JP2019503894A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、先行の記載で例として説明されている。しかしながら、当業者は、特許請求の範囲によって規定される特許の範囲から逸脱することなく、本発明の異なる代替形態を製造することができることが理解される。
本開示の実施態様の一部を以下の〈態様1〉−〈態様11〉に記載する。
〈態様1〉
少なくとも1つ、また、さらには1つのみの金属機能層(140)であって、赤外線領域及び/又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層(140)と、少なくとも1つの誘電体層(122,126;162,168)をそれぞれ含む2つの反射防止性コーティング(120,160)とを含み、前記機能層(140)は、前記2つの反射防止性コーティング(120,160)の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材(30)であって、
少なくとも1つの酸化ニッケルNi x O層(135)が、前記基材(30)の方向で機能層(140)の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルNi x O層(135)の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、透明基材(30)。
〈態様2〉
前記酸化ニッケルNi x O層(135)は、1.2〜0.5、また、さらには0.9〜0.6のxを示すことを特徴とする、態様1に記載の基材(30)。
〈態様3〉
酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルNi x O層(135)の下方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、態様1又は2に記載の基材(30)。
〈態様4〉
酸化ニッケルNi y O層(134、136)が、前記酸化ニッケルNi x O層(135)の上方でそれと接触して配置されており、かつ/又は、前記酸化ニッケルNi x O層(135)の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層(140)に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、態様1〜3のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様5〉
酸化ニッケルNi x O層が、機能層(140)の上方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルNi x O層の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、態様1〜4のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様6〉
金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、前記機能層(140)上でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nm、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、態様1〜4のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様7〉
酸化ニッケル層は、基材(30)の方向で前記機能層(140)上に配置されており、前記酸化ニッケルNi x O層と前記機能層(140)との間に、異なる材料から作られた少なくとも1つの層又は1つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルNi x O層は、好ましくは、0.3〜10.0nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmの厚さを示すことを特徴とする、態様1〜6のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様8〉
前記下層の反射防止性コーティング(20)及び上層の反射防止性コーティング(60)は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも1つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも1つの誘電体層(22,66)を含むことを特徴とする、態様1〜7のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様9〉
態様1〜8のいずれかに記載の少なくとも1つの基材(30)を、場合により少なくとも1つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング(100)。
〈態様10〉
モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング(100)であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び/又は強化されていることを特徴とする、態様9に記載のグレージング(100)。
〈態様11〉
加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、態様1〜8のいずれかに記載の基材の使用。
本開示の実施態様の一部を以下の〈態様1〉−〈態様11〉に記載する。
〈態様1〉
少なくとも1つ、また、さらには1つのみの金属機能層(140)であって、赤外線領域及び/又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層(140)と、少なくとも1つの誘電体層(122,126;162,168)をそれぞれ含む2つの反射防止性コーティング(120,160)とを含み、前記機能層(140)は、前記2つの反射防止性コーティング(120,160)の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材(30)であって、
少なくとも1つの酸化ニッケルNi x O層(135)が、前記基材(30)の方向で機能層(140)の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルNi x O層(135)の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、透明基材(30)。
〈態様2〉
前記酸化ニッケルNi x O層(135)は、1.2〜0.5、また、さらには0.9〜0.6のxを示すことを特徴とする、態様1に記載の基材(30)。
〈態様3〉
酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルNi x O層(135)の下方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、態様1又は2に記載の基材(30)。
〈態様4〉
酸化ニッケルNi y O層(134、136)が、前記酸化ニッケルNi x O層(135)の上方でそれと接触して配置されており、かつ/又は、前記酸化ニッケルNi x O層(135)の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層(140)に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、態様1〜3のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様5〉
酸化ニッケルNi x O層が、機能層(140)の上方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルNi x O層の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、態様1〜4のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様6〉
金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、前記機能層(140)上でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nm、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、態様1〜4のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様7〉
酸化ニッケル層は、基材(30)の方向で前記機能層(140)上に配置されており、前記酸化ニッケルNi x O層と前記機能層(140)との間に、異なる材料から作られた少なくとも1つの層又は1つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルNi x O層は、好ましくは、0.3〜10.0nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmの厚さを示すことを特徴とする、態様1〜6のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様8〉
前記下層の反射防止性コーティング(20)及び上層の反射防止性コーティング(60)は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも1つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも1つの誘電体層(22,66)を含むことを特徴とする、態様1〜7のいずれかに記載の基材(30)。
〈態様9〉
態様1〜8のいずれかに記載の少なくとも1つの基材(30)を、場合により少なくとも1つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング(100)。
〈態様10〉
モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング(100)であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び/又は強化されていることを特徴とする、態様9に記載のグレージング(100)。
〈態様11〉
加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、態様1〜8のいずれかに記載の基材の使用。
Claims (11)
- 少なくとも1つ、また、さらには1つのみの金属機能層(140)であって、赤外線領域及び/又は日射領域における反射特性を有し、特に銀又は銀含有金属合金をベースとする金属機能層(140)と、少なくとも1つの誘電体層(122,126;162,168)をそれぞれ含む2つの反射防止性コーティング(120,160)とを含み、前記機能層(140)は、前記2つの反射防止性コーティング(120,160)の間に配置されている、積層体を、主面上に備えた透明基材(30)であって、
少なくとも1つの酸化ニッケルNixO層(135)が、前記基材(30)の方向で機能層(140)の下方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルNixO層(135)の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、透明基材(30)。 - 前記酸化ニッケルNixO層(135)は、1.2〜0.5、また、さらには0.9〜0.6のxを示すことを特徴とする、請求項1に記載の基材(30)。
- 酸化亜鉛をベースとする層が、前記酸化ニッケルNixO層(135)の下方でそれと接触して配置されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の基材(30)。
- 酸化ニッケルNiyO層(134、136)が、前記酸化ニッケルNixO層(135)の上方でそれと接触して配置されており、かつ/又は、前記酸化ニッケルNixO層(135)の下方でそれと接触して配置されており、前記機能層(140)に最も近い酸化ニッケル層は、より遠い別の酸化ニッケル層よりも低い酸化状態であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基材(30)。
- 酸化ニッケルNixO層が、機能層(140)の上方でそれと接触して配置されており、前記酸化ニッケルNixO層の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基材(30)。
- 金属層、特にニッケル及びクロムを含む金属層は、前記機能層(140)上でそれと接触して配置されており、前記金属層の物理的厚さは、少なくとも0.3nm、また、さらには0.6〜8.0nm、また、さらには1.0〜5.0nmであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基材(30)。
- 酸化ニッケル層は、基材(30)の方向で前記機能層(140)上に配置されており、前記酸化ニッケルNixO層と前記機能層(140)との間に、異なる材料から作られた少なくとも1つの層又は1つのみの層が介在しており、この酸化ニッケルNixO層は、好ましくは、0.3〜10.0nm、また、さらには0.6〜8.0nmであり、また、さらには1.0〜5.0nmの厚さを示すことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基材(30)。
- 前記下層の反射防止性コーティング(20)及び上層の反射防止性コーティング(60)は、各々、窒化ケイ素をベースとし、場合により、アルミニウムなどの少なくとも1つの他の元素を用いてドープされている、少なくとも1つの誘電体層(22,66)を含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の基材(30)。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の少なくとも1つの基材(30)を、場合により少なくとも1つの他の基材と組み合わせて組み入れた、グレージング(100)。
- モノリシックユニットとして、又は、ダブルグレージング若しくはトリプルグレージング若しくはラミネート化グレージングのタイプの複合グレージングユニットとして取り付けられたグレージング(100)であって、少なくとも、前記積層体を担持した基材が、曲げられ及び/又は強化されていることを特徴とする、請求項9に記載のグレージング(100)。
- 加熱グレージング又はエレクトロクロミックグレージング又は照明デバイス又は表示デバイス又は光起電力パネルの透明電極を製造するための、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基材の使用。
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