JP2019517094A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019517094A5 JP2019517094A5 JP2018537638A JP2018537638A JP2019517094A5 JP 2019517094 A5 JP2019517094 A5 JP 2019517094A5 JP 2018537638 A JP2018537638 A JP 2018537638A JP 2018537638 A JP2018537638 A JP 2018537638A JP 2019517094 A5 JP2019517094 A5 JP 2019517094A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- atomic mass
- atomic
- tantalum
- zirconium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 claims 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 3
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N Hafnium Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052803 cobalt Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001186 cumulative Effects 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium(0) Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Claims (5)
- 80から160amuの範囲に含まれる平均原子質量Wを有する非多孔質カソード(22,22’)であって、前記カソードはスパッタイオンポンプ(3)における電極として使用するのに適しており、その化学組成中に少なくとも2つの異なる金属元素M1およびM2であって、
i)前記カソードの総原子数Qの原子百分率で表される量q1で原子質量W1を有するM1、および
ii)前記カソードの総原子数Qの原子百分率で表される量q2で原子質量W2を有するM2の焼結バルク混合物を含み、
M1およびM2はいずれも、チタン、タンタル、ジルコニウム、ニオブ、ハフニウム、希土類元素、ニッケルまたはモリブデンの中から選択され、前記カソードの原子質量は、W=W1×q1+W2×q2で定義され、前記焼結バルク混合物はM1およびM2とは異なる1つ以上の追加の金属元素を、総原子数Qに対して3原子%未満の累積量で含み得る、カソード(22,22’)。 - その平均原子質量Wは、100から160amuの範囲に含まれる、請求項1に記載のカソード(22,22’)。
- M1およびM2とは異なる前記金属元素は、アルミニウム、銅、チタン、タンタル、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ニッケル、希土類元素、ハフニウム、鉄、コバルト、バナジウムの中から選択される、請求項1に記載のカソード(22,22’)。
- 前記2つの金属元素M1およびM2はいずれも、チタン、タンタルおよびジルコニウムの中から選択される、請求項1に記載のカソード(22,22’)。
- 請求項1から4のいずれか一項に記載のカソード(22,22’)の少なくとも一対を能動的ポンピング要素として含むスパッタイオンポンプシステム(3)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021173171A JP2022009412A (ja) | 2016-02-19 | 2021-10-22 | 焼結非多孔質カソードおよびこれを含むスパッタイオン真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
ITUB2016A000885 | 2016-02-19 | ||
ITUB2016A000885A ITUB20160885A1 (it) | 2016-02-19 | 2016-02-19 | Catodi sinterizzati non porosi e pompe a vuoto ioniche contenenti gli stessi |
PCT/EP2017/053407 WO2017140730A1 (en) | 2016-02-19 | 2017-02-15 | Sintered non-porous cathode and sputter ion vacuum pump containing the same |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021173171A Division JP2022009412A (ja) | 2016-02-19 | 2021-10-22 | 焼結非多孔質カソードおよびこれを含むスパッタイオン真空ポンプ |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019517094A JP2019517094A (ja) | 2019-06-20 |
JP2019517094A5 true JP2019517094A5 (ja) | 2020-03-26 |
JP7010830B2 JP7010830B2 (ja) | 2022-01-26 |
Family
ID=55948996
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018537638A Active JP7010830B2 (ja) | 2016-02-19 | 2017-02-15 | 焼結非多孔質カソードおよびこれを含むスパッタイオン真空ポンプ |
JP2021173171A Pending JP2022009412A (ja) | 2016-02-19 | 2021-10-22 | 焼結非多孔質カソードおよびこれを含むスパッタイオン真空ポンプ |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021173171A Pending JP2022009412A (ja) | 2016-02-19 | 2021-10-22 | 焼結非多孔質カソードおよびこれを含むスパッタイオン真空ポンプ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11056326B2 (ja) |
EP (1) | EP3417471B1 (ja) |
JP (2) | JP7010830B2 (ja) |
KR (1) | KR102419940B1 (ja) |
CN (1) | CN108475613B (ja) |
IT (1) | ITUB20160885A1 (ja) |
RU (1) | RU2721379C2 (ja) |
WO (1) | WO2017140730A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11355327B2 (en) * | 2017-07-31 | 2022-06-07 | Agilent Technologies, Inc. | Ion pump shield |
US10580629B2 (en) * | 2017-07-31 | 2020-03-03 | Agilent Technologies, Inc. | Ion pump shield |
US10121627B1 (en) * | 2017-10-26 | 2018-11-06 | Edwards Vacuum Llc | Ion pump noble gas stability using small grain sized cathode material |
CN115121799A (zh) * | 2021-03-24 | 2022-09-30 | 新奥科技发展有限公司 | 等离子体炬阴极及其制备方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3150819A (en) * | 1962-06-07 | 1964-09-29 | Varian Associates | High vacuum apparatus and method |
GB1171141A (en) * | 1965-12-03 | 1969-11-19 | Ultek Corp | Asymmetric Ion Pump |
US3542488A (en) * | 1968-10-28 | 1970-11-24 | Andar Iti Inc | Method and apparatus for producing alloyed getter films in sputter-ion pumps |
US3684401A (en) * | 1970-11-17 | 1972-08-15 | Westinghouse Electric Corp | Cathode-getter materials for sputter-ion pumps |
US4097195A (en) * | 1975-02-12 | 1978-06-27 | Varian Associates, Inc. | High vacuum pump |
JPS5641342A (en) * | 1979-09-11 | 1981-04-18 | Ulvac Corp | Electrode material for sputtering ion pump |
JPH03245449A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-11-01 | Hitachi Ltd | 放電安定化ペニング放電電極 |
RU2034359C1 (ru) * | 1990-05-03 | 1995-04-30 | Научно-исследовательский и конструкторский институт энерготехники | Электроразрядный вакуумный насос |
CN2165528Y (zh) * | 1993-06-18 | 1994-05-18 | 南京理工大学 | 微型冷阴极溅射离子泵 |
JP2001357814A (ja) * | 2000-06-15 | 2001-12-26 | Jeol Ltd | 極高真空スパッタイオンポンプ |
US6509588B1 (en) * | 2000-11-03 | 2003-01-21 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Method for interconnecting anodes and cathodes in a flat capacitor |
US20060045754A1 (en) * | 2004-08-27 | 2006-03-02 | Peter Lukens | Ion pump for cryogenic magnet apparatus |
CN201106064Y (zh) * | 2007-09-28 | 2008-08-27 | 安徽华东光电技术研究所 | 一种三极溅射离子泵结构 |
FR2982618B1 (fr) * | 2011-11-10 | 2014-08-01 | Institut Nat Des Sciences Appliquees De Rennes Insa De Rennes | Procede de fabrication d'un alliage a base de titane pour dispositifs biomedicaux |
JP7059943B2 (ja) * | 2019-01-15 | 2022-04-26 | 株式会社豊田自動織機 | ロッカアーム |
-
2016
- 2016-02-19 IT ITUB2016A000885A patent/ITUB20160885A1/it unknown
-
2017
- 2017-02-15 JP JP2018537638A patent/JP7010830B2/ja active Active
- 2017-02-15 US US16/068,803 patent/US11056326B2/en active Active
- 2017-02-15 WO PCT/EP2017/053407 patent/WO2017140730A1/en active Application Filing
- 2017-02-15 KR KR1020187020298A patent/KR102419940B1/ko active IP Right Grant
- 2017-02-15 CN CN201780007048.7A patent/CN108475613B/zh active Active
- 2017-02-15 RU RU2018133004A patent/RU2721379C2/ru active
- 2017-02-15 EP EP17705850.0A patent/EP3417471B1/en active Active
-
2021
- 2021-10-22 JP JP2021173171A patent/JP2022009412A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019517094A5 (ja) | ||
US20180044770A1 (en) | (ZrM)-(CuN)-Ni-Al-RE amorphous alloy and manufacturing method and application thereof | |
RU2018133004A (ru) | Спеченные непористые катодные электроды и содержащие их ионно-распылительные вакуумные насосы | |
JP2013509217A5 (ja) | ||
TW200523376A (en) | Tantalum sputtering target | |
TWI537395B (zh) | 鎂合金 | |
MY187208A (en) | Refractory object, glass overflow forming block, and process for glass object manufacture | |
JP2017515292A5 (ja) | ||
JP2020500266A5 (ja) | ||
WO2016003627A3 (en) | Self-repairing metal alloy matrix composites, methods of manufacture and use thereof and articles comprising the same | |
JPWO2016052371A1 (ja) | スパッタリングターゲット用母合金及びスパッタリングターゲットの製造方法 | |
JP2019536897A5 (ja) | ||
JP2017535676A (ja) | 高強度と超低弾性係数を有するチタン合金 | |
JP2011089188A5 (ja) | ||
JP4576001B2 (ja) | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 | |
RU2007112796A (ru) | Восстановление порошков клапанных металлов | |
WO2015064087A1 (ja) | スパッタリングターゲットおよびその製造方法、ならびに半導体素子の製造方法 | |
MX2017011943A (es) | Barrera de aleacion de titanio, niquel y niobio para revestimientos de baja emisividad. | |
JP6828656B2 (ja) | 全固体電池 | |
CN103127558B (zh) | 用于封闭形宫内节育器的钛合金 | |
WO2016115026A3 (en) | SPUTTERING TARGETS AND DEVICES INCLUDING Mo, Nb, AND Ta, AND METHODS | |
WO2014131151A8 (zh) | 一种电容器级钽铌合金丝及其制造方法 | |
ZHANG et al. | Effects of Cr on microstructure and properties of Al-Mg-Si-Cu aluminum alloy | |
JP2008078277A (ja) | 電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔及びそれに用いる合金箔地 | |
JP2015155561A (ja) | Ni−Fe基合金およびNi−Fe基合金材の製造方法 |