JP2019531120A5 - - Google Patents
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Description
特許請求の範囲において、単語「有する」は他の要素又はステップを排除するものではなく、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」は複数を排除するものではない。単一のプロセッサ又は他のユニットが特許請求の範囲に再引用されているいくつかの項目の機能を果たすことができる。特定の手段が相互に異なる従属請求項に再引用されているという単なる事実は、これらの手段の組み合わせが有利に使用されることができないことを示すものではない。請求項中の如何なる参照符号も範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。
以下、本発明の各種形態を付記する。
［付記１］
Ｘ線放射に曝されるとき格子構造の表面の後ろに不均一な強度プロファイルを生成する干渉Ｘ線撮像ケーブルのための線源格子構造。
［付記２］
前記強度プロファイルは、前記表面のエッジから離れた少なくとも１つの極大値を有する、付記１に記載の格子構造。
［付記３］
前記表面を形成するために周期的パターンで構成される吸収要素のセットを有し、前記セットは少なくとも二つの吸収要素を含み、一方は前記エッジに対して近位であり、他方は前記エッジに対して遠位であり、前記近位吸収要素の材料密度は前記遠位近位要素の材料密度より高い、付記１又は２に記載の格子構造。
［付記４］
前記表面を形成するために周期的パターンで構成される吸収要素のセットを有し、前記セットは少なくとも二つの吸収要素を含み、一方は前記エッジに対して近位であり、他方は前記エッジに対して遠位であり、前記少なくとも１つの近位吸収要素は、前記遠い近位要素の前記深度より大きな、前記表面に対して垂直な深度を有する、付記１又は２に記載の格子構造。
［付記５］
不均一なデューティサイクルプロファイルを有する、付記１又は２に記載の格子構造。
［付記６］
前記デューティサイクルプロファイルは、前記表面の前記エッジから離れる少なくとも１つの極大値を有する、付記５に記載の格子構造。
［付記７］
前記格子は、少なくとも一つの方向において、ヒール効果を補償するように構成される、付記１乃至６の何れか一項に記載の格子構造。
［付記８］
前記強度プロファイルは、Ｘ線撮像システムの回転軸に沿う方向に減少する、付記１乃至７の何れか一項に記載の格子構造。
［付記９］
撮像システムであって、
Ｘ線源と、
Ｘ線感受性検出器と、
撮像されるべき対象物を受けるための、前記Ｘ線源と前記Ｘ線感受性検出器との間の検査領域と、
前記対象物が撮像領域内にあるとき、前記Ｘ線源と前記対象物との間に配置される、付記１乃至８の何れか一項に記載の線源格子構造と
を有する、撮像システム。
［付記１０］
前記撮像システムは回転式、特にコンピュータ断層撮像システムである、付記９に記載の撮像システム。
以下、本発明の各種形態を付記する。
［付記１］
Ｘ線放射に曝されるとき格子構造の表面の後ろに不均一な強度プロファイルを生成する干渉Ｘ線撮像ケーブルのための線源格子構造。
［付記２］
前記強度プロファイルは、前記表面のエッジから離れた少なくとも１つの極大値を有する、付記１に記載の格子構造。
［付記３］
前記表面を形成するために周期的パターンで構成される吸収要素のセットを有し、前記セットは少なくとも二つの吸収要素を含み、一方は前記エッジに対して近位であり、他方は前記エッジに対して遠位であり、前記近位吸収要素の材料密度は前記遠位近位要素の材料密度より高い、付記１又は２に記載の格子構造。
［付記４］
前記表面を形成するために周期的パターンで構成される吸収要素のセットを有し、前記セットは少なくとも二つの吸収要素を含み、一方は前記エッジに対して近位であり、他方は前記エッジに対して遠位であり、前記少なくとも１つの近位吸収要素は、前記遠い近位要素の前記深度より大きな、前記表面に対して垂直な深度を有する、付記１又は２に記載の格子構造。
［付記５］
不均一なデューティサイクルプロファイルを有する、付記１又は２に記載の格子構造。
［付記６］
前記デューティサイクルプロファイルは、前記表面の前記エッジから離れる少なくとも１つの極大値を有する、付記５に記載の格子構造。
［付記７］
前記格子は、少なくとも一つの方向において、ヒール効果を補償するように構成される、付記１乃至６の何れか一項に記載の格子構造。
［付記８］
前記強度プロファイルは、Ｘ線撮像システムの回転軸に沿う方向に減少する、付記１乃至７の何れか一項に記載の格子構造。
［付記９］
撮像システムであって、
Ｘ線源と、
Ｘ線感受性検出器と、
撮像されるべき対象物を受けるための、前記Ｘ線源と前記Ｘ線感受性検出器との間の検査領域と、
前記対象物が撮像領域内にあるとき、前記Ｘ線源と前記対象物との間に配置される、付記１乃至８の何れか一項に記載の線源格子構造と
を有する、撮像システム。
［付記１０］
前記撮像システムは回転式、特にコンピュータ断層撮像システムである、付記９に記載の撮像システム。
Claims (7)
- 干渉Ｘ線撮像のための線源格子構造であって、不均一なデューティサイクルプロファイルを有する、格子構造。
- 前記デューティサイクルプロファイルは、前記格子構造の表面のエッジから離れた少なくとも１つの極大値を有する、請求項１に記載の格子構造。
- 干渉Ｘ線撮像のための格子構造であって、前記格子構造の表面を形成するために周期的パターンで構成される吸収要素のセットを有し、前記セットは少なくとも二つの吸収要素を含み、一方は前記エッジに対して近位であり、他方は前記エッジに対して遠位であり、前記近位吸収要素の材料密度は前記遠位近位要素の材料密度より高い、格子構造。
- 干渉Ｘ線撮像のための格子構造であって、前記格子構造の表面を形成するために周期的パターンで構成される吸収要素のセットを有し、前記セットは少なくとも二つの吸収要素を含み、一方は前記エッジに対して近位であり、他方は前記エッジに対して遠位であり、前記少なくとも１つの近位吸収要素は、前記遠い近位要素の前記深度より大きな、前記表面に対して垂直な深度を有する、格子構造。
- 前記格子構造は、少なくとも一つの方向において、ヒール効果を補償するように構成される、請求項１乃至４の何れか一項に記載の格子構造。
- 撮像システムであって、
Ｘ線源と、
Ｘ線感受性検出器と、
撮像されるべき対象物を受けるための、前記Ｘ線源と前記Ｘ線感受性検出器との間の検査領域と、
前記対象物が撮像領域内にあるとき、前記Ｘ線源と前記対象物との間に配置される、請求項１乃至５の何れか一項に記載の線源格子構造と
を有する、撮像システム。 - 前記撮像システムは回転式、特にコンピュータ断層撮像システムである、請求項６に記載の撮像システム。
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