JP2019505350A - Uv−ledフォトリアクタのための放熱装置および方法 - Google Patents
Uv−ledフォトリアクタのための放熱装置および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019505350A JP2019505350A JP2018555798A JP2018555798A JP2019505350A JP 2019505350 A JP2019505350 A JP 2019505350A JP 2018555798 A JP2018555798 A JP 2018555798A JP 2018555798 A JP2018555798 A JP 2018555798A JP 2019505350 A JP2019505350 A JP 2019505350A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thermal contact
- fluid
- led
- reactor
- thermal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 53
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 title description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 298
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 103
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 70
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 38
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 claims description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 22
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 5
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims 2
- MTLMVEWEYZFYTH-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trichloro-2-phenylbenzene Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1C1=CC=CC=C1 MTLMVEWEYZFYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 70
- VTLYHLREPCPDKX-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-(2,3-dichlorophenyl)benzene Chemical compound ClC1=CC=CC(C=2C(=C(Cl)C=CC=2)Cl)=C1Cl VTLYHLREPCPDKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 12
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- XBBRGUHRZBZMPP-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichloro-4-(2,4,6-trichlorophenyl)benzene Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1C1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl XBBRGUHRZBZMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 5
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 5
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000032770 biofilm formation Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 230000036541 health Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 2
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 208000034309 Bacterial disease carrier Diseases 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 238000004887 air purification Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- -1 but not limited to Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 210000001072 colon Anatomy 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 1
- 208000015181 infectious disease Diseases 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006262 metallic foam Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 244000052769 pathogen Species 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
- H05K1/0203—Cooling of mounted components
- H05K1/0204—Cooling of mounted components using means for thermal conduction connection in the thickness direction of the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/18—Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
- H05K1/181—Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with surface mounted components
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
- H05K7/20—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
- H05K7/20218—Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating using a liquid coolant without phase change in electronic enclosures
- H05K7/20272—Accessories for moving fluid, for expanding fluid, for connecting fluid conduits, for distributing fluid, for removing gas or for preventing leakage, e.g. pumps, tanks or manifolds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/026—Treating water for medical or cosmetic purposes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3222—Units using UV-light emitting diodes [LED]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3227—Units with two or more lamps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/326—Lamp control systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/328—Having flow diverters (baffles)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2301/00—General aspects of water treatment
- C02F2301/02—Fluid flow conditions
- C02F2301/028—Tortuous
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2307/00—Location of water treatment or water treatment device
- C02F2307/10—Location of water treatment or water treatment device as part of a potable water dispenser, e.g. for use in homes or offices
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10007—Types of components
- H05K2201/10106—Light emitting diode [LED]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
Abstract
Description
本出願は、2016年1月19日に出願された「HEAT DISSIPATION APPARATUS AND METHODS FOR UV−LED PHOTOREACTORS」と題する米国特許出願第62/280,630号の優先権を主張する。米国のために、本出願は、2016年1月19日に出願された「HEAT DISSIPATION APPARATUS AND METHODS FOR UV−LED PHOTOREACTORS」と題する米国特許出願第62/280,630号の、米国特許法第119条に基づく利益を主張する。米国特許出願第62/280,630号は、あらゆる目的のために、参照により本明細書に組み込まれる。
a.チャネル(複数可)(平行チャネルを含む)を流れる流体が、主に流路長(または主流方向)の軸に垂直な方向においてUV−LEDによって照射される。この場合、LED(複数可)は流路の長さに沿って位置決めされる。流れは主にUV−LEDの下/上を移動し、照射される。
b.チャネル(複数可)を流れる流体が、主に流路長(または主流方向)の軸に平行な方向においてUV−LEDによって照射される。この場合、LED(複数可)は流路(複数可)の一端または両端に位置決めされる。流れは主にUV−LEDに向かってまたはUV−LEDから外方に移動し、照射される。
文脈が明確に別途必要としない限り、明細書および特許請求の範囲全体を通して、
・「備える(comprise)」、「備えている(comprising)」などは、排他的または網羅的な意味とは対照的に包括的な意味で解釈されるべきであり、言い換えれば、「含むが、これに限定されない」という意味である。
・「接続されている」、「結合されている」、またはその任意の変形は、2つ以上の要素間の直接的または間接的な任意の接続または結合を意味する。要素間の結合または接続は、物理的、論理的、またはそれらの組み合わせとすることができる。
・「本明細書における」、「上記(above)」、「下記(below)」および類似の意味の単語は、本明細書を記述するために使用される場合、本明細書の任意の特定の部分ではなく、本明細書全体を参照するものとする。
・「または」は、2つ以上の項目のリストを参照して、その単語の以下の解釈すべてをカバーする、すなわち、リスト内の項目のいずれか、リスト内のすべての項目、および、リスト内の項目の任意の組み合わせ。
・単数形「a」、「an」および「the」には、適切な複数形の意味も含まれる。
Claims (54)
- 紫外線(UV)放射線を流体流に照射するための紫外線(UV)リアクタであって、
流体が流れることを可能にするために1つまたは複数の熱伝導壁を備える熱伝導管本体によって画定される流体導管と、
プリント回路基板(PCB)に動作可能に接続されているUV発光ダイオード(UV−LED)であり、前記UV−LEDは、放射線を前記流体導管へと方向付けるように配向されている、UV−LEDと
を備え、
前記PCBは、第1の表面を有する熱伝導基板を備え、
前記熱伝導管本体は、前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面と熱接触しており、
熱は、前記UV−LEDから前記熱伝導基板、前記熱伝導基板の前記第1の表面と前記熱伝導管本体との間の前記熱接触を介して、前記熱伝導管本体の前記1つまたは複数の熱伝導壁から、前記流体導管を通って流れる前記流体へと放散される、紫外線(UV)リアクタ。 - 前記UV−LEDが、前記UV−LEDから前記流体導管への第1の方向に延伸する主光軸を有するように放射線を方向付けるように配向され、前記熱伝導基板の前記第1の表面は、実質的に前記第1の方向に向けられている法線ベクトルを有する平面である、請求項1または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の前記熱接触が、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に介在する熱接触強化構成要素を含み、前記熱接触強化構成要素は、前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板との間の熱接触抵抗を減少させる(熱接触伝導率を増加させる)、請求項1から2または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。
- 前記熱接触強化構成要素が、熱伝導性かつ変形可能な熱パッドを含む、請求項3または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記熱接触強化構成要素が、熱伝導性ゲルまたはペーストを含む、請求項3または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の前記熱接触は、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に介在する熱伝導中間構成要素を含む、請求項1から5または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。
- 前記PCBは、前記熱伝導基板の前記第1の表面が露出している熱接触領域を含み、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の前記熱接触は、前記熱接触領域内で行われる、請求項1から6または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。
- 前記PCBのはんだマスクコーティングが前記PCBの前記熱接触領域から除去される、請求項7または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記PCBは、前記熱接触領域に隣接する回路領域内の前記熱伝導基板の前記第1の表面を覆うはんだマスクを含み、前記UV−LEDは前記回路領域内に位置する、請求項7または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記流体導管を通って流れる前記流体は、前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁と接触して、前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁から前記流体に熱を放散する、請求項1から9または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。
- 前記流体導管を通って流れる前記流体と前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁との間の前記接触は、少なくとも部分的に、前記リアクタのUV活性領域内で生じる、請求項10または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記熱伝導管本体は、複数の流体流路であって、各流体流路は、1つまたは複数の熱伝導壁によって画定される、複数の流体流路と、前記複数の流体流路のうちの少なくとも2つの端部に配置され、前記少なくとも2つの流体流路間に流体連通を提供するように成形されたマニホルドとを備え、
前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の前記熱接触は、前記マニホルドと前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の熱接触を含む、請求項1から11または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。 - 前記マニホルドが前記複数の流体流路と一体的に形成されている、請求項12または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記マニホルドが前記複数の流体流路に接合されて、熱接触している、請求項12または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記熱伝導管本体は、複数の流体流路を備え、各流体流路は1つまたは複数の熱伝導壁によって画定され、
前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の前記熱接触は、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に介在する熱伝導マニホルドを含む、請求項1から11または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。 - 前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の前記熱接触が、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に介在する熱接触強化構成要素を含み、前記熱接触強化構成要素は、前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板との間の熱接触抵抗を減少させる(熱接触伝導率を増加させる)、請求項15または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記熱接触強化構成要素が、熱伝導性かつ変形可能な熱パッドを含む、請求項16または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記熱接触強化構成要素が、熱伝導性ゲルまたはペーストを含む、請求項16または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記主光軸は、前記流体導管を通る前記流体が流れる方向とほぼ平行である、請求項2から18または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。
- 前記熱伝導管本体が、複数の長手方向に延伸する流体流路を含み、長手方向に延伸する各流体流路が1つまたは複数の熱伝導壁によって画定され、前記主光軸は、前記複数の長手方向に延伸する流体チャネルを通る流体流の長手方向とほぼ平行である、請求項2から19または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。
- 前記光軸が前記UV−LEDから前記流体導管まで延伸する前記第1の方向は、前記複数の流体流路のうちの少なくとも1つの流体流の前記長手方向に対向する、請求項20または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記光軸が前記UV−LEDから前記流体導管まで延伸する前記第1の方向は、前記複数の流体流路のうちの少なくとも1つの流体流の前記長手方向と同じである、請求項20から21または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。
- 紫外線(UV)放射線を流体流に照射するための紫外線(UV)リアクタにおける熱管理のための方法であって、
1つまたは複数の熱伝導壁を備える熱伝導管本体によって画定される流体導管を通じて流体が流れることを可能にすることと、
UV発光ダイオード(UV−LED)をプリント回路基板(PCB)に動作可能に接続することであって、前記PCBは、第1の表面を有する熱伝導基板を含む、接続することと、
放射線を前記流体導管内に導くために前記UV−LEDを配向させることと、
前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に熱接触を形成することと
を含み、
熱は、前記UV−LEDから前記熱伝導基板、前記熱伝導基板の前記第1の表面と前記熱伝導管本体との間の前記熱接触を介して、前記熱伝導管本体の前記1つまたは複数の熱伝導壁から、前記流体導管を通って流れる前記流体へと放散される、方法。 - 前記UV−LEDを配向させることが、前記UV−LEDから前記流体導管への第1の方向に延伸する主光軸を有するように放射線を方向付けるように前記UV−LEDを配向させることを含み、前記熱伝導基板の前記第1の表面は、実質的に前記第1の方向に向けられている法線ベクトルを有する平面である、請求項23または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に前記熱接触を形成することが、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に熱接触強化構成要素を介在させ、結果、前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板との間の熱接触抵抗を減少させる(熱接触伝導率を増加させる)ことを含む、請求項23から24または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記熱接触強化構成要素が、熱伝導性かつ変形可能な熱パッドを含む、請求項25または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記熱接触強化構成要素が、熱伝導性ゲルまたはペーストを含む、請求項25または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に前記熱接触を形成することは、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に熱伝導中間構成要素を介在させることを含む、請求項23から27または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記PCBは、前記熱伝導基板の前記第1の表面が露出している熱接触領域を含み、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に前記熱接触を形成することは、前記熱接触領域内で前記熱接触を形成することを含む、請求項23から28または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記PCBの前記熱接触領域から前記PCBのはんだマスクコーティングを除去することを含む、請求項29または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記PCBは、前記熱接触領域に隣接する回路領域内の前記熱伝導基板の前記第1の表面を覆うはんだマスクを含み、前記UV−LEDを前記PCBに動作可能に接続することは、前記回路領域内に前記UV−LEDを配置することを含む、請求項29または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記流体導管を通って流れる前記流体は、前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁から前記流体に熱を放散するために、前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁と接触する、請求項23から31または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記流体導管を通って流れる前記流体と前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁との間の前記接触は、少なくとも部分的に、前記リアクタのUV活性領域内で生じる、請求項32または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記方法は、複数の流体流路であり、各流体流路は、1つまたは複数の熱伝導壁によって画定される、複数の流体流路と、前記複数の流体流路のうちの少なくとも2つの端部に配置されている、前記少なくとも2つの流体流路間に流体連通を提供するためのマニホルドとを備えるように、前記流体導管を成形することを含み、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の前記熱接触は、前記マニホルドと前記熱伝導基板の前記第1の表面との間の前記熱接触を形成することを含む、請求項1から11または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記マニホルドを前記複数の流体流路と一体的に形成することを含む、請求項34または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記マニホルドを前記複数の流体流路に接合することと、前記マニホルドを前記複数の流体流路に熱接触させることとを含む、請求項34または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記方法は、複数の流体流路であり、各流体流路は、1つまたは複数の熱伝導壁によって画定される、複数の流体流路と、前記複数の流体流路のうちの少なくとも2つの端部に配置されている、前記少なくとも2つの流体流路間に流体連通を提供するためのマニホルドとを備えるように、前記流体導管を成形することを含み、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に前記熱接触を形成することは、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に熱伝導マニホルドを介在させることを含む、請求項23から33または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に前記熱接触を形成することが、前記熱伝導管本体と前記熱伝導基板の前記第1の表面との間に熱接触強化構成要素を介在させ、結果、前記熱伝導管本体と前記PCBの前記熱伝導基板との間の熱接触抵抗を減少させる(熱接触伝導率を増加させる)ことを含む、請求項37または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記熱接触強化構成要素が、熱伝導性かつ変形可能な熱パッドを含む、請求項38または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記熱接触強化構成要素が、熱伝導性ゲルまたはペーストを含む、請求項38または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記主光軸は、前記流体導管を通る前記流体が流れる方向とほぼ平行である、請求項24から40または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記方法は、複数の長手方向に延伸する流体流路を含むように前記熱伝導管本体を成形することを含み、長手方向に延伸する各流体流路が1つまたは複数の熱伝導壁によって画定され、前記主光軸は、前記複数の長手方向に延伸する流体チャネルを通る流体流の長手方向とほぼ平行である、請求項24から41または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 前記光軸が前記UV−LEDから前記流体導管まで延伸する前記第1の方向は、前記複数の流体流路のうちの少なくとも1つの流体流の前記長手方向に対向する、請求項42または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記光軸が前記UV−LEDから前記流体導管まで延伸する前記第1の方向は、前記複数の流体流路のうちの少なくとも1つの流体流の前記長手方向と同じである、請求項42から43または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載の方法。
- 流体流に紫外線(UV)放射線を照射するための紫外線(UV)リアクタであって、
流体が流れることを可能にするための1つまたは複数の熱伝導壁によって画定される流体導管と、
前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁と熱接触している熱接触強化構成要素と、
熱伝導性プリント回路基板上に動作可能に取り付けられた少なくとも1つのUV発光ダイオード(UV−LED)であって、前記UV−LEDは、放射線を前記流体導管に導くように配向されている、UV−LEDと
を備え、
前記プリント回路基板ははんだマスクコーティングがない熱接触領域を含み、
前記プリント回路基板の前記熱接触領域は、前記熱接触強化構成要素に熱的に接触して、前記プリント回路基板の前記熱接触領域、前記熱接触強化構成要素、および前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁の間に熱接触を提供する、紫外線(UV)リアクタ。 - 前記プリント回路基板の前記熱接触領域、前記熱接触強化構成要素、および前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁との間の前記熱接触が、直接的にまたは他の熱伝導性構成要素を通じてのいずれかで行われる、請求項45または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 前記流体導管が、前記1つまたは複数の熱伝導壁によって画定された複数の流体流路と、前記複数の流体流路の間で流体を方向付けるように成形されているマニホルドとを備える、請求項45から46または本明細書における任意の他の請求項のいずれか一項に記載のリアクタ。
- 前記熱接触強化構成要素は、前記プリント回路基板の前記熱接触領域と前記マニホルドとの間に配置され、前記プリント回路基板の前記熱接触領域および前記マニホルドと熱接触する、熱伝導性かつ変形可能な熱パッドを含む、請求項47または本明細書における任意の他の請求項に記載のリアクタ。
- 流体流に紫外線(UV)放射線を照射するための紫外線(UV)リアクタにおける熱管理のための方法であって、
1つまたは複数の熱伝導壁によって画定される流体導管を通じて流体が流れることを可能にすることと、
前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁と熱接触している熱接触強化構成要素を提供することと、
少なくとも1つのUV発光ダイオード(UV−LED)を、プリント回路基板上に動作可能に取り付け、前記UV−LEDを、放射線を前記流体導管に導くように配向することと、
前記プリント回路基板の熱接触領域からはんだマスクコーティングを除去することと、
前記プリント回路基板の前記熱接触領域、前記熱接触強化構成要素、および前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁の間に熱接触を形成することと
を含む、方法。 - 前記プリント回路基板の前記熱接触領域、前記熱接触強化構成要素、および前記流体導管の前記1つまたは複数の熱伝導壁との間に前記熱接触を形成することは、直接的にまたは他の構成要素を通じて前記熱接触を形成することを含む、請求項49または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記1つまたは複数の熱伝導壁によって画定された複数の流体流路と、前記複数の流体流路の間で流体を方向付けるように成形されているマニホルドとを備えるように、前記流体導管を成形することを含む、請求項50または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 前記熱接触強化構成要素は、前記プリント回路基板の前記熱接触領域と前記マニホルドとの間に配置され、前記プリント回路基板の前記熱接触領域および前記マニホルドと熱接触する、熱伝導性かつ変形可能な熱パッドを含む、請求項51または本明細書における任意の他の請求項に記載の方法。
- 本明細書に記載されている他の請求項のいずれか、および/または、本明細書において記載されているもしくは添付の図面に示されている実施形態もしくは態様のいずれかの特徴のいずれかまたは特徴の組み合わせまたは特徴の部分組み合わせを含む、UVリアクタ。
- 本明細書に記載されている他の請求項のいずれか、および/または、本明細書において記載されているもしくは添付の図面に示されている実施形態もしくは態様のいずれかの特徴のいずれかまたは特徴の組み合わせまたは特徴の部分組み合わせを含む、方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022211952A JP2023052169A (ja) | 2016-01-19 | 2022-12-28 | Uv-ledフォトリアクタのための放熱装置および方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201662280630P | 2016-01-19 | 2016-01-19 | |
US62/280,630 | 2016-01-19 | ||
PCT/CA2017/050061 WO2017124191A1 (en) | 2016-01-19 | 2017-01-19 | Heat dissipation apparatus and methods for uv-led photoreactors |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022211952A Division JP2023052169A (ja) | 2016-01-19 | 2022-12-28 | Uv-ledフォトリアクタのための放熱装置および方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019505350A true JP2019505350A (ja) | 2019-02-28 |
JP2019505350A5 JP2019505350A5 (ja) | 2020-02-27 |
JP7204485B2 JP7204485B2 (ja) | 2023-01-16 |
Family
ID=59361228
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018555798A Active JP7204485B2 (ja) | 2016-01-19 | 2017-01-19 | Uv-ledフォトリアクタのための放熱装置および方法 |
JP2022211952A Pending JP2023052169A (ja) | 2016-01-19 | 2022-12-28 | Uv-ledフォトリアクタのための放熱装置および方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022211952A Pending JP2023052169A (ja) | 2016-01-19 | 2022-12-28 | Uv-ledフォトリアクタのための放熱装置および方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10829394B2 (ja) |
EP (1) | EP3405284A4 (ja) |
JP (2) | JP7204485B2 (ja) |
KR (1) | KR20180104039A (ja) |
CN (1) | CN108778485A (ja) |
BR (1) | BR112018014694A2 (ja) |
CA (1) | CA3011890C (ja) |
MX (1) | MX2018008881A (ja) |
PH (1) | PH12018501544A1 (ja) |
SG (1) | SG11201805817VA (ja) |
WO (1) | WO2017124191A1 (ja) |
ZA (1) | ZA201804602B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018140001A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 東芝ライテック株式会社 | 流体殺菌装置 |
WO2021015247A1 (ja) * | 2019-07-23 | 2021-01-28 | 株式会社エンプラス | 紫外線殺菌装置 |
US11365134B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-06-21 | Access Business Group International Llc | Water treatment system |
WO2023282094A1 (ja) * | 2021-07-08 | 2023-01-12 | 日亜化学工業株式会社 | 流体紫外光処理装置 |
JP2023010574A (ja) * | 2021-07-08 | 2023-01-20 | 日亜化学工業株式会社 | 流体紫外光処理装置 |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115806327A (zh) | 2016-01-19 | 2023-03-17 | 英属哥伦比亚大学 | 用于控制uv-led光反应器中的流体辐射剂量的方法和设备 |
CA3011890C (en) * | 2016-01-19 | 2024-02-20 | The University Of British Columbia | Heat dissipation apparatus and methods for uv-led photoreactors |
CN108686249A (zh) * | 2017-03-31 | 2018-10-23 | 财团法人工业技术研究院 | 流体杀菌装置及应用其的净水设备 |
US11312642B2 (en) | 2017-03-31 | 2022-04-26 | Industrial Technology Research Institute | Fluid sterilizing device |
CN111093822B (zh) * | 2017-07-19 | 2023-05-02 | 英属哥伦比亚大学 | 具有受控辐射和流体力学的uv-led光反应器及其制造和使用方法 |
US11857924B2 (en) * | 2017-09-28 | 2024-01-02 | Sonata Scientific LLC | Photocatalytic fluidized bed reactor systems |
CN109956517A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-02 | 丰田合成株式会社 | 紫外光照射杀菌装置和流体杀菌装置 |
JP6897602B2 (ja) * | 2018-02-27 | 2021-06-30 | 豊田合成株式会社 | 流体殺菌装置 |
KR101986305B1 (ko) * | 2017-12-22 | 2019-06-07 | 엘지전자 주식회사 | 정수기 |
CN112074483B (zh) | 2018-03-22 | 2023-04-04 | 贝德福德系统有限责任公司 | 低功率液体净化器 |
GB2575086B (en) | 2018-06-28 | 2021-11-03 | Subsea 7 Us Llc | Sanitising seawater at subsea locations |
CN109647312A (zh) * | 2019-01-24 | 2019-04-19 | 王冠宇 | 一种新型光催化反应器 |
US11952293B2 (en) | 2019-03-07 | 2024-04-09 | International Water-Guard Industries Inc. | Apparatus for disinfecting a fluid |
EP4021857A4 (en) * | 2019-08-26 | 2023-03-15 | Crystal IS, Inc. | PERIODIC UVC DOSAGE |
WO2021070149A2 (en) * | 2019-10-11 | 2021-04-15 | College Of The North Atlantic In Qatar | Rapid mercury-free photochemical microencapsulation/ nanoencapsulation at ambient conditions |
DE102019218722A1 (de) * | 2019-12-02 | 2021-06-02 | Wmf Group Gmbh | Kaffeemaschine mit Modul zur Inaktivierung von Mikroorganismen |
CN112191203A (zh) * | 2020-03-13 | 2021-01-08 | 上海合全药业股份有限公司 | 一种led光源光催化管式反应器及其应用 |
IT202000011890A1 (it) * | 2020-05-21 | 2021-11-21 | Lelantos S R L | Dispositivo e procedimento per l’igienizzazione di aria e/o superfici |
JP7257368B2 (ja) * | 2020-09-23 | 2023-04-13 | サンスター技研株式会社 | 空気清浄機 |
US20230054238A1 (en) * | 2020-11-12 | 2023-02-23 | Charles E. Rigby | Germicidal duct assembly |
EP4247544A1 (en) * | 2020-11-17 | 2023-09-27 | Teva Czech Industries s.r.o. | Uv-leds photoreactor apparatus and associated methods |
US20220249727A1 (en) * | 2021-02-11 | 2022-08-11 | Ammi Llc. | Ultraviolet lamp |
US20230212038A1 (en) * | 2022-01-05 | 2023-07-06 | Access Business Group International Llc | Water treatment system |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100294726A1 (en) * | 2009-05-21 | 2010-11-25 | Butters Brian E | Uv reactor design having pressure equalizing manifold for increasing uv flux efficiency |
JP2010264238A (ja) * | 2009-05-18 | 2010-11-25 | Dental Equipment Llc Dba Pelton & Crane | 消毒反応器を備えた歯科用ハンドツール |
US20120228236A1 (en) * | 2009-11-04 | 2012-09-13 | Hawkins Ii R Thomas | Photochemical purification of fluids |
JP2014161767A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Saitama Univ | 紫外線照射水処理装置 |
US20150114912A1 (en) * | 2013-10-28 | 2015-04-30 | Fariborz Taghipour | UV-LED Collimated Radiation Photoreactor |
US20150129776A1 (en) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | Mag Aerospace Industries, Llc | Point of use water treatment device |
JP2017060668A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 日機装株式会社 | 流体殺菌装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5288461A (en) | 1992-08-31 | 1994-02-22 | Teledyne Industries, Inc. | Fluid treatment system |
US7520978B2 (en) | 2005-06-17 | 2009-04-21 | Philips Lumileds Lighting Co., Llc | Fluid purification system with ultra violet light emitters |
US20080085224A1 (en) * | 2006-10-10 | 2008-04-10 | Chun-Cheng Cheng | Air purifier |
KR100908572B1 (ko) * | 2008-01-21 | 2009-07-22 | 주식회사 엘 앤 에프 | 액정표시장치용 반사면 및 이를 이용한 백라이트 유닛 |
TWI438375B (zh) * | 2011-11-25 | 2014-05-21 | Lextar Electronics Corp | 光源模組及其光源組件 |
WO2014058011A1 (ja) * | 2012-10-10 | 2014-04-17 | イーグル工業株式会社 | 殺菌装置 |
DE102013105221A1 (de) | 2013-05-22 | 2014-11-27 | Khs Gmbh | Behälterbehandlungsmaschine sowie Verfahren zum Betrieb einer Behälterbehandlungsmaschine |
US9617171B2 (en) * | 2013-05-22 | 2017-04-11 | Merck Patent Gmbh | Biocidal purification reactor |
US10040699B2 (en) * | 2013-07-08 | 2018-08-07 | Sensor Electronics Technology, Inc. | Ultraviolet water disinfection system |
CA3011890C (en) * | 2016-01-19 | 2024-02-20 | The University Of British Columbia | Heat dissipation apparatus and methods for uv-led photoreactors |
CN115806327A (zh) | 2016-01-19 | 2023-03-17 | 英属哥伦比亚大学 | 用于控制uv-led光反应器中的流体辐射剂量的方法和设备 |
-
2017
- 2017-01-19 CA CA3011890A patent/CA3011890C/en active Active
- 2017-01-19 WO PCT/CA2017/050061 patent/WO2017124191A1/en active Application Filing
- 2017-01-19 BR BR112018014694A patent/BR112018014694A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2017-01-19 MX MX2018008881A patent/MX2018008881A/es unknown
- 2017-01-19 SG SG11201805817VA patent/SG11201805817VA/en unknown
- 2017-01-19 KR KR1020187023734A patent/KR20180104039A/ko not_active Application Discontinuation
- 2017-01-19 CN CN201780018242.5A patent/CN108778485A/zh active Pending
- 2017-01-19 EP EP17740938.0A patent/EP3405284A4/en active Pending
- 2017-01-19 JP JP2018555798A patent/JP7204485B2/ja active Active
- 2017-01-19 US US16/071,466 patent/US10829394B2/en active Active
-
2018
- 2018-07-10 ZA ZA2018/04602A patent/ZA201804602B/en unknown
- 2018-07-19 PH PH12018501544A patent/PH12018501544A1/en unknown
-
2020
- 2020-11-09 US US17/093,092 patent/US11649175B2/en active Active
-
2022
- 2022-12-28 JP JP2022211952A patent/JP2023052169A/ja active Pending
-
2023
- 2023-05-15 US US18/317,660 patent/US20240018019A1/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010264238A (ja) * | 2009-05-18 | 2010-11-25 | Dental Equipment Llc Dba Pelton & Crane | 消毒反応器を備えた歯科用ハンドツール |
US20100294726A1 (en) * | 2009-05-21 | 2010-11-25 | Butters Brian E | Uv reactor design having pressure equalizing manifold for increasing uv flux efficiency |
US20120228236A1 (en) * | 2009-11-04 | 2012-09-13 | Hawkins Ii R Thomas | Photochemical purification of fluids |
JP2014161767A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Saitama Univ | 紫外線照射水処理装置 |
US20150114912A1 (en) * | 2013-10-28 | 2015-04-30 | Fariborz Taghipour | UV-LED Collimated Radiation Photoreactor |
US20150129776A1 (en) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | Mag Aerospace Industries, Llc | Point of use water treatment device |
JP2017060668A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 日機装株式会社 | 流体殺菌装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018140001A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 東芝ライテック株式会社 | 流体殺菌装置 |
WO2021015247A1 (ja) * | 2019-07-23 | 2021-01-28 | 株式会社エンプラス | 紫外線殺菌装置 |
US11365134B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-06-21 | Access Business Group International Llc | Water treatment system |
US11834353B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-12-05 | Access Business Group International Llc | Water treatment system |
WO2023282094A1 (ja) * | 2021-07-08 | 2023-01-12 | 日亜化学工業株式会社 | 流体紫外光処理装置 |
JP2023010574A (ja) * | 2021-07-08 | 2023-01-20 | 日亜化学工業株式会社 | 流体紫外光処理装置 |
JP7397366B2 (ja) | 2021-07-08 | 2023-12-13 | 日亜化学工業株式会社 | 流体紫外光処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10829394B2 (en) | 2020-11-10 |
US20240018019A1 (en) | 2024-01-18 |
US20210122650A1 (en) | 2021-04-29 |
CN108778485A (zh) | 2018-11-09 |
US20190062180A1 (en) | 2019-02-28 |
SG11201805817VA (en) | 2018-08-30 |
MX2018008881A (es) | 2019-02-21 |
JP2023052169A (ja) | 2023-04-11 |
KR20180104039A (ko) | 2018-09-19 |
US11649175B2 (en) | 2023-05-16 |
BR112018014694A2 (pt) | 2018-12-26 |
CA3011890C (en) | 2024-02-20 |
EP3405284A4 (en) | 2019-08-28 |
EP3405284A1 (en) | 2018-11-28 |
CA3011890A1 (en) | 2017-07-27 |
JP7204485B2 (ja) | 2023-01-16 |
WO2017124191A1 (en) | 2017-07-27 |
PH12018501544A1 (en) | 2019-05-27 |
ZA201804602B (en) | 2020-07-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7204485B2 (ja) | Uv-ledフォトリアクタのための放熱装置および方法 | |
US10640397B2 (en) | UV-LED radiation photoreactor | |
EP3405283B1 (en) | Apparatus for controlling radiation dose to fluids in uv-led photoreactors | |
US9260323B2 (en) | Point of use water treatment device | |
EP2915546B1 (en) | Ultraviolet sterilizer and sterilization method | |
AU2010315119B2 (en) | Photochemical purification of fluids | |
US10787375B2 (en) | Ultraviolet water disinfection system | |
KR101910361B1 (ko) | 관로형 uv-led 소독 장치 | |
CN102198964A (zh) | 紫外灯水体消毒装置 | |
JP2023100246A (ja) | 水処理システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A529 | Written submission of copy of amendment under article 34 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A529 Effective date: 20180829 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200116 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200116 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201030 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201106 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210405 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211005 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220527 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7204485 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |