JP2019506510A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019506510A5 JP2019506510A5 JP2018542256A JP2018542256A JP2019506510A5 JP 2019506510 A5 JP2019506510 A5 JP 2019506510A5 JP 2018542256 A JP2018542256 A JP 2018542256A JP 2018542256 A JP2018542256 A JP 2018542256A JP 2019506510 A5 JP2019506510 A5 JP 2019506510A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- phase
- acrylate
- internal phase
- external phase
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims 12
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 3
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OTRIMLCPYJAPPD-UHFFFAOYSA-N OC.OC.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C Chemical compound OC.OC.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C OTRIMLCPYJAPPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PSGCQDPCAWOCSH-BREBYQMCSA-N [(1R,3R,4R)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] prop-2-enoate Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@H](OC(=O)C=C)C[C@@H]1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-BREBYQMCSA-N 0.000 claims 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WOLHOYHSEKDWQH-UHFFFAOYSA-N amantadine hydrochloride Chemical compound [Cl-].C1C(C2)CC3CC2CC1([NH3+])C3 WOLHOYHSEKDWQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000008385 outer phase Substances 0.000 claims 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 239000003211 photoinitiator Substances 0.000 claims 2
- 230000001737 promoting Effects 0.000 claims 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical group CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims 1
- 230000000996 additive Effects 0.000 claims 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N dodecyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000008384 inner phase Substances 0.000 claims 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 claims 1
- 230000000087 stabilizing Effects 0.000 claims 1
Claims (16)
- ラウリルメタクリレート及びトリメチロールプロパントリメタクリレートを含む硬化した内相に分散した複数の半導体ナノ粒子と、
アクリレート官能化シリカナノ粒子樹脂を含む外相と、
を含むフィルム。 - 酸素バリアフィルムを更に含む、請求項１に記載のフィルム。
- ラウリルメタクリレート及びトリメチロールプロパントリメタクリレートを含む硬化した内相に分散した複数の半導体ナノ粒子と、
単官能性接着促進アクリルオリゴマー及びトリシクロデカンジメタノールジアクリレートを含む外相と、
を含むフィルム。 - 前記外相は、単官能性接着促進アクリルオリゴマー及びトリシクロデカンジメタノールジアクリレートを実質的に等量で含む、請求項３に記載のフィルム。
- 酸素バリアフィルムを更に含む、請求項３に記載のフィルム。
- 前記複数の半導体ナノ粒子が赤色発光量子ドットを含む、請求項３に記載のフィルム。
- 前記複数の半導体ナノ粒子が赤色発光量子ドット及び緑色発光量子ドットを含む、請求項３に記載のフィルム。
- イソボルニルアクリレートを含む内相に分散した複数の半導体ナノ粒子と、
前記内相との相分離をもたらす樹脂を含む外相と、
を含むフィルム。 - 前記外相がアクリレート官能化シリカナノ粒子樹脂を含む、請求項８に記載のフィルム。
- 前記外相が、ビスフェノールＡエポキシジアクリレートオリゴマー及び２−ヒドロキシエチルアクリレートを含む、請求項８に記載のフィルム。
- 前記外相が、約８０％のビスフェノールＡエポキシジアクリレートオリゴマーと約２０％の２−ヒドロキシエチルアクリレートとを含む、請求項１０に記載のフィルム。
- 前記内相がラウリルアクリレートを更に含む、請求項８に記載のフィルム。
- 前記外相がアクリレート官能化シリカナノ粒子樹脂を含んでおり、前記内相は、実質的にイソボルニルアクリレート及び半導体ナノ粒子からなる、請求項８に記載のフィルム。
- 約１重量％の光開始剤を更に含む、請求項１３に記載のフィルム。
- 前記光開始剤は、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシドである、請求項１４に記載のフィルム。
- 前記内相が安定化添加剤を更に含む、請求項８に記載のフィルム。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201662294783P | 2016-02-12 | 2016-02-12 | |
| US62/294,783 | 2016-02-12 | ||
| PCT/IB2017/000178 WO2017137843A1 (en) | 2016-02-12 | 2017-02-10 | Highly stable quantum dot-containing polymer films |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020091881A Division JP2020169322A (ja) | 2016-02-12 | 2020-05-27 | 安定性に優れた量子ドット含有ポリマーフィルム |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019506510A JP2019506510A (ja) | 2019-03-07 |
| JP2019506510A5 true JP2019506510A5 (ja) | 2019-06-06 |
| JP6759349B2 JP6759349B2 (ja) | 2020-09-23 |
Family
ID=58547750
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018542256A Active JP6759349B2 (ja) | 2016-02-12 | 2017-02-10 | 安定性に優れた量子ドット含有ポリマーフィルム |
| JP2020091881A Pending JP2020169322A (ja) | 2016-02-12 | 2020-05-27 | 安定性に優れた量子ドット含有ポリマーフィルム |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020091881A Pending JP2020169322A (ja) | 2016-02-12 | 2020-05-27 | 安定性に優れた量子ドット含有ポリマーフィルム |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US10246633B2 (ja) |
| EP (1) | EP3400268B1 (ja) |
| JP (2) | JP6759349B2 (ja) |
| KR (1) | KR102240061B1 (ja) |
| CN (1) | CN108603105A (ja) |
| TW (2) | TWI654278B (ja) |
| WO (1) | WO2017137843A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10765885B2 (en) | 2016-02-26 | 2020-09-08 | Nanoco Technologies Ltd. | Phototherapy mask with quantum dot phosphors |
| CN109694518B (zh) * | 2018-12-27 | 2022-01-28 | 四川东方绝缘材料股份有限公司 | 一种双键聚合物量子点膜及其制备方法 |
| WO2021168062A1 (en) | 2020-02-21 | 2021-08-26 | Swimc Llc | Stain-blocking polymers, primers, kits, and methods |
| CN114574187B (zh) * | 2020-11-30 | 2024-03-05 | 北京京东方技术开发有限公司 | 纳米粒子、纳米粒子层图案化的方法及相关应用 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009086374A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
| CN102482457B (zh) * | 2009-09-09 | 2015-04-15 | Qd视光有限公司 | 包含纳米颗粒的颗粒、其应用和方法 |
| GB0916700D0 (en) * | 2009-09-23 | 2009-11-04 | Nanoco Technologies Ltd | Semiconductor nanoparticle-based materials |
| GB201109054D0 (en) * | 2011-05-31 | 2011-07-13 | Nanoco Technologies Ltd | Semiconductor nanoparticle-based materials for use in light emitting diodes, optoelectronic displays and the like |
| GB201116517D0 (en) * | 2011-09-23 | 2011-11-09 | Nanoco Technologies Ltd | Semiconductor nanoparticle based light emitting materials |
| WO2013078252A1 (en) * | 2011-11-22 | 2013-05-30 | Qd Vision, Inc. | Quantum dot-containing compositions including an emission stabilizer, products including same, and method |
| US9783733B2 (en) * | 2013-03-15 | 2017-10-10 | Nanoco Technologies Ltd. | Preparation of quantum dot beads having a silyl surface shell |
| JPWO2014208356A1 (ja) * | 2013-06-25 | 2017-02-23 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム及び発光デバイス |
| JPWO2015019941A1 (ja) | 2013-08-09 | 2017-03-02 | 昭和電工株式会社 | 半導体ナノ粒子含有硬化性組成物、硬化物、光学材料および電子材料 |
| KR102086712B1 (ko) * | 2013-08-14 | 2020-05-15 | 나노코 테크놀로지스 리미티드 | 다상의 수지를 이용한 양자점 막 |
| JP2015102857A (ja) | 2013-11-28 | 2015-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 光変換部材、バックライトユニット、および液晶表示装置、ならびに光変換部材の製造方法 |
| JP6245742B2 (ja) * | 2013-12-04 | 2017-12-13 | 昭和電工株式会社 | 半導体ナノ粒子含有硬化性組成物、硬化物、光学材料および電子材料 |
| TWI644926B (zh) * | 2014-03-04 | 2018-12-21 | 英商納諾柯技術有限公司 | 量子點聚合物膜之製造方法 |
| JP2017514299A (ja) | 2014-03-18 | 2017-06-01 | ナノコ テクノロジーズ リミテッド | 量子ドット組成物 |
| US9708532B2 (en) * | 2014-03-28 | 2017-07-18 | Nanoco Technologies Ltd. | Quantum dot compositions |
| KR101821086B1 (ko) | 2014-04-02 | 2018-01-22 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 티오에테르 리간드를 포함하는 복합 나노입자 |
| US9466771B2 (en) * | 2014-07-23 | 2016-10-11 | Osram Sylvania Inc. | Wavelength converters and methods for making the same |
-
2017
- 2017-02-10 CN CN201780010680.7A patent/CN108603105A/zh active Pending
- 2017-02-10 KR KR1020187022610A patent/KR102240061B1/ko active IP Right Grant
- 2017-02-10 EP EP17717496.8A patent/EP3400268B1/en active Active
- 2017-02-10 WO PCT/IB2017/000178 patent/WO2017137843A1/en active Application Filing
- 2017-02-10 US US15/429,845 patent/US10246633B2/en active Active
- 2017-02-10 JP JP2018542256A patent/JP6759349B2/ja active Active
- 2017-02-13 TW TW106104656A patent/TWI654278B/zh active
- 2017-02-13 TW TW108107119A patent/TW201943835A/zh unknown
-
2019
- 2019-02-15 US US16/277,513 patent/US10941338B2/en active Active
-
2020
- 2020-05-27 JP JP2020091881A patent/JP2020169322A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2019506510A5 (ja) | ||
| JP2015158565A5 (ja) | ||
| JP2018538557A5 (ja) | ||
| JP2015045857A5 (ja) | ||
| JP2016513338A5 (ja) | ||
| JP2018501356A5 (ja) | ||
| JP2014040572A5 (ja) | ||
| JP2008081726A5 (ja) | ||
| JP2016511709A5 (ja) | ||
| JP2016108556A5 (ja) | ||
| WO2016088646A1 (ja) | 半導体ナノ粒子含有硬化性組成物、硬化物、光学材料および電子材料 | |
| JP2019506420A5 (ja) | ||
| JP2021042122A5 (ja) | ||
| JP2012072364A5 (ja) | ||
| BR112019018032A2 (pt) | Composição fotocurável e material de preenchimento para restauração dentária | |
| JP2014169450A5 (ja) | ||
| JP2013511808A5 (ja) | ||
| JP2016221967A5 (ja) | ||
| JP2020169322A (ja) | 安定性に優れた量子ドット含有ポリマーフィルム | |
| JPWO2022210792A5 (ja) | ||
| JP2020070443A5 (ja) | ||
| JP2017215568A5 (ja) | ||
| WO2020024359A1 (zh) | 显示面板及封装构件 | |
| AR099141A1 (es) | Proceso para el curado de una resina de poliéster insaturado o resina de éster de vinilo que contiene (met)acrilato y composición de resina curable radicalmente resultante | |
| JP2014156578A5 (ja) |