JP2019525836A - マイクロ流体デバイスにおける気泡の除去 - Google Patents

Abstract

流動が停止されていないマイクロ流体デバイスから気泡を除去する方法が、説明される。圧力および流動を組み合わせ、マイクロ流体デバイスから気泡を除去する方法が、説明される。気泡は、たとえデバイスが、主としてガス不透過性であるポリマーから作製されている場合でも、除去されることができる。一実施形態において、方法は、マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、マイクロチャネルは、気泡を備え、気泡は、体積を有する、ことと、気泡体積が低減させられるような条件下で、マイクロチャネルを通して圧力下で流体を流動させることとを含む。

Description

流動が停止されていないマイクロ流体デバイスから気泡を除去する方法が、説明される。実際に、圧力と流動とを組み合わせ、マイクロ流体デバイスから気泡を除去する方法が、説明される。気泡は、デバイスが主としてガス不透過性であるポリマーから作製されている場合でも、除去されることができる。

マイクロ流体システムの中に意図せずにもたらされた気泡は、デバイス動作に著しくかつ負の影響を及ぼし得る。気泡のない状態下でこれらのデバイスを動作させること、充填することは、実質的に不可能である。これは、典型的には、細胞播種に先立つ表面の殺菌および事前調整を要求するマイクロ流体灌流培養システムに対して特に当てはまる。

気泡が成長領域の中に進入した場合、不十分な細胞生存率が、結果として生じ得る。気泡は、典型的に、細胞に対して細胞毒性であり、その細胞膜を破裂させるであろう。そのうえ、気泡は、混合および流動に干渉し得る。したがって、マイクロ流体システムは、細胞培養中のいかなる時でもデバイスの中にもたらされる小さい気泡に対してさえきわめて敏感である。

気泡ベースの問題を軽減させるための１つの解決法は、マイクロ流体特徴を統合し、気泡がデバイスの重要な領域に進入することを防止することである。概して、２つの異なるアプローチが存在する：気泡捕捉か、気泡除去か。気泡捕捉は、デバイスを通した気泡のさらなる進行を停止させる流動システムの中に統合された構造である。捕捉アプローチは、デバイス動作が維持されながら、気泡が捕捉されるという利点を有する。しかしながら、気泡捕捉は、システムから気泡を除去しないので、気泡捕捉は、完全に気泡でいっぱいになり得る。この時点において、任意の追加の気泡が、システムを通して送られ、問題をもたらす。加えて、捕捉は、システム内の全ての気泡を捕らえないこともある。

捕捉に対する代替が、２００８年のＬａｂ Ｃｈｉｐ ８、１７６−１７８ページにおいてＫａｎｇ、他によって実証された気泡除去である。彼らは、能動的にシステムから気泡を除去した。この方法は、ＰＤＭＳのガス透過性に依拠し、気泡をチャネルの外にポリマーの中まで押しやるために正の圧力を使用する。ここでの利点は、気泡がシステムから除去されることである。しかしながら、これを達成するために、デバイスがシールされ、流動が停止され、デバイスが気泡をポリマーを通して外に押しやるために加圧される必要がある。マイクロ流体灌流システムに対して、これは、細胞への培地供給が停止され、環境細胞を改変し、可能性として、栄養不足状態につながることを意味する。

必要とされているものは、流動が停止されていないマイクロ流体デバイスから気泡を除去する方法である。

流動が停止されていないマイクロ流体デバイスから、マイクロ流体デバイスのマイクロチャネル内の１つ以上の気泡を含むガス気泡または空気泡を除去する方法が、説明され、実際に、圧力および流動を組み合わせ、マイクロ流体デバイスから気泡を除去する方法の実施形態が、説明される。気泡は、方法の実施形態がポリマーを通して気泡を押し出すことを含まないので、たとえデバイスが、主としてガス不透過性であるポリマーから作製されている場合でも、除去されることができる。１つの実施形態では、マイクロチャネルの少なくとも一部は、それを親水性に（または、少なくともより親水性に）なるように処理される。

１つの実施形態では、本発明は、気泡体積を低減させる方法であって、ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、該マイクロチャネルは、気泡を備え、該気泡は、体積を有する、ことと、ｂ）流体を、該気泡体積が低減させられるような条件下で、該マイクロチャネルを通して圧力下で流動させることとを含む方法を検討する。ポリマーは、ガス透過性であるが、好ましい実施形態では、該マイクロチャネルは、実質的にガス不透過性であるポリマーから作製される。本発明は、いかなる特定のガス透過性の測定にも限定されないことが意図されるが、しかしながら、１つの実施形態では、それは、酸素透過率（例えば、１日あたり約０．２ｃｃ／１００インチ^２未満、より好ましくは、１日あたり０．１ｃｃ／１００インチ^２未満、さらにより好ましくは、１日あたり０．０１ｃｃ／１００インチ^２未満等の酸素透過率特性）によって測定される。

本発明は、実質的にガス不透過性であるいかなる特定のポリマーにも限定されないことが意図される。１つの実施形態では、該ポリマーは、環状オレフィンポリマーである。

１つの実施形態では、該マイクロチャネルは、該マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、該マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通する。

１つの実施形態では、該第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、該第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、該第１の圧力は、該第２の圧力を上回る。１つの実施形態では、該マイクロチャネルは、灌流多岐管内に存在する（リザーバは、灌流多岐管内に存在する）。１つの実施形態では、該灌流多岐管は、マイクロ流体チップと係合し、それと流体連通する。１つの実施形態では、該灌流多岐管は、スカート部を備え、該スカート部は、該マイクロ流体チップに係合する側方軌道を備えている。１つの実施形態では、該マイクロ流体チップは、１つ以上のポートを備え、該灌流多岐管は、該１つ以上のポートを通して該マイクロ流体チップと流体連通する。１つの実施形態では、該灌流多岐管は、流体を、該１つ以上のポートを通してある流量で該マイクロ流体チップに送達する。１つの実施形態では、該第１の圧力は、２１ｋＰａであり、該第２の圧力は、２０ｋＰａである。１つの実施形態では、該気泡は、ガス気泡である。１つの実施形態では、該ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である。１つの実施形態では、該気泡は、空気泡である。１つの実施形態では、該流量は、４０μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流量は、４０μＬ／時間を上回る。１つの実施形態では、該流量は、５０μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流量は、５０〜７５μＬ／時間である。１つの実施形態では、該マイクロ流体デバイスは、該マイクロチャネル内に生細胞を備え、該流体は、（例えば、図１Ａおよび１Ｂに示されるタイプの灌流多岐管を介して）該生細胞に供給される培地を備えている。１つの実施形態では、ステップｂ）より前の該培地は、ガス除去されている。１つの実施形態では、該ステップｂ）の培地は、不飽和状態である。１つの実施形態では、ステップｂ）より前の該培地は、ガス除去されていない。１つの実施形態では、ステップｂ）は、少なくとも１時間にわたって実施される。１つの実施形態では、ステップｂ）は、２時間にわたって実施される。１つの実施形態では、方法は、該マイクロチャネルの中に流体を導入することｃ）をさらに含み、該流体は、ガス除去されていない。

さらに別の実施形態では、本発明は、気泡体積を低減させる方法であって、ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、該マイクロチャネルは、実質的にガス不透過性であるポリマーから作製され、該マイクロチャネルは、気泡を備え、該気泡は、体積を有する、ことと、ｂ）流体を、該気泡体積が低減させられるような条件下で、該マイクロチャネルを通して圧力下で流動させることとを含む方法を検討する。１つの実施形態では、ステップｂ）は、１〜２時間にわたって実施される。

１つの実施形態では、該マイクロチャネルは、該マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、該マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通する。１つの実施形態では、該第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、該第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、該第１の圧力は、該第２の圧力を上回る。１つの実施形態では、該マイクロチャネルは、（例えば、リザーバを含む）灌流多岐管内に存在する。１つの実施形態では、該灌流多岐管は、マイクロ流体チップと係合し、それと流体連通する。１つの実施形態では、該灌流多岐管は、スカート部を備え、該スカート部は、該マイクロ流体チップに係合する側方軌道を備えている。１つの実施形態では、該マイクロ流体チップは、１つ以上のポートを備え、該灌流多岐管は、該１つ以上のポートを通して該マイクロ流体チップと流体連通する。１つの実施形態では、該第１の圧力は、２１ｋＰａであり、該第２の圧力は、２０ｋＰａである。１つの実施形態では、該気泡は、ガス気泡である。１つの実施形態では、該ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である。１つの実施形態では、該気泡は、空気泡である。１つの実施形態では、該流体の流動は、４０μＬ／時間の流量である。１つの実施形態では、該流量は、４０μＬ／時間を上回る。１つの実施形態では、該流量は、５０μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流量は、５０〜７５μＬ／時間である。１つの実施形態では、該マイクロ流体デバイスは、該マイクロチャネル内に生細胞を備え、該流体は、該生細胞に供給される培地を備えている。１つの実施形態では、ステップｂ）より前の該培地は、ガス除去されている。１つの実施形態では、該ステップｂ）の培地は、不飽和状態である。１つの実施形態では、ステップｂ）より前の該培地は、ガス除去されていない。１つの実施形態では、ステップｂ）は、１時間未満にわたって実施される。１つの実施形態では、ステップｂ）は、少なくとも１時間にわたって実施される。１つの実施形態では、ステップｂ）は、２時間にわたって実施される。１つの実施形態では、方法は、ｃ）該マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、該流体は、ガス除去されていない。

さらに別の実施形態では、本発明は、気泡体積を低減させる方法であって、ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、該マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、ｂ）流体を、該細胞の上を覆って該マイクロチャネルを通して、ある流量で流動させることと、ｃ）気泡を検出することであって、該気泡は、体積を有する、ことと、ｄ）該流体の流動を停止させることなく、圧力を用いて該気泡体積を低減させることとを含む方法を検討する。

１つの実施形態では、該マイクロチャネルは、該マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、該マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通する。１つの実施形態では、該ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられる。１つの実施形態では、該第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、該第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、該第１の圧力は、該第２の圧力を上回る。１つの実施形態では、該第１の圧力は、２１ｋＰａであり、該第２の圧力は、２０ｋＰａである。１つの実施形態では、該気泡は、ガス気泡である。１つの実施形態では、該ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である。１つの実施形態では、該気泡は、空気泡である。１つの実施形態では、該流量は、４０μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流量は、４０μＬ／時間を上回る。１つの実施形態では、該流量は、５０μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流量は、５０〜７５μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流体は、該生細胞に供給される培養培地を備え、該細胞は、ステップｄ）の後にも生存している。１つの実施形態では、ステップｄ）より前の該培地は、ガス除去されている。１つの実施形態では、該ステップｄ）の培地は、不飽和状態である。１つの実施形態では、ステップｄ）より前の該培地は、ガス除去されていない。１つの実施形態では、ステップｄ）は、少なくとも１時間にわたって実施される。１つの実施形態では、ステップｄ）は、２時間にわたって実施される。１つの実施形態では、ｅ）該マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、該流体は、ガス除去されていない。

さらに別の実施形態では、本発明は、流体接続を確立する方法であって、ａ）第１の流体ポートを備えている第１の基板および第２の流体ポートを備えている第２の基板を提供することと、ｂ）該第１および第２の流体ポートの組を整列させることと、ｃ）該第１および第２の流体ポートを接触させ、気泡が形成するような条件下で流体接続を確立させることであって、該気泡は、体積を有する、ことと、ｄ）流体を、該気泡体積が低減させられるような条件下で、該第１または第２のポートを通して圧力下で流動させることとを含む方法を検討する。１つの実施形態では、該第１の基板は、該第２の基板を誘導するように適合されている誘導機構を備えている。１つの実施形態では、方法は、ステップｂ）より前に該第２の基板を該誘導機構と係合させることをさらに含む。１つの実施形態では、該ステップｂ）の整列させることは、該誘導機構を用いて実施される。１つの実施形態では、該誘導機構は、該第１の基板上に位置付けられた誘導軌道を備え、該誘導軌道は、該第２の基板の一部に係合するように構成されている。１つの実施形態では、該ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられる。１つの実施形態では、該気泡は、ガス気泡である。１つの実施形態では、該ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である。１つの実施形態では、該気泡は、空気泡である。１つの実施形態では、流体の流動は、３０〜４０μＬ／時間の流量である。１つの実施形態では、該流量は、４０μＬ／時間を上回る。１つの実施形態では、該流量は、５０μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流量は、５０〜７５μＬ／時間である。１つの実施形態では、該第１の基板は、該ポートと流体連通しているチャネルを備えている。１つの実施形態では、該チャネルは、マイクロチャネルである。１つの実施形態では、該第１の基板は、（例えば、図１Ａおよび１Ｂに示されるタイプの）灌流多岐管である。１つの実施形態では、該第２の基板は、マイクロ流体デバイスである。１つの実施形態では、該灌流多岐管は、（例えば、図１Ａ、１Ｂ、２Ｃ−Ｄ、または２Ｅ−１、Ｅ２、Ｅ３に図示されるように）ステップｃ）において該マイクロ流体デバイスに係合する。１つの実施形態では、該マイクロ流体デバイスは、マイクロチャネルを備え、該マイクロチャネルは、生細胞を備え、該流体は、該細胞に供給される培地を備えている。１つの実施形態では、ステップｄ）より前の該培地は、ガス除去されている。１つの実施形態では、該ステップｄ）の培地は、不飽和状態である。１つの実施形態では、ステップｄ）より前の該培地は、ガス除去されていない。１つの実施形態では、ステップｄ）は、少なくとも１時間にわたって実施される。１つの実施形態では、ステップｄ）は、２時間にわたって実施される。１つの実施形態では、方法は、ｅ）該マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、該流体は、ガス除去されていない。

さらに別の実施形態では、本発明は、気泡体積を低減させる方法であって、ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、該マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、ｂ）流体を、該細胞の上を覆って該マイクロチャネルを通して、ある流量で流動させることであって、該流体は、該流動より前、該流体を不飽和状態にするように処理されている、ことと、ｃ）気泡を検出することであって、該気泡は、体積を有する、ことと、ｄ）該流体の流動を停止させることなく、ある期間にわたって圧力を用いて該気泡体積を低減させることであって、生細胞は、該期間の後、該マイクロチャネル内に存在する、こととを含む方法を検討する。１つの実施形態では、該マイクロチャネルは、該マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、該マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通する。１つの実施形態では、該ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられる。１つの実施形態では、該第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、該第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、該第１の圧力は、該第２の圧力を上回る。１つの実施形態では、該第１の圧力は、少なくとも０．５ｋＰａだけより大きい。１つの実施形態では、該第１の圧力は、２１ｋＰａであり、該第２の圧力は、２０ｋＰａである。１つの実施形態では、該第１の圧力は、３１ｋＰａであり、該第２の圧力は、３０ｋＰａである。１つの実施形態では、該第１の圧力は、３３ｋＰａであり、該第２の圧力は、３２ｋＰａである。１つの実施形態では、該気泡は、ガス気泡である。１つの実施形態では、該ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である。１つの実施形態では、該気泡は、空気泡である。１つの実施形態では、該流体の流動は、３０〜４０μＬ／時間の流量である。１つの実施形態では、該流量は、４０μＬ／時間を上回る。１つの実施形態では、該流量は、５０μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流量は、５０〜７５μＬ／時間である。

さらに別の実施形態では、本発明は、平衡化されていない培養培地を使用する方法であって、ａ）ｉ）平衡化されていない培養培地と、ｉｉ）マイクロチャネルとを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、該マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、ｂ）該流体の流動を停止させることなく、該細胞の上を覆って該マイクロチャネルを通して、ある期間にわたって圧力下で、ある流量で該平衡化されていない培養培地を流動させることであって、生細胞は、該期間の後、該マイクロチャネル内に存在し、かつ該マイクロチャネル内に視認可能な気泡が、存在しない、こととを含む方法を検討する。１つの実施形態では、該マイクロチャネルは、該マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、該マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通する。１つの実施形態では、該第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、該第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、該第１の圧力は、該第２の圧力を上回る。１つの実施形態では、該第１の圧力は、少なくとも０．５ｋＰａだけより大きい。１つの実施形態では、該第１の圧力は、２ｋＰａを下回る分だけより大きい。１つの実施形態では、該第１の圧力は、２１ｋＰａであり、該第２の圧力は、２０ｋＰａである。１つの実施形態では、該第１の圧力は、３１ｋＰａであり、該第２の圧力は、３０ｋＰａである。１つの実施形態では、該第１の圧力は、３３ｋＰａであり、該第２の圧力は、３２ｋＰａである。１つの実施形態では、該第１の圧力は、３４ｋＰａであり、該第２の圧力は、３３ｋＰａである。１つの実施形態では、該気泡は、ガス気泡である。１つの実施形態では、該ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である。１つの実施形態では、該気泡は、空気泡である。１つの実施形態では、該平衡化されていない培養培地の流動は、３０〜４０μＬ／時間の流量である。１つの実施形態では、該流量は、４０μＬ／時間を上回る。１つの実施形態では、該流量は、５０μＬ／時間である。１つの実施形態では、該流量は、５０〜７５μＬ／時間である。

さらに別の実施形態では、本発明は、２つのマイクロチャネルを有するマイクロ流体デバイス内の気泡体積を低減させる方法であって、ａ）変形可能膜によって分離された第１および第２のマイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、気泡が、該第１または第２のマイクロチャネルもしくは両方の中に存在し、該気泡は、体積を有する、ことと、ｂ）流体を、該気泡体積が低減させられ、かつ該変形可能膜が変形させられない（または２０％未満、より好ましくは、１０％未満、最も好ましくは、５％未満だけ変形させられる）ような条件下で、該第１および第２のマイクロチャネルを通して圧力下で流動させることとを含む方法を検討する。１つの実施形態では、ｉ）該マイクロチャネルは、該第１のマイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、該第１のマイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通し、ｉｉ）該第２のマイクロチャネルは、該２のマイクロチャネルの第１の端部において、第３のリザーバと流体連通し、該第２のマイクロチャネルの第２の端部において第４のリザーバと流体連通する。１つの実施形態では、ｉ）該第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、該第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、該第１の圧力は、該第２の圧力を上回り、ｉｉ）該第３のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、該第４のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、該第１の圧力は、該第２の圧力を上回る。１つの実施形態では、該第１の圧力は、２１ｋＰａであり、該第２の圧力は、２０ｋＰａである。１つの実施形態では、該第１の圧力は、３１ｋＰａであり、該第２の圧力は、３０ｋＰａである。１つの実施形態では、該第１の圧力は、３３ｋＰａであり、該第２の圧力は、３２ｋＰａである。１つの実施形態では、該第１の圧力は、３４ｋＰａであり、該第２の圧力は、３３ｋＰａである。１つの実施形態では、該第２のリザーバおよび該第４のリザーバは、（２つのマイクロチャネル内で等しいまたは非常に略等しい圧力を維持するために）圧力調節器を共有する。

好ましい実施形態では、本発明は、マイクロ流体デバイスを用いて、平衡化されておらず、ガス除去されていない培養培地の利用を検討する。１つの実施形態では、本発明は、第１の圧力／流動サイクルの前、ガスを除去するプロセス（分解されたガスを溶液から物理的に除去する）を介して培地を平衡化させるが、その後培地を交換するとき、すなわち、長期間の培養中、平衡化されておらず、ガス除去されていない培地の使用を検討する。つまり、培養培地が、例えば、実験の開始時等に平衡化され、かつ／またはガス除去されると、圧力／流動処理が、ある期間にわたって利用される。別の好ましい実施形態では、本発明は、培養培地が、灌流多岐管または「ポッド」リザーバの中に設置される場合、第１の圧力／流動サイクルにおいても（たとえより高い圧力を伴う場合でも）、平衡化されておらず、ガス除去されていない培地の使用を検討する。この実施形態では、培養培地は、平衡されておらず（すなわち、それは、平衡化されていない培養培地である）、ガス除去を介して分解されたガスの物理的除去を受けていない。

１）細胞（運動ニューロン等の、剪断力に敏感な細胞を含む）が、生存能力の喪失または発達の抑制（例えば、軸索成長の抑制）なく高い流量、すなわち、気泡除去を推進することに役立つ流量に対処することが可能であり、２）２０ｋＰａの印加圧力の複数の圧力／流動サイクルに対処することが可能であること、および、３）システム気泡を除去するための最初の圧力／流動処理の後、通常の培地更新／追加ステップ中に低温培地を使用して入口リザーバを補充することは、気泡の形成をもたらさないことが、経験的に見出されている。

（本発明の説明）
１つの実施形態では、本発明は、マイクロ流体デバイスに別のマイクロ流体デバイスと流体連通させること（限定ではないが、マイクロ流体デバイスに灌流多岐管アセンブリと流体連通させることを含む）を検討する。

残念ながら、デバイスに互いに流体連通させることは、図３Ａおよび３Ｂに図示されるように、気泡（４０）の形成をもたらし得る。これらは、ガス／空気充填チップを流体で最初に充填するときにも捕捉されることができる。空気泡は、表面に固定され、流体流を用いるのみでは洗浄しにくいので、マイクロ流体の幾何学形状において特に困難である。それらは、種々の手段を通して細胞を損傷させ得るので、細胞培養デバイスに追加の難題を提起する。

そのうえ、気泡は、成長し得る。例えば、それらは、５％のＣＯ_２との平衡および湿潤環境により成長し得る。それらは、疎水性表面からの毛管力によっても成長し得る。一方で、それらは、灌流ディスポーザブル（「ＰＤ」）内の圧力降下に起因する過飽和培地によっても成長し得る。

上で記載されたように、気泡を除去するための１つのアプローチが、２００８年のＬａｂ Ｃｈｉｐ ８、１７６−１７８ページにおいてＫａｎｇ、他によって実証された気泡除去である。彼らは、ＰＤＭＳのガス透過性を利用することによって能動的にシステムから気泡を除去したが、正の圧力が、使用され、気泡をチャネルから押し出し、ポリマーの中に押しやった。ここでの利点は、気泡がシステムから除去されることである。しかしながら、これを達成するために、デバイスが、シールされ、流動が、停止され、かつデバイスが、加圧され、気泡を押し出す必要がある。マイクロ流体灌流システムに対して、これは、細胞への培地供給が停止され、環境細胞を改変し、可能性として栄養不足状態につながることを意味する。

加えて、Ｋａｎｇ、他のアプローチは、ＰＤＭＳのガス透過性に依拠する。ＰＤＭＳは、マイクロ流体工学において一般的に使用されているが、そのようなガス透過性材料を使用しない正当な理由、すなわち、チップ内で実質的にガス不透過性である材料を使用する正当な理由が、存在する。第１に、液体は、ガス透過性材料を通して含有量を増加または喪失し得るので、包囲材料がガス透過性である場合、チップ内に存在する液体のガス含有量を制御することが、困難であり得る。これは、例えば、腸管のいくつかの部分内に存在する低酸素状態（いわゆる「ガットオンチップ」によってモデル化される）等の低酸素状態をモデル化する場合、妥当であり得る。第２に、気泡が、ガス透過性材料を通してガスを増加させ得るので、ガス透過性は、気泡を増幅させ得る。第３に、ガス透過性材料は、多くの場合、対流ガス移送がない状態でも気泡に燃料供給し得るより高いガス収容能力（ｇａｓ ｃａｒｒｙｉｎｇ ｃａｐａｃｉｔｙ）も有する。第４に、酸素等のガスに対して透過性である材料はまた、多くの場合、水蒸気に対してより透過性である。故に、包囲材料のガス透過性が、マイクロ流体デバイスからの蒸発をもたらし得る。

ＰＤＭＳ等の材料を使用しない正当な理由が存在するが、さらに考慮すべき点が、存在する。偶然に実質的にガス不透過性であり得る材料が、他の理由のために好まれ得る。例えば、ＣＯＰ（環状ポリオレフィン）、ポリカーボネート、アクリル、またはポリスチレン材料が、それらの射出成型との適合性、光学的透明度、強度、または種々の他のパラメータに起因して選択され得る。これらの材料は、（少なくとも典型的な厚さおよびＰＤＭＳのガス透過性との比較において）実質的にガス不透過性である傾向があるが、その選択は、他の要因に基づく。

いずれにしても、偶然に実質的にガス不透過性であり得る材料の使用は、Ｋａｎｇ、他の気泡除去アプローチを実行不可能にする。気泡は、ポリマーの中に押し込まれることはないであろう。

当然ながら、１つのアプローチは、気泡を生成する可能性が低い条件を作製することである。例えば、１つのアプローチは、親水性またはより親水性である流体層を作製することである。これは、プライミング中に捕捉される気泡の機会を低減させる。そのうえ、気泡は、培地が、平衡状態の場合、通常、収縮しようとするはずである。

但し、気泡が存在すると、本発明は、圧力および流動の組み合わせを使用した能動的な低減および／または除去を検討する。１つの実施形態では、２つのリザーバが、採用される。次いで、押しベース流動方法（図６）または引きベース流動方法（図７）のいずれか一方を利用することができる。引きベース流動方法では、過飽和培地は、システムの重要な領域内にないであろう。これは、正の圧力調整器を真空調節器と交換することを要求する。

しかしながら、好ましい方法は、圧力差異および流動を利用する。図８に示されるように、わずかな圧力差（Ｐ_１対Ｐ_２）でさえ、非現実的な流量を要求することなく、十分な圧力（気泡を低減させるために十分な）をもたらす。この方法では、ある印加圧力を下回ると、気泡体積を低減させるための非常に長い（非実践的な）期間をもたらす。そのうえ、そのような低い圧力の利用は、システムをわずかな変化および非一貫性に対して敏感にする。

これは、非常に高い圧力が使用される必要があることを意味していない。実際には、ある圧力を超えると、減少する収穫のみが、存在し、すなわち、気泡体制を低減させるために、実質的に同じ量の時間（短期間）が、かかる。

本発明は、いかなる特定の機構にも限定されないことが意図されるが、ａ）気泡が、培地内の分解ガスとの平衡に起因して収縮すること、ｂ）気泡を収縮させるわずかな毛細管圧しか存在しないこと、ｃ）気泡を成長させるような蒸気圧が、わずかしか存在しないこと、および、ｄ）チップまたは灌流ディスポーザブルのいずれか一方を通したガス透過が、存在しないことが考えられている。換言すると、気泡のそばを通る培地が非飽和状態または不飽和状態である場合、培地は、気泡からガスを取り込む／分解するための能力を有する。分解ガスを能動的に除去すること（ガス除去すること）によって、または、流体圧力を増加させることによって、培地が消費（分解）できるガスの量または体積を増加させることができる。１つの実施形態では、これらの両方が、同時に行われ、増加した圧力は、実際に、培地の分解ガス収容能力を増加させる。加えられる圧力が大きいほど、培地のガス収容能力の増加が、大きくなり、大きい気泡が、迅速に粉砕され得る。しかしながら、これには実践的な限界が、存在する。

培地が、静的状態である（気泡を通過して流動していない）場合、効率的に気泡を粉砕することは、困難であるであろうことが見出されている。この理由は、マイクロチャネルの比較的に長く細い幾何学形状である。培地は、気泡を分解するので、平衡／飽和状態にますます接近し、いかなるさらなるガスをも分解することはできない。マイクロチャネル内に、「合理的な」印加圧力で気泡を完全に分解するための十分な培地体積が、存在しない（十分でないガス収容能力）。しかしながら、新たな（新鮮な）不飽和培地を気泡を通過して流動させることによって、この新たな培地が、気泡を分解し続け得る。

別の観点から述べると、マイクロチャネルの小さい幾何学形状が、気泡のサイズを限定する。マイクロチャネルの空間が、小さいので、気泡も、小さい。したがって、気泡を分解する能力／時間は、印加圧力、流量、および気泡の最初の体積に依存する（気泡が大きいほど、完全に分解するために長い時間がかかる）。有意な絶対圧力を生成する小さな圧力差を使用して、気泡は、非常に迅速に（略瞬時に）かつ完全に、培地と平衡状態になる。好ましい実施形態では、以下の条件が、使用される：
入力圧力＝２１ｋＰａ
出力圧力＝２０ｋＰａ
気泡粉砕時間＝２時間。

これらの条件は、実践で良好に機能する（すなわち、細胞を破壊せずに気泡を粉砕／分解する）。これらの条件下で、全ての気泡を１時間で完全に除去し得るはずであるが、十分に用心して、２時間にわたって気泡粉砕サイクルを動作させることができる。

図１Ａは、灌流多岐管アセンブリの一実施形態の分解図であり、リザーバから外されたカバーと、バックプレーン上方のリザーバと、スカート部と流体連通するバックプレーンと、１つ以上の入口、出口、および真空ポートを有する代表的なマイクロ流体デバイスまたは「チップ」に係合するための側方軌道を伴うスカート部と、チップキャリアの一実施形態に隣接して（その中ではなく）示されるチップとを示し、キャリアは、チップを支持し、運ぶように構成されている。 図１Ｂは、灌流多岐管アセンブリの同一の実施形態を示し、アセンブリは、リザーバの上にあり、それを覆うカバーと、灌流多岐管アセンブリのスカート部に完全に連結され、それによってリザーバと流体連通するチップキャリアの内側のチップを伴う。 図１Ｃは、圧力カバーまたは圧力蓋と、その下の関連付けられたガスケットとを備えているカバーアセンブリの一実施形態の分解図である。 図２Ａは、灌流多岐管アセンブリの一実施形態のスカート部の側方軌道に接近する（但し、まだ係合していない）（内側にチップを伴う）チップキャリアの一実施形態の側面図を示し、ある角度で整列させられたキャリアは、側方軌道の角度付けられた正面端部に整列し、キャリアは、上向きの保護クリップとして構成されている保持機構を備えている。 図２Ｂは、灌流多岐管アセンブリの一実施形態のスカート部の側方軌道に係合する（但し、まだ連結されていない）（内側にチップを伴う）チップキャリアの一実施形態の側面図を示す。 図２Ｃは、灌流多岐管アセンブリの一実施形態のスカート部の側方軌道に完全に係合する（但し、まだ連結されていない）（内側にチップを伴う）チップキャリアの一実施形態の側面図を示す（スナップ嵌めされるために必要な移動方向を示し、それによって、保持機構が係合し移動を防止するであろう矢印を伴う）。 図２Ｄは、灌流多岐管アセンブリに取り外し可能に連結された（内部にチップを伴う）チップキャリアの一実施形態の側面図を示し、保持機構が、係合され移動を防止する。 図２Ｅは、単一動作内のスライド動作（２Ｅ−１）と、旋回（２Ｅ−２）と、スナップ嵌め（２Ｅ−３）とを備えている多岐管への連結アプローチの一実施形態を図式的に示す要約スライドである。 図３は、空気泡またはガス気泡のマイクロチャネルの中への導入をもたらす、２つのマイクロ流体デバイスの接続の一実施形態を示す概略図である。図３Ａは、まだ接続されていないマイクロチャネルを伴う流体的にプライミングされる２つのデバイスを示す。図３Ｂは、空気泡のマイクロチャネルの中への導入をもたらす様式で接触する、図３Ａのデバイスを示す。 図４Ａは、チップが（灌流ディスポーザブルまたはＰＯＤとも称される）灌流多岐管アセンブリによって係合される気泡の場所を示す概略図である。図４Ｂは、図４Ａにおいて円で囲まれた場所の灌流ディスポーザブル（チップではない）内に捕捉された気泡（矢印参照）の写真からの図面である。灌流ディスポーザブルは、ＳＥＢＳ（スチレンエチレンブチレンスチレン）キャッピング層を伴うＣＯＰ（環状ポリオレフィン）から成る。ＣＯＰおよびＳＥＢＳの両方は、ＰＤＭＳよりもガス透過性が実質的に低い。 図５は、篏合表面（２１）を伴う、例証的なマイクロ流体デバイスまたは（ＰＤＭＳ等のプラスチックから加工され得る）「臓器オンチップ」デバイスの概略図である。図５Ａ内の組み立てられたデバイスは、複数のポートを含む。 図５は、篏合表面（２１）を伴う、例証的なマイクロ流体デバイスまたは（ＰＤＭＳ等のプラスチックから加工され得る）「臓器オンチップ」デバイスの概略図である。図５Ｂは、細胞挙動、および／またはガス、化学物質、分子、微粒子、ならびに細胞の通過が監視される膜を備えている組織間界面の模擬実験領域（ＳＲ）を示す、図５Ａのデバイスの分解図を示す。 図６は、流体が、流体が高圧下で入れられるリザーバ（右側）から流動する「押し」ベース流動アプローチの概略図である。流体は、リザーバ（右側）から退出し、レジスタ（スイッチバック）を通してチップの方向（流動方向を示す矢印参照）に流動する。他方のリザーバ（左側）に加えられる圧力は、存在しない。 図７は、流体が圧力下にないリザーバ（左側）から流動するが、他方のリザーバ（右側）は（例えば、真空のために）低い圧力を有する「引き」ベース流動アプローチの概略図である。流体は、リザーバ（左側）から退出し、チップ方向（流動方向を示す矢印参照）に流動する。 図８は、両方のリザーバ内の流体が圧力下にある（Ｐ_２はゼロではないが、Ｐ_１を下回る）、圧力差異（「デルタＰ」）ベース流動アプローチの概略図である。流体は、リザーバ（右側）から退出し、レジスタ（スイッチバック）を通してチップの方向（流動方向を示す矢印参照）に流動する。 図９は、圧力差異ベース流動アプローチを使用した気泡体積低減に対する実験結果を示す。図９内の流量は、圧力差異（デルタ）の項で与えられ、ｌｋＰａは、４０μＬ／時間に対応し、１．５ｋＰａは、６０μＬ／時間であり、３ｋＰａは、１２０μＬ／時間であり。８ｋＰａは、３２０μＬ／時間であり、２８．３ｋＰａは、１．１３ｍＬ／時間である。出口に加えられ、したがって、気泡によって「感知された」圧力は、「感知」圧力（単位ｋＰａ）の項で与えられる。 図１０は、大規模な複数週間にわたる実験が、多くのマイクロ流体デバイスまたは「チップ」を用いて実施されたことを示し、かつ（例えば、１日おきまたは重要な時点での）培地の更新作業が、負担になり得ることを強調するチャートである。 図１１は、気泡検出のために読み出されたような流量を伴う、臓器オンチップに係合する１９個のポッド内の平衡化されていない培地の使用を伴う実験の結果を示す。図１１Ａは８個のポッドに対する結果を示し、図１１Ｂは、１１個のポッドに対する結果を示す（点線は、底部平均および上部平均からの２０％偏差を示す）。 図１１は、気泡検出のために読み出されたような流量を伴う、臓器オンチップに係合する１９個のポッド内の平衡化されていない培地の使用を伴う実験の結果を示す。図１１Ａは８個のポッドに対する結果を示し、図１１Ｂは、１１個のポッドに対する結果を示す（点線は、底部平均および上部平均からの２０％偏差を示す）。 図１２は、より高い圧力が気泡処理に対して使用されるときの蓋の故障に関して試験するための圧力対時間のプロット図を示す。図１２Ａは、圧力が上昇され２５〜３０ｋＰａに接近するにつれて、薄いガスケットを伴う灌流システムが、蓋の故障を示したことを示す。 図１２は、より高い圧力が気泡処理に対して使用されるときの蓋の故障に関して試験するための圧力対時間のプロット図を示す。図１２Ｂは、圧力が上昇され３３ｋＰａに接近するにつれて、より厚いガスケット（薄いガスケットの２〜３倍の厚さ）を伴う灌流システムが、蓋の故障を示さなかったことを示す。 図１３は、５０μＬ／時間の制御条件対７５μＬ／時間の試験条件を用いた、（例えば、０日目、１日目、４日目、および５日目等の）経時的なマイクロ流体デバイス内の軸索成長を示す棒グラフである。

（定義）
「チャネル」は、液体およびガスの移動を可能にする培地（例えば、シリコン、ガラス、ポリマー等）を通した経路である（直線、湾曲、単一、複数、ネットワーク内に存在する等であるかどうかにかかわらない）。したがって、チャネルは、他の構成要素を接続し、すなわち、構成要素を「連通」状態、より具体的には、「流体連通」状態、さらにより具体的には、「液体連通」状態に保ち得る。そのような構成要素は、限定ではないが、液体取り入れポートおよびガス通気孔を含む。マイクロチャネルは、１ミリメートル未満かつ１ミクロンより大きい寸法を伴うチャネルである。本発明は、あるマイクロチャネル幾何学形状のみに限定されないことが意図される。１つの実施形態では、四角形のマイクロチャネルが、検討される。別の実施形態では、マイクロチャネルは、湾曲壁を伴う（管様式の）円形である。さらに別の実施形態では、円形または直線の壁の組み合わせが、使用される。

本発明は、マイクロ流体デバイス内のチャネルの数または性質によって限定されないことが意図される。いくつかの実施形態では、表面は、固体基板内に配置された流体が流動する導管または通路の表面であり得る。いくつかの実施形態では、表面は、固体表面であり得る。例えば、１つの実施形態では、固体表面は、例えば、マイクロ流体チャネルチャネル等の流体チャネルの壁表面であり得る。しかしながら、方法は、それが流体が流動する任意の限られた空間内で動作するであろうため、マイクロチャネルに限定される必要はない。

加えて、本明細書で使用されるような用語「マイクロ流体の」は、移動流体が、１つ以上の寸法が１ｍｍもしくはそれより小さい（ミクロン規模）１つ以上のチャネルの中に限られるか、もしくはそれを通して向けられる構成要素に関する。マイクロ流体チャネルは、１つ以上の方向にミクロン規模よりも大きくあり得るが、チャネルは、少なくとも１つの方向にミクロン規模であるであろう。いくつかの事例では、マイクロ流体チャネルの幾何学形状は、チャネルを通して流体の流量を制御する（例えば、チャネル高を増加させ、剪断力または抵抗を低減させる）ように構成され得る。マイクロ流体チャネルは、種々の幾何学形状に形成され、チャネルを通して幅広い範囲の流量を促進することができる。

「灌流多岐管アセンブリ」が、検討され、灌流多岐管アセンブリは、身体内の器官の中の細胞を模倣する細胞を備えている臓器オンチップマイクロ流体デバイス等のマイクロ流体デバイスの灌流を可能にし、マイクロ流体デバイスは、該アセンブリと取り外し可能に連結され、それによって、流体は、管類のない状態で制御可能な流量で流体リザーバからマイクロ流体デバイスのポートに進入する。１つの実施形態では（図１Ａおよび１Ｂ参照）、灌流多岐管アセンブリは、ｉ）、ｉｉ）の上部の役割を果たすように構成されているカバー、すなわち、蓋と、ｉｉ）１つ以上の流体リザーバと、ｉｉｉ）該流体リザーバの下のキャッピング層と、ｉｖ）該流体リザーバの下で、それと流体連通する流体バックプレーンであって、該流体バックプレーンは、レジスタを備えている、バックプレーンと、ｖ）（マイクロ流体デバイスに係合するための）スカート部とを備えている。１つの実施形態では、圧力および流動の組み合わせは、灌流多岐管アセンブリ内の気泡体積を低減させる。１つの実施形態では、灌流多岐管アセンブリは、ＰＤＭＳよりガス透過性の低いポリマーから作製される。

１つの実施形態では、灌流多岐管は、（例えば、それと流体連通する）マイクロ流体デバイスに連結される。生細胞を含むマイクロ流体デバイス（すなわち、「チップ」）は、生理学的組織間界面を再作成し、流体流を可能にする。米国特許第８６４７８６１号（参照することによって本明細書に組み込まれる）を参照されたい。そのようなデバイスは、細胞を剪断応力にさらす。静的な２次元培養物とは対照的に、マイクロチャネルは、生体外実験中、細胞培養全体を通した細胞培養培地の灌流を可能にし、したがって、より生体内様の物理的環境を提供する。簡単に述べると、入口ポートは、血液、漿液、血漿、細胞培養培地（および同等物）等の流体のマイクロ流体チャネルまたはチャンバ（細胞の有無にかかわらず）への注入を可能にする。１つの実施形態では、本発明は、細胞が搭載されたマイクロ流体チャネルまたはチャンバを検討する。出口ポートは、次いで、残りの流体ならびに有害代謝副産物の退出を可能にする。１つの実施形態では、前もって不飽和状態にされた培地を伴う流動のみが、使用される。

いくつかの実施形態では、気泡は、（限定ではないが）ＣＯＰ等の主としてガス不透過性であるポリマーに対して、マイクロ流体デバイス内で捕捉される。環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）および環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）は、傑出した透明性、良好な耐熱性、低吸湿性、良好な耐薬品性、ならびに低複屈折等の改良された潜在的物性を伴う非常に魅力的な熱可塑性樹脂である。ＣＯＣは、エチレンまたはαオレフィンを用いた環状オレフィンの共重合を通して得られ、ＭｉｔｓｕｉによるＡＰＥＬ（登録商標）、およびＴＯＰＡＳ ａｄｖａｎｃｅｄ ｐｏｌｙｍｅｒｓ（ＴＡＰ：以前のＴｉｃｏｎａ ａｎｄ Ｈｏｅｃｈｓｔ）によるＴＯＰＡＳ（登録商標）の商標名として商品化されている。ＣＯＰは、環状オレフィンの開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）とその後の水素化を介して調製され、Ｚｅｏｎ［２５］によるＺｅｏｎｅｘ（登録商標）およびＺｅｏｎｏｒ（登録商標）、ならびにＪａｐａｎ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｒｕｂｂｅｒ （ＪＳＲ）によるＡｒｔｏｎ（登録商標）の商標名として商品化されている。

（好ましい実施形態の説明）
マイクロ流体デバイスから、マイクロ流体デバイスのマイクロチャネル内の１つ以上の気泡を含むガス気泡もしくは空気泡を除去する方法が、説明される。問題を引き起こすのは、培地内の空気またはガスの存在ではない。問題を引き起こすのは、これらのガスからの気泡の形成である。疑問は、これらの気泡が形成される理由と方法である。気泡形成の源が確立され、次いで除去される場合、この問題のみが、対処され得る。

気泡形成の１つの源は、以下のように説明され得る。細胞が、３７℃に維持される培養培地から栄養物を与えられる。しかしながら、培養培地は、概して、３７℃より下回る室温（またはそれを下回る温度）で保管される。培地が、保管場所から外に移送され、最高３７℃に加熱されると、分解されたガスの溶解性に変化が生じる。より高い温度におけるガスの溶解性の減少は、分解されたガスが、チャネル表面（特に、チャネル表面の微細欠陥箇所）を含むマイクロ流体デバイス筐体の表面に粘着しやすい微小気泡の形態で培地から出て行くことを引き起こす。本発明をいかなる特定の機構にもいかようにも限定しないことを意図するが、「気泡成長」のこのプロセスが、溶液内のガスが拡散し、分解されたガスから非分解ガスのポケット部もしくは気泡に遷移するために、最初の気泡（時として核生成点または「種気泡」と称される）を要求すると考えられる。しかしながら、培地が３７℃で平衡されると、気泡の形成は、減速する。したがって、気泡が形成される理由と方法の疑問への１つの部分的な答えは、培養培地の加熱プロセス中の遷移段階のためである。

今日まで、この問題を回避するための単純な解決策は、温度勾配効果を除去すること、すなわち、マイクロ流体デバイスの中への直接的な低温培地の移送を回避することであると考えられてきた。言い換えると、培地をマイクロ流体デバイスの外で３７℃に温め、および／または、（必要である場合、適度な撹拌を伴って）容器もしくはリザーバ内で３７℃で平衡化するための十分な時間を培地のために与えるべきである。当然ながら、これは、時間がかかり、培養培地は、殺菌されている必要がある。

脱気または「ガス除去」の実践が、気泡形成のこの問題に対処するために導入されたが、それは、実践上の限界を有する実践である。加熱／真空ステップに基づく一般的に提案される脱気手順は、多くの場合、測定可能な評価項目がなく、手順を実施するために使用されている機器に非常に依存する。したがって、脱気ステップは、使用される厳密なプロセスパラメータおよび機器から生じる高度な変動性を伴い予測不可能であろう。加えて、「ガス除去」は、（細胞呼吸のための）酸素および（ｐＨ緩衝のための）ＣＯ_２等の培養物を維持するために必要とされる溶液からのガス除去の結果を有し得る。そのうえ、脱気ステップを用いていかに再現可能になるように試行しても、脱気の後は、培地が、迅速にそれ自体を大気ガスと平衡化し始めるであろう。したがって、平衡が厳密に到達されるまで、システムは、不安定かつ信頼性を欠いたままであるであろう。

大規模な複数週間にわたる実験が、多くのマイクロ流体デバイス、すなわち、「チップ」を用いて実施される場合、（例えば、１日おきまたは重要な時点での）培地の更新作業は、負担になり得る。これは、臓器オンチップを伴う２週間にわたる実験に対して図１０に図示される。

当然ながら、マイクロ流体デバイス内の細胞の生理学的環境は、脱気された培地を要求しない。ガス除去は、気泡の問題に対処するためにのみ実施されている。

これは、平衡化されておらず、ガス除去されていない培養培地がマイクロ流体デバイスに採用されることが可能かどうか（および、どの程度に）という疑問をもたらす。１つの実施形態では、本発明は、第１の圧力／流動サイクルの前、培地のガス除去プロセス（分解されたガスを溶液から物理的に除去する）を介して平衡化するが、その後培地を交換するとき、すなわち、長期間の培養中、平衡化されておらず、ガス除去されていない培地の使用を検討する。別の実施形態では、本発明は、培養培地が、灌流多岐管または「ポッド」リザーバの中に設置されるときはいつでも、第１の圧力／流動サイクルにおいても（たとえより高い圧力を伴う場合でも）、平衡化されておらず、ガス除去されていない培地の使用を検討する。１つの実施形態では、本発明は、低温／平衡化されていない培地を１つ以上のポッドリザーバの中へ追加することを検討する。

第１の実施形態では、培養培地が、培養培地が実験の開始時に平衡化され、かつ／またはガス除去されると、圧力／流動処理が、ある期間にわたって利用される。理想的に、期間は、短く（例えば、１〜２時間）かつ変動性に鈍感であるべきであり、処理条件は、非現実的に高い圧力または流量なしに動作することを可能にすべきである。本発明をある作用の機構にいかようにも限定しないことを意図するが、２つの力が、そのような圧力／流動処理において気泡を収縮させるために協働すると考えられる。最初に、圧力が、培地のガス収容能力を増加させる。次いで、（例えば、４０μＬ／時間の）流動が、気泡が分解する新鮮な（不飽和状態の）培地を提供する。過飽和状態の培地が、そもそも存在しない気泡を成長させることはできないことが、経験的に観察されている。その後、培地を補充するとき、培養培地は、平衡化、またはガス除去される必要はない。換言すると、単一の圧力／流動処理が、気泡（すなわち、核生成点／種気泡）を除去し、その後の過飽和状態の培地の使用が、それらを回復させることはないであろう。この実施形態では、平衡化されていない培地は、単一の圧力／流動サイクルがシステム気泡を正常に排除した後、入口リザーバを補充するときに使用されることができる。このアプローチの利点は、それが気泡問題を解決しながら、培養培地が平衡化され、かつ／またはガス除去されなければならない回数を減少させることである。

第２の実施形態では、培養培地は、平衡化されず（すなわち、それは、平衡化されていない培養培地である）、ガス除去を介した分解されたガスの物理的除去を受けていない。これを機能させるために、圧力／流動サイクル中に圧力（例えば、１３ｋＰａまたはそれを上回る圧力）を増加させる（例えば、２０ｋＰａから３３ｋＰａもしくはそれを上回る圧力に増加させる）ことができるかことが、物理的原理を介して数学的に決定され、かつ実験的に確認されている。いかなる特定の機構にも限定されないことを意図するが、この圧力増加は、平衡化されていない培地のガス収容能力を増加させ、平衡培地のガス収容能力に一致させ、圧力／流動サイクルを平衡化されていない培地と同様に（理論的に）効果的にすると考えられる。増加した圧力は、マイクロ流体システム上に歪みをもたらし得る。しかしながら、灌流多岐管のためのより厚いガスケットが、増加した圧力に関連付けられた漏洩を回避するための１つの解決策であることが、経験的に決定されている。細胞が増加流量に耐え得ることが経験的に見出されているので、随意に、（５０μＬから７５μＬ／時間に）増加した流量も、使用され（かつ気泡を排除するロバスト性の観点からいくつかの利点を提供し）得る。増加した圧力に関して、リザーバ間（すなわち、入口リザーバと出口リザーバとの間）の圧力差が、細胞の生存率に対して、採用される実際の圧力よりも重要であると思われる。２ｋＰａ以下、より好ましくは、１．５ｋＰａ以下、さらにより好ましくは、１．０ｋＰａ以下の圧力差が有用であることが、経験的に見出されている。

（例示的マイクロ流体デバイスの説明）
１つの実施形態では（図１に示されるように）、灌流多岐管アセンブリ、すなわち、ＰＯＤ（１０）は、ｉ）、ｉｉ）の上部の役割を果たすように構成されているカバー、すなわち、蓋（１１）と、ｉｉ）１つ以上の流体リザーバ（１２）と、ｉｉｉ）該流体リザーバの下のキャッピング層（１３）と、ｉｖ）該流体リザーバで、それと流体連通する流体バックプレーン（１４）であって、該流体バックプレーンは、流体レジスタを備えている、バックプレーンと、ｖ）好ましくは、キャリア（１７）内に位置付けられるマイクロ流体デバイス（１６）に係合するためのスカート部（１５）とを備えている。１つの実施形態では、キャリア（１７）は、タブまたは他の把持プラットフォーム（１８）と、クリップ（１９）等の保持機構と、チップを撮像するための視覚化のための切り欠き（２０）とを有する。１つの実施形態では、流体レジスタは、一連のスイッチバックまたは蛇行流体チャネル（図示せず）を備えている。

図１Ｃは、圧力カバー、すなわち、圧力蓋を備えているカバーアセンブリ（１１）の一実施形態の分解図を示す。図示される実施形態では、圧力蓋は、フィルタ（３８）に関連付けられた複数のポート（例えば、貫通孔ポート）と、ガスケット（３７）内の対応する孔（３９）とを備えている。ガスケット内の孔の図示された設計は、ガスケットが定位置にある図示されたフィルタの保持を促進することを可能にすることが意図される。代替実施形態では、ガスケット開口部は、蓋内の開口部と異なる形状を採用し得る。例えば、ガスケットは、流体または圧力シールを形成することが意図される１つ以上のリザーバの輪郭に従うように形成され得る。いくつかの実施形態では、複数のガスケットが、使用され得る。好ましい実施形態では、より厚いガスケットが、採用され得る（本明細書に説明される、気泡を扱うためのより高圧力下での漏洩を回避し得る）。いくつかの実施形態では、フィルタおよび／またはガスケットは、接着剤、熱かしめ、接合（超音波、溶媒支援型、レーザ溶接）を使用して固定され、蓋の要素および／または追加の基板によって締め付けもしくは捕捉され得る。図示される圧力蓋は、貫通孔ポートを備えているが、代替の実施形態は、少なくとも１つの上面ポートを１つ以上の底部表面ポートに流動させる１つ以上のチャネルを備え、１つ以上の底部表面ポートは、上面ポートの直下に存在する必要はない。

１つの実施形態では、マイクロ流体デバイスは、定位置（図２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄ、および２Ｅ）にある臓器オンチップデバイスを含むマイクロ流体デバイスを一時的に「係止」するクリップ留め機構によって多岐管アセンブリに取り外し可能に連結される。１つの実施形態では、クリップ留め、すなわち、「スナップ嵌め」は、マイクロ流体デバイスが位置付けられるとき、保持機構の役割を果たすキャリア上の突起物（１９）を伴う。１つの実施形態では、クリップ留め機構は、Ｌｅｇｏ^ＴＭチップの連動プラスチック設計と同様であり、直線ダウンクリップを備えている。しかしながら、別の実施形態では、クリップ留め機構は、マイクロ流体デバイス、より好ましくは、マイクロ流体デバイスを備えているキャリアが、（例えば、機械もしくは手動によって）定位置に搬送されるときにデバイスのために安定した滑動経路を提供する誘導レール、側面スロット、内部または外部トラック（２５）、もしくは他の機構において灌流多岐管アセンブリ（またはカートリッジ）に係合した後にのみ、トリガされる。誘導レール、側面スロット、内部または外部トラック（２５）、もしくは他の機構は、その必要はないが、厳密に線形であり得、多岐管アセンブリの主本体に取り付けられる突出部またはスカート部内に位置付けられ得る。１つの実施形態では、誘導レール、側面スロット、内部または外部トラック、もしくは他の機構の開始部は、より容易な最初の位置付けのためのより大きな開口部を提供する角度付けられたスライド部（２７）を備え、スライド部の後、線形または本質的に線形の部分（２８）が続く。１つの実施形態では、そうでなければ線形の（または本質的に線形の）誘導レール、側面スロット、内部もしくは外部トラック、または他の機構の端部（２９）（アセンブリの対応するポートに近接する）は、連結を達成するための線形移動（例えば、最初に）および上向き移動の組み合わせが存在するように、上向きに角度付けられる（もしくは曲線）。

ＰＯＤは、気泡導入を低減させるために役立ついくつかの特徴を有する：１）クリップは、非常に平滑な係合を有し（粗い係合および／またはガタガタした運動は、気泡をもたらし得る）、２）クリップに進行するＰＯＤの直径は、最小化され、ＰＯＤの最初の充填に時の気泡捕捉を低減させ、これは、空気のポケット部が捕捉され得る死体積を最小化する。

キャリアの利点は、マイクロ流体デバイスの表面が、多岐管アセンブリとの取り外し可能な結合中、接触される必要がないことである。キャリアは、マイクロ流体デバイス（１６）の篏合表面（２１）に接触することなくキャリア（１８）を把持するためのプレート、プラットフォーム、ハンドル、または他の機構を有し得る。保持機構（１９）は、「スナップ嵌め」を提供するために、多岐管アセンブリの１つ以上の部分、より好ましくは、多岐管アセンブリのスカート部に係合する突出部、フック、掛け金、もしくは辺縁を備え得る。

図５は、例証的なマイクロ流体デバイス、すなわち、「臓器オンチップ」デバイスの概略図を示す。図５Ａの組み立てられたデバイスは、複数のポートを含む。図５Ｂは、細胞挙動、および／またはガス、化学物質、分子、微粒子、ならびに細胞の通過が監視される膜（１００）を備えている組織間界面の模擬実験領域（「ＳＲ」）を示す図５Ａのデバイスの分解図を示す。

気泡は、チップが灌流多岐管アセンブリ（灌流ディスポーザブルとも称される）によって係合されるときにもたらされ得る。図４Ａおよび４Ｂは、この点を強調し、図４Ａにおいて円で囲まれた場所の灌流ディスポーザブル（チップではない）内に捕捉された気泡（矢印参照）を示す。圧力および流動の組み合わせに関して上で説明された方法の実施形態の任意の１つが、使用され、そのようなマイクロ流体デバイス内のそのような気泡体積を低減させ得る。

１つの実施形態では、ＰＯＤが、培養モジュール上に位置付けられ、培養モジュールの圧力表面が、下方に移動し、灌流多岐管アセンブリ（１０）のカバー、すなわち、蓋（１１）に係合する。培養モジュールの実施形態が、米国特許出願第１５／２４８，５０９号（参照することによって本明細書によって組み込まれる）に説明される。図１Ｃに示されるように、カバー、すなわち、蓋は、培養モジュールの圧力表面上の対応する圧力点によって係合される貫通孔ポート（３６）等のポートを備えている。これらのポート（３６）は、係合されると、カバーを通し、かつガスケット（３７）を通して加えられたた圧力を内向きに伝送し、灌流多岐管アセンブリ（１０）のリザーバ（１２）内の流体に圧力を加える。したがって、この実施形態では、圧力が、蓋（１１）を通して加えられ、蓋が、リザーバに対してシールする。例えば、１つの実施形態では、１ｋＰａを加えると、この公称圧力は、約３０〜４０μＬ／時間の流量をもたらす。

（実験）
（実施例１）
この実験では、臓器オンチップ（この場合、マイクロチャネル内の膜上で成長する腸の生細胞を伴うマイクロ流体デバイス）に係合する１９個のポッドが、利用された。それらは、以前に、気泡の履歴なく６日にわたって起動していた。試験群では、入口リザーバは、０日目および２日目に低温培地（４℃）で、７日目に温暖培地（平衡化されていない）で充填された。流動が、読み出し値として毎日測定され（気泡が、流動を阻止し、したがって、流動内の変化が、気泡を示すであろうため）、加えて、ポッド／チップが、気泡に関して視覚的に検査された。結果が、図１１Ａおよび１１Ｂに示される。平衡化されていない培地（温暖または低温にかかわらず）を９日にわたって使用したとき、気泡成長／発生は、いかなるポッド／チップ内にも観察もしくは検出されなかった。

（実施例２）
この実験では、灌流システムのより高圧に耐えるための能力の一実施形態が、試験された（より高圧での平衡化されていない培地との協働が、現実可能かどうかを調査した）。蓋（図１Ｃ）および他の界面（例えば、ガスケット、接合された構成要素等）を含むＰＯＤ（図１Ａならびに１Ｂ）上の種々の構成要素が、検査された。加えて、（米国特許出願第１５／２４８，５０９号（参照することによって本明細書によって組み込まれる）で説明される）培養モジュールの構成要素（例えば、多岐管、弁、および接合部）も、これらの圧力試験で検査された。圧力が上昇され２５〜３０ｋＰａに接近するにつれて、薄いガスケット（図１Ｃ、要素３７）を伴う灌流システムが、蓋の故障および漏洩（図１２Ａ）を示した。しかしながら、より厚いガスケット（薄いガスケットの２〜３倍の厚さ）のときは、３３ｋＰａ（図１２Ｂ）においても蓋の故障または漏洩は、発生しなかった。より厚いガスケットを用いて、灌流システムは、入口において約３４ｋＰａ、出口において約３３ｋＰａに耐えることができる。

（実施例３）
この実験では、より高い流量が試験され、負の細胞効果が存在するかどうかを決定した。より具体的には、７日後に維持されるヒトの一次運動ニューロンの生存率および機能が、査定された（それらが、比較的に培養条件ならびに剪断力に敏感であるから）。５０μＬ／時間（対照条件）〜７５μＬ／時間の流量（試験条件）が、使用され、細胞を、培養モジュールと係合されたＰＯＤ（米国特許出願第１５／２４８，５０９号（参照することによって本明細書によって組み込まれる）に説明される）（図１Ａおよび１Ｂ）内に係合されるマイクロ流体チップ内に灌流させた。出口圧力は、２０．０ｋＰａ＋／−０．５ｋＰａであった。入口圧力から出口圧力を差し引いた差「（入口圧力）−（出口圧力）」は、１．５ｋＰａ＋／−０．５ｋＰａであった。一次運動ニューロンが、播種され（０日目）、７日にわたって培養され、培地が、２日おきに更新された。圧力／流動プロセスが、１日目および５日目に起動され、気泡を扱った。低温培地が、３日目および５日目にＰＯＤリザーバ内に設置された。細胞が、撮像された（位相コントラストが、２００倍で捕捉された）。

軸索成長が、対照条件および実験条件の両方において観察された。図１３は、０日目、１日目、４日目、および５日目の結果を示す棒グラフである。結果は、５０μＬ条件に対する２つの独立的なＰＯＤにおいて、かつ７５μＬ条件に対する３つの独立的なＰＯＤにおいて平均±ＳＥである。

運動ニューロンが、微小管安定性および神経細胞の軸索への移送に極めて重要なタンパク質であるβチューブリンをマーキングする、細胞核ならびにＴｕｊ−１（緑色）を示すＨｏｅｃｈｓｔ ３３３４２（青色）で染色された（７日後）。神経細胞の染色は、対照条件（５０μＬ／時間）および試験条件（７５μＬ／時間）において良好に発達した神経細胞ネットワークを明らかにした（データは図示されず）。要するに、実験は、１）運動ニューロンが、高い流量、すなわち、気泡除去を推進することに役立つ流量に対処することが可能であり、２）２０ｋＰａの印加圧力の複数の圧力／流動サイクルに対処することが可能であり、３）システム気泡を除去するための最初の圧力／流動処理の後、通常の培地更新／追加ステップ中に低温培地を使用して入口リザーバを補充することが、気泡の形成をもたらさないことを示した。

これらの条件は、実践で良好に機能する（すなわち、細胞を破壊せずに気泡を粉砕／分解する）。これらの条件下で、全ての気泡を１時間で完全に除去し得るはずであるが、十分に用心して、２時間にわたって気泡粉砕サイクルを動作させることができる。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、気泡を備え、前記気泡は、体積を有する、ことと、
ｂ）前記気泡体積が低減させられるような条件下で、前記マイクロチャネルを通して圧力下で流体を流動させることと
を含む、方法。
（項目２）
前記マイクロチャネルは、実質的にガス不透過性であるポリマーから作製される、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記ポリマーは、環状オレフィンポリマーである、項目２に記載の方法。
（項目４）
前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、項目４に記載の方法。
（項目６）
前記マイクロチャネルは、灌流多岐管内に存在する、項目１に記載の方法。
（項目７）
前記灌流多岐管は、マイクロ流体チップと係合し、それと流体連通している、項目６に記載の方法。
（項目８）
前記灌流多岐管は、スカート部を備え、前記スカート部は、前記マイクロ流体チップに係合する側方軌道を備えている、項目７に記載の方法。
（項目９）
前記マイクロ流体チップは、１つ以上のポートを備え、前記灌流多岐管は、前記１つ以上のポートを通して前記マイクロ流体チップと流体連通している、項目７に記載の方法。
（項目１０）
前記灌流多岐管は、前記１つ以上のポートを通してある流量で流体を前記マイクロ流体チップに送達する、項目９に記載の方法。
（項目１１）
前記第１の圧力は、２１ｋＰａであり、前記第２の圧力は、２０ｋＰａである、項目５に記載の方法。
（項目１２）
前記気泡は、ガス気泡である、項目１に記載の方法。
（項目１３）
前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、項目１２に記載の方法。
（項目１４）
前記気泡は、空気泡である、項目１に記載の方法。
（項目１５）
前記流量は、４０μＬ／時間である、項目１０に記載の方法。
（項目１６）
前記マイクロ流体デバイスは、前記マイクロチャネル内に生細胞を備え、前記流体は、前記生細胞に供給される培地を備えている、項目１に記載の方法。
（項目１７）
ステップｂ）より前の前記培地は、ガス除去されている、項目１６に記載の方法。
（項目１８）
前記ステップｂ）の培地は、不飽和状態である、項目１６に記載の方法。
（項目１９）
ステップｂ）より前の前記培地は、ガス除去されていない、項目１６に記載の方法。
（項目２０）
ステップｂ）は、少なくとも１時間にわたって実施される、項目１に記載の方法。
（項目２１）
ステップｂ）は、２時間にわたって実施される、項目２０に記載の方法。
（項目２２）
ｃ）前記マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、前記流体は、ガス除去されていない、項目２０に記載の方法。
（項目２３）
気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、実質的にガス不透過性であるポリマーから作製され、前記マイクロチャネルは、気泡を備え、前記気泡は、体積を有する、ことと、
ｂ）前記気泡体積が低減させられるような条件下で、前記マイクロチャネルを通して圧力下で流体を流動させることと
を含む、方法。
（項目２４）
前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、項目２３に記載の方法。
（項目２５）
前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、項目２４に記載の方法。
（項目２６）
前記マイクロチャネルは、灌流多岐管内に存在する、項目２３に記載の方法。
（項目２７）
前記灌流多岐管は、マイクロ流体チップと係合し、それと流体連通している、項目２６に記載の方法。
（項目２８）
前記灌流多岐管は、スカート部を備え、前記スカート部は、前記マイクロ流体チップに係合する側方軌道を備えている、項目２７に記載の方法。
（項目２９）
前記マイクロ流体チップは、１つ以上のポートを備え、前記灌流多岐管は、前記１つ以上のポートを通して前記マイクロ流体チップと流体連通している、項目２８に記載の方法。
（項目３０）
前記第１の圧力は、２１ｋＰａであり、前記第２の圧力は、２０ｋＰａである、項目２５に記載の方法。
（項目３１）
前記気泡は、ガス気泡である、項目２３に記載の方法。
（項目３２）
前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、項目３１に記載の方法。
（項目３３）
前記気泡は、空気泡である、項目２３に記載の方法。
（項目３４）
前記流体の流動は、４０μＬ／時間の流量である、項目２３に記載の方法。
（項目３５）
前記マイクロ流体デバイスは、前記マイクロチャネル内に生細胞を備え、前記流体は、前記生細胞に供給される培地を備えている、項目２３に記載の方法。
（項目３６）
ステップｂ）より前の前記培地は、ガス除去されている、項目３５に記載の方法。
（項目３７）
前記ステップｂ）の培地は、不飽和状態である、項目３５に記載の方法。
（項目３８）
ステップｂ）より前の前記培地は、ガス除去されていない、項目３５に記載の方法。
（項目３９）
ステップｂ）は、少なくとも１時間にわたって実施される、項目２３に記載の方法。
（項目４０）
ステップｂ）は、２時間にわたって実施される、項目３９に記載の方法。
（項目４１）
ｃ）前記マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、前記流体は、ガス除去されていない、項目３９に記載の方法。
（項目４２）
気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、
ｂ）前記細胞の上を覆って前記マイクロチャネルを通してある流量で流体を流動させることと、
ｃ）気泡を検出することであって、前記気泡は、体積を有する、ことと、
ｄ）前記流体の流動を停止させることなく、圧力を用いて前記気泡体積を低減させることと
を含む、方法。
（項目４３）
前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、項目４２に記載の方法。
（項目４４）
前記ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられている、項目４２に記載の方法。
（項目４５）
前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、項目４３に記載の方法。
（項目４６）
前記第１の圧力は、２１ｋＰａであり、前記第２の圧力は、２０ｋＰａである、項目４５に記載の方法。
（項目４７）
前記気泡は、ガス気泡である、項目４２に記載の方法。
（項目４８）
前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、項目４７に記載の方法。
（項目４９）
前記気泡は、空気泡である、項目４２に記載の方法。
（項目５０）
前記流量は、４０μＬ／時間である、項目４２に記載の方法。
（項目５１）
前記流体は、前記生細胞に供給される培養培地を備え、前記細胞は、ステップｄ）の後にも生存している、項目４２に記載の方法。
（項目５２）
ステップｄ）より前の前記培地は、ガス除去されている、項目５１に記載の方法。
（項目５３）
前記ステップｄ）の培地は、不飽和状態である、項目５１に記載の方法。
（項目５４）
ステップｄ）より前の前記培地は、ガス除去されていない、項目５１に記載の方法。
（項目５５）
ステップｄ）は、少なくとも１時間にわたって実施される、項目４２に記載の方法。
（項目５６）
ステップｄ）は、２時間にわたって実施される、項目５５に記載の方法。
（項目５７）
ｅ）前記マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、前記流体は、ガス除去されていない、項目５５に記載の方法。
（項目５８）
流体接続を確立する方法であって、前記方法は、
ａ）第１の流体ポートを備えている第１の基板および第２の流体ポートを備えている第２の基板を提供することと、
ｂ）前記第１および第２の流体ポートの組を整列させることと、
ｃ）前記第１および第２の流体ポートを接触させ、気泡が形成するような条件下で流体接続を確立させることであって、前記気泡は、体積を有する、ことと、
ｄ）前記気泡体積が低減させられるような条件下で、前記第１または第２のポートを通して圧力下で流体を流動させることと
を含む、方法。
（項目５９）
前記第１の基板は、前記第２の基板を誘導するように適合されている誘導機構を備えている、項目５８に記載の方法。
（項目６０）
ステップｂ）より前に前記第２の基板を前記誘導機構と係合させることをさらに含む、項目５９に記載の方法。
（項目６１）
前記ステップｂ）の整列させることは、前記誘導機構を用いて実施される、項目５９に記載の方法。
（項目６２）
前記誘導機構は、前記第１の基板上に位置付けられた誘導軌道を備え、前記誘導軌道は、前記第２の基板の一部に係合するように構成されている、項目６１に記載の方法。
（項目６３）
前記ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられている、項目５８に記載の方法。
（項目６４）
前記気泡は、ガス気泡である、項目５８に記載の方法。
（項目６５）
前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、項目６４に記載の方法。
（項目６６）
前記気泡は、空気泡である、項目６４に記載の方法。
（項目６７）
前記流量は、４０μＬ／時間である、項目５８に記載の方法。
（項目６８）
前記第１の基板は、前記ポートと流体連通しているチャネルを備えている、項目５８に記載の方法。
（項目６９）
前記チャネルは、マイクロチャネルである、項目６８に記載の方法。
（項目７０）
前記第１の基板は、灌流多岐管である、項目６９に記載の方法。
（項目７１）
前記第２の基板は、マイクロ流体デバイスである、項目７０に記載の方法。
（項目７２）
前記灌流多岐管は、ステップｃ）において前記マイクロ流体デバイスに係合する、項目７１に記載の方法。
（項目７３）
前記マイクロ流体デバイスは、マイクロチャネルを備え、前記マイクロチャネルは、生細胞を備え、前記流体は、前記細胞に供給される培地を備えている、項目７１に記載の方法。
（項目７４）
ステップｄ）より前の前記培地は、ガス除去されている、項目７３に記載の方法。
（項目７５）
前記ステップｄ）の培地は、不飽和状態である、項目７３に記載の方法。
（項目７６）
ステップｄ）より前の前記培地は、ガス除去されていない、項目７３に記載の方法。
（項目７７）
ステップｄ）は、少なくとも１時間にわたって実施される、項目５８に記載の方法。
（項目７８）
ステップｄ）は、２時間にわたって実施される、項目７７に記載の方法。
（項目７９）
ｅ）前記マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、前記流体は、ガス除去されていない、項目７７に記載の方法。
（項目８０）
気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、
ｂ）前記細胞の上を覆って前記マイクロチャネルを通してある流量で流体を流動させることであって、前記流体は、前記流動より前、前記流体を不飽和状態にするように処理されている、ことと、
ｃ）気泡を検出することであって、前記気泡は、体積を有する、ことと、
ｄ）前記流体の流動を停止させることなく、ある期間にわたって圧力を用いて前記気泡体積を低減させることであって、生細胞は、前記期間の後、前記マイクロチャネル内に存在する、ことと
を含む、方法。
（項目８１）
前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、項目８０に記載の方法。
（項目８２）
前記ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられている、項目８０に記載の方法。
（項目８３）
前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、項目８１に記載の方法。
（項目８４）
前記第１の圧力は、少なくとも０．５ｋＰａだけより大きい、項目８３に記載の方法。
（項目８５）
前記第１の圧力は、２１ｋＰａであり、前記第２の圧力は、２０ｋＰａである、項目８３に記載の方法。
（項目８６）
前記気泡は、ガス気泡である、項目８０に記載の方法。
（項目８７）
前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、項目８６に記載の方法。
（項目８８）
前記気泡は、空気泡である、項目８０に記載の方法。
（項目８９）
前記流体の流動は、４０μＬ／時間の流量である、項目８０に記載の方法。
（項目９０）
平衡化されていない培養培地を使用する方法であって、前記方法は、
ａ）ｉ）平衡化されていない培養培地と、ｉｉ）マイクロチャネルとを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、
ｂ）前記流体の流動を停止させることなく、前記細胞の上を覆って前記マイクロチャネルを通して、ある期間にわたって圧力下で、ある流量で前記平衡化されていない培養培地を流動させることと
を含み、
生細胞は、前記期間の後、前記マイクロチャネル内に存在し、視認可能な気泡が、前記マイクロチャネル内に存在しない、方法。
（項目９１）
前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、項目９０に記載の方法。
（項目９２）
前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、項目９１に記載の方法。
（項目９３）
前記第１の圧力は、少なくとも０．５ｋＰａだけより大きい、項目９２に記載の方法。
（項目９４）
前記第１の圧力は、２ｋＰａを下回る分だけより大きい、項目９２に記載の方法。
（項目９５）
前記第１の圧力は、３４ｋＰａであり、前記第２の圧力は、３３ｋＰａである、項目８３に記載の方法。
（項目９６）
前記気泡は、ガス気泡である、項目９０に記載の方法。
（項目９７）
前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、項目９６に記載の方法。
（項目９８）
前記気泡は、空気泡である、項目９０に記載の方法。
（項目９９）
前記平衡化されていない培養培地の流動は、４０μＬ／時間の流量である、項目８０に記載の方法。
（項目１００）
２つのマイクロチャネルを有するマイクロ流体デバイス内の気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
ａ）変形可能膜によって分離された第１および第２のマイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、気泡が、前記第１のマイクロチャネル、前記第２のマイクロチャネル、または両方の中に存在し、前記気泡は、体積を有する、ことと、
ｂ）前記気泡体積が低減させられ、かつ前記変形可能膜が変形させられないような条件下で、前記第１および第２のマイクロチャネルを通して圧力下で流体を流動させることと
を含む、方法。
（項目１０１）
ｉ）前記マイクロチャネルは、前記第１のマイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記第１のマイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通し、ｉｉ）前記第２のマイクロチャネルは、前記第２のマイクロチャネルの第１の端部において第３のリザーバと流体連通し、前記第２のマイクロチャネルの第２の端部において第４のリザーバと流体連通している、項目１００に記載の方法。
（項目１０２）
ｉ）前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回り、ｉｉ）前記第３のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第４のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、項目１０１に記載の方法。
（項目１０３）
前記第２のリザーバおよび前記第４のリザーバは、圧力調節器を共有している、項目１０２に記載の方法。

Claims (103)

1. 気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
   ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、気泡を備え、前記気泡は、体積を有する、ことと、
   ｂ）前記気泡体積が低減させられるような条件下で、前記マイクロチャネルを通して圧力下で流体を流動させることと
   を含む、方法。
2. 前記マイクロチャネルは、実質的にガス不透過性であるポリマーから作製される、請求項１に記載の方法。
3. 前記ポリマーは、環状オレフィンポリマーである、請求項２に記載の方法。
4. 前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、請求項１に記載の方法。
5. 前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、請求項４に記載の方法。
6. 前記マイクロチャネルは、灌流多岐管内に存在する、請求項１に記載の方法。
7. 前記灌流多岐管は、マイクロ流体チップと係合し、それと流体連通している、請求項６に記載の方法。
8. 前記灌流多岐管は、スカート部を備え、前記スカート部は、前記マイクロ流体チップに係合する側方軌道を備えている、請求項７に記載の方法。
9. 前記マイクロ流体チップは、１つ以上のポートを備え、前記灌流多岐管は、前記１つ以上のポートを通して前記マイクロ流体チップと流体連通している、請求項７に記載の方法。
10. 前記灌流多岐管は、前記１つ以上のポートを通してある流量で流体を前記マイクロ流体チップに送達する、請求項９に記載の方法。
11. 前記第１の圧力は、２１ｋＰａであり、前記第２の圧力は、２０ｋＰａである、請求項５に記載の方法。
12. 前記気泡は、ガス気泡である、請求項１に記載の方法。
13. 前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、請求項１２に記載の方法。
14. 前記気泡は、空気泡である、請求項１に記載の方法。
15. 前記流量は、４０μＬ／時間である、請求項１０に記載の方法。
16. 前記マイクロ流体デバイスは、前記マイクロチャネル内に生細胞を備え、前記流体は、前記生細胞に供給される培地を備えている、請求項１に記載の方法。
17. ステップｂ）より前の前記培地は、ガス除去されている、請求項１６に記載の方法。
18. 前記ステップｂ）の培地は、不飽和状態である、請求項１６に記載の方法。
19. ステップｂ）より前の前記培地は、ガス除去されていない、請求項１６に記載の方法。
20. ステップｂ）は、少なくとも１時間にわたって実施される、請求項１に記載の方法。
21. ステップｂ）は、２時間にわたって実施される、請求項２０に記載の方法。
22. ｃ）前記マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、前記流体は、ガス除去されていない、請求項２０に記載の方法。
23. 気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
    ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、実質的にガス不透過性であるポリマーから作製され、前記マイクロチャネルは、気泡を備え、前記気泡は、体積を有する、ことと、
    ｂ）前記気泡体積が低減させられるような条件下で、前記マイクロチャネルを通して圧力下で流体を流動させることと
    を含む、方法。
24. 前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、請求項２３に記載の方法。
25. 前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、請求項２４に記載の方法。
26. 前記マイクロチャネルは、灌流多岐管内に存在する、請求項２３に記載の方法。
27. 前記灌流多岐管は、マイクロ流体チップと係合し、それと流体連通している、請求項２６に記載の方法。
28. 前記灌流多岐管は、スカート部を備え、前記スカート部は、前記マイクロ流体チップに係合する側方軌道を備えている、請求項２７に記載の方法。
29. 前記マイクロ流体チップは、１つ以上のポートを備え、前記灌流多岐管は、前記１つ以上のポートを通して前記マイクロ流体チップと流体連通している、請求項２８に記載の方法。
30. 前記第１の圧力は、２１ｋＰａであり、前記第２の圧力は、２０ｋＰａである、請求項２５に記載の方法。
31. 前記気泡は、ガス気泡である、請求項２３に記載の方法。
32. 前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、請求項３１に記載の方法。
33. 前記気泡は、空気泡である、請求項２３に記載の方法。
34. 前記流体の流動は、４０μＬ／時間の流量である、請求項２３に記載の方法。
35. 前記マイクロ流体デバイスは、前記マイクロチャネル内に生細胞を備え、前記流体は、前記生細胞に供給される培地を備えている、請求項２３に記載の方法。
36. ステップｂ）より前の前記培地は、ガス除去されている、請求項３５に記載の方法。
37. 前記ステップｂ）の培地は、不飽和状態である、請求項３５に記載の方法。
38. ステップｂ）より前の前記培地は、ガス除去されていない、請求項３５に記載の方法。
39. ステップｂ）は、少なくとも１時間にわたって実施される、請求項２３に記載の方法。
40. ステップｂ）は、２時間にわたって実施される、請求項３９に記載の方法。
41. ｃ）前記マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、前記流体は、ガス除去されていない、請求項３９に記載の方法。
42. 気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
    ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、
    ｂ）前記細胞の上を覆って前記マイクロチャネルを通してある流量で流体を流動させることと、
    ｃ）気泡を検出することであって、前記気泡は、体積を有する、ことと、
    ｄ）前記流体の流動を停止させることなく、圧力を用いて前記気泡体積を低減させることと
    を含む、方法。
43. 前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、請求項４２に記載の方法。
44. 前記ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられている、請求項４２に記載の方法。
45. 前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、請求項４３に記載の方法。
46. 前記第１の圧力は、２１ｋＰａであり、前記第２の圧力は、２０ｋＰａである、請求項４５に記載の方法。
47. 前記気泡は、ガス気泡である、請求項４２に記載の方法。
48. 前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、請求項４７に記載の方法。
49. 前記気泡は、空気泡である、請求項４２に記載の方法。
50. 前記流量は、４０μＬ／時間である、請求項４２に記載の方法。
51. 前記流体は、前記生細胞に供給される培養培地を備え、前記細胞は、ステップｄ）の後にも生存している、請求項４２に記載の方法。
52. ステップｄ）より前の前記培地は、ガス除去されている、請求項５１に記載の方法。
53. 前記ステップｄ）の培地は、不飽和状態である、請求項５１に記載の方法。
54. ステップｄ）より前の前記培地は、ガス除去されていない、請求項５１に記載の方法。
55. ステップｄ）は、少なくとも１時間にわたって実施される、請求項４２に記載の方法。
56. ステップｄ）は、２時間にわたって実施される、請求項５５に記載の方法。
57. ｅ）前記マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、前記流体は、ガス除去されていない、請求項５５に記載の方法。
58. 流体接続を確立する方法であって、前記方法は、
    ａ）第１の流体ポートを備えている第１の基板および第２の流体ポートを備えている第２の基板を提供することと、
    ｂ）前記第１および第２の流体ポートの組を整列させることと、
    ｃ）前記第１および第２の流体ポートを接触させ、気泡が形成するような条件下で流体接続を確立させることであって、前記気泡は、体積を有する、ことと、
    ｄ）前記気泡体積が低減させられるような条件下で、前記第１または第２のポートを通して圧力下で流体を流動させることと
    を含む、方法。
59. 前記第１の基板は、前記第２の基板を誘導するように適合されている誘導機構を備えている、請求項５８に記載の方法。
60. ステップｂ）より前に前記第２の基板を前記誘導機構と係合させることをさらに含む、請求項５９に記載の方法。
61. 前記ステップｂ）の整列させることは、前記誘導機構を用いて実施される、請求項５９に記載の方法。
62. 前記誘導機構は、前記第１の基板上に位置付けられた誘導軌道を備え、前記誘導軌道は、前記第２の基板の一部に係合するように構成されている、請求項６１に記載の方法。
63. 前記ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられている、請求項５８に記載の方法。
64. 前記気泡は、ガス気泡である、請求項５８に記載の方法。
65. 前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、請求項６４に記載の方法。
66. 前記気泡は、空気泡である、請求項６４に記載の方法。
67. 前記流量は、４０μＬ／時間である、請求項５８に記載の方法。
68. 前記第１の基板は、前記ポートと流体連通しているチャネルを備えている、請求項５８に記載の方法。
69. 前記チャネルは、マイクロチャネルである、請求項６８に記載の方法。
70. 前記第１の基板は、灌流多岐管である、請求項６９に記載の方法。
71. 前記第２の基板は、マイクロ流体デバイスである、請求項７０に記載の方法。
72. 前記灌流多岐管は、ステップｃ）において前記マイクロ流体デバイスに係合する、請求項７１に記載の方法。
73. 前記マイクロ流体デバイスは、マイクロチャネルを備え、前記マイクロチャネルは、生細胞を備え、前記流体は、前記細胞に供給される培地を備えている、請求項７１に記載の方法。
74. ステップｄ）より前の前記培地は、ガス除去されている、請求項７３に記載の方法。
75. 前記ステップｄ）の培地は、不飽和状態である、請求項７３に記載の方法。
76. ステップｄ）より前の前記培地は、ガス除去されていない、請求項７３に記載の方法。
77. ステップｄ）は、少なくとも１時間にわたって実施される、請求項５８に記載の方法。
78. ステップｄ）は、２時間にわたって実施される、請求項７７に記載の方法。
79. ｅ）前記マイクロチャネルの中に流体を導入することをさらに含み、前記流体は、ガス除去されていない、請求項７７に記載の方法。
80. 気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
    ａ）マイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、
    ｂ）前記細胞の上を覆って前記マイクロチャネルを通してある流量で流体を流動させることであって、前記流体は、前記流動より前、前記流体を不飽和状態にするように処理されている、ことと、
    ｃ）気泡を検出することであって、前記気泡は、体積を有する、ことと、
    ｄ）前記流体の流動を停止させることなく、ある期間にわたって圧力を用いて前記気泡体積を低減させることであって、生細胞は、前記期間の後、前記マイクロチャネル内に存在する、ことと
    を含む、方法。
81. 前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、請求項８０に記載の方法。
82. 前記ステップｃ）の気泡は、実質的にガス不透過性であるポリマーに対して位置付けられている、請求項８０に記載の方法。
83. 前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、請求項８１に記載の方法。
84. 前記第１の圧力は、少なくとも０．５ｋＰａだけより大きい、請求項８３に記載の方法。
85. 前記第１の圧力は、２１ｋＰａであり、前記第２の圧力は、２０ｋＰａである、請求項８３に記載の方法。
86. 前記気泡は、ガス気泡である、請求項８０に記載の方法。
87. 前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、請求項８６に記載の方法。
88. 前記気泡は、空気泡である、請求項８０に記載の方法。
89. 前記流体の流動は、４０μＬ／時間の流量である、請求項８０に記載の方法。
90. 平衡化されていない培養培地を使用する方法であって、前記方法は、
    ａ）ｉ）平衡化されていない培養培地と、ｉｉ）マイクロチャネルとを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、前記マイクロチャネルは、それに付着された生細胞を備えている、ことと、
    ｂ）前記流体の流動を停止させることなく、前記細胞の上を覆って前記マイクロチャネルを通して、ある期間にわたって圧力下で、ある流量で前記平衡化されていない培養培地を流動させることと
    を含み、
    生細胞は、前記期間の後、前記マイクロチャネル内に存在し、視認可能な気泡が、前記マイクロチャネル内に存在しない、方法。
91. 前記マイクロチャネルは、前記マイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記マイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通している、請求項９０に記載の方法。
92. 前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、請求項９１に記載の方法。
93. 前記第１の圧力は、少なくとも０．５ｋＰａだけより大きい、請求項９２に記載の方法。
94. 前記第１の圧力は、２ｋＰａを下回る分だけより大きい、請求項９２に記載の方法。
95. 前記第１の圧力は、３４ｋＰａであり、前記第２の圧力は、３３ｋＰａである、請求項８３に記載の方法。
96. 前記気泡は、ガス気泡である、請求項９０に記載の方法。
97. 前記ガスは、酸素、窒素、またはそれらの混合物である、請求項９６に記載の方法。
98. 前記気泡は、空気泡である、請求項９０に記載の方法。
99. 前記平衡化されていない培養培地の流動は、４０μＬ／時間の流量である、請求項８０に記載の方法。
100. ２つのマイクロチャネルを有するマイクロ流体デバイス内の気泡体積を低減させる方法であって、前記方法は、
     ａ）変形可能膜によって分離された第１および第２のマイクロチャネルを備えているマイクロ流体デバイスを提供することであって、気泡が、前記第１のマイクロチャネル、前記第２のマイクロチャネル、または両方の中に存在し、前記気泡は、体積を有する、ことと、
     ｂ）前記気泡体積が低減させられ、かつ前記変形可能膜が変形させられないような条件下で、前記第１および第２のマイクロチャネルを通して圧力下で流体を流動させることと
     を含む、方法。
101. ｉ）前記マイクロチャネルは、前記第１のマイクロチャネルの第１の端部において第１のリザーバと流体連通し、前記第１のマイクロチャネルの第２の端部において第２のリザーバと流体連通し、ｉｉ）前記第２のマイクロチャネルは、前記第２のマイクロチャネルの第１の端部において第３のリザーバと流体連通し、前記第２のマイクロチャネルの第２の端部において第４のリザーバと流体連通している、請求項１００に記載の方法。
102. ｉ）前記第１のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第２のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回り、ｉｉ）前記第３のリザーバは、第１の圧力下の流体を備え、前記第４のリザーバは、第２の圧力下の流体を備え、前記第１の圧力は、前記第２の圧力を上回る、請求項１０１に記載の方法。
103. 前記第２のリザーバおよび前記第４のリザーバは、圧力調節器を共有している、請求項１０２に記載の方法。