JP2010015981A5 - - Google Patents

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  1. 第1の基板の一方の面に光吸収層を形成し、
    前記光吸収層と接して開口部を有する反射層を形成し、
    前記光吸収層および前記反射層と接して材料層を形成し、
    前記第1の基板の一方の面側から、第1の光を照射して、
    前記材料層の一部で前記反射層の開口部と重なる部分を除去し、
    前記第1の基板の一方の面と、
    第2の基板の被成膜面とを対向させ、かつ近接させた状態で配置し、
    前記第1の基板の他方の面側から、第2の光を照射して、
    前記反射層と重なる位置にある前記材料層を前記第2の基板の被成膜面に蒸着させることを特徴とする発光装置の作製方法。
  2. 第1の基板の一方の面に光吸収層を形成し、
    前記光吸収層と接して開口部を有する反射層を形成し、
    前記光吸収層および前記反射層と接して材料層を形成し、
    前記第1の基板の一方の面側から、第1の光を照射して、
    前記材料層の一部で前記反射層の開口部と重なる部分を除去し、
    前記第1の基板の一方の面と、
    第2の基板の被成膜面とを対向させ、かつ近接させた状態で配置し、
    前記第1の基板を加熱し、前記反射層と重なる位置にある前記材料層を前記第2の基板の被成膜面に蒸着させることを特徴とする発光装置の作製方法。
  3. 第1の基板の一方の面に光吸収層を形成し、
    前記光吸収層と接して開口部を有する反射層を形成し、
    前記光吸収層および前記反射層と接して材料層を形成し、
    前記第1の基板の一方の面側から、光強度がA1(W/cm2)で、照射時間B1(s)のとき、下記一般式(1)
    1/A1 1.5≦B1≦106/A1 1.5 かつ B1≦10-3(s) (1)
    より好ましくは、下記一般式(2)
    10/A1 1.5≦B1≦105/A1 1.5 かつ B1≦10-3(s) (2)
    の範囲にある第1の光を照射して、
    前記材料層の一部で前記反射層の開口部と重なる部分を除去し、
    前記第1の基板の一方の面と、
    第2の基板の被成膜面とを対向させ、かつ近接させた状態で配置し、
    前記第1の基板の他方の面側から、光強度がA2(W/cm2)で、照射時間B2(s)のとき、下記一般式(3)
    /A 2 1.5≦B2≦106 /A 2 1.5 かつ B2≧10-4(s) (3)
    より好ましくは、下記一般式(4)
    10/A 2 1.5≦B2≦105 /A 2 1.5 かつ B2≧10-4(s) (4)
    の範囲にある第2の光を照射して、
    前記反射層と重なる位置にある前記材料層を前記第2の基板の被成膜面に蒸着させることを特徴とする発光装置の作製方法。
  4. 第1の基板の一方の面に光吸収層を形成し、
    前記光吸収層と接して開口部を有する反射層を形成し、
    前記光吸収層および前記反射層と接して材料層を形成し、
    前記第1の基板の一方の面側から、光強度がA1(W/cm2)で、照射時間B1(s)のとき、下記一般式(1)
    1/A1 1.5≦B1≦106/A1 1.5 かつ B1≦10-3(s) (1)
    より好ましくは、下記一般式(2)
    10/A1 1.5≦B1≦105/A1 1.5 かつ B1≦10-3(s) (2)
    の範囲にある第1の光を照射して、
    前記材料層の一部で前記反射層の開口部と重なる部分を除去し、
    前記第1の基板の一方の面と、
    第2の基板の被成膜面とを対向させ、かつ近接させた状態で配置し、
    前記第1の基板を加熱し、前記反射層と重なる位置にある前記材料層を前記第2の基板の被成膜面に蒸着させることを特徴とする発光装置の作製方法。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
    前記第1の光は、レーザ光であることを特徴とする発光装置の作製方法。
  6. 請求項1乃至請求項のいずれか一において、
    前記第1の光は、波長450nm以上の光であることを特徴とする発光装置の作製方法。
  7. 請求項1乃至請求項のいずれか一において、
    前記光吸収層は、光に対する反射率が70%以下であることを特徴とする発光装置の作製方法。
  8. 請求項1乃至請求項のいずれか一において、
    前記光吸収層は、窒化タンタル、窒化チタン、窒化クロム、窒化マンガン、チタン、カーボンのいずれかを含むことを特徴とする発光装置の作製方法。
  9. 請求項1乃至請求項のいずれか一において、
    前記反射層は、光に対する反射率が85%以上であることを特徴とする発光装置の作製方法。
  10. 請求項1乃至請求項のいずれか一において、
    前記反射層は、アルミニウム、銀、金、白金、銅、アルミニウムを含む合金、銀を含む合金、または酸化インジウム−酸化スズのいずれかを含むことを特徴とする発光装置の作製方法。
  11. 請求項1乃至請求項10のいずれか一において、
    前記材料層は有機化合物からなることを特徴とする発光装置の作製方法。
  12. 請求項1乃至請求項11のいずれか一において、
    前記材料層は、発光性材料またはキャリア輸送性材料の一方または両方を含むことを特徴とする発光装置の作製方法。
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