JP2019515973A - ペルフルオロ(ポリ)エーテル基を含有するポリシラン化合物 - Google Patents

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Abstract

式(I)(Rf)p−Y−(SiQkZ3−k)w(I)(式中、Rfは一価のR1f(OC4F8)a−(OC3F6)b−(OC2F4)c−(OCF2)dを表し、式中、a、b、c、及びdは独立して、3〜200(3及び200を含む)の整数を表し、a、b、c、及びdの合計は少なくとも1であり、R1fは直鎖又は分枝鎖の、1〜4個の炭素を有するフッ素化アルキル基であり、Yは多価の有機基を表し、Qは加水分解性基、ヒドロキシル基、又はアルキルオキシ基を表し、式(I)の分子鎖末端、又は処理した表面の他の活性部位に位置するSi原子とシロキサン結合を形成することができ、Zは一価のアルキル基、又は水素であり、pは1又は2であり、wは2〜14であり、p+wは3〜15であり、kは1〜3である)を有する、少なくとも1種のフッ素化シランを含有する組成物。

Description

本発明は、ペルフルオロ(ポリ)エーテル基を含有するポリシラン化合物を含むコーティング組成物、及びコーティングの調製方法に関する。
ディスプレイ又は光学機器の表面のような多くのプラスチック又はガラス表面は、指紋、汚れ、化粧品のような汚染を受けやすい。その問題を解決し、そのような表面の浄化を容易にするために、様々なコーティング材料及び技術が提案されてきた。更に、表面コーティングは引っ掻き、摩耗、及び擦れに対して耐久性がある必要がある。
一般的に、高表面エネルギーを有する表面のほうが、低表面エネルギーを有する表面よりも汚れやすく、浄化が困難である傾向にある。それ故、モバイル機器、モニタ、メガネ類、窓、及び鏡のような所望の表面にしっかりと接着可能な、低表面エネルギーを有するコーティングが必要とされている。
本発明は、式(I)
(Rf)−Y−(SiQ3−k (I)
(式中、Rfは一価のRf(OC−(OC−(OC−(OCFを表し、式中、a、b、c、及びdは独立して、3〜200(3及び200を含む)の整数を表し、a、b、c、及びdの合計は少なくとも1であり、Rfは直鎖又は分枝鎖の、1〜4個の炭素を有するフッ素化アルキル基であり、Yは、分枝が可能な多価の有機基を表し、多価のアルキル、二価のポリシロキサン、p−フェニレン、m−フェニレン、又はo−フェニレンを含有することができ、Yは、−O−、−S−、−NR−、−C(O)O−、C(O)NR−(式中、Rは共有結合、二価のアルキレン、水素、メチル、エチル、又はイソプロピルであり、Yの価数は、3〜15のp+wの合計により表され3以上であり、wは2〜14であり、kは1〜3である)から選択される、少なくとも2個以上のヘテロ原子含有基を含有する)を有する、少なくとも1種のフッ素化シランを含むコーティング組成物を提供する。
多価の有機基Yは、以下の例からなることができるが、これらに限定されない:
−CH[−OCHCH(−OC−)CH−]−OC−(式中、eは1〜4である)、
−CHCHSCHCH(−OC−)CHOC−、
−CHOCHCH(−OC−)CHN(C−)
−CH[−OCHCH(−CHOC−)−]−OC−(式中、mは1〜4である)、
及びこれらの組み合わせ。
上記の多価の基Yは更に、以下のとおりに定義することができる:
−CH[−OCHCH(CHO−A−O−CHCH(−OC−)CHOC−)]−OC−、
−CH[−OCHCH(CHO−A−O−CHCH(−OC−)CHOC−)]−O(CHCHO)−C−、
−CH[−OCHCH(CHO−A−O−CHCH(−NHC−)CHOC−)]−OC−、
−CH[−OCHCH(CHO−A−NH−CHCH(−OC−)CHOC−)]−OC−、
−CH[−OCHCH(CHO−A−N(CHCH(−OC−)CHOC−)−OC
(式中、Aは二価の直鎖若しくは分枝鎖アルキレン、又はp−フェニレン、m−フェニレン、若しくはo−フェニレン基である)。基Aの例は、1,4−ブチレン、1,3−ブチレン、1,2−ブチレン、1,3−プロピレン、1,2−プロピレン、1,2−エチレン、及びネオペンチレン−CHC(CHCH−基により表されるが、これらに限定されず、式中、fは1〜4である。
Qは加水分解性基、ヒドロキシル基、又はアルキルオキシ基を表し、式(I)の分子鎖末端、又は処理した表面の他の活性部位に位置する他のSi原子とシロキサン結合を形成することができる。式(I)の基Qは、以下により例示される:
−Cl、−OCH、−OCHCH、−OCH(CH、−O(CHCHO)CH(式中、xは1〜10である)、
−[−OSi(CH−]OCH、−[−OSi(CH−]OH、−[−OSi(CH−]H、−[−OSi(CH−]CH、−[−OSi(OCH−]H、−[−OSiH(OCH)−]OCH(式中、yは1〜6である)、
−OSi(CHO−Si(OCH−C−Si(OCH、−OSi(CHO−Si(OCH
Qは、加水分解性基、アシルオキシ、イミンオキシ、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシル基、又はアルコキシ基を表す。これらの基の詳細例としては、メトキシ(−OCH)、エトキシ(−OC)、イソプロピルオキシ(−O−i−C)、ジメチルケトキシモ(−ON=C(CH)、アセトキシ(−OC(O)CH)、ジメチルアミノ(−N(CH)、ジエチルアミノ(−N(C)、及びジイソプロピルアミノ(−N(i−C)を挙げることができ、pは1又は2であり、wは2〜14である。
Zは、メチル、エチル、プロピル、ブチルのような一価のアルキル基、フェニル基、又は水素を表す。
本発明はまた、(a)支持表面と、(b)式(I)(Rf)−Y−(SiQ3−kを有する少なくとも1種のフッ素化シラン部分を含むコーティングと、を含むコーティングされた物品も提供する。
本発明はまた、(a)支持表面と、(b)式(I)(Rf)−Y−(SiQ3−kを有する少なくとも1種のフッ素化シランを支持表面上に適用することにより調製したコーティングと、を含むコーティングされた物品も提供し、式中、Rfは一価のRf(OC−(OC−(OC−(OCF(式中、a、b、c、及びdは独立して、3〜200(3及び200を含む)の整数を表し、a、b、c、及びdの合計は少なくとも1である)を表し、Rfは直鎖又は分枝鎖の、1〜4個の炭素を有するフッ素化アルキル基であり、Yは、上述したとおりの多価の有機基を表し、Q及びZは上述したとおりである。
親水性表面上での典型的な水接触角を示す概略図である。 疎水性表面上での典型的な水接触角を示す概略図である。
上述の一般説明及び以下の「発明を実施するための形態」の説明は、単なる例示かつ説明であり、添付されている特許請求の範囲で定義されている本発明を制限するものではない。実施形態のうちの任意の1つ以上の他の特徴及び利点は、以下の詳細な説明及び特許請求の範囲から明らかになるであろう。
本発明で使用するとき、用語「含む(comprises)」、「含む(comprising)」、「含む(includes)」、「含む(including)」、「有する(has)」、「有する(having)」、又はこれらの他の任意の変化形は、非排他的な包含を網羅することを意図する。例えば、要素のリストを含むプロセス、方法、物品、又は装置は、これらの要素に必ずしも限定されるものではなく、そのようなプロセス、方法、物品、又は装置に対して明示的に記載されていない、又はこれらに固有のものではない、他の要素も含む場合がある。更に、明示的にこれに反する記載がない限り、「又は」は、包括的な又はを指し、排他的な又はを指すものではない。例えば、条件A又はBは、以下のいずれか1つによって満たされる。すなわち、Aが真であり(又は存在する)かつBが偽である(又は存在しない)、Aが偽であり(又は存在しない)かつBが真である(又は存在する)、及びA及びBの両方が真である(又は存在する)。
また、「a」又は「an」の使用は、本明細書に記載される要素及び成分を説明するために採用される。これは、単に便宜上、及び本発明の範囲の一般的な意味を与えるためのものである。この記載は、1つ又は少なくとも1つを含むものと解釈されるべきであり、単数形は、別の意味を有することが明白でない限り、複数形も含む。
特に定義しない限り、本明細書で使用される全ての技術的及び科学的用語は、本発明の属する当該技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同一の意味を有する。矛盾が生じた場合は、定義を含め、本明細書が優先される。本明細書に記載されるものと類似又は同等の方法及び材料を、本発明の実施形態の実施又は試験において使用することができるが、好適な方法及び材料を以下に記載する。更に、材料、方法、及び実施例は、単なる例証であり、限定することを意図するものではない。
量、濃度、又はその他の値若しくはパラメータが、ある範囲、好ましい範囲、又は好ましい上方値及び/若しくは好ましい下方値のリストとして与えられているとき、これらは、範囲が別個に開示されているかにかかわらず、任意の範囲上限値又は好ましい上方値及び任意の範囲下限値又は好ましい下方値の任意の対から形成される全ての範囲を、具体的に開示するものとして理解されるものとする。本明細書に数値範囲が記述されている場合、別途記載のない限り、この範囲は、その端点を包含し、かつその範囲内の全ての整数及び分数を包含することが意図されている。
以下に記載される実施形態の詳細に言及する前に、いくつかの用語を定義又は明確化する。
用語「高温」とは、本明細書で使用される場合、室温よりも高い温度を意味する。
用語「不飽和フルオロカーボン」とは、本明細書で使用される場合、不飽和の部分的にフッ素化された有機分子を意味する。
用語「ハイドロフルオロカーボン」とは、本明細書で使用される場合、水素、炭素、及びフッ素を含有する分子を意味する。本開示のハイドロフルオロカーボンは、飽和であっても不飽和であってもよい。
用語「ハイドロフルオロオレフィン」とは、本明細書で使用される場合、水素、炭素、フッ素、及び少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を含有する分子を意味する。
用語「不飽和フルオロカーボンエーテル」とは、本明細書で使用される場合、炭素、フッ素、少なくとも1個の炭素−炭素二重結合、及び少なくとも1個のエーテル官能基を含有する分子を意味する。
用語「不飽和ハイドロフルオロカーボンエーテル」とは、本明細書で使用される場合、水素、炭素、フッ素、少なくとも1個の炭素−炭素二重結合、及び少なくとも1個のエーテル官能基を含有する分子を意味する。
用語「飽和ハイドロフルオロカーボンエーテル」とは、本明細書で使用される場合、水素、炭素、フッ素、及び少なくとも1個のエーテル官能基を含有する分子を意味する。
用語「支持表面」とは、本明細書で使用される場合、式(I)及び式(IV)のコーティング組成物を共有結合により接着することができる固体表面を意味する。典型的な支持表面としては、金属酸化物、金属、シリカ、ガラス、プラスチックのような高分子材料、及びこれらの任意の組み合わせが挙げられる。本発明のいくつかの実施形態では、支持表面は、金属酸化物、ガラス、プラスチック、及びこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態では、支持表面は金属酸化物である。本発明のいくつかの実施形態では、支持表面はプラスチックである。本発明のいくつかの実施形態では、支持表面はガラスである。本発明のいくつかの実施形態では、支持表面はシリカである。
用語「接触角」とは、本明細書で使用される場合、液体/支持表面界面と、液体/空気界面との間で形成される角度を意味する。接触角を、図1において角度αとして図示する。接触角は、基材(2)の表面に1滴の液体(1)を提供し、液体の輪郭を目視し、図1に示すように三相(固体表面、液体、及び空気)界面点が頂点となった、表面と液体の輪郭との間に形成される角度を測定することにより測定可能である。
接触角の測定値を用いて、基材の表面エネルギーを測定することができる。一般的に、より大きい接触角はより小さい表面エネルギーを示す。
本発明は、タッチパネル画面に適用することができる、防汚性、耐摩耗性、耐引っ掻き性、抗汚れ性、抗指紋性の離型コーティング組成物を提供する。組成物は、式(I)(Rf)−Y−(SiQ3−kを有する少なくとも1種のフッ素化シラン(式中、Rfは一価のRf(OC−(OC−(OC−(OCFを表し、式中、a、b、c、及びdは独立して、3〜200(3及び200を含む)の整数を表し、a、b、c、及びdの合計は少なくとも1であり、Rfは直鎖又は分枝鎖の、1〜4個の炭素を有するフッ素化アルキル基であり、Yは、価数が3以上の多価の有機基を表し、好ましい多価の有機基Yは多価のアルキル、及び以下の基−O−、−S−、−NR−のうちの少なくとも1つを含有することができ、多価の有機基Yの例としては、例えば、−CHO[−CHCH(−OC−)CH−O−]−[CHCH(−CHOC−)−O−]−(式中、e及びmは独立して0〜4の整数であり、e+mは少なくとも1である)、−CHCHSCHCH(−OC−)CHOC−、−CHOCHCH(−OC−)CHN(−C−)、−CHOCHCH(−OC−)−CHOCHCH(−OC−)CHOC−が挙げられ、
Qは加水分解性基、ヒドロキシル基、又はアルキルオキシ基を表し、式(I)を有する分子鎖の末端、又は処理した表面の他の活性部位に位置するSi原子とシロキサン結合を形成することができ、Zは、メチル、エチル、プロピル、ブチルのような一価のアルキル基、又はフェニル基を表し、pは1又は2であり、wは2〜14である)を含む。
以下に、式(I)に従ったフルオロポリエーテルシランの追加の例を示し、
Figure 2019515973
式中、hは1〜4であり、
Figure 2019515973
式中、e及びmは独立して0〜4の整数であり、e+mは少なくとも1である。
本発明の一態様では、式(I)を有する化合物は、式(II)
(Rf)−Y−(CHCH=CH(II)
を有するアリルオキシ化合物又はアリルアミノ化合物のヒドロシリル化反応により調製することができ、
式中、Yは多価の基であり、p及びwは式(I)で定義したとおりである。
当業者は、式(II)を有する化合物は、式(III)
(Rf)−Y−(H)(CHCH=CHw−v(III)
(式中、vは1〜13であり、p及びwは式(I)で定義したとおりである)
の対応するヒドロキシル誘導体から調製することができることを速やかに理解するであろう。このような合成の詳細は、例えば、Journal of Fluorine Chemistry 126(2005)281〜288に、Howell,et al.により開示されている。
本発明はまた、コーティングされた物品を提供する。コーティングされた物品は、(a)支持表面と、(b)上記式(I)を有する、少なくとも1種のフッ素化シラン部分を含むコーティングと、を含み、少なくとも1種のフッ素化シラン部分及び支持表面は共有結合している。
本発明は更に、(a)支持表面と、(b)式(I)(Rf)−Y−(SiQ3−kを有する少なくとも1個のフッ素化シランを支持表面上に適用することにより調製されるコーティングと、を含むコーティングされた物品を提供し、式中、Rfは一価のRf(OC−(OC−(OC−(OCF(式中、a、b、c、及びdは独立して、3〜200(3及び200を含む)の整数を表し、a、b、c、及びdの合計は少なくとも1である)を表し、Rfは直鎖又は分枝鎖の、1〜4個の炭素を有するフッ素化アルキル基であり、Yは、価数が3以上の多価の有機基を表し、Qは加水分解性基、ヒドロキシル基、又はアルキルオキシ基を表す。Qは、式(1)を有する分子鎖の末端に位置するSi原子とシロキサン結合を形成することができ、pは1又は2であり、wは2〜14であり、Zはメチル、エチル、プロピル、ブチルのような一価のアルキル基、フェニル基、又は水素を表す。
実験を通して、式CO(CF(CF)CFO)CF(CF)−(式中、nは7〜100の整数である)を有する分枝鎖ペルフルオロポリエーテル(PFPE)オリゴマーが特に、汚染に対して効果的に耐性があり、浄化が容易であることができる防汚コーティングをもたらすのに好適であることが発見された。
式(I)(Rf)−Y−(SiQ3−kを有するフッ素化シランを、当該技術分野において既知のプロセスにより調製することができる。例えば、CO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOCHCH[OCHCHCHSi(OMe)]−CHOCHCHCHSi(OMe)、又はCO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOCHCH[OCHCHCHSi(OMe)]−CHO(CH−OCHCH[OCHCHCHSi(OMe)]−CHOCHCHCHSi(OMe)を、フッ化アシルCO(CF(CF)CFO)CF(CF)C(O)F(式中、nは7〜100の整数である)を、以下の手順を使用して作製することができる:フッ化アシルをまず、メタノールを用いる反応により転換して対応するメチルエステルにすることができ、次に、NaBH又はLiAlHを使用してメチルエステルを還元し、対応するアルコールCO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOHを形成することができ、次に、水素化ナトリウムを使用して、アルコールをグリシドール又はグリシジルエーテル(例えばアリルグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、4,4−メチレンビス(N,N−ジグリシジルアニリン)、1,2−プロパンジオールジグリシジルエーテル、ポリ(エチレングリコール)ジグリシジルエーテル、ポリ(ジメチルシロキサン)ジグリシジルエーテル、及び同様の物質)と反応させて、European Journal of Organic Chemistry,(5),875〜896;2001に記載されているような、グリセロール及びグリシジルエーテルのモノ付加物、並びに分枝鎖オリゴマーを形成することができる。このような化学経路の例は、以下のように記載される:
Figure 2019515973
ジグリシジル又はトリグリシジル化合物を使用する場合において、1個又は2個のペルフルオロポリエーテル部分がジグリシジルエーテルに結合して、式(IV)
Figure 2019515973
を有するオキシラン含有ペルフルオロポリエーテルを形成することができ、
式中、各p及びjは1〜2であり、Rfは上述したとおりであり、
Lは、少なくとも1個のへテロ原子(例えば−O−、−S−、及び−N<)を含有する二価又は三価の基を含む。基Lは、−O(CHO−、−O(CHO−、−OCO−、−OCHC(CHCHO−、
Figure 2019515973
により表され得るがこれらに限定されず、jは1〜2である。
式(IV)を有する化合物のより具体的な例としては、例えば、以下が挙げられる。
Figure 2019515973
ペルフルオロポリエーテル及びグリシジル基を含有する本発明の式(IV)を有する化合物は、処理表面のヒドロキシル及びアミノ基と共有結合を形成することができ、様々な表面処理用の希釈溶液から適用して、耐摩耗性、防汚性、抗汚れ性、又は離型コーティングを得ることができ、これは汚染に対して効果的に耐性があり、浄化が容易となることができる。
グリシジル基を含有する、得られた式(IV)を有するグリシジル誘導体を、アリルアルコール、ポリエチレングリコールモノアリルエーテル、ジアリルアミン、及び類似のアリル含有アルコール、又はアミンで更に処理することができる。1個以上の活性ヒドロキシル基を含有する、得られる式(III)(Rf)−Y−(H)(CHCH=CHw−vを有する中間体、例えばCO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOCHCH(OH)−CHO(CH−OCH−CH(OH)−CHOCHCH=CHを更に、KOHの存在下において臭化アリル又は塩化アリルと反応させて、対応するポリアリルエーテルを形成することができ、式(II)を有するポリアリルエーテルを次に、Ashby触媒の存在下でHSiClと反応させることにより、対応するトリクロロシランに転換することができ、形成したトリクロロシランを次に、メタノールとのメトキシル化反応により、式(I)を有する最終生成物、例えばCO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOCHCH[OCHCHCHSi(OMe)]−CHOCHCHCHSi(OMe)、又はCO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOCHCH[OCHCHCHSi(OMe)]−CHO(CHOCHCH[OCHCHCHSi(OMe)]−CHOCHCHCHSi(OMe)に転換することができる。上記合成の詳細はまた、Journal of Fluorine Chemistry 126(2005)281〜288でHowellらにより、及び国際出願PTC/WO2011/060047号にてHervieuらにより開示されている。
別の例としては、欧州特許出願第862068号(Yokotaら)により開示されているように、Gelest,Inc.(Morrisville,PA)から市販されているNHCHCHCHSi(OMe)を使用して、式RfCHOCHCH(OH)CHO−A−O−CHCH(OH)CHNHCHCHCHSi(OMe)を有するアミノ含有中間体を、式(IV)を有するグリシジル含有化合物、例えばRfCHO−CHCH(OH)CH−L−CH−シクロ−CHCHO及びNHCHCHCHSi(OMe)との反応により形成することができる。式RfCHOCHCH(OH)CHO−A−O−CHCH(OH)CHNHCHCHCHSi(OMe)を有する中間体を、KOHの存在下で臭化アリル又は塩化アリルと更に反応させることができ、次に、Ashby触媒の存在下でHSiClとの反応により、対応するトリクロロシランに転換することができ、メタノールと反応させて、RfCHOCHCH(OCHCHCHSi(OMe))CHO−A−O−CHCH(OCHCHCHSi(OMe))CHNHCHCHCHSi(OMe)により例示される、式(I)を有するポリシラン化合物を作製することができる。
式(I)又は式(IV)を有するフッ素化組成物を、ウェットコーティング法又はドライコーティング法のいずれかにより、支持表面上に適用してもよい、又は支持表面と接触させてもよい。コーティング法の例としては、化学蒸着(CVD)及び物理蒸着(PVD)が挙げられる。ウェットコーティング法の例としては、ディップコーティング、スプレーコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、ロールコーティング、メニスカスコーティング、及びグラビアコーティングなどが挙げられる。
ウェットコーティング法を使用する場合、好適な支持表面は、フッ素化シラン(Rf)−Y−(SiQ3−kと共有結合を形成可能な官能基を含有する固体表面である。そのような官能基としては、−OH、−COOH、−CHO、−Br、−Cl、−NH、−NHR(式中、Rはヒドロカルビル又は置換ヒドロカルビルである)などが挙げられる。支持表面はヒドロキシル(−OH)基をその表面上に有するのが好ましい。支持表面の例としては、金属酸化物、ガラス、シリカ、及びこれらの任意の組み合わせが挙げられる。本発明のいくつかの実施形態では、支持表面を前処理して、表面上に適切な官能基、例えばヒドロキシル基を生成する。例えば、プラスチック表面をオゾンで処理して、ヒドロキシル基を作製することができる(Genzer,et al.,Science 2000,290,2130)。本発明のいくつかの実施形態において、支持表面は、その表面上に水酸基を有する前処理されたプラスチックである。
式(IV)を有するフッ素化グリシジル含有組成物を使用する場合、好適な支持表面は、反応性エポキシ基と共有結合を形成可能な官能基を含有する固体表面である。そのような官能基としては、−OH、−SH、−NH、−NHR(式中、Rはヒドロカルビル又は置換ヒドロカルビルである)などが挙げられる。支持表面はヒドロキシル(−OH)又はアミノ(−NHR)基をその表面上に有するのが好ましい。そのような支持表面の例としては、ガラス及びプラスチックが挙げられる。本発明のいくつかの実施形態では、支持表面を前処理して、オゾンでの処理によって表面に適切な官能基、例えば水酸基を生成する。
典型的には、コーティング組成物によるコーティングの前に、当該技術分野において既知の技術を使用して支持表面をきれいにする、及び/又は前処理する必要がある。例えば、支持表面を、塩基(例えばNaOH又はKOH水溶液)で洗浄し、脱イオン水で洗い流し、再び酸(例えばHCl又はHNO)で洗浄し、次に脱イオン水、その後無水メタノール又はエタノールで再び洗い流した後、高温で乾燥させることができる。支持表面調製の具体例は、実施例セクションに記載されている。
一般的に、式(I)又は式(IV)を有するフッ素化化合物を溶解して、ウェットコーティング法及びいくつかのドライコーティング法用のコーティング溶液を作製するために、溶媒が必要である。それ故、コーティング組成物は少なくとも1種の溶媒を含む。溶媒はフッ素化されていることができる、又は非フッ素化されていることができる。好適なフッ素化溶媒としては、ハイドロフルオロカーボン、飽和ハイドロフルオロカーボンエーテル、不飽和フルオロカーボンエーテル、及びこれらの混合物を挙げることができる。ハイドロフルオロカーボンの例としては、飽和ハイドロフルオロカーボン及びハイドロフルオロオレフィンが挙げられる。飽和ハイドロフルオロカーボンエーテルの例としては、アルキルペルフルオロアルキルエーテルが挙げられる。不飽和フルオロカーボンエーテルの例としては、不飽和ハイドロフルオロカーボンエーテルが挙げられる。不飽和ハイドロフルオロカーボンエーテルの例としては、アルキルペルフルオロアルケンエーテルが挙げられる。本発明のいくつかの実施形態では、少なくとも1種の溶媒は、飽和ハイドロフルオロカーボン、ハイドロフルオロオレフィン、アルキルペルフルオロアルキルエーテル、アルキルペルフルオロアルケンエーテル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
本発明のいくつかの実施形態では、少なくとも1種の溶媒は、飽和ハイドロフルオロカーボンを含む、これから本質的になる、又はこれからなる。好適な飽和ハイドロフルオロカーボンは、約50℃〜約150℃の標準沸点を有する。より好ましい飽和ハイドロフルオロカーボンは、約60℃〜約120℃の標準沸点を有する。本発明のいくつかの実施形態では、少なくとも1種の溶媒は、CFCHFCHFCFCF、すなわちVertrel(商標)XF特殊流体(CAS番号:138495−42−8、Chemours Company(Wilmington,DE))、又はCHOC、すなわち3M(商標)Novec(商標)高機能性液体(Engineered Fluid)HFE−7100(3M,(Minneapolis,MN))を含む、これらから本質的になる、又はこれらからなる。
飽和フッ素化炭化水素の多くは、地球温暖化に影響を及ぼすことが発見されている。一般に、不飽和フルオロカーボンは、飽和フルオロカーボンよりも低い地球温暖化係数(GWP)を有する。本発明のいくつかの実施形態では、少なくとも1種の溶媒は不飽和フルオロカーボンを含む、これから本質的になる、又はこれからなる。好ましくは、少なくとも1種の溶媒は、約50℃〜約150℃の標準沸点を有する不飽和フルオロカーボンを含む、これから本質的になる、又はこれからなる。より好ましくは、少なくとも1種の溶媒は、約60℃〜約120℃の標準沸点を有する不飽和フルオロカーボンを含む、これから本質的になる、又はこれからなる。
不飽和フルオロカーボンの例としては、ハイドロフルオロオレフィン、アルキルペルフルオロアルケンエーテル、及びこれらの混合物が挙げられる。本発明のいくつかの実施形態では、少なくとも1種の溶媒は、ハイドロフルオロオレフィンを含む、これから本質的になる、又はこれからなる。好ましいハイドロフルオロオレフィンは、約50℃〜約150℃の標準沸点を有する。より好ましいハイドロフルオロオレフィンは、約60℃〜約120℃の標準沸点を有する。
本発明のいくつかの実施形態では、少なくとも1種の溶媒は、アルキルペルフルオロアルケンエーテルを含む、これから本質的になる、又はこれからなる。好ましいアルキルペルフルオロアルケンエーテルは、約50℃〜約150℃の標準沸点を有する。より好ましいアルキルペルフルオロアルケンエーテルは、約60℃〜約120℃の標準沸点を有する。本発明のいくつかの実施形態では、アルキルペルフルオロアルケンエーテルはメチルペルフルオロアルケンエーテル、エチルペルフルオロアルケンエーテル、又はこれらの混合物である。本発明のいくつかの実施形態では、メチルペルフルオロアルケンエーテルはメチルペルフルオロヘプテンエーテル、メチルペルフルオロペンテンエーテル、又はこれらの混合物である。典型的には、メチルペルフルオロヘプテンエーテル又はメチルペルフルオロペンテンエーテルは、それぞれ異性体の混合物である。例えば、メチルペルフルオロヘプテンエーテルは、CFCFCF=CFCF(OCH)CFCF、CFCFC(OCH)=CFCFCFCF、及びCFCF=CFCF(OCH)CFCFCFを含む混合物であってもよい。メチルペルフルオロヘプテンエーテルはまた、CFCFCF=CFCF(OCH)CFCF、CFCFC(OCH)=CFCFCFCF、CFCFCF=C(OCH)CFCFCF、CFCF=CFCF(OCH)CFCFCF、及びCFCFCF(OCH)CFHCFCFCFを含む混合物であってもよい。メチルペルフルオロペンテンエーテルは、CFCF=C(OCH)CFCF、CFC(OCH)=CFCFCF、及びCFCF=CFCF(OCH)CFを含む混合物であってもよい。
好適な非フッ素化溶媒としては、アルコール、ケトン、ニトリル、環状エーテル、非環状エーテル、及びこれらの混合物が挙げられる。好ましくは、非フッ素化溶媒は、アルコール、ケトン、ニトリル、環状エーテル、非環状エーテル、及びこれらの混合物からなる群から選択され、上記非フッ素化溶媒は、約50℃〜約150℃の標準沸点を有する。より好ましくは、非フッ素化溶媒は、アルコール、ケトン、ニトリル、環状エーテル、非環状エーテル、及びこれらの混合物からなる群から選択され、上記非フッ素化溶媒は、約60℃〜約120℃の標準沸点を有する。本発明のいくつかの実施形態では、非フッ素化溶媒は、メタノール、エタノール、プロポノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、及びこれらの混合物からなる群から選択される。本発明のいくつかの実施形態では、非フッ素化溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、及びこれらの混合物からなる群から選択される。
場合により、式(I)又は式(IV)を含有するコーティング組成物はまた、少なくとも1種の触媒も含む。好適な触媒は、フッ素化シランと、フッ素化エポキシドと、支持表面との間での共有結合の形成を促進にする。本発明のいくつかの実施形態では、少なくとも1種の触媒は、酸、塩基、又は水を含む、これらから本質的になる、又はこれらからなる。酸の例としては、無機酸、アルキルスルホン酸、ハロゲン化アルキルスルホン酸、カルボン酸、ハロゲン化カルボン酸、及びこれらの混合物が挙げられる。無機酸の例としては、HCl、HSO、HNO、及びこれらの混合物が挙げられる。カルボン酸の例としては、ギ酸、酢酸、及びこれらの混合物が挙げられる。塩基の例としては、無機塩基、置換及び非置換トリアルキルアミン、ピリジン及びその誘導体、並びにこれらの混合物が挙げられる。無機塩基の例としては、NaOH、KOH、及びこれらの混合物が挙げられる。
ウェットコーティング法を使用する場合、既知の技術を使用して、コーティング組成物を支持表面に適用する、又は支持表面と接触させることにより、支持表面上にコーティング層を形成することができる。支持表面は典型的には、コーティング組成物と接触する前に、上述のとおりに浄化されている、及び/又は前処理されている。コーティングされた支持表面を次に、高温で乾燥又は硬化させる。乾燥又は硬化プロセスの間に溶媒が蒸発し、フッ素化シラン(Rf)−Y−(SiQ3−kが支持表面と反応して、支持表面と少なくとも1個の共有結合を形成する。例えば、フッ素化シランは、金属酸化物支持表面と少なくとも1個のSi−O−M結合を形成することができ、式中Mは金属を表す。別の例としては、フッ素化シランはシリカ支持表面と少なくとも1個のSi−O−Si結合を形成することができる。別の例としては、フッ素化シランは、ガラス支持表面と少なくとも1個のSi−O−M結合を、かつ/又は少なくとも1個のSi−O−Si結合を形成することができ、式中Mは金属を表す。本発明のいくつかの実施形態では、フッ素化シランは隣接するフッ素化シランとSi−O−Si架橋結合を形成することができる。コーティングはまた、いくつかの未反応、又は未縮合のSi−OH又はSi−Q基を含んでもよい。
典型的には、コーティングされた支持表面を、約18℃〜約200℃の温度範囲で乾燥又は硬化させる。本発明のいくつかの実施形態では、コーティングされた支持表面を約18℃〜約100℃の温度範囲で乾燥又は硬化させる。
本発明のいくつかの実施形態では、コーティングされた物品は、(a)支持表面と、(b)少なくとも1個の式(I)(Rf)−Y−(SiQ3−kを有するフッ素化シランを支持表面上に適用することにより調製したコーティングと、を含む、これらから本質的になる、又はこれらからなり、式中、Rfは一価のRf(OC−(OC−(OC−(OCF(式中、a、b、c、及びdは独立して、3〜200(3及び200を含む)の整数を表し、a、b、c、及びdの合計は少なくとも1である)を表し、Rfは直鎖又は分枝鎖の、1〜4個の炭素を有するフッ素化アルキル基であり、Yは、上述したとおりの多価の有機基を表し、Qは、式(I)を有する分子鎖の末端、又は処理表面の別の活性部位に位置するSi原子とシロキサン結合を形成することができる加水分解性基、ヒドロキシル基、又はアルキルオキシ基を表し、pは1又は2であり、wは2〜14である。本発明のいくつかの実施形態では、少なくとも1種のフッ素化シランが、支持表面上に適用される前に少なくとも1種の溶媒中に溶解している。
本発明の一態様では、式(I)(Rf)−Y−(SiQ3−kを有するフッ素化シランは、式
Figure 2019515973
により表され、式中、e及びmは0〜4の整数であり、e+m少なくとも1であり、少なくとも1種のフッ素化シラン部分及び支持表面は共有結合している。
上記に数多くの態様及び実施形態が記述されているが、これらは単に例示であり、限定するものではない。本明細書を読んだ後、当業者は、本発明の範囲から逸脱することなく、他の態様及び実施形態が可能であることを理解するであろう。
本明細書に記述される概念について以下の実施例で更に説明するが、これは、特許請求の範囲に記載する本発明の範囲を限定するものではない。
接触角測定の実施例1〜6
全ての静的接触角は、基部が傾斜した、Rame−Hart Model 590 F4 Series Advanced Automated Goniometerで測定した。装着したサンプルポンプを使用して、10μLの液滴を、基板の調製した表面(支持表面)上に分注した。次に、液滴を10秒間平衡させ、機器に含まれるDROPimageソフトウェアを使用して静的接触角測定を行った。この方法を、スライドガラスの長さより短くして最大7回繰り返した。次に、Microsoft Excel 2013ソフトウェアを使用して、各スライドの測定値をベッセル補正して、平均及び標準偏差を計算した。
次に、スライドをスチールウールシート0000番で500サイクル研磨し、水接触角を再び測定した。摩耗試験を続け、水接触角が100°未満に下がるまで、500サイクルの研磨ごとの後に、再び水接触角を測定した。
用語「ロールオフ角」とは、本明細書で使用される場合、表面にまたがる滴の変形が始まる角度を表す。ロールオフ角は、Rame−Hart Model 590 F4 Series Advanced Automated Goniometerで測定する。傾斜プレート法を使用する。10μLの液滴を使用し、基部を90°に傾斜させて測定を行った。
スライド調製実施例1〜6
スライドのVWR Micro Slides Superfrost(登録商標)White and Generation 3 Gorilla Glassを、ガラス製の垂直染色ジャーの中に配置した。2.5Mの水酸化ナトリウム水溶液をジャーの中に注ぎ、スライドを標識セクションまで2.5時間浸漬させた後、蒸留水で洗い流した。次に、スライドを、蒸留水が入った垂直染色ジャーの中に配置し、超音波浴中で10分間超音波処理した後、塩酸の0.1M水溶液に10分間、そして最終的に蒸留水に再び10分間浸漬した。次に、スライドを無水メタノール中に5分間浸漬した。
次に、スライドをHFE−7100フルオロカーボン溶媒の、0.2重量%のフッ素化シラン溶液に5分間浸漬した。次に、スライドを溶液から取り出してスライドホルダーの中に配置し、110℃で35分間乾燥させた。次にスライドをKimwipe(商標)で磨き、あらゆる残留物質を取り除いた。
フッ素化シランの調製
以下の実施例では、本発明に従ったフッ素化シラン溶液の調製について示す。
(実施例1)
ペルフルオロ(ポリ)エーテルジアリル化合物F(CO)−CF(CF)CHO−CHCH(OCHCH=CH)−CHOCHCH=CH(2.2g、0.54mmol、MW=4050、Journal of Fluorine Chemistry,126(2005)281〜288に記載の方法に従い、対応するヒドロキシ誘導体から調製)、テトラヒドロフラン(3.3g)、HFE−7100溶媒(5.5g)、白金触媒溶液(Aldrichから購入した、メチルビニルシクロシロキサン中の、0.104M白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,5,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体0.026g)、トリフェニルホスフィン(0.0006g)を、冷水冷却管、電磁撹拌器、加熱マントル、及び熱電対を装着した、乾燥させた100mLの三つ口丸底フラスコ内に配置した。HSiCl(0.5g、3.8mol)を添加し、反応混合物を20時間56℃まで加熱した。H NMR分析により、98%の転換率を達成した。混合物を室温まで冷却して過剰のメタノールで3回処理し、相分離して真空乾燥させて、2gのF(CO)−CF(CF)CHO−CHCH(OCHCHCHSi(OCH)−CHOCHCHCHSi(OCHを白色油として得た。
(実施例2)
ペルフルオロ(ポリ)エーテルポリアリル化合物F(CO)−CF(CF)CHOCHCH(OCHCH=CH)−CHN[CHCH(OCHCH=CH)−CHOCHCH=CH]−p−C−OCHCH(OCHCH=CH)−CHOCHCH=CH(1.56g、0.28mmol、MW=5600)、テトラヒドロフラン(3g)、HFE−7100(4g)、白金触媒溶液(Aldrichから購入した、メチルビニルシクロシロキサン中の、0.104M白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,5,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体0.014g)、トリフェニルホスフィン(0.0004g)を、冷水冷却管、電磁撹拌器、加熱マントル、及び熱電対を装着した100mLの三つ口丸底フラスコ内に配置した。HSiCl(1.02g、7.5mol)を添加し、反応混合物を16時間53℃まで加熱した。追加のC1224PtSi触媒(0.05gの0.1M溶液)、トリフェニルホスフィン(0.0005g)、HSiCl(0.8g)を次に添加し、反応混合物を24時間50℃まで加熱した。H NMR分析により、完全な転換を達成した。混合物を室温まで冷却してメタノール(4.5g)で処理し、相分離して真空乾燥させて、1.02gのF(CO)−CF(CF)CHO−CHCH(OCHCHCHSi(OCH)−CHN[CHCH(OCHCHCH−Si(OCH)−CHOCHCHCHSi(OCH]−p−C−OCHCH(OCHCHCH−Si(OCH)−CHOCHCHCHSi(OCHを黄色の粘稠油として得た。
(実施例3)
主な式がF(CO)−CF(CF)CHOCHCH(OCHCH=CH)−CHO(CH−OCHCH(OCHCH=CH)−CHOCHCH=CHのペルフルオロ(ポリ)エーテルポリアリル化合物(3.19g、0.59mmol、MW=5400、Journal of Fluorine Chemistry,126(2005)281〜288に記載の方法に従い、対応するヒドロキシ誘導体より調製)、テトラヒドロフラン(4g)、HFE−7100溶媒(5.7g)、白金触媒溶液(Aldrichから購入した、メチルビニルシクロシロキサン中の、0.104M白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,5,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体0.026g)、トリフェニルホスフィン(0.0007g)を、冷水冷却管、電磁撹拌器、加熱マントル、及び熱電対を装着した100mLの三つ口丸底フラスコ内に配置した。HSiCl(0.6g、3.5mol)を添加し、反応混合物を20時間55℃まで加熱した。H NMR分析により、完全な転換を達成した。混合物を室温まで冷却して過剰のメタノールで2回処理し、相分離して真空乾燥させて、2.5gのF(CO)−CF(CF)CHOCHCH(OCHCHCHSi(OCH)−CHO−(CH−OCHCH(OCHCHCHSi(OCH)−CHOCHCHCHSi(OCHを透明油として得た。
(実施例4)
ペルフルオロ(ポリ)エーテルポリアリル化合物F(CO)−CF(CF)CHOCHCH(OCHCH=CH)−CHOCHCH=CH(4.0g、0.96mmol、MW=5400、Journal of Fluorine Chemistry,126(2005)281〜288に記載の方法に従い、対応するヒドロキシ誘導体から調製)、テトラヒドロフラン(5g)、HFE−7100溶媒(7g)、白金触媒溶液(Aldrichから購入した、メチルビニルシクロシロキサン中の、0.104M白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,5,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体0.2g)、トリフェニルホスフィン(0.005g)を、冷水冷却管、電磁撹拌器、加熱マントル、及び熱電対を装着した100mLの三つ口丸底フラスコ内に配置した。HSiCl(2.2g、16.7mol)を添加し、反応混合物を20時間58℃まで加熱した。NMR分析により、完全な転換を達成した。混合物を室温まで冷却して過剰のメタノールで3回処理し、相分離して真空乾燥させて、7.2gのF(CO)−CF(CF)CHOCHCH(OCHCHCHSi(OCH)−CHOCHCHCHSi(OCHを透明油として得た。
(実施例5)
主な式がF(CO)−CF(CF)CHOCHCH(OCHCH=CH)−CHO−CHC(CHCH−OCHCH(OCHCH=CH)−CHOCHCH=CHのペルフルオロ(ポリ)エーテルポリアリル化合物(2.64g、0.62mmol、MW=4260)、テトラヒドロフラン(3.2g)、HFE−7100溶媒(4.7g)、白金触媒溶液(Aldrichから購入した、メチルビニルシクロシロキサン中の、0.104M白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,5,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体0.029g)、トリフェニルホスフィン(0.0006g)を、冷水冷却管、電磁撹拌器、加熱マントル、及び熱電対を装着した100mLの三つ口丸底フラスコ内に配置した。HSiCl(0.6g、3.5mol)を添加し、反応混合物を20時間55℃まで加熱した。H NMR分析により、98%を超える転換を達成した。混合物を室温まで冷却して過剰のメタノールで2回処理し、相分離して真空乾燥させて、1.25gのF(CO)n−CF(CF)CHOCHCH(OCHCHCH−Si(OCH)−CHO−CHC(CHCH−OCHCH(OCHCHCHSi(OCH)−CHOCHCHCHSi(OCHを白色油として得た。
(実施例6)
主な式がF(CO)−CF(CF)CHOCHCH(OCHCH=CH)−CHO−(CH−OCHCH(OCHCH=CH)−CHOCHCH=CHのペルフルオロ(ポリ)エーテルポリアリル化合物(3.19g、0.59mmol、MW=5440)、テトラヒドロフラン(3.8g)、HFE−7100溶媒(5.7g)、白金触媒溶液(Aldrichから購入した、メチルビニルシクロシロキサン中の、0.104M白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,5,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体0.026g)、トリフェニルホスフィン(0.0007g)を、冷水冷却管、電磁撹拌器、加熱マントル、及び熱電対を装着した100mLの三つ口丸底フラスコ内に配置した。HSiCl(0.6g、3.5mol)を添加し、反応混合物を20時間55℃まで加熱した。H NMR分析により、95%を超える転換を達成した。混合物を室温まで冷却して過剰のメタノールで2回処理し、相分離して真空乾燥させて、2.5gのF(CO)−CF(CF)CHOCHCH(OCHCHCHSi(OCH)−CHO−(CH−OCHCH(OCHCHCHSi(OCH)−CHOCHCHCH−Si(OCHを透明油として得た。
合成実施例7
乾燥したペルフルオロ(ポリ)エーテルアルコール化合物F(CO)−CF(CF)CHOH(22g、12.2mmol、MW=1800)、ナトリウムメトキシド(0.3g)、部分的にフッ素化したアルコール置換グリコールCapstone(商標)FS−3100(0.23g、Chemoursから入手可能)を窒素下にて、冷水冷却管、電磁撹拌器、加熱マントル、及び熱電対を装着した100mLの三つ口丸底フラスコの中に配置し、真空中で40〜45℃にて15分間加熱した。メタノールを除去した後、ヨウ化テトラブチルアンモニウム(0.06g)及び1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル(2.84g、Aldrichから購入)を70℃でフラスコに添加し、100℃まで6時間加熱した。水素化ナトリウム(0.1g)を添加して、100℃まで10時間更に加熱した後、95%の転換が達成された。未反応のジグリシジルエーテルをテトラヒドロフランで抽出し、生成物を真空中で乾燥させて、F(CO)−CF(CF)CHO−CHCH(OH)−CHO−(CH−OCH−シクロ−CHCHO(18.3g)を黄色油として得た。
比較合成実施例1
主な式がF(CO)n−CF(CF)CHOCHCH=CHのペルフルオロ(ポリ)エーテルポリアリル化合物(7.0g、1.36mmol、Mn=5140、Journal of Fluorine Chemistry,126(2005)281〜288に記載の方法に従い、対応するヒドロキシル誘導体F(CO)−CF(CF)CHOHから調製)、テトラヒドロフラン(7g)、HFE−7100溶媒(9g)、白金触媒溶液(Aldrichから購入した、メチルビニルシクロシロキサン中の、0.104M白金−2,4,6,8−テトラメチル−2,4,5,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体0.064g)、トリフェニルホスフィン(0.0015g)を、冷水冷却管、電磁撹拌器、加熱マントル、及び熱電対を装着した100mLの三つ口丸底フラスコ内に配置した。HSiCl(0.74g、5.5mol)を添加し、反応混合物を20時間55℃まで加熱した。H NMR分析により、98%を超える転換を達成した。混合物を室温まで冷却して過剰のメタノールで2回処理し、相分離して真空乾燥させて、F(CO)−CF(CF)CHO−CHCHCHSi(OCH(6g)を透明油として得た。
表1〜4は、2種類のガラス、Super Frost White(表1及び2)並びにGorilla Glass(表3及び4)の表面上における、本発明に従って調製したフッ素化溶媒中においてフッ素化シラン溶液を使用することの有効性を示す。
Super Frost Whiteスライドガラス上での水接触角(WCA)測定値を上述のとおりに測定し、表1及び2に示す。
Figure 2019515973
「−」−測定は実施されなかった。
上述した乾燥又は硬化プロセス後、スライドガラスをEthanol−wipeで拭き、水接触角(WCA)測定を上述のとおりに行い、表2に示す。
Figure 2019515973
Gorilla Glass上での水接触角(WCA)測定値を上述のとおりに測定し、表3及び4に示す。
Figure 2019515973
上述した乾燥又は硬化プロセス後、Gorilla GlassスライドをEthanol−wipeで拭き、水接触角(WCA)測定を上述のとおりに行い、表4に示す。
Figure 2019515973
一般記述又は実施例において上述された作業の全てが必要なわけではなく、特定の作業の一部は必要でない場合があり、また、1つ以上の更なる作業を上述の作業に加えて実施してもよいことに注意されたい。また更に、作業が記載されている順序は、必ずしも実施される順序ではない。
上述の明細書において、具体的な実施例を参照して本発明の概念が記述されている。しかしながら、下記の特許請求の範囲に示されている本発明の範囲から逸脱することなく、様々な修正及び変更をなすことが可能であることが、当業者は理解されよう。したがって、本明細書は、制限的な意味ではなく例示として見なされるものであり、そのような修正が全て、本発明の範囲内に含まれることが意図される。
利益、その他の利点、及び問題の解決策が、具体的な実施形態に関連して上記に記述されている。しかしながら、これらの利益、利点、問題の解決策、及び、任意の利益、利点又は解決策を生じる場合がある又はより明らかにする場合があるようないかなる特徴も、特許請求の範囲の一部又は全てにおいて必須、必要、又は不可欠な特徴として解釈されるものではない。
明確にするために、別個の実施形態の文脈において本明細書に記述されている特定の特徴は、単一の実施形態中で組み合わせて提供されてもよいことが理解されるべきである。逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈において記述されている様々な特徴も、別個に提供されてよく、また任意の下位組み合わせで提供されてもよい。

Claims (8)

  1. 式(I)
    (Rf)−Y−(SiQ3−k (I)
    (式中、Rfは一価のRf(OC−(OC−(OC−(OCFを表し、式中、a、b、c、及びdは独立して3〜200(3及び200を含む)の整数を表し、a、b、c、及びdの合計は少なくとも1であり、Rfは直鎖又は分枝鎖の、1〜4個の炭素を有するフッ素化アルキル基であり、Yは、分枝が可能な多価の有機基を表し、多価のアルキル、二価のポリシロキサン、p−フェニレン、m−フェニレン、又はo−フェニレンを含有することができ、Yは、−O−、−S−、−NR−、−C(O)O−、C(O)NR−(式中、Rは、共有結合、二価のアルキレン、水素、メチル、エチル、又はイソプロピルである)から選択される、少なくとも2個以上のヘテロ原子含有基を含有し、Qは加水分解性基、ヒドロキシル基、又はアルキルオキシ基を表し、Zは、メチル、エチル、プロピル、ブチルのような一価のアルキル基、フェニル基、又は水素を表し、pは1又は2であり、wは2〜14であり、p+wは3〜15であり、kは1〜3である)
    を有する、少なくとも1種のフッ素化シランを含む、コーティング組成物。
  2. 前記フッ素化シランが、式F(CO)−CF(CF)CH−O−[−CHCH(−OCSi(OCH)CH−O−]−[CHCH(−CHOCSi(OCH)O−]−C−Si(OCHを有し、式中、e及びmが独立して0〜4の整数であり、e+mが少なくとも1であり、nが7〜100の整数である、請求項1に記載の組成物。
  3. 前記フッ素化シランが、式F(CO)−CF(CF)CHO−CHCH−(OCHCHCHSi(OCH)−CHOCHCHCHSi(OCHを有し、nが7〜100の整数である、請求項1に記載の組成物。
  4. 前記Rf−が、CO(CF(CF)CFO)CF(CF)−であり、nが7〜100の整数であり、Yが−CHOCHCH(OCHCHCH−)CHO−p−C−N[CHCH(OCHCHCH−)CHOCHCHCH−]である、請求項1に記載のコーティング組成物。
  5. 式(IV)
    Figure 2019515973
    (式中、Rfは一価のRf(OC−(OC−(OC−(OCFを表し、式中、a、b、c、及びdは独立して3〜200(3及び200を含む)の整数を表し、a、b、c、及びdの合計は少なくとも1であり、Rfは直鎖又は分枝鎖の、1〜4個の炭素を有するフッ素化アルキル基であり、Lは、ヘテロ原子−O−、−S−、及び−N<のうちの少なくとも1個を含有する二価又は三価の基であり、jは1〜2であり、pは1〜2である)
    を有する、少なくとも1種のフッ素化シランを含む、コーティング組成物。
  6. 前記Rf−が、CO(CF(CF)CFO)CF(CF)−であり、nが7〜100の整数である、請求項5に記載のコーティング組成物。
  7. 前記Lが、−OCHCHCHCHO−である、請求項6に記載のコーティング組成物。
  8. 前記Lが、
    Figure 2019515973
    である、請求項6に記載のコーティング組成物。
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