JP2019529017A - 照射電子ビームの磁気制御用の装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、参照によりその全内容が本明細書に組み入れられる、2016年9月9日に提出された米国特許仮出願第62/385,346号「APPARATUS AND METHODS FOR MAGNETIC CONTROL OF RADIATION ELECTRON BEAM」の優先権を主張する。
電子ビーム放射線治療は、典型的には癌の処置の一部として悪性細胞を破壊するために、電離放射線を利用する。放射線治療は、癌が身体の1つのエリアに局在しているならば、多数のタイプの癌において治癒的となりうる。放射線治療はまた、原発性悪性腫瘍を除去する手術の後、腫瘍の再発を防ぐための補助療法の一部としても用いられる場合がある。例えば、乳癌など特定のタイプの癌の早期において、補助療法の一部として電子ビーム放射線治療が用いられる場合がある。
以下により詳しく説明するように、本開示の例示的態様は、現在の装置および方法と比較して、電子ビーム放射線治療の多数の局面における改善を可能にする。
まず図1を参照すると、放射線治療用の電子ビームを制御するための装置100が示されている。この態様において、装置100は、電子ビーム155を発生するよう構成された電子ビーム発生器150を具備する。装置100は、共線的な多重極磁石を含む複数の磁石105をさらに具備する。
Claims (57)
- 電子ビームを発生するよう構成された電子ビーム発生器と;
該電子ビームを焦点スポットに集束させるよう構成された複数の磁場をもたらす複数の磁石と;
標的領域内の第一深度に位置する第一位置から該標的領域内の第二深度に位置する第二位置まで該焦点スポットを動かすため、該複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更するよう構成された制御システムと
を具備する、放射線治療用の電子ビームを制御するための装置。 - 標的領域が対象の上皮表面より下にあり;かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から0〜50センチメートルの深度にある、
請求項1記載の装置。 - 電子ビームが50〜250メガ電子ボルト(MeV)のエネルギーを有する、請求項1記載の装置。
- 焦点スポットが前記第一位置から前記第二位置まで動かされる時、ビームのエネルギーが変調されない、請求項3記載の装置。
- 前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、請求項1記載の装置。
- 前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも2つの共線的な四重極磁石を含む、請求項5記載の装置。
- 前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み;かつ
前記制御システムが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更するよう構成される、
請求項5記載の装置。 - 前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、請求項1記載の装置。
- 前記複数の磁石が電磁石を含み;
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、電磁石を通る電流を含み;かつ
前記制御システムが、該電磁石を通る該電流を変更するよう構成される、
請求項1記載の装置。 - 電磁石が、鉄支配型(iron-dominated)またはコイル支配型(coil-dominated)の超伝導電磁石である、請求項9記載の装置。
- 前記複数の磁場が、電子ビームを50〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項1記載の装置。
- 前記複数の磁場が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項1記載の装置。
- 前記制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、請求項1記載の装置。
- 前記制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、請求項13記載の装置。
- 焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、請求項1記載の装置。
- 電子ビームを発生させる段階;
複数の磁石によってもたらされる複数の磁場を通じて該電子ビームを方向付けする段階;
該複数の磁場で該電子ビームを焦点スポットに集束させる段階;および
標的領域内の第一深度に位置する第一位置から該標的領域内の第二深度に位置する第二位置まで該焦点スポットを動かすため、該複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更する段階
を含む、放射線治療用の電子ビームを制御する方法。 - 標的領域が対象の上皮表面より下にあり;かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から0〜50センチメートルの深度にある、
請求項16記載の方法。 - 電子ビームが、50メガ電子ボルト〜250メガ電子ボルトのパワーを有する、請求項16記載の方法。
- 焦点スポットが前記第一位置から前記第二位置まで動かされる時、ビームのパワーが変調されない、請求項18記載の方法。
- 前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、請求項16記載の方法。
- 前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも3つの共線的な四重極磁石を含む、請求項20記載の方法。
- 前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み;かつ
制御システムが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更するよう構成される、
請求項20記載の方法。 - 前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、請求項16記載の方法。
- 前記複数の磁石が電磁石を含み;
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、該電磁石を通る電流を含み;かつ
制御システムが、該電磁石を通る該電流を変更するよう構成される、
請求項16記載の方法。 - 前記複数の磁場が、電子ビームを100〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項16記載の方法。
- 前記複数の磁場が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項16記載の方法。
- 制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、請求項16記載の方法。
- 制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、請求項27記載の方法。
- 焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、請求項16記載の方法。
- 50メガ電子ボルト〜250メガ電子ボルトのパワーを備えた電子ビームを発生するよう構成された電子ビーム発生器と;
該電子ビームを焦点スポットに集束させるよう構成された複数の磁石と;
第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで該焦点スポットを動かすよう構成された制御システムであって、該焦点スポットが該第一位置から該第二位置まで動かされる時、該電子ビームのパワーが一貫したレベルに維持される、該制御システムと
を具備する、放射線治療用の電子ビームを制御するための装置。 - 第一位置および第二位置が標的領域内に位置する、請求項30記載の装置。
- 標的領域が対象の上皮表面より下にあり;かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から10〜20センチメートルの深度にある、
請求項31記載の装置。 - 焦点スポットを前記第一位置から前記第二位置まで動かすため、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更するよう制御システムが構成される、請求項30記載の装置。
- 制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、請求項33記載の装置。
- 制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、請求項35記載の装置。
- 前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、請求項33記載の装置。
- 前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも3つの共線的な四重極磁石を含む、請求項36記載の装置。
- 前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み;かつ
前記制御システムが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更するよう構成される、
請求項36記載の装置。 - 前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、請求項30記載の装置。
- 前記複数の磁石が電磁石を含み;
焦点スポットを前記第一位置から前記第二位置まで動かすため、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更するよう前記制御システムが構成され;
前記複数の磁石の該1つまたは複数のパラメータが、該電磁石を通る電流を含み;かつ
該制御システムが、該電磁石を通る該電流を変更するよう構成される、
請求項30記載の装置。 - 前記複数の磁石が、電子ビームを100〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項30記載の装置。
- 前記複数の磁石が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項30記載の装置。
- 焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、請求項30記載の装置。
- 50メガ電子ボルト〜250メガ電子ボルトのパワーを有する電子ビームを発生させる段階;
複数の磁石で該電子ビームを焦点スポットに集束させる段階;および
該電子ビームのパワーを一貫したレベルに維持しながら、第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで該焦点スポットを動かす段階
を含む、放射線治療用の電子ビームを制御する方法。 - 第一位置および第二位置が標的領域内に位置する、請求項44記載の方法。
- 標的領域が対象の上皮表面より下にあり;かつ
前記第一位置または第二位置が、該上皮表面から10〜20センチメートルの深度にある、
請求項45記載の方法。 - 第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで焦点スポットを動かす段階が、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更することを含む、請求項44記載の方法。
- 制御システムが、前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを計算するためのアルゴリズムを含む、請求項47記載の方法。
- 制御システムが、線量分布を計算するよう構成された処置計画作成ソフトウェアプログラムから入力を受け取る、請求項48記載の方法。
- 前記複数の磁石が、複数の共線的な多重極磁石を含む、請求項47記載の方法。
- 前記複数の共線的な多重極磁石が、少なくとも3つの共線的な四重極磁石を含む、請求項50記載の方法。
- 前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータが、前記複数の共線的な多重極磁石間の分離距離を含み;かつ
前記複数の磁石の1つまたは複数のパラメータを変更することが、該複数の共線的な多重極磁石間の該分離距離を変更することを含む、
請求項50記載の方法。 - 前記複数の磁石が、前方レンズ磁石と、後方反射磁石と、複数の放射状焦点磁石とを含む、請求項44記載の方法。
- 前記複数の磁石が電磁石を含み;かつ
第一深度にある第一位置から第二深度にある第二位置まで焦点スポットを動かす段階が、該電磁石を通る電流を変更することを含む
請求項44記載の方法。 - 前記複数の磁石が、電子ビームを100〜500 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項44記載の方法。
- 前記複数の磁石が、電子ビームを200〜400 mradの収束角で集束させるよう構成される、請求項44記載の方法。
- 焦点スポットが、電子線量の最大の集中を含む、請求項44記載の方法。
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