JP2019503894A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019503894A5 JP2019503894A5 JP2018528682A JP2018528682A JP2019503894A5 JP 2019503894 A5 JP2019503894 A5 JP 2019503894A5 JP 2018528682 A JP2018528682 A JP 2018528682A JP 2018528682 A JP2018528682 A JP 2018528682A JP 2019503894 A5 JP2019503894 A5 JP 2019503894A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- nickel oxide
- substrate
- glazing
- functional layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 46
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 claims description 27
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N Silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000003449 preventive Effects 0.000 claims description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative Effects 0.000 description 1
Description
本発明は、先行の記載で例として説明されている。しかしながら、当業者は、特許請求の範囲によって規定される特許の範囲から逸脱することなく、本発明の異なる代替形態を製造することができることが理解される。
本開示の実施態様の一部を以下の〈態様１〉−〈態様１１〉に記載する。
〈態様１〉
少なくとも１つ、また、さらには１つのみの金属機能層（１４０）であって、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層（１４０）と、少なくとも１つの誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６８）をそれぞれ含む２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）とを含み、前記機能層（１４０）は、前記２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材（３０）であって、
少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）が、前記基材（３０）の方向で機能層（１４０）の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、透明基材（３０）。
〈態様２〉
前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）は、１．２〜０．５、また、さらには０．９〜０．６のｘを示すことを特徴とする、態様１に記載の基材（３０）。
〈態様３〉
酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、態様１又は２に記載の基材（３０）。
〈態様４〉
酸化ニッケルＮｉ ｙ Ｏ層（１３４、１３６）が、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）の上方でそれと接触して配置されており、かつ／又は、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層（１４０）に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、態様１〜３のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様５〉
酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層が、機能層（１４０）の上方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、態様１〜４のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様６〉
金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、前記機能層（１４０）上でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍ、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、態様１〜４のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様７〉
酸化ニッケル層は、基材（３０）の方向で前記機能層（１４０）上に配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層と前記機能層（１４０）との間に、異なる材料から作られた少なくとも１つの層又は１つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層は、好ましくは、０．３〜１０．０ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍの厚さを示すことを特徴とする、態様１〜６のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様８〉
前記下層の反射防止性コーティング（２０）及び上層の反射防止性コーティング（６０）は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも１つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも１つの誘電体層（２２，６６）を含むことを特徴とする、態様１〜７のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様９〉
態様１〜８のいずれかに記載の少なくとも１つの基材（３０）を、場合により少なくとも１つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング（１００）。
〈態様１０〉
モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング（１００）であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び／又は強化されていることを特徴とする、態様９に記載のグレージング（１００）。
〈態様１１〉
加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、態様１〜８のいずれかに記載の基材の使用。
本開示の実施態様の一部を以下の〈態様１〉−〈態様１１〉に記載する。
〈態様１〉
少なくとも１つ、また、さらには１つのみの金属機能層（１４０）であって、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層（１４０）と、少なくとも１つの誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６８）をそれぞれ含む２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）とを含み、前記機能層（１４０）は、前記２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材（３０）であって、
少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）が、前記基材（３０）の方向で機能層（１４０）の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、透明基材（３０）。
〈態様２〉
前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）は、１．２〜０．５、また、さらには０．９〜０．６のｘを示すことを特徴とする、態様１に記載の基材（３０）。
〈態様３〉
酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、態様１又は２に記載の基材（３０）。
〈態様４〉
酸化ニッケルＮｉ ｙ Ｏ層（１３４、１３６）が、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）の上方でそれと接触して配置されており、かつ／又は、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層（１４０）に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、態様１〜３のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様５〉
酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層が、機能層（１４０）の上方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、態様１〜４のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様６〉
金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、前記機能層（１４０）上でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍ、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、態様１〜４のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様７〉
酸化ニッケル層は、基材（３０）の方向で前記機能層（１４０）上に配置されており、前記酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層と前記機能層（１４０）との間に、異なる材料から作られた少なくとも１つの層又は１つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルＮｉ ｘ Ｏ層は、好ましくは、０．３〜１０．０ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍの厚さを示すことを特徴とする、態様１〜６のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様８〉
前記下層の反射防止性コーティング（２０）及び上層の反射防止性コーティング（６０）は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも１つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも１つの誘電体層（２２，６６）を含むことを特徴とする、態様１〜７のいずれかに記載の基材（３０）。
〈態様９〉
態様１〜８のいずれかに記載の少なくとも１つの基材（３０）を、場合により少なくとも１つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング（１００）。
〈態様１０〉
モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング（１００）であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び／又は強化されていることを特徴とする、態様９に記載のグレージング（１００）。
〈態様１１〉
加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、態様１〜８のいずれかに記載の基材の使用。
Claims (11)
- 少なくとも１つ、また、さらには１つのみの金属機能層（１４０）であって、赤外線領域及び／又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層（１４０）と、少なくとも１つの誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６８）をそれぞれ含む２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）とを含み、前記機能層（１４０）は、前記２つの反射防止性コーティング（１２０，１６０）の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材（３０）であって、
少なくとも１つの酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）が、前記基材（３０）の方向で機能層（１４０）の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、透明基材（３０）。 - 前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）は、１．２〜０．５、また、さらには０．９〜０．６のｘを示すことを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
- 酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の基材（３０）。
- 酸化ニッケルＮｉｙＯ層（１３４、１３６）が、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の上方でそれと接触して配置されており、かつ／又は、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層（１３５）の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層（１４０）に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
- 酸化ニッケルＮｉｘＯ層が、機能層（１４０）の上方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材（３０）。
- 金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、前記機能層（１４０）上でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも０．３ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍ、また、さらには１．０〜５．０ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材（３０）。
- 酸化ニッケル層は、基材（３０）の方向で前記機能層（１４０）上に配置されており、前記酸化ニッケルＮｉｘＯ層と前記機能層（１４０）との間に、異なる材料から作られた少なくとも１つの層又は１つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルＮｉｘＯ層は、好ましくは、０．３〜１０．０ｎｍ、また、さらには０．６〜８．０ｎｍであり、また、さらには１．０〜５．０ｎｍの厚さを示すことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基材（３０）。
- 前記下層の反射防止性コーティング（２０）及び上層の反射防止性コーティング（６０）は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも１つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも１つの誘電体層（２２，６６）を含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基材（３０）。
- 請求項１〜８のいずれか一項に記載の少なくとも１つの基材（３０）を、場合により少なくとも１つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング（１００）。
- モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング（１００）であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び／又は強化されていることを特徴とする、請求項９に記載のグレージング（１００）。
- 加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基材の使用。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR1561722A FR3044658B1 (fr) | 2015-12-02 | 2015-12-02 | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche en oxyde de nickel. |
| FR1561722 | 2015-12-02 | ||
| PCT/FR2016/053172 WO2017093677A1 (fr) | 2015-12-02 | 2016-12-01 | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche en oxyde de nickel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019503894A JP2019503894A (ja) | 2019-02-14 |
| JP2019503894A5 true JP2019503894A5 (ja) | 2019-12-12 |
Family
ID=55411552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018528682A Pending JP2019503894A (ja) | 2015-12-02 | 2016-12-01 | 少なくとも１つの酸化ニッケル層を含む熱的特性を有する積層体を備えた基材 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20200255329A1 (ja) |
| EP (1) | EP3383813A1 (ja) |
| JP (1) | JP2019503894A (ja) |
| KR (1) | KR20180088432A (ja) |
| CN (1) | CN108602717A (ja) |
| BR (1) | BR112018011070A2 (ja) |
| CA (1) | CA3006339A1 (ja) |
| CO (1) | CO2018006932A2 (ja) |
| FR (1) | FR3044658B1 (ja) |
| MX (1) | MX2018006764A (ja) |
| RU (1) | RU2731597C2 (ja) |
| WO (1) | WO2017093677A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3044657B1 (fr) * | 2015-12-02 | 2017-12-15 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche en oxyde de nickel. |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6445503B1 (en) * | 2000-07-10 | 2002-09-03 | Guardian Industries Corp. | High durable, low-E, heat treatable layer coating system |
| US6576349B2 (en) * | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US6936347B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-08-30 | Guardian Industries Corp. | Coated article with high visible transmission and low emissivity |
| US7087309B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-08-08 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with tin oxide, silicon nitride and/or zinc oxide under IR reflecting layer and corresponding method |
| US7217461B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-05-15 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US7597962B2 (en) * | 2005-06-07 | 2009-10-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
| FR2898123B1 (fr) * | 2006-03-06 | 2008-12-05 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques |
| DE102006014796B4 (de) * | 2006-03-29 | 2009-04-09 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für transparente Substrate |
| US8734920B2 (en) * | 2009-04-29 | 2014-05-27 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating having titanium oxide layer and/or NiCr based layer(s) to improve color values and/or transmission, and method of making same |
| CN102092960A (zh) * | 2010-12-17 | 2011-06-15 | 华中科技大学 | 一种低辐射玻璃 |
| US8559100B2 (en) * | 2011-10-12 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating having absorbing layer over functional layer designed to increase outside reflectance |
| FR2985724B1 (fr) * | 2012-01-16 | 2014-03-07 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant quatre couches fonctionnelles metalliques. |
| CN102745906B (zh) * | 2012-07-26 | 2014-10-22 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 一种低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品 |
| US9242895B2 (en) * | 2012-09-07 | 2016-01-26 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating having absorbing layers for low film side reflectance and low visible transmission |
| FR3013043B1 (fr) * | 2013-11-08 | 2015-11-20 | Saint Gobain | Substrat revetu d'un empilement a couches fonctionnelles presentant des proprietes mecaniques ameliorees |
| HUE044509T2 (hu) * | 2015-08-24 | 2019-10-28 | Philip Morris Products Sa | Eljárás többkomponensû aeroszolképzõ cikkek elõállítására |
| FR3044657B1 (fr) * | 2015-12-02 | 2017-12-15 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche en oxyde de nickel. |
-
2015
- 2015-12-02 FR FR1561722A patent/FR3044658B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-12-01 BR BR112018011070-1A patent/BR112018011070A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2016-12-01 WO PCT/FR2016/053172 patent/WO2017093677A1/fr active Application Filing
- 2016-12-01 KR KR1020187018225A patent/KR20180088432A/ko unknown
- 2016-12-01 US US15/780,813 patent/US20200255329A1/en not_active Abandoned
- 2016-12-01 EP EP16819144.3A patent/EP3383813A1/fr not_active Withdrawn
- 2016-12-01 CA CA3006339A patent/CA3006339A1/fr not_active Abandoned
- 2016-12-01 RU RU2018123317A patent/RU2731597C2/ru active
- 2016-12-01 JP JP2018528682A patent/JP2019503894A/ja active Pending
- 2016-12-01 MX MX2018006764A patent/MX2018006764A/es unknown
- 2016-12-01 CN CN201680080901.3A patent/CN108602717A/zh active Pending
-
2018
- 2018-06-29 CO CONC2018/0006932A patent/CO2018006932A2/es unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6211075B2 (ja) | 低放射透明積層体、それを含む建築資材および低放射透明積層体の製造方法 | |
| RU2015143519A (ru) | Полученные с использованием тройных сплавов покрытия из стекла с низкой излучательной способностью | |
| JP2020147496A5 (ja) | ||
| RU2018114900A (ru) | Изделие с покрытием | |
| JP6562260B2 (ja) | 電子素子の製造方法、可撓性基板の製造方法、および電子素子 | |
| JP6320389B2 (ja) | 熱特性および吸収層のあるスタックを備える基板 | |
| JP6062867B2 (ja) | 耐亀裂性で低放射性の浮設フィルムを備えた絶縁ガラスユニット | |
| RU2013158346A (ru) | Низкоэмиссионное многослойное покрытие и двойное оконное стекло | |
| WO2007054656A8 (fr) | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques | |
| WO2009122090A3 (fr) | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques | |
| JP2013239699A5 (ja) | ||
| EA201171111A1 (ru) | Подложка, снабженная пакетом с термическими свойствами, содержащим слои с высоким показателем преломления | |
| JP2011507224A5 (ja) | ||
| WO2020022156A1 (ja) | 放射冷却装置 | |
| WO2007054655A8 (fr) | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques. | |
| JP2009529715A5 (ja) | ||
| JP6227637B2 (ja) | 低放射透明積層体およびそれを含む建築資材 | |
| RU2015135827A (ru) | Зеркало | |
| JP2010015981A5 (ja) | ||
| TW200524733A (en) | Film for suppressing conduction of radiant heat and heat insulating member employing it | |
| RU2019105544A (ru) | Подложка, снабженная набором, обладающим тепловыми свойствами, содержащим по меньшей мере один слой, содержащий нитрид кремния-циркония, обогащенный цирконием, ее применение и ее изготовление | |
| US20130025783A1 (en) | Display-on-demand mirror with optional defogging feature, and method of making the same | |
| RU2018123716A (ru) | Подложка, снабженная набором с термическими свойствами, содержащим по меньшей мере один слой из оксида никеля | |
| JP2015069573A (ja) | 入力装置に用いられる電極、およびその製造方法 | |
| JP2019503894A5 (ja) |