラスの周縁端部の近くに位置する周縁端部を有する被膜層を蒸着するために調整されてもよい。言い換えれば、距離Ｙがカバーガラスの短辺よりもカバーガラスの長辺に沿ってより小さい被膜層である。

いくつかの実施形態において、マスク１１００の開口部１１２０は、端部１１１６に画定される矩形状であってもよい。いくつかの実施形態において、開口部１１２０は、限定するものではないが例えば、正方形または円形等の異なる形状を有してもよい。実施形態は、図１１に示す角部１１１８のような角部を有する形状を含み、この角部は直角に形成されてもよく（すなわち、長辺と短辺が一体となり９０度の角度をなす）、あるいは、角部は所望の曲率半径を有するように形成されてもよい（例えば、曲率半径が被膜さされるカバーガラスの曲率半径に一致する）。

いくつかの実施形態において、開口部の角部の曲率半径は、被膜されるカバーガラスの角部の曲率半径と異なっていてもよい。かかる実施形態において、カバーガラスの角部周辺のマスク距離は、カバーガラスの辺に沿ったマスク距離より大きくてもよい。例えば、図１２に示すように、庇１２１０は、カバーガラス１２００の辺１２１２にわたって距離１２１４だけ延在してもよく、カバーガラス１２００の角部１２１６にわたって第１の距離１２１４よりも大きい第２の距離１２１８だけ延在してもよい。

庇１２１０を用いることにより、カバーガラスの辺（例えば、長辺および短辺）に沿ったカバーガラスの周縁端部よりも、カバーガラスの角部周辺のカバーガラスの周縁端部からさらに離れて位置する周縁端部を有する被膜層が得られる可能性がある。言い換えれば、距離Ｙは、カバーガラスの辺沿いよりカバーガラスの角部周辺で大きくてもよい。かかる被膜層は、電子機器が損傷したら多くの場合は（例えば、ユーザーが機器を落とす等の大きな衝撃から）、カバーガラスの角部周辺でカバーガラスが破損（ひびまたは完全な破壊）を生じやすいため、望ましい。したがって、カバーガラスの角部からさらに離れている被膜層は、被膜層で被膜されるカバーガラスに最大限の区域を確保しながら、かかる被膜層の縁なし被膜加工から生じるあらゆる有害作用を最小限にするのに有益となり得る。

いくつかの実施形態において、第２の距離１２１８は、第１の距離よりも１％、５％、１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、もしくは１００％、またはこれらの値の任意の２つを端点として有する範囲で、大きい距離であってもよい。

マスク自体の線熱膨張の補償に加えて、マスクの接触部の寸法（特にＤ_Ｍ）は、通常のカバーガラス材料と当該マスクの間の材料の熱膨張係数の不一致を補償するために調整されてもよい。いくつかの実施形態において、接触部のＤ_Ｍは、室温では、マスクの材料が熱膨張する際のカバーガラスの損傷を防ぐために調整されてもよい。

図１３Ａから図１３Ｃは、いくつかの実施形態による、庇部の底面の様々な形状を示している。いくつかの実施形態において、庇部の底面の形状は、カバーガラスの端部形状（例えば２Ｄカバーガラス、２．５Ｄカバーガラス、または３Ｄカバーガラス）に合わせて調整されてもよい。いくつかの実施形態において、庇部の底面の形状は、被膜の周縁端部の周辺にどのタイプのコーティングプロファイルが望ましいかにより調整されてもよい。

図１３Ａは、端部１３０２および平坦な底面１３０４を有する庇部１３００を示している。図１３Ｂは、端部１３１２および段状の底面１３１４を有する庇部１３１０を示している。図１３Ｃは、端部１３２２および斜めの底面１３２４を有する庇部１３２０を示している。

図１４は、いくつかの実施形態による、カバーガラス１４３０を固定しマスクする装置１４００を示している。装置１４００は、基板１４１０を含んでもよい。また、装置１４００は、例えば、マスク３５０およびカバーガラス３３０に関して上述したものと同じ寸法および関係をカバーガラス１４３０に関して有する、フレームと、接触部１４５４と、庇部１４５６とを有するマスク１４５０を含んでもよい。いくつかの実施形態において、接触部１４５４は、弾性接触部４５４と同じまたは類似の弾性接触部であってもよい。

いくつかの実施形態において、装置１４００の基板１４１０は、カバーガラス１４３０の底面１４３６と接触するよう構成されたガスケット１４１２を含んでもよい。ガスケット１４１２は、全体にまたは部分的に、弾性接触部４５４の弾性材料と同じまたは類似の弾性材料で構成されてもよい。ガスケット１４１２は、接触部１４５４とカバーガラス１４３０の上面１４３４との間の確実な接触に寄与し得、したがって、上面１４３４と接触部１４５４との間にシールを形成し得る。動作中、基板１４１０およびマスク１４５０がカバーガラス１４３０を中心に組み立てられる場合、ガスケット１４１２はカバーガラス１４３０の底面１４３６を押す。ガスケット１４１２が底面１４３６を押すことで、カバーガラス１４３０の上面１４３４を接触部１４５４に接触させる。

接触部１４５４と上面１４３４との間にシールを形成することによって、ガスケット１４１２は、蒸着中に接触部１４５４と上面１４３４との間の被膜層の漏れを防止するために寄与し得る。被膜層の漏れは、被膜層の端部において被膜層の異常な蒸着を引き起こし、したがって端部において可視欠陥を生じる恐れがある。また、ガスケット１４１２は、その適合する性質により、接触部１４５４と上面１４３４との間のシールの形成に必要な機械公差を低減するために寄与し得る。

図１５は、いくつかの実施形態による、カバーガラス１５３０を固定しマスクする装置１５００を示している。装置１５００は基板１５１０を含んでもよい。また、装置１５００は、マスク３５０、４５０と同じまたは類似のマスク１５５０を含んでもよい。いくつかの実施形態において、基板１５１０は、カバーガラス１５３０の底面１５３６に接触するよう構成されたバネ１５１４を含むバネ板１５１２を含んでもよい。ガスケット１４１２と同様に、バネ板１５１２はマスク１５５０の接触部とカバーガラス１５３０の上面１５３４との間の確実な接触に寄与し得、したがって上面１５３４と当該接触部との間にシールを形成し得る。

動作中、基板１５１０およびマスク１５５０がカバーガラス１５３０を中心に組み立てられる場合、バネ１５１４はカバーガラス１５３０の底面１５３６を押す。バネ１５１４が底面１５３６を押すことで、カバーガラス１５３０の上面１５３４をマスク１５５０の接触部に接触させる。いくつかの実施形態において、バネ１５１４の上面は、カバーガラス１５３０の底面１５３６の損傷（例えば、引っ掻き）を防ぐために、ポリマー材料、例えば「テフロン」で被膜されてもよい。

マスク１５５０の接触部と上面１５３４との間にシールを形成することによって、バネ板１５１２は蒸着中接触部と上面１５３４との間の被膜層材料の漏れを防止するために寄与し得る。被膜層材料の漏れは、被膜層の端部において被膜層材料の異常な蒸着を引き起こし、したがって端部において可視欠陥を生じる恐れがある。バネ板１５１２は、その適合する性質により、マスク１５５０の接触部と上面１５３４との間のシールの形成に必要な機械公差を低減するために寄与し得る。

図１６Ａから図１６Ｃは、本明細書に述べる被膜工程を用いて被膜加工され得る、様々なカバーガラス端部の形状を示している。本明細書で用いる「２Ｄカバーガラス」とは、カバーガラスの周縁端部に隣接する前面および／または後面上に、面取り形状の周縁端部を有するカバーガラスを含む。前面および／または後面の面取り形状は、例えば、機械研磨を含む仕上加工方法により形成されてもよい。２Ｄカバーガラスは、カバーガラスの前面および後面に同じまたは異なる面取り形状を有してもよい。本明細書で用いる「２．５Ｄカバーガラス」とは、その前側に湾曲した表面を備えた周縁端部を有するカバーガラスを意味する。湾曲した表面は、例えば機械研磨法で形成されてもよい。２．５Ｄカバーガラスの前側上の湾曲した表面は、２Ｄカバーガラスよりも触るとなめらかである。本明細書で用いる「３Ｄカバーガラス」とは、非平面形状を形成するために折り曲げた周縁端部を有するカバーガラスを意味する。折り曲げた周縁端部は、例えば、熱間加工および／または冷間加工で形成されてもよい。３Ｄカバーガラスは、カバーガラスの周縁端部に隣接する、湾曲した底面および湾曲した上面を有する。

図１６Ａは、２Ｄカバーガラス１６００の周縁端部１６０２を示している。一般に、２Ｄカバーガラスの周縁端部１６０２は、カバーガラスの周縁端部１６０２に隣接する前面および後面に面取り形状を作成するために、機械研磨法により仕上げ加工される。いくつかの実施形態において、カバーガラス１６００の前面および後面の面取り形状は、同じであってもよい。図１６Ａに示すように、カバーガラス１６００が被膜層１６０４ａ、１６０４ｂで被膜されてもよいが、周縁端部１６０２およびカバーガラス１６００の周縁端部１６０２に隣接する領域は被膜層１６０４ａ、１６０４ｂを含まない（例えば距離Ｙにわたるカバーガラス１６００の第１の領域内）。被膜層１６０４ａ、１６０４ｂは、本明細書に述べるように、被膜端部１６０６ａ、１６０６ｂ、および被膜端部１６０６ａ、１６０６ｂに隣接する不均一な被膜厚さプロファイルを含んでもよい。

図１６Ａに示すように、周縁端部１６０２から被膜端部１６０６ａ、１６０６ｂまでの距離Ｙ（すなわちカバーガラス１６００上の第１の領域の幅）は、変動してもよい。距離Ｙは、図５に関連して上述した距離５０８と等しい。この距離は、庇部（例えば庇部３５６）の寸法およびその庇部とカバーガラス１６００との関係を調整することで変動してもよい。例えば、図１６Ａの左側に示すように、被膜端部１６０６ａが周縁端部１６０２に隣接するカバーガラス１６００の平坦な上面に位置してもよい。別の例として、図１６Ａの右側に示すように、被膜端部１６０６ｂが周縁端部１６０２に隣接する面取りした表面に位置してもよい。

図１６Ｂは、いくつかの実施形態による２．５Ｄカバーガラス１６１０を示している。２．５Ｄカバーガラス１６１０は、前側に湾曲した表面を形成するために、機械研磨法で仕上げ加工された周縁端部１６１２を含んでもよい。したがって、２．５Ｄカバーガラス１６１０は、周縁端部１６１２に隣接した平坦な底面および湾曲した上面を有する、周縁端部１６１２を有してもよい。カバーガラス１６１０が被膜層１６１４で被膜されてもよいが、周縁端部１６１２およびカバーガラス１６１０の周縁端部１６１２に隣接する領域は被膜層１６１４を含まない（例えば距離Ｙにわたるカバーガラス１６１０の第１の領域内）。被膜層１６１４は、本明細書に述べるように、被膜端部１６１６および被膜端部１６１６に隣接する不均一な被膜厚さプロファイルを含んでもよい。いくつかの実施形態において、例えば図１６Ｂに示すように、被膜端部１６１６は周縁端部１６１２に隣接するカバーガラス１６１０の湾曲した上面に位置してもよい。

図１６Ｃは、いくつかの実施形態による３Ｄカバーガラス１６２０を示している。３Ｄカバーガラス１６２０を高温下で形成して、周縁端部１６２２を含む外周部分を曲げてもよい。したがって、３Ｄカバーガラス１６２０は、周縁端部１６２２に隣接している、湾曲した底面および湾曲した上面を有してもよい。カバーガラス１６００およびカバーガラス１６１０と同様に、カバーガラス１６２０が被膜層１６２４で被膜されてもよいが、周縁端部１６２２およびカバーガラス１６２０の周縁端部１６２２に隣接する領域は被膜層１６２４を含まない（例えば距離Ｙにわたるカバーガラス１６２０の第１の領域内）。被膜層１６２４は、本明細書に述べるように、被膜端部１６２６および被膜端部１６２６に隣接する不均一な被膜厚さプロファイルを含んでもよい。

図１７は、カバーガラス１７３０をマスクして固定する装置１７００を示している。本装置は、基板１７１０と、接触部１７５４を備えるが庇部のないマスク１７５０を含んでもよい。接触部１７５４は、使用中にカバーガラス１７３０の上面１７３４の部分に接触してもよい。図１７に示すマスク１７５０の構造は、結果的に、図８Ａに示す端部のように均一な厚さの端部（例えば上面１７３４に対して約９０度（例えば８５度から９５度まで）の角度で形成された端部）を有する被膜層の形成につながり得る。かかる端部は裸眼で見える可能性があり、したがって、美観上望ましくなくユーザーを引き付けることができない可能性がある。

マスク１７５０には庇部がないため、被膜の周縁端部とカバーガラス１７３０の周縁端部１７３２との間の距離を制御することが難しくなる可能性がある。制御の程度を高めるために、接触部１７５４が確実にカバーガラス１７３０の周縁部にわたって適切な距離で延在するよう、マスク１７５０は高い機械公差で機械加工しなければならない。これは、２．５Ｄカバーガラスおよび３Ｄカバーガラスについては特に困難となる可能性がある。接触部１７５４とカバーガラス１７３０の上面１７３４との間の接触点において大量の被膜材料が蒸着され得るため、マスク１７５０も漏れの影響を受けやすい恐れがある。前述の通り、被膜材料の漏れは被膜層の端部に可視欠陥をもたらす恐れがある。

また、マスク１７５０には庇部がないため、接触部の寸法Ｄ_Ｍが被膜層の周縁端部とカバーガラス１７３０の周縁端部１７３２との間の距離を変えるために調整可能な唯一の寸法であり得る。言い換えれば、Ｄ_Ｍが距離Ｙを変えるために調整可能な唯一の寸法であり得る。これは、蒸着中にカバーガラス１７３０を損傷することなく、接触部１７５４がカバーガラス１７３０のより大きい周縁部にわたって延在するためには機械加工されなければならないために、Ｙが比較的大きい距離である場合に、特に問題となる可能性がある。また、これは、カバーガラス１７３０およびマスク１７５０の熱膨張係数が異なっているために、特に問題となる可能性がある。例えば、通常のカバーガラス材料は、マスク１７５０の作成に使用されたアルミニウム材料の熱膨張係数の３分の１の熱膨張係数を有し得る。本明細書に述べる庇のあるマスクは、装置１７００に関するこれらの限界や問題を解消する。

図１８は、いくつかの実施形態による家電製品１８００を示している。家電製品１８００は、前面（ユーザーに面する表面）１８０４、後面１８０６、および側面１８０８を有する筐体１８０２を含んでもよい。電気部品は、少なくとも部分的には筐体１８０２内に備えられてもよい。当該電気部品は、加えて、コントローラー１８１０、メモリー１８１２、およびディスプレイ１８１４を含むディスプレイ部品、を含んでもよい。いくつかの実施形態において、ディスプレイ１８１４は、筐体１８０２の前面１８０４に、または前面１８０４に隣接して設けられてもよい。

例えば、図１８に示したように、家電機器１８００はカバーガラス１８２０を含んでもよい。カバーガラス１８２０は、ディスプレイ１８１４および電子機器１８００の他の部品（例えば、コントローラー１８１０およびメモリー１８１２）を損傷から保護するために機能し得る。いくつかの実施形態において、カバーガラス１８２０は、ディスプレイ１８１４の上に配置されてもよい。カバーガラス１８２０は、本明細書に述べた被膜工程を用いて作成されてもよく、本明細書に述べるカバーガラス（例えば、カバーガラス５００）と同じまたは類似であってもよい。カバーガラス１８２０は、２Ｄカバーガラス、２．５Ｄカバーガラス、または３Ｄカバーガラスであってもよい。いくつかの実施形態において、カバーガラス１８２０が、筐体１８０２の前面１８０４を画定してもよい。いくつかの実施形態において、カバーガラス１８２０が、筐体１８０２の前面１８０４、および筐体１８０２の側面１８０８の全部または一部を画定してもよい。いくつかの実施形態において、家電機器１８１０は、筐体１８０２の後面１８０６の全部または一部を画定するカバーガラスを含んでもよい。

カバーガラスの被膜加工の観点から様々な実施形態について述べてきたが、他のガラス系物品（ガラスセラミック物品を含む）、限定するものではないが例えば、建築用ガラス窓、自動車用ガラス窓、カメラレンズ、および電気器具物品用ガラスセラミックスを、本明細書に述べるものと同じ方法で被膜し加工してもよい。

本明細書では様々な実施形態について述べてきたが、これらの実施形態は例示のためだけに提示されたものであり、限定のためではない。適合形態および改変形態は、本明細書に提示した教示および指針に基づき、開示された実施形態と同等の意味および範囲内であることが意図されることは明白である。したがって、本開示の趣旨および範囲から逸脱せずに、本明細書に開示した実施形態の形態および詳細に対して様々な変更を実施できることは、当業者にとっては明白である。本明細書に提示した実施形態要素は、相互排他的である必要はなく、当業者が認識する様々な需要を満たすために相互交換可能である。

本開示の実施形態は、添付図面の描写によってその実施形態を参照して本明細書で詳述されているが、図面中、同一の符号は、同一または機能的に類似の要素示すために使用されている。「１つの実施形態」、「ある実施形態」、「いくつかの実施形態」、「ある実施形態において」等の言及は、記述した実施形態が特定の特徴、構造、または特性を含み得るが、すべての実施形態がその特定の特徴、構造、または特性を必ずしも含んでいなくてもよいということを示している。さらに、かかる語句は、必ずしも同じ実施形態について言及しているとは限らない。さらに、特定の特徴、構造、または特性がある実施形態と関連して述べられている場合、これが、他の実施形態に関してかかる特徴、構造、または特性に影響を与えることは、明示して記載されているかどうかにかかわらず、当業者の知識の範囲内であるものとする。

本明細書で用いる「または」という用語は包含的であり、より具体的には、「ＡまたはＢ」という語句は、「Ａ、Ｂ、または、ＡおよびＢの両方」を意味する。排他的な「または」は、例えば「Ａ、Ｂのいずれか」、「ＡおよびＢのうちの１つ」等の語句により本明細書に規定される。要素または構成要素を説明する不定冠詞「１つの（ａ）」および「１つの（ａｎ）」ならびに定冠詞「その（ｔｈｅ）」は、特定の場合について別段の記載のない限り、これらの要素または構成要素が１つまたは少なくとも１つ存在することを意味する。

上限値および下限値を含む数値の範囲が本明細書に挙げられる場合は、特定の状況について別段の記載のない限り、その範囲は、その端点、およびその範囲内のすべての整数と分数を含むものとする。特許請求の範囲は、範囲を規定するときに挙げられた特定の値に限定することを意図するものではない。さらに、量、濃度、または他の値もしくはパラメーターが、１つの範囲、１つ以上の好ましい範囲、または好ましい上限値および好ましい下限値の表として与えられる場合、これは、任意の範囲上限または好ましい上限値と任意の範囲下限または好ましい下限値との任意の組から形成されるすべての範囲を、かかる組が別々に開示されているかどうかにかかわらず、具体的に開示するものと理解されるべきである。

本明細書で用いる「約（ａｂｏｕｔ）」という用語は、量、大きさ、配合、パラメーター、および他の量ならびに特性が、所望に応じて、正確ではなく正確である必要もなく、公差、換算係数、まるめ方、測定誤差等、および当業者に既知の他の因子を反映して、近似であってもよく、および／または、より大きいあるいはより小さくてもよいということを意味する。「約」という用語が、値または範囲の端点を述べるために使用されている場合、本開示には言及した特定の値または端点を含むと理解されるべきである。本明細書の数値または範囲の端点が「約」と記載されているかどうかにかかわらず、その数値または範囲の端点は、２つの実施形態、すなわち「約」によって改変された実施形態と、「約」によって改変されない実施形態とを含むことを意図している。

本明細書で用いる方向を表す用語（例えば、上方、下方、右、左、前、後ろ、上、下）は、単に描かれた通りの図面を参照して用いられたものであり、絶対的な方向を示すことを意図したものではない。

本明細書で用いる「ガラス系」という用語は、ガラスおよびガラスセラミックスを含む、少なくとも部分的にガラスからなる任意の材料を含むことを意図している。「ガラスセラミックス」は、ガラスを制御結晶化して作成した材料を含む。実施形態において、ガラスセラミックスの結晶化度は、約３０％から約９０％である。使用できるガラスセラミック系の非限定的な例としては、Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ｎＳｉＯ_２（すなわちＬＡＳ系）、ＭｇＯ−Ａｌ_２Ｏ_３−ｎＳｉＯ_２（すなわちＭＡＳ系）、およびＺｎＯ−Ａｌ_２Ｏ_３−ｎＳｉＯ_２（すなわちＺＡＳ系）が挙げられる。

本実施形態については、特定の機能およびそれらの関係の実施を示す機能構築ブロックを補助として用いて、上記に説明した。これらの機能構築ブロックの境界は、本明細書では説明の便宜上、恣意的に規定した。特定の機能とそれらの関係が適切に行われる限り、別の境界を規定してもよい。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
ガラス系物品を被膜する方法であって、
ガラス系物品の上にマスクを配置するステップであって、
上記ガラス系物品は、周縁端部と、上記周縁端部から延在し内側に配置される第１の環状周縁部と、上記第１の環状周縁部から延在し内側に配置される第２の環状周縁部と、上記第２の環状周縁部の内側に配置された内側部分とを有しており、
上記マスクは、端部厚さ０．３ｍｍ以下の庇のある周囲を含む開口部を含んでおり、
上記マスクが上記ガラス系物品の上に配置されているときに、
上記マスクが上記ガラス系物品の上記第１の環状周縁部の少なくとも一部に接触し、
上記庇が上記ガラス系物品の上記第２の環状周縁部にわたって延在し、
上記開口部が上記ガラス系物品の上記内側部分の上に配置され、
上記庇の底面が上記ガラス系物品の上記第２の環状周縁部の少なくとも１５０マイクロメートル上に配置される、ステップと、
上記マスクが上記ガラス系物品の上に配置されている間に、被膜層を上記ガラス系物品の上に蒸着するステップと、を含む、方法。

実施形態２
上記庇の上面が、上記庇の上記端部から離れて延在している、上記ガラス系物品の平面に対して測定した場合に３０度以下の正の傾斜を有する、実施形態１の方法。

実施形態３
上記マスクを上記ガラス系物品の上に配置するステップが、上記ガラス系物品を上記マスクで基板に固定するステップをさらに含む、実施形態１または２の方法。

実施形態４
上記ガラス系物品が第１の方向に測定した長さを有する２つの長辺と、上記第１の方向に対して垂直な第２の方向に測定した長さを有する２つの短辺とを含み、
上記被膜層の上記蒸着ステップの前には室温で、上記庇が、上記ガラス系物品の上記長辺の上記第２の環状周縁部にわたって第１の距離だけ延在しており、上記ガラス系物品の上記短辺の上記第２の環状周縁部にわたって上記第１の距離と異なる第２の距離だけ延在している、実施形態１から３のいずれか１項に記載の方法。

実施形態５
上記第１の距離が上記第２の距離より小さい、実施形態４の方法。

実施形態６
上記第１の環状周縁部が上記周縁端部から始まり、周縁端部の内側に距離Ａだけ延在し、上記距離Ａが０．１ｍｍから１．０ｍｍの範囲である、実施形態１から５のいずれか１項に記載の方法。

実施形態７
上記第２の環状周縁部が上記第１の環状周縁部の内側端部から始まり、上記第１の環状周縁部の上記内側端部の内側に距離Ｂだけ延在し、上記距離Ｂが０．５ｍｍから２．０ｍｍの範囲である、実施形態１から６のいずれか１項に記載の方法。

実施形態８
上記第１の環状周縁部が上記周縁端部から始まり、周縁端部の内側に距離Ａだけ延在し、上記第２の環状周縁部が上記第１の環状周縁部の内側端部から始まり、上記第１の環状周縁部の上記内側端部の内側に距離Ｂだけ延在し、上記距離Ａと上記距離Ｂの合計が３．０ｍｍ以下である、実施形態１から５のいずれか１項に記載の方法。

実施形態９
上記被膜層が防傷性被膜層を含む、実施形態１から８のいずれか１項に記載の方法。

実施形態１０
上記被膜層が上記ガラス系物品の上記第２の環状周縁部の少なくとも一部の上に蒸着される、実施形態１から９のいずれか１項に記載の方法。

実施形態１１
上記被膜層が上記ガラス系物品の上記第２の環状周縁部において不均一な被膜厚さを有している、実施形態１０の方法。

実施形態１２
上記不均一な被膜厚さが、上記内側部分から上記第１の環状周縁部に向けて移動する際に徐々に減少する、実施形態１１の方法。

実施形態１３
上記不均一な被膜厚さは、上記ガラス系物品上で裸眼では見えない、実施形態１１の方法。

実施形態１４
上記マスクがガラス系物品の上に配置されたときに、上記マスクが上記ガラス系物品の上記第１の環状周縁部の少なくとも一部に接触している弾性部を含む、実施形態１から１３のいずれか１項に記載の方法。

実施形態１５
上記ガラス系物品がカバーガラスである、実施形態１から１４のいずれか１項に記載の方法。

実施形態１６
被膜工程中にガラス系物品の周縁端部をマスクする装置であって、
上記装置はマスクを含み、上記マスクは、
上記ガラス系物品の第１の環状周縁部と接触するよう構成された接触部と、
上記ガラス系物品の第２の環状周縁部にわたって延在するよう構成された庇部であって、開口部を画定し、上面、底面および周縁を含む庇部と、を含み、
上記周縁は２５０℃で測定した場合に０．３ｍｍ以下の端部厚さを有し、
上記周縁における上記庇部の上記底面は、２５０℃の温度では、上記ガラス系物品の第２の環状周縁部の内側端部の少なくとも１５０マイクロメートル上に位置するよう構成されている、装置。

実施形態１７
上記庇部の上記上面は、２５０℃の温度では、上記底面に対して計測した場合に３０度以下の傾斜を有する、実施形態１６の装置。

実施形態１８
上記接触部が弾性材料を含む、実施形態１６または１７の装置。

実施形態１９
上記庇部が、室温で、第１の方向に測定した長さを有する２つの長辺と、上記第１の方向に対して垂直な第２の方向に測定した長さを有する２つの短辺とを含み、
上記長辺が上記接触部から第１の距離だけ延在し、上記短辺が上記接触部から上記第１の距離とは異なる第２の距離だけ延在する、実施形態１８の装置。

実施形態２０
上記第１の距離が上記第２の距離より小さい、実施形態１９の装置。

実施形態２１
所定の位置にガラス系物品を保持するよう構成された基板をさらに含む、実施形態１６から２０のいずれか１項に記載の装置。

実施形態２２
上記基板に配置され、上記マスクで解放可能に上記基板に固定された上記ガラス系物品をさらに含む、実施形態２１の装置。

実施形態２３
周縁部と中央部とを含む第１の表面を含む本体部であって、上記周縁部が上記第１の表面の周縁端部の少なくとも一部を含む、本体部と、
中央部に配置されているが上記周縁部には配置されていない被膜であって、上記被膜が上記周縁部に隣接する上記被膜の周囲に不均一な被膜厚さの領域を含む被膜と、を含むカバーガラスを含む、物品。

実施形態２４
上記被膜が防傷性被膜である、実施形態２３の物品。

実施形態２５
前面、後面、および側面を有する筐体と、
少なくとも部分的には上記筐体内に設けられた電気部品であって、少なくともコントローラー、メモリー、およびディスプレイを含み、上記ディスプレイが上記筐体の上記前面に、または上記前面に隣接して設けられている、電気部品と、
上記ディスプレイの上に配置されたカバーガラスと、を含む家電製品であって、
上記カバーガラスが実施形態２３または２４の上記物品を含む、家電製品。

１００、３００、４００、１４００、１５００、１７００ 装置
１１０、３１０、４１０、１４１０、１５１０、１７１０ 基板
１１２、１３４、３１２、３３４、３５７、５０２、１４３４、１５３４、１７３４ 上面
１１４、３１４ プラットフォーム
１１６、３１６ プラットフォーム表面
１２０ 開口
１３０、２００、３３０、５００、７００、７１０、７２０、１０００、１２００、１４３０、１５３０、１７３０、１８２０ カバーガラス
１５８、１０３０、１２１０ 庇
１５０、３５０、４５０、１１００、１４５０、１５５０、１７５０ マスク
１５２、３５２、４５２、１１１０ フレーム
１５４、３６０、１１２０ 開口部
１５６、５２６ 周囲
１３２、２０２、３３２、５０４、５２２、１６０２、１６１２、１６２２、１７３２ 周縁端部
２０４、３４０ 第１の環状周縁部
２０６ 第１の内側端部
２０８、２１４、５０８、１０３２ａ、１０３２ｂ、１０３４ａ、１０３４ｂ 距離
２１０、３４２ 第２の環状周縁部
２１２ 第２の内側端部
２１６、３４４ 内側部分
３３６、３５９、１３０４、１３１４、１３２４、１４３６、１５３６ 底面
３５４、１１１２、１４５４、１７５４ 接触部
３５５ 遠位端部
３５６、４５６、１１１４、１３００、１３１０、１３２０、１４５６ 庇部
３５８、１１１６、１３０２、１３１２、１３２２ 端部
４５４ 弾性接触部
５０１ 本体部
５０６ 周縁部
５１０ 中央部
５２０、１６０４ａ、１６０４ｂ、１６１４、１６２４ 被膜層
５２４ 不均一な被膜厚さの領域
５２５ 最大厚さ
５３０ 物品
１０１０、１１３０ 長辺
１０１２、１１３２ 第１の方向
１０２０、１１４０ 短辺
１０２２、１１４２ 第２の方向
１１１８、１２１６ 角部
１１３４、１２１４ 第１の距離
１１４４、１２１８ 第２の距離
１２１２ 辺
１４１２ ガスケット
１５１２ バネ板
１５１４ バネ
１６００ ２Ｄカバーガラス
１６０６ａ、１６０６ｂ、１６１６、１６２６ 被膜端部
１６１０ ２．５Ｄカバーガラス
１６２０ ３Ｄカバーガラス
１８００ 家電製品
１８０２ 筐体
１８０４ 前面
１８０６ 後面
１８０８ 側面
１８１０ コントローラー
１８１２ メモリー
１８１４ ディスプレイ

Claims (7)

1. ガラス系物品を被膜する方法であって、
   ガラス系物品の上にマスクを配置するステップであって、
   前記ガラス系物品は、周縁端部と、前記周縁端部から延在し内側に配置される第１の環状周縁部と、前記第１の環状周縁部から延在し内側に配置される第２の環状周縁部と、前記第２の環状周縁部の内側に配置された内側部分とを有しており、
   前記マスクは、端部厚さ０．３ｍｍ以下の庇のある周囲を含む開口部を含んでおり、
   前記マスクが前記ガラス系物品の上に配置されているときに、
   前記マスクが前記ガラス系物品の前記第１の環状周縁部の少なくとも一部に接触し、
   前記庇が前記ガラス系物品の前記第２の環状周縁部にわたって延在し、
   前記開口部が前記ガラス系物品の前記内側部分の上に配置され、
   前記庇の底面が前記ガラス系物品の前記第２の環状周縁部の少なくとも１５０マイクロメートル上に配置される、ステップと、
   前記マスクが前記ガラス系物品の上に配置されている間に、被膜層を前記ガラス系物品の上に蒸着するステップと、を含む、方法。
2. 前記マスクを前記ガラス系物品の上に配置するステップが、前記ガラス系物品を前記マスクで基板に固定するステップをさらに含む、請求項１の方法。
3. 前記ガラス系物品が第１の方向に測定した長さを有する２つの長辺と、前記第１の方向に対して垂直な第２の方向に測定した長さを有する２つの短辺とを含み、
   前記被膜層の前記蒸着ステップの前には室温で、前記庇が、前記ガラス系物品の前記長辺の前記第２の環状周縁部にわたって第１の距離だけ延在しており、前記ガラス系物品の前記短辺の前記第２の環状周縁部にわたって前記第１の距離と異なる第２の距離だけ延在している、請求項１または２の方法。
4. 以下のうち少なくとも１つに該当する、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法：
   前記第１の環状周縁部が前記周縁端部から始まり、前記周縁端部の内側に距離Ａだけ延在し、前記距離Ａが０．１ｍｍから１．０ｍｍの範囲である；および
   前記第２の環状周縁部が前記第１の環状周縁部の内側端部から始まり、前記第１の環状周縁部の前記内側端部の内側に距離Ｂだけ延在し、前記距離Ｂが０．５ｍｍから２．０ｍｍの範囲である。
5. 以下のうち少なくとも１つに該当する、請求項１から４のいずれか１項に記載の方法：
   前記被膜層が前記ガラス系物品の前記第２の環状周縁部の少なくとも一部の上に蒸着される；
   前記被膜層が前記ガラス系物品の前記第２の環状周縁部において不均一な被膜厚さを有し；および
   前記不均一な被膜厚さが前記内側部分から前記第１の環状周縁部に向けて移動する際に徐々に減少する。
6. 前記マスクがガラス系物品の上に配置されたときに、前記マスクが前記ガラス系物品の前記第１の環状周縁部の少なくとも一部に接触している弾性部を含む、請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
7. 周縁部と中央部とを含む第１の表面を含む本体部であって、前記周縁部が前記第１の表面の周縁端部の少なくとも一部を含む、本体部と、
   中央部に配置されているが前記周縁部には配置されていない防傷性被膜であって、前記防傷性被膜が前記周縁部に隣接する前記防傷性被膜の周囲に不均一な被膜厚さの領域を含む防傷性被膜と、を含むカバーガラスを含む、物品。

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