JP2019220649A - 発光装置 - Google Patents

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卓哉 美濃
Takuya Mino
卓哉 美濃
植田 充彦
Michihiko Ueda
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Abstract

【課題】光出力の高出力化を図ることが可能な発光装置を提供する。【解決手段】発光装置1は、実装基板2と、発光素子3と、スペーサ4と、カバー5と、を備える。カバー5は、発光素子3を覆うようにスペーサ4上に配置されている。カバー5は、スペーサ4側の第1面51及びスペーサ4とは反対側の第2面52を有する。発光装置1は、実装基板2とスペーサ4とカバー5とで囲まれた空間8が形成されている。カバー5は、レンズ部50と、フランジ部53と、を有する。レンズ部50は、実装基板2の厚さ方向D1において発光素子3に重なり発光素子3から放射された紫外線を集光する。フランジ部53は、厚さ方向D1において少なくとも一部がスペーサ4に重なっている。レンズ部50は、第1面51の一部により構成される凹凸形状を含む光入射面510と、第2面52の一部により構成される凸曲面状の光出射面520と、を有する。【選択図】図2

Description

本発明は、一般に発光装置に関し、より詳細には、紫外線を放射する発光素子を備える発光装置に関する。
従来、実装基板と、紫外線発光素子と、スペーサと、カバーと、を備える発光装置が提案されている(特許文献1)。紫外線発光素子は、実装基板に実装されている。スペーサは、実装基板上に配置されている。スペーサは、紫外線発光素子を露出させる貫通孔が形成されている。カバーは、スペーサの貫通孔を塞ぐようにスペーサ上に配置されている。
発光装置は、実装基板とスペーサとカバーとで、紫外線発光素子を収納するパッケージを構成している。
発光装置は、実装基板とスペーサとカバーとで囲まれた空間を不活性ガス雰囲気としてある。
特開2016−127249号公報
紫外線発光素子を備える発光装置では、レンズをカバーに形成した場合に光出力(紫外線出力)の高出力化が望まれる場合がある。
本発明の目的は、光出力の高出力化を図ることが可能な発光装置を提供することにある。
本発明の一態様に係る発光装置は、実装基板と、発光素子と、スペーサと、カバーと、を備える。前記発光素子は、前記実装基板上に配置されており、紫外線を放射する。前記スペーサは、枠状であり、前記実装基板上に配置され前記発光素子を囲んでいる。前記カバーは、前記発光素子を覆うように前記スペーサ上に配置されている。前記カバーは、前記スペーサ側の第1面及び前記スペーサとは反対側の第2面を有する。前記発光装置は、前記実装基板と前記スペーサと前記カバーとで囲まれた空間が形成されており、前記空間の雰囲気が不活性ガス雰囲気である。前記カバーは、レンズ部と、フランジ部と、を有する。前記レンズ部は、前記実装基板の厚さ方向において前記発光素子に重なり前記発光素子から放射された紫外線を集光する。前記フランジ部は、平板状であり、前記厚さ方向からの平面視において前記レンズ部から外側に突出し、かつ前記厚さ方向において少なくとも一部が前記スペーサに重なっている。前記レンズ部は、前記第1面の一部により構成される凹凸形状を含む光入射面と、前記第2面の一部により構成される凸曲面状の光出射面と、を有する。
本発明の発光装置では、光出力の高出力化を図ることが可能となる。
図1は、本発明の実施形態1に係る発光装置の平面図である。 図2は、同上の発光装置を示し、図1のX−X線断面図である。 図3は、同上の発光装置における発光素子の断面図である。 図4は、同上の発光装置の製造方法を説明するための工程断面図である。 図5は、本発明の実施形態2に係る発光装置の断面図である。 図6は、本発明の実施形態3に係る発光装置の断面図である。
下記の実施形態1〜3等において説明する各図は、模式的な図であり、各構成要素の大きさや厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。
(実施形態1)
(1)発光装置の全体構成
以下、実施形態1に係る発光装置1について、図面を参照して説明する。
実施形態1に係る発光装置1は、図1及び2に示すように、実装基板2と、発光素子3と、スペーサ4と、カバー5と、を備える。発光素子3は、実装基板2上に配置されている。スペーサ4は、枠状であり、実装基板2上に配置され発光素子3を囲んでいる。カバー5は、発光素子3を覆うようにスペーサ4上に配置されている。カバー5は、発光素子3から放射される紫外線を透過する。
発光装置1では、スペーサ4とカバー5とでパッケージ用カバー部材6を構成している。パッケージ用カバー部材6では、スペーサ4とカバー5とが接合されている。発光装置1は、実装基板2とパッケージ用カバー部材6とを含むパッケージ7を備えている。発光装置1は、実装基板2とスペーサ4とカバー5とで囲まれた空間8を不活性ガス雰囲気としてある。不活性ガス雰囲気は、例えば、N2ガス雰囲気である。
実装基板2は、発光素子3を実装する実装基板であり、第1導体部21及び第2導体部22を有する。また、実装基板2は、パッケージ用カバー部材6と接合するための第1接合用金属層23を有する。発光素子3は、第1導体部21に電気的に接続された第1電極31と第2導体部22に電気的に接続された第2電極32と、を有する。発光素子3は、実装基板2にフリップチップ実装されている。
発光装置1では、第1電極31と第1導体部21とが、第1接合部61により接合され、第2電極32と第2導体部22とが、第2接合部62により接合されている。また、発光装置1では、スペーサ4に設けられた第2接合用金属層46と実装基板2の第1接合用金属層23とが、第3接合部63により接合されている。発光装置1では、スペーサ4が全周に亘って第3接合部63を介して実装基板2と接合されている。発光装置1では、第1接合部61、第2接合部62及び第3接合部63の各々がAuSnにより形成されている。
発光装置1は、例えば、配線基板に実装して用いることができる。配線基板は、マザー基板である。配線基板は、例えば、金属ベースプリント配線板である。
(2)発光装置の各構成要素
次に、発光装置1の各構成要素について、図面を参照して説明する。
(2.1)実装基板
実装基板2は、発光素子3を実装する基板である。発光装置1では、実装基板2に1つの発光素子3が実装されている。実装基板2は、平面視において発光素子3よりも大きい。
実装基板2は、支持体20と、支持体20に支持された第1導体部21、第2導体部22及び第1接合用金属層23と、を含んでいる。
支持体20は、平板状であり、厚さ方向において互いに反対側にある表面201及び裏面202を有する。支持体20の厚さ方向は、実装基板2の厚さ方向D1と同じである。支持体20の外周形状は、例えば、正方形状である。実装基板2は、セラミック基板であり、支持体20は、AlNセラミックにより形成されている。支持体20は、第1導体部21、第2導体部22及び第1接合用金属層23を支持する機能を有する。
第1導体部21、第2導体部22及び第1接合用金属層23は、支持体20の表面201上に形成されている。
第1導体部21は、発光素子3の第1電極31と電気的に接続される導電層である。第2導体部22は、発光素子3の第2電極32と電気的に接続される導電層である。
第1接合用金属層23は、平面視において第1導体部21及び第2導体部22を囲んでいる。第1接合用金属層23は、支持体20の外周に沿って形成されている。第1接合用金属層23の平面視形状は、矩形枠状である。
第1導体部21、第2導体部22及び第1接合用金属層23の各々は、例えば、支持体20の表面201上のTi膜と、このTi膜上のPt膜と、このPt膜上のAu膜と、の積層膜により構成されている。
実装基板2は、第1外部接続電極24及び第2外部接続電極25と、支持体20の厚さ方向に貫通して形成された第1貫通配線26及び第2貫通配線27と、を更に含んでいる。第1外部接続電極24及び第2外部接続電極25は、支持体20の裏面202に形成されている。第1外部接続電極24は、第1貫通配線26を介して第1導体部21と電気的に接続されている。第2外部接続電極25は、第2貫通配線27を介して第2導体部22と電気的に接続されている。第1外部接続電極24及び第2外部接続電極25の各々は、例えば、支持体20の裏面202上のTi膜と、このTi膜上のPt膜と、このPt膜上のAu膜と、の積層膜により構成することができる。第1貫通配線26及び第2貫通配線27の各々の材料は、例えば、W、Cu等である。
(2.2)発光素子
発光素子3は、UV−Cの波長域の紫外線を放射する紫外線LEDチップである。紫外線LEDチップの発光ピーク波長は、例えば、275nmである。紫外線LEDチップのチップサイズは、例えば、1mm□(1mm×1mm)である。紫外線LEDチップの厚さは、例えば、100μmである。
発光素子3は、図3に示すように、基板30と、半導体多層膜39と、第1電極31と、第2電極32と、を備える。
基板30は、その厚さ方向において互いに反対側にある第1面301及び第2面302を有する。基板30の外周形状は、正方形状である。基板30は、半導体多層膜39を支持している。
半導体多層膜39は、基板30の第1面301上に形成されている。半導体多層膜39は、第1導電型半導体層33と、発光層34と、第2導電型半導体層35と、を含んでいる。半導体多層膜39では、基板30側から第1導電型半導体層33、発光層34及び第2導電型半導体層35が、この順に並んでいる。第1導電型半導体層33の外周形は、基板30の外周形と大きさが同じである。発光層34及び第2導電型半導体層35それぞれの外周形は、第1導電型半導体層33の外周形よりも小さい。
発光素子3では、第1電極31が第1導電型半導体層33と電気的に接続され、第2電極32が第2導電型半導体層35と電気的に接続されている。第1電極31は、第1オーミック電極層31Aと、第1パッド電極層31Bと、を含む。
第1オーミック電極層31Aは、第1導電型半導体層33とオーミック接触を得るために、第1導電型半導体層33の表面331上に形成されている。第1パッド電極層31Bは、例えばAuSnからなる第1接合部61を介して実装基板2と接合するために、第1オーミック電極層31Aを覆うように形成されている。
第2電極32は、第2オーミック電極層32Aと、第2パッド電極層32Bと、を含む。第2オーミック電極層32Aは、第2導電型半導体層35とオーミック接触を得るために、第2導電型半導体層35の表面351上に形成されている。第2パッド電極層32Bは、例えばAuSnからなる第2接合部62を介して実装基板2と接合するために、第2オーミック電極層32Aを覆うように形成されている。
発光素子3では、基板30は、例えば、サファイア基板である。第1導電型半導体層33は、例えば、n型Al0.60Ga0.40N層である。発光層34は、例えば、基板30の厚さ方向において、複数(例えば、4つ)の障壁層と複数(例えば、4つ)の井戸層とが交互に並んでいる多重量子井戸構造を有する。複数の井戸層の各々は、例えば、Al0.45Ga0.55N層である。複数の障壁層の各々は、例えば、Al0.60Ga0.40N層である。第2導電型半導体層35は、例えば、p型Al0.80Ga0.20N層と、p型GaN層と、を含む。半導体多層膜39は、基板30と第1導電型半導体層33との間に介在するバッファ層(例えば、AlN層)を含んでいる。発光素子3の光取り出し面は、基板30の第2面302を含む。
(2.3)パッケージ用カバー部材
パッケージ用カバー部材6は、上述のように、スペーサ4と、カバー5と、を含む。
スペーサ4は、カバー5に対向する第1面41と、カバー5とは反対側の第2面42と、を含む。発光装置1においては、スペーサ4は、実装基板2とカバー5との間に介在する部材である。したがって、スペーサ4の第2面42は、実装基板2に対向する。発光装置1では、スペーサ4の内側に発光素子3が配置されている。実装基板2の厚さ方向D1におけるスペーサ4の厚さ(高さ)は、発光素子3の厚さよりも大きい。
スペーサ4は、枠状である。スペーサ4の平面視での外周形状(実装基板2の厚さ方向から見たスペーサ4の外周形状)は、正方形状である。スペーサ4は、平面視において実装基板2よりも小さい。より詳細には、スペーサ4の平面視における外周形は、実装基板2の平面視における外周形よりも小さい。言い換えれば、スペーサ4の平面視における外周線は、実装基板2の平面視における外周線よりも内側にある。
スペーサ4は、第1面41と、第2面42と、内周面43と、外周面44と、を有する。第1面41は、厚さ方向D1においてカバー5に対向する。第2面42は、厚さ方向D1において実装基板2に対向する。内周面43は、第1面41の内周と第2面42の内周とつないでいる。外周面44は、第1面41の外周と第2面42の外周とをつないでいる。内周面43は、第2面42とのなす内角が鋭角である傾斜面430を含む。内周面43は、傾斜面430を4つ含んでいる。4つの傾斜面430は、スペーサ4の第2面42の内周に沿って並んでいる。これにより、スペーサ4は、実装基板2の厚さ方向D1において第2面42から離れて第1面41に近づくにつれて開口面積が漸次増加している。スペーサ4は、実装基板2の厚さ方向D1において実装基板2から離れるにつれて開口面積が漸次増加している。発光装置1では、スペーサ4が、シリコンにより形成されており、スペーサ4の内周面43が、発光素子3から放射された紫外線をカバー5側へ反射する反射面の機能を有する。言い換えれば、発光装置1では、スペーサ4は、発光素子3から放射された紫外線をカバー5側へ反射するリフレクタを兼ねている。
スペーサ4の4つの傾斜面430は、シリコン基板に対して、シリコン基板のエッチング速度の結晶面方位依存性を利用した異方性エッチングにより形成されている。スペーサ4の第1面41が(100)面であり、4つの傾斜面430は、{111}面である。ここにおいて異方性エッチングを行うときのエッチング液は、例えば、所定温度(例えば、85℃)に加熱したTMAH溶液である。エッチング液は、TMAH溶液に限らず、他のアルカリ系溶液(例えば、KOH溶液など)を用いてもよい。
発光装置1は、スペーサ4の第2面42と第2接合用金属層46との間に介在するシリコン酸化膜45を含んでいる。第2接合用金属層46は、例えば、Al膜461とAu膜462との積層膜により構成されている。
カバー5は、スペーサ4側の第1面51と、スペーサ4とは反対側の第2面52と、を有している。カバー5の平面視での外周形状(カバー5の厚さ方向から見たカバー5の外周形状)は、例えば、正方形状である。カバー5は、平面視において実装基板2よりも小さい。より詳細には、カバー5の平面視における外周形は、実装基板2の平面視における外周形よりも小さい。言い換えれば、カバー5の平面視における外周線は、実装基板2の平面視における外周線よりも内側にある。
カバー5は、ガラスにより形成されている。より詳細には、カバー5は、発光素子3である紫外線LEDチップから放射される紫外線を透過するガラスにより形成されている。言い換えれば、カバー5は、発光素子3から放射される紫外線に対して透光性を有する。ここにおいて、「透光性を有する」とは、発光素子3から放射される紫外線に対する透過率が50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは90%以上であることを意味する。
カバー5を形成するガラスは、アルカリ成分を含んでいる。アルカリ成分は、例えば、Na、K、Na2O、K2O等である。ここにおいて、カバー5を形成するガラスは、硼珪酸ガラスである。
パッケージ用カバー部材6では、スペーサ4とカバー5とが直接接合されている。「直接接合されている」とは、接合材等を用いることなく接合されていることを意味する。スペーサ4とカバー5とは、陽極接合によって直接接合されている。スペーサ4とカバー5とが陽極接合によって直接接合されていることは、例えば、断面TEM像(Cross-Sectional Transmission Electron Microscope Image)の観察結果、EDX法(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)による組成分析の結果、SIMS(Secondary Ion Mass Spectroscopy)によって測定した元素の深さプロファイル等によって確認することができる。
カバー5は、レンズ部50と、フランジ部53と、を有する。レンズ部50とフランジ部53とは、同じ材料で形成されており、一体である。
レンズ部50は、発光素子3から放射される紫外線の配光を制御する。ここにおいて、レンズ部50は、実装基板2の厚さ方向D1において発光素子3に重なり発光素子3から放射された紫外線を集光する。要するに、レンズ部50は、集光レンズとして機能する部分である。レンズ部50は、光入射面510と、光出射面520と、を有する。光入射面510は、実装基板2の厚さ方向D1において発光素子3側に位置し、発光素子3からの紫外線が入射する面である。光出射面520は、実装基板2の厚さ方向D1において発光素子3側とは反対側に位置し、発光素子3からの紫外線が出射する面である。実装基板2の厚さ方向D1からの平面視で、レンズ部50の外周形状は、略円形状である。レンズ部50は、実装基板2の厚さ方向D1からの平面視で、発光素子3よりも大きい。
フランジ部53は、厚さ方向D1からの平面視においてレンズ部50から外側に突出している。フランジ部53は、例えば、カバー5とスペーサ4とを接合するために利用される部分である。フランジ部53は、レンズ部50の外周の全周から突出している。実装基板2の厚さ方向D1におけるフランジ部53の厚さは、実装基板2の厚さ方向D1におけるレンズ部50の最大厚さよりも薄い。フランジ部53は、厚さ方向D1において少なくとも一部がスペーサ4に重なっている。
フランジ部53は、スペーサ4側の第1面531と、スペーサ4とは反対側の第2面532と、を有している。フランジ部53では、第1面531及び第2面532の各々は、平面である。カバー5では、フランジ部53の第1面531とレンズ部50の光入射面510とがつながっており、フランジ部53の第1面531とレンズ部50の光入射面510とが略面一である。また、カバー5では、フランジ部53の第2面532とレンズ部50の光出射面520とがつながっており、フランジ部53の第2面532とレンズ部50の光出射面520との境界は、レンズ部50の光出射面520の外周形状によって決まっている。
実装基板2の厚さ方向D1からの平面視で、フランジ部53の外周形状は、例えば、正方形状である。フランジ部53の外周形状は、スペーサ4の外周形状と同じである。したがって、実装基板2の厚さ方向D1からの平面視で、カバー5の外周形状は、スペーサ4の外周形状と同じである。
カバー5では、レンズ部50は、平凸レンズ状である。ここにおいて、光出射面520は、凸曲面状であり、第2面52の一部により構成される。光出射面520は、非球面であるが、これに限らず、例えば、球面の一部であってもよい。レンズ部50の光入射面510は、第1面51の一部により構成される凹凸形状54を含む。凹凸形状54は、粗面である。ここにおいて、凹凸形状54を構成する粗面の表面粗さは、例えば、JIS B 0601−2001(ISO 4287−1997)で規定されている算術平均粗さRaを採用することができる。表面粗さの測定は、例えば、AFM(Atomic Force Microscope)等の3次元形状測定装置により行うことができる。凹凸形状54を構成する粗面の表面粗さは、例えば、発光素子3から放射される紫外線の波長をλとするとき、λ/4以上λ以下である。
凹凸形状54は、例えば、ブラスト加工によって形成されている。ブラスト加工は、サンドブラスト加工である。凹凸形状54を構成する粗面は、微細な凹凸構造が形成されている。
(3)発光装置の製造方法
以下では、発光装置1の製造方法について図4に基づいて簡単に説明する。
発光装置1の製造方法では、スペーサ4とカバー5とを接合することでパッケージ用カバー部材6を形成する。そして、パッケージ用カバー部材6と、実装基板2と、を接合する前に、図4に示すように、予め、スペーサ4の第2面42にシリコン酸化膜45と第2接合用金属層46との積層構造を設ける。その一方で、実装基板2の第1導体部21、第2導体部22及び第1接合用金属層23上に第1接合部61、第2接合部62及び第3接合部63それぞれの元になる第1AuSn層71、第2AuSn層72及び第3AuSn層73を設ける。ここにおいて、第1導体部21、第2導体部22及び第1接合用金属層23と第1AuSn層71、第2AuSn層72及び第3AuSn層73との間に、第1バリア層81、第2バリア層82及び第3バリア層83を設ける。第1バリア層81、第2バリア層82及び第3バリア層83の材料は、例えば、Ptである。また、第1AuSn層71、第2AuSn層72及び第3AuSn層73上に、第1Au層91、第2Au層92及び第3Au層93をそれぞれ設ける。第1Au層91、第2Au層92及び第3Au層93は、第1AuSn層71、第2AuSn層72及び第3AuSn層73のSnの酸化を抑制するために設ける層である。第1Au層91、第2Au層92及び第3Au層93の厚さは、第1AuSn層71、第2AuSn層72及び第3AuSn層73が溶融したときに、第1AuSn層71、第2AuSn層72及び第3AuSn層73へAuが熱拡散され、第1導体部21、第2導体部22及び第1接合用金属層23と第1電極31、第2電極32及び第2接合用金属層46との接合が行われるように決められている。以下では、第1バリア層81と第1AuSn層71と第1Au層91との積層膜を第1接合用層101と称し、第2バリア層82と第2AuSn層72と第2Au層92との積層膜を第2接合用層102と称する。また、以下では、第3バリア層83と第3AuSn層73と第3Au層93との積層膜を第3接合用層103と称する。第1接合用層101は、少なくとも第1AuSn層71を備えていればよく、積層膜に限らず、単層膜でもよい。第2接合用層102は、少なくとも第2AuSn層72を備えていればよく、積層膜に限らず、単層膜でもよい。第3接合用層103は、少なくとも第3AuSn層73を備えていればよく、積層膜に限らず、単層膜でもよい。
また、発光装置1の製造方法では、パッケージ用カバー部材6と実装基板2とを接合する前に発光素子3を実装基板2に実装し、引き続き、不活性ガス雰囲気中においてパッケージ用カバー部材6と実装基板2とを接合する。
発光素子3を実装基板2に実装する際には、発光素子3の第1電極31、第2電極32と実装基板2上の第1接合用層101、第2接合用層102とが接触するように重ね合わせた状態で、適宜の加熱及び加圧を行いながら第1AuSn層71及び第2AuSn層72を溶融させてから、冷却凝固させることで第1接合部61及び第2接合部62を形成する。ここにおいて、第1AuSn層71が溶融すると、溶融したAuSnに、第1Au層91からAuが拡散し、溶融したAuSnにおけるAuの組成比が増加する。また、第2AuSn層72が溶融すると、溶融したAuSnに、第2Au層92からAuが拡散し、溶融したAuSnにおけるAuの組成比が増加する。
パッケージ用カバー部材6と実装基板2とを接合する際には、パッケージ用カバー部材6に設けた第2接合用金属層46と実装基板2上の第3接合用層103とが接触するように重ね合わせた状態で、適宜の加熱及び加圧を行いながら第3AuSn層73を溶融させてから、冷却凝固させることで第3接合部63を形成する。第3AuSn層73が溶融すると、溶融したAuSnに、第3Au層93からAuが拡散し、溶融したAuSnにおけるAuの組成比が増加する。
発光装置1の製造方法では、スペーサ4を複数形成した第1部材(第1ウェハ)とカバー5を複数形成した第2部材(第2ウェハ)とを陽極接合によって直接接合することで積層体を形成し、積層体を分割することで複数のパッケージ用カバー部材6を得てもよい。陽極接合を行う際には、例えば、真空雰囲気中において、第1部材と第2部材とを直接接触させ、第1部材と第2部材との積層体に対し、第1部材を高電位側、第2部材を低電位側として、所定の直流電圧を印加する。所定の直流電圧は、例えば、600Vである。陽極接合を行う際には、例えば、第1部材と第2部材との積層体を所定の接合温度に加熱した状態で、所定の直流電圧を所定の時間だけ印加した後に、積層体の温度を降温させる。接合温度は、例えば、400℃である。
(4)効果
実施形態1に係る発光装置1は、実装基板2と、発光素子3と、スペーサ4と、カバー5と、を備える。発光素子3は、実装基板2上に配置されており、紫外線を放射する。スペーサ4は、枠状であり、実装基板2上に配置され発光素子3を囲んでいる。カバー5は、発光素子3を覆うようにスペーサ4上に配置されている。カバー5は、スペーサ4側の第1面51及びスペーサ4とは反対側の第2面52を有する。発光装置1は、実装基板2とスペーサ4とカバー5とで囲まれた空間8が形成されており、空間8の雰囲気が不活性ガス雰囲気である。カバー5は、レンズ部50と、フランジ部53と、を有する。レンズ部50は、実装基板2の厚さ方向D1において発光素子3に重なり発光素子3から放射された紫外線を集光する。フランジ部53は、平板状であり、厚さ方向D1からの平面視においてレンズ部50から外側に突出し、かつ厚さ方向D1において少なくとも一部がスペーサ4に重なっている。レンズ部50は、第1面51の一部により構成される凹凸形状54を含む光入射面510と、第2面52の一部により構成される凸曲面状の光出射面520と、を有する。
実施形態1に係る発光装置1では、光出力(紫外線出力)の高出力化を図ることが可能となる。ここにおいて、発光装置1は、発光素子3から放射される紫外線の配光をカバー5のレンズ部50により制御できる。また、発光装置1は、レンズ部50の光入射面510が凹凸形状54を含んでいるので、発光素子3から放射されて光入射面510へ入射する紫外線のフレネル反射を抑制することができ、紫外線の光取り出し効率の向上を図ることができる。また、発光装置1は、レンズ部50のうち不活性ガス雰囲気に晒されている光入射面510の凹凸形状54によってフレネル反射を抑制できるので、信頼性の向上を図りつつ光取り出し効率の向上を図ることができる。
(実施形態2)
以下、実施形態2に係る発光装置1aについて、図5を参照して説明する。
実施形態2に係る発光装置1aの基本構成は、実施形態1に係る発光装置1と同じである。実施形態2に係る発光装置1aに関し、実施形態1に係る発光装置1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
実施形態2に係る発光装置1aでは、実施形態1に係る発光装置1のカバー5の代わりに、カバー5aを備えている。カバー5aでは、レンズ部50aの形状が、実施形態1に係る発光装置1のレンズ部50の形状とは相違する。カバー5aに関し、カバー5と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
レンズ部50aは、メニスカスレンズ状である。レンズ部50aでは、光入射面510aが光出射面520側へ凹んでいる。光入射面510aは、第1面51の一部により構成される凹凸形状54aを含んでいる。
実施形態2に係る発光装置1aでは、レンズ部50aの光入射面510aが凹凸形状54aを含んでいるので、実施形態1に係る発光装置1と同様、光出力(紫外線出力)の高出力化を図ることが可能となる。
(実施形態3)
以下、実施形態3に係る発光装置1bについて、図6を参照して説明する。
実施形態3に係る発光装置1bの基本構成は、実施形態1に係る発光装置1と同じである。実施形態3に係る発光装置1bに関し、実施形態1に係る発光装置1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
実施形態3に係る発光装置1bでは、実施形態1に係る発光装置1のカバー5の代わりに、カバー5bを備えている。カバー5bでは、レンズ部50bの形状が、実施形態1に係る発光装置1のレンズ部50の形状とは相違する。カバー5bに関し、カバー5と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
レンズ部50bでは、光入射面510bの凹凸形状54bが2次元周期構造を有している。ここにおいて、2次元周期構造は、2次元アレイ状に並んでいる複数の凹部540bを含んでいる。発光素子3から放射される紫外線の波長をλとするとき、2次元周期構造の周期は、λ/4以上λ以下である。
実施形態3に係る発光装置1bでは、レンズ部50bの光入射面510bが凹凸形状54bを含んでいるので、実施形態1に係る発光装置1と同様、光出力(紫外線出力)の高出力化を図ることが可能となる。
(変形例)
上記の実施形態1〜3は、本発明の様々な実施形態の一つに過ぎない。上記の実施形態1〜3は、本発明の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。
例えば、パッケージ用カバー部材6では、カバー5がアルカリ成分を含むガラスに限らず、例えば、石英ガラス等によって形成されていてもよい。この場合、スペーサ4とカバー5とが、例えば、低融点ガラスにより形成された接合部により接合されていてもよい。低融点ガラスは、軟化点が600℃以下のガラスであり、軟化点が500℃以下のガラスが好ましく、軟化点が400℃以下のガラスが更に好ましい。低融点ガラスは、例えば、主成分として酸化鉛(PbO)と無水ほう酸(B23)とを含むガラスである。
また、ガラスは、硼珪酸ガラス、石英ガラスに限らず、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス等であってもよい。
また、発光素子3は、UV−Cの波長域の紫外線を放射する紫外線LEDチップに限らず、例えば、UV−Bの波長域の紫外線を放射する紫外線LEDチップであってもよい。また、発光素子3は、例えば、UV−Aの波長域の紫外線を放射する紫外線LEDチップであってもよい。
また、実装基板2上においてスペーサ4の内側に配置される発光素子3の数は、1つに限らず、複数であってもよい。また、発光装置1、1a、1bでは、スペーサ4の内側に配置される複数の発光素子3を備えている場合、複数の発光素子3が同じ種類の発光素子でもよいし、複数の発光素子3のうちの少なくとも1つの発光素子3が残りの発光素子3と異なる種類の素子であってもよい。例えば、発光装置1、1a、1bは、4つの発光素子3として、UV−Cの波長域の紫外線を放射する1つの第1紫外線LEDチップと、UV−Bの波長域の紫外線を放射する3つの第2紫外線LEDチップとを備えていてもよい。
また、発光装置1、1a、1bに関し、発光素子3は、実装基板2に対して導電性バンプによって接合されていてもよい。
また、スペーサ4とカバー5との接合方法は、陽極接合に限らず、例えば、表面活性化接合法によって直接接合されていてもよい。また、スペーサ4とカバー5とは、例えば、共晶接合法によって接合されていてもよい。
また、スペーサ4の材料は、シリコンに限らず、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金等であってもよい。
また、スペーサ4は、実装基板2の厚さ方向D1からの平面視において実装基板2よりも小さい場合に限らず、例えば、平面視において実装基板2と同じ大きさであってもよいし、平面視において実装基板2よりも大きくてもよい。
また、スペーサ4は、実装基板2の厚さ方向D1において第2面42から離れて第1面41に近づくにつれて開口面積が漸次増加している構成に限らず、例えば、開口面積が段階的に増加していてもよい。また、スペーサ4は、例えば、実装基板2の厚さ方向D1の位置によらず開口面積が略一定であってもよい。
また、発光装置1、1a、1bは、発光素子3に逆並列に接続されたツェナダイオードを備えていてもよい。これにより、発光装置1、1a、1bは、静電気耐性を向上させることが可能となる。ツェナダイオードは、例えば、パッケージ7内で実装基板2に実装されているのが好ましい。
(まとめ)
以上説明した実施形態等から以下の態様が開示されている。
第1の態様に係る発光装置(1;1a;1b)は、実装基板(2)と、発光素子(3)と、スペーサ(4)と、カバー(5;5a;5b)と、を備える。発光素子(3)は、実装基板(2)上に配置されており、紫外線を放射する。スペーサ(4)は、枠状であり、実装基板(2)上に配置され発光素子(3)を囲んでいる。カバー(5;5a;5b)は、発光素子(3)を覆うようにスペーサ(4)上に配置されている。カバー(5;5a;5b)は、スペーサ(4)側の第1面(51)及びスペーサ(4)とは反対側の第2面(52)を有する。発光装置(1;1a;1b)は、実装基板(2)とスペーサ(4)とカバー(5)とで囲まれた空間(8)が形成されており、空間(8)の雰囲気が不活性ガス雰囲気である。カバー(5;5a;5b)は、レンズ部(50;50a;50b)と、フランジ部(53)と、を有する。レンズ部(50;50a;50b)は、実装基板(2)の厚さ方向(D1)において発光素子(3)に重なり発光素子(3)から放射された紫外線を集光する。フランジ部(53)は、厚さ方向(D1)からの平面視においてレンズ部(50;50a;50b)から外側に突出し、かつ厚さ方向(D1)において少なくとも一部がスペーサ(4)に重なっている。レンズ部(50;50a;50b)は、第1面(51)の一部により構成される凹凸形状(54;54a;54b)を含む光入射面(510;510a;510b)と、第2面(52)の一部により構成される凸曲面状の光出射面(520)と、を有する。
第1の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、光出力の高出力化を図ることが可能となる。
第2の態様に係る発光装置(1;1a;1b)は、第1の態様において、カバー(5;5a;5b)は、硼珪酸ガラスである。スペーサ(4)は、シリコンである。カバー(5;5a;5b)とスペーサ(4)とが直接接合されている。
第2の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、カバー(5;5a;5b)が石英ガラスである場合と比べて、カバー(5;5a;5b)とスペーサ(4)との線膨張係数差を小さくすることができ、信頼性の向上を図れる。
第3の態様に係る発光装置(1;1a)は、第1又は2の態様において、凹凸形状(54;54a)は、粗面である。
第3の態様に係る発光装置(1;1a)では、例えば、ブラスト加工等によって凹凸形状(54;54a)を形成することができる。
第4の態様に係る発光装置(1b)では、第1又は2の態様において、凹凸形状(54b)は、2次元周期構造を有する。発光素子(3)から放射される紫外線の波長をλとするとき、2次元周期構造の周期は、λ/4以上λ以下である。
第4の態様に係る発光装置(1b)では、発光素子(3)から放射されてレンズ部(50b)の光入射面(510b)に入射する紫外線のフレネル反射を抑制でき、光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。
第5の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、第1〜4の態様のいずれか一つにおいて、発光素子(3)は、UV−C又はUV−Bの波長域の紫外線を放射する紫外線LEDチップである。
第5の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、発光素子(3)としてUV−C又はUV−Bの波長域の紫外線を放射する紫外線LEDチップを備えた構成において、紫外線の配光をレンズ部(50;50a;50b)により制御できかつ信頼性の向上を図ることが可能となる。第5の態様に係る発光装置(1;1a;1b)は、例えば、殺菌、医療、環境汚染物質を高速で処理する用途等の分野で、利用することができる。
1、1a、1b 発光装置
2 実装基板
3 発光素子
4 スペーサ
5、5a、5b カバー
50、50a、50b レンズ部
51 第1面
510、510a、510b 光入射面
52 第2面
520 光出射面
53 フランジ部
54 凹凸形状

Claims (5)

  1. 実装基板と、
    前記実装基板上に配置されており、紫外線を放射する発光素子と、
    前記実装基板上に配置され前記発光素子を囲んでいる枠状のスペーサと、
    前記発光素子を覆うように前記スペーサ上に配置されており、前記スペーサ側の第1面及び前記スペーサとは反対側の第2面を有するカバーと、を備え、
    前記実装基板と前記スペーサと前記カバーとで囲まれた空間が形成されており、
    前記空間の雰囲気が不活性ガス雰囲気であり、
    前記カバーは、
    前記実装基板の厚さ方向において前記発光素子に重なり前記発光素子から放射された紫外線を集光するレンズ部と、
    前記厚さ方向からの平面視において前記レンズ部から外側に突出し、かつ前記厚さ方向において少なくとも一部が前記スペーサに重なっている平板状のフランジ部と、を有し、
    前記レンズ部は、
    前記第1面の一部により構成される凹凸形状を含む光入射面と、
    前記第2面の一部により構成される凸曲面状の光出射面と、を有する、
    発光装置。
  2. 前記カバーは、硼珪酸ガラスであり、
    前記スペーサは、シリコンであり、
    前記カバーと前記スペーサとが直接接合されている、
    請求項1に記載の発光装置。
  3. 前記凹凸形状は、粗面である、
    請求項1又は2に記載の発光装置。
  4. 前記凹凸形状は、2次元周期構造を有し、
    前記発光素子から放射される紫外線の波長をλとするとき、前記2次元周期構造の周期は、λ/4以上λ以下である、
    請求項1又は2に記載の発光装置。
  5. 前記発光素子は、UV−C又はUV−Bの波長域の紫外線を放射する紫外線LEDチップである、
    請求項1〜4のいずれか一項に記載の発光装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2023042461A1 (ja) * 2021-09-14 2023-03-23 ソニーグループ株式会社 半導体発光デバイス
US11973560B2 (en) 2018-10-05 2024-04-30 Nokia Technologies Oy Prioritizing beam recovery measurements over other measurements

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