JP2019527918A - 電子エミッタ及びそれを製作する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[001] 本出願は、2016年8月8日に出願された米国特許出願第62/372,084号及び2017年7月12日に出願された米国特許出願第62/531,793号の優先権を主張するものであり、これらの出願は参照により全体が本明細書に組み込まれる。
条項1.約(0.05〜10)マイクロメートルの範囲内の直径を有する平面領域を備えた先端部と、
先端部上にコーティングされた仕事関数低下材料と、
を含む、電子エミッタ。
条項2.先端部が単結晶タングステンを含む、条項1の電子エミッタ。
条項3.単結晶タングステンが<100>の結晶方位を有する、条項2の電子エミッタ。
条項4.先端部が遷移金属炭化物化合物又は遷移金属ホウ化物化合物のうちの少なくとも1つを含む、条項1の電子エミッタ。
条項5.遷移金属炭化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、又はニオブの炭化物化合物である、条項4の電子エミッタ。
条項6.遷移金属ホウ化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、ニオブ、又はランタンのホウ化物化合物である、条項4の電子エミッタ。
条項7.仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、又はトリウムの酸化物化合物のうちの少なくとも1つ
を含む、条項4から6のいずれか1項の電子エミッタ。
条項8.仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、チタン、ニオブ、スカンジウム、バナジウム、又はランタンの窒化物化合物のうちの少なくとも1つ
を含む、条項4から6のいずれか1項の電子エミッタ。
条項9.仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、ニオブ、又はトリウムのオキシナイトライド化合物のうちの少なくとも1つ
を含む、条項4から6のいずれか1項の電子エミッタ。
条項10.電界放出電子を解放するように構成された先端部であって、約(0.05〜10)マイクロメートルの範囲内の直径を備えた平面領域を有する先端部と、
先端部上にコーティングされた仕事関数低下材料と、
を含むエミッタと、
エミッタに熱エネルギーを提供するように構成された加熱コンポーネントと、
を含む、熱電界放出カソード。
条項11.先端部が単結晶タングステンを含む、条項10の熱電界放出カソード。
条項12.単結晶タングステンが<100>の結晶方位を有する、条項11の熱電界放出カソード。
条項13.先端部が遷移金属炭化物化合物又は遷移金属ホウ化物化合物のうちの少なくとも1つを含む、条項10の熱電界放出カソード。
条項14.遷移金属炭化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、又はニオブの炭化物化合物である、条項13の熱電界放出カソード。
条項15.遷移金属ホウ化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、ニオブ、又はランタンのホウ化物化合物である、条項13の熱電界放出カソード。
条項16.仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、又はトリウムの酸化物化合物のうちの少なくとも1つ
を含む、条項13から15のいずれか1項の熱電界放出カソード。
条項17.仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、チタン、ニオブ、スカンジウム、バナジウム、又はランタンの窒化物化合物のうちの少なくとも1つ
を含む、条項13から15のいずれか1項の熱電界放出カソード。
条項18.仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、ニオブ、又はトリウムのオキシナイトライド化合物のうちの少なくとも1つ
を含む、条項13から15のいずれか1項の熱電界放出カソード。
条項19.加熱手段が、エミッタに取り付けられたフィラメントを含む、条項10から18のいずれか1項の熱電界放出カソード。
条項20.ベースと、
ベース内に埋め込まれた2つの電極と、
2つの端部と中心部分とを含む導電ワイヤであって、導電ワイヤの2つの端部がそれぞれ2つの電極に接続され、エミッタが導電ワイヤの中心部分に装着され、導電ワイヤが中心部分でエミッタに対して凸状になっている導電ワイヤと、
を更に含む、条項10から19のいずれか1項の熱電界放出カソード。
条項21.先端部を有する電子エミッタに抑制を加えることと、
抑制の下で、先端部上に平面領域を形成することと、
抑制を除去することと、
を含む、方法。
条項22.先端部上に平面領域を形成することが、
電子エミッタの先端部を研磨して、平面領域を形成すること
を含む、条項21の方法。
条項23.電子エミッタに抑制を加えることが、
先端部に固定具又はジグを取り付けること
を含む、条項21及び22のいずれか1項の方法。
条項24.先端部上に平面領域を形成することが、
固定具又はジグを使用して、平面領域を形成すること
を含む、条項23の方法。
条項25.電子エミッタに抑制を加えることが、
先端部上にワックスを塗布すること
を含む、条項21から23のいずれか1項の方法。
条項26.抑制が除去された後に電子エミッタを加熱することであって、その加熱が先端部上の汚染物質を除去すること
を更に含む、条項21から25のいずれか1項の方法。
条項27.加熱後に先端部上に仕事関数低下材料をコーティングすること
を更に含む、条項26の方法。
条項28.電子エミッタが単結晶タングステンを含む、条項21から27のいずれか1項の方法。
条項29.単結晶タングステンが<100>の結晶方位を有する、条項28の方法。
条項30.電子エミッタが遷移金属炭化物化合物又は遷移金属ホウ化物化合物のうちの少なくとも1つを含む、条項21から27のいずれか1項の方法。
条項31.遷移金属炭化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、又はニオブの炭化物化合物である、条項30の方法。
条項32.遷移金属ホウ化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、ニオブ、又はランタンのホウ化物化合物である、条項30の方法。
条項33.抑制が除去された後に先端部上に仕事関数低下材料をコーティングすることであって、仕事関数低下材料が、ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、又はトリウムの酸化物化合物のうちの少なくとも1つを含むこと
を更に含む、条項30の方法。
条項34.抑制が除去された後に先端部上に仕事関数低下材料をコーティングすることであって、仕事関数低下材料が、ジルコニウム、チタン、ニオブ、スカンジウム、バナジウム、又はランタンの窒化物化合物のうちの少なくとも1つを含むこと
を更に含む、条項30の方法。
条項35.抑制が除去された後に先端部上に仕事関数低下材料をコーティングすることであって、仕事関数低下材料が、ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、ニオブ、又はトリウムのオキシナイトライド化合物のうちの少なくとも1つを含むこと
を更に含む、条項30の方法。
条項36.電子エミッタの端部部分をエッチングして、先端部を形成すること
を更に含む、条項21から35のいずれか1項の方法。
条項37.先端部の平面領域が約(0.05〜10)マイクロメートルの範囲内の直径を有する、条項21から36のいずれか1項の方法。
条項38.基礎材料を有する電子エミッタの先端部上に仕事関数低下材料をコーティングすることを含み、
仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、又はトリウムの酸化物化合物と、
ジルコニウム、チタン、ニオブ、スカンジウム、バナジウム、又はランタンの窒化物化合物と、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、ニオブ、又はトリウムのオキシナイトライド化合物
のうちの少なくとも1つを含む、方法。
条項39.電子エミッタの基礎材料が遷移金属炭化物化合物又は遷移金属ホウ化物化合物のうちの少なくとも1つを含む、条項38の方法。
条項40.遷移金属炭化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、又はニオブの炭化物化合物である、条項38及び39のいずれか1項の方法。
条項41.遷移金属ホウ化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、ニオブ、又はランタンのホウ化物化合物である、条項38及び39のいずれか1項の方法。
条項42.先端部上に仕事関数低下材料をコーティングする前に、電子エミッタを加熱して先端部上の汚染物質を除去すること
を更に含む、条項38から41のいずれか1項の方法。
条項43.電子エミッタを加熱して先端部上の汚染物質を除去する前に、電子エミッタの端部部分をエッチングして、先端部を生成すること
を更に含む、条項42の方法。
Claims (15)
- 約(0.05〜10)マイクロメートルの範囲内の直径を有する平面領域を備えた先端部と、
前記先端部上にコーティングされた仕事関数低下材料と、
を含む、電子エミッタ。 - 前記先端部が単結晶タングステンを含み、前記単結晶タングステンが<100>の結晶方位を有する、請求項1に記載の電子エミッタ。
- 前記先端部が遷移金属炭化物化合物又は遷移金属ホウ化物化合物のうちの少なくとも1つを含み、前記遷移金属炭化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、又はニオブの炭化物化合物であり、前記遷移金属ホウ化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、ニオブ、又はランタンのホウ化物化合物である、請求項1に記載の電子エミッタ。
- 前記仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、又はトリウムの酸化物化合物のうちの少なくとも1つ、あるいは
ジルコニウム、チタン、ニオブ、スカンジウム、バナジウム、又はランタンの窒化物化合物のうちの少なくとも1つ、あるいは
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、ニオブ、又はトリウムのオキシナイトライド化合物のうちの少なくとも1つ
を含む、請求項1に記載の電子エミッタ。 - 電界放出電子を解放するように構成された先端部であって、約(0.05〜10)マイクロメートルの範囲内の直径を備えた平面領域を有する先端部と、
前記先端部上にコーティングされた仕事関数低下材料と、
を含むエミッタと、
前記エミッタに熱エネルギーを提供するように構成された加熱コンポーネントと、
を含む、熱電界放出カソード。 - 前記先端部が遷移金属炭化物化合物又は遷移金属ホウ化物化合物のうちの少なくとも1つを含み、前記遷移金属炭化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、又はニオブの炭化物化合物であり、前記遷移金属ホウ化物化合物が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタル、チタン、タングステン、モリブデン、ニオブ、又はランタンのホウ化物化合物である、請求項5に記載の熱電界放出カソード。
- 前記仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、又はトリウムの酸化物化合物のうちの少なくとも1つ、あるいは
ジルコニウム、チタン、ニオブ、スカンジウム、バナジウム、又はランタンの窒化物化合物のうちの少なくとも1つ、あるいは
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、ニオブ、又はトリウムのオキシナイトライド化合物のうちの少なくとも1つ
を含む、請求項5に記載の熱電界放出カソード。 - ベースと、
前記ベース内に埋め込まれた2つの電極と、
2つの端部と中心部分とを含む導電ワイヤであって、前記導電ワイヤの前記2つの端部がそれぞれ前記2つの電極に接続され、前記エミッタが前記導電ワイヤの前記中心部分に装着され、前記導電ワイヤが前記中心部分で前記エミッタに対して凸状になっている導電ワイヤと、
を更に含む、請求項5に記載の熱電界放出カソード。 - 先端部を有する電子エミッタに抑制を加えることと、
前記抑制の下で、前記先端部上に平面領域を形成することと、
前記抑制を除去することと、
を含む、方法。 - 前記先端部上に前記平面領域を形成することが、
前記電子エミッタの前記先端部を研磨して、前記平面領域を形成すること
を含む、請求項9に記載の方法。 - 前記先端部に固定具又はジグを取り付けることと、
前記固定具又はジグを使用して、前記平面領域を形成することと、
を更に含む、請求項9に記載の方法。 - 前記電子エミッタに前記抑制を加えることが、
前記先端部上にワックスを塗布すること
を含む、請求項9に記載の方法。 - 前記抑制が除去された後に前記電子エミッタを加熱することであって、前記加熱が前記先端部上の汚染物質を除去することと、
前記加熱後に前記先端部上に仕事関数低下材料をコーティングすることと、
を更に含む、請求項9に記載の方法。 - 前記抑制が除去された後に前記先端部上に仕事関数低下材料をコーティングすることであって、前記仕事関数低下材料が、
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、又はトリウムの酸化物化合物のうちの少なくとも1つ、あるいは
ジルコニウム、チタン、ニオブ、スカンジウム、バナジウム、又はランタンの窒化物化合物のうちの少なくとも1つ、あるいは
ジルコニウム、ハフニウム、チタン、スカンジウム、イットリウム、バナジウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、イッテルビウム、ルテチウム、ニオブ、又はトリウムのオキシナイトライド化合物のうちの少なくとも1つ
を含むこと
を更に含む、請求項9に記載の方法。 - 前記電子エミッタの端部部分をエッチングして、前記先端部を形成すること
を更に含む、請求項9に記載の方法。
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