JP2019215408A - Hard coat film and transparent conductive film - Google Patents

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Abstract

To provide a hard coat film has both excellent flex resistance and scratch resistance and excellent flexibility, and a transparent conductive film including the same.SOLUTION: A hard coat film 1 comprises a transparent base material 2 and a hard coat layer 3 in order in a thickness direction. The hard coat layer 3 includes a resin matrix and particles. The hardness of the hard coat layer 3 measured by a nano-indentation method is 0.320 GPa or more and 0.520 GPa or less. The pencil hardness of the hard coat layer 3 is B or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ハードコートフィルムおよび透明導電性フィルムに関し、詳しくは、ハードコートフィルム、および、それを備える透明導電性フィルムに関する。   The present invention relates to a hard coat film and a transparent conductive film, and more particularly, to a hard coat film and a transparent conductive film including the same.

従来、透明樹脂基板の片面にハードコート層を有するハードコートフィルムが知られている。   Conventionally, a hard coat film having a hard coat layer on one surface of a transparent resin substrate has been known.

例えば、弾性率が2.1〜5.0GPaであるハードコート層を備えるハードコートフィルムが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   For example, a hard coat film including a hard coat layer having an elastic modulus of 2.1 to 5.0 GPa has been proposed (for example, see Patent Document 1).

特開2014−25061号公報   JP 201425061A

しかるに、ハードコート層には、優れた耐屈曲性が要求されるが、特許文献1に記載のハードコートフィルムでは、ハードコート層の弾性率が2.1〜5.0GPaと高いので、上記の要求を十分に満足させることができない。   However, the hard coat layer is required to have excellent bending resistance. However, in the hard coat film described in Patent Document 1, the elastic modulus of the hard coat layer is as high as 2.1 to 5.0 GPa. The demand cannot be fully satisfied.

一方、ハードコートフィルムは、優れた耐擦傷性も要求される。   On the other hand, the hard coat film is also required to have excellent scratch resistance.

さらに、ハードコートフィルムは、優れた耐屈曲性および耐擦傷性を有しながら、柔軟であることも要求される。   Further, the hard coat film is required to be flexible while having excellent bending resistance and scratch resistance.

本発明は、優れた耐屈曲性および耐擦傷性と、優れた柔軟性とを兼ね備えるハードコートフィルム、および、それを備える透明導電性フィルムを提供する。   The present invention provides a hard coat film having both excellent bending resistance and abrasion resistance and excellent flexibility, and a transparent conductive film including the same.

本発明(1)は、透明基材と、ハードコート層とを厚み方向に順に備え、前記ハードコート層は、樹脂マトリックスおよび粒子を含み、ナノインデンテーション法で測定される前記ハードコート層の硬さが、0.320GPa以上、0.520GPa以下であり、前記ハードコート層の鉛筆硬度が、B以下である、ハードコートフィルムを含む。   The present invention (1) comprises a transparent base material and a hard coat layer in the thickness direction in order, the hard coat layer includes a resin matrix and particles, and the hardness of the hard coat layer measured by a nanoindentation method. A hard coat film having a hardness of 0.320 GPa or more and 0.520 GPa or less and a pencil hardness of the hard coat layer of B or less.

本発明(2)は、前記ハードコート層の厚みが、3μm以下である、(1)に記載のハードコートフィルムを含む。   The present invention (2) includes the hard coat film according to (1), wherein the thickness of the hard coat layer is 3 μm or less.

本発明(3)は、前記ハードコート層の算術平均粗さRaが、3nm以上、14nm以下である、(1)または(2)に記載のハードコートフィルムを含む。   The present invention (3) includes the hard coat film according to (1) or (2), wherein the arithmetic average roughness Ra of the hard coat layer is 3 nm or more and 14 nm or less.

本発明(4)は、前記透明基材の材料が、シクロオレフィンポリマーである、(1)〜(3)のいずれか一項に記載のハードコートフィルムを含む。   The present invention (4) includes the hard coat film according to any one of (1) to (3), wherein the material of the transparent substrate is a cycloolefin polymer.

本発明(5)は、(1)〜(4)のいずれか一項に記載のハードコートフィルムと、光学調整層と、透明導電層とを厚み方向に順に備える、透明導電性フィルムを含む。   The present invention (5) includes a transparent conductive film including the hard coat film according to any one of (1) to (4), an optical adjustment layer, and a transparent conductive layer in the thickness direction.

本発明のハードコートフィルムおよび透明導電性フィルムは、ハードコート層の硬さが、0.320GPa以上、0.520GPa以下であり、ハードコート層の鉛筆硬度が、B以下であるので、優れた耐屈曲性および耐擦傷性と、優れた柔軟性とを兼ね備える。   In the hard coat film and the transparent conductive film of the present invention, the hardness of the hard coat layer is 0.320 GPa or more and 0.520 GPa or less, and the pencil hardness of the hard coat layer is B or less. It has both flexibility and abrasion resistance and excellent flexibility.

図1は、本発明のハードコートフィルムの一実施形態の断面図を示す。FIG. 1 shows a cross-sectional view of one embodiment of the hard coat film of the present invention. 図2は、図1に示すハードコートフィルムを備える透明導電性フィルムの断面図を示す。FIG. 2 is a sectional view of a transparent conductive film provided with the hard coat film shown in FIG.

本発明のハードコートフィルムの一実施形態を、図1を参照して説明する。   One embodiment of the hard coat film of the present invention will be described with reference to FIG.

ハードコートフィルム1は、厚み方向に互いに間隔を隔てて対向配置される一方面および他方面(2つの主面)を有する。ハードコートフィルム1の一方面および他方面は、互いに平行する平坦面である。ハードコートフィルム1は、厚み方向に直交する面方向に延びる略フィルム形状を有する。   The hard coat film 1 has one surface and the other surface (two main surfaces) that face each other at an interval in the thickness direction. One surface and the other surface of the hard coat film 1 are flat surfaces parallel to each other. The hard coat film 1 has a substantially film shape extending in a plane direction orthogonal to the thickness direction.

ハードコートフィルム1は、例えば、後述する透明導電性フィルム6(図2参照)に備えられる一部品であり、つまり、透明導電性フィルム6ではない。すなわち、ハードコートフィルム1は、透明導電性フィルム6を作製するための部品であり、光学調整層4および透明導電層5を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。   The hard coat film 1 is, for example, one component provided in a transparent conductive film 6 (see FIG. 2) described later, that is, is not the transparent conductive film 6. That is, the hard coat film 1 is a component for producing the transparent conductive film 6, does not include the optical adjustment layer 4 and the transparent conductive layer 5, and is a device which is distributed as a component alone and industrially usable.

ハードコートフィルム1は、透明基材2と、ハードコート層3とを厚み方向一方側に向かって順に備える。つまり、ハードコートフィルム1は、透明基材2と、透明基材2の厚み方向一方面に配置されるハードコート層3とを備える。また、好ましくは、ハードコートフィルム1は、透明基材2と、ハードコート層3とのみからなる。   The hard coat film 1 includes a transparent substrate 2 and a hard coat layer 3 in order toward one side in the thickness direction. That is, the hard coat film 1 includes the transparent substrate 2 and the hard coat layer 3 disposed on one surface in the thickness direction of the transparent substrate 2. Further, preferably, the hard coat film 1 is composed of only the transparent base material 2 and the hard coat layer 3.

透明基材2は、ハードコートフィルム1の他方面を形成する。具体的には、透明基材2は、ハードコートフィルム1の機械強度を確保する支持材である。透明基材2は、面方向に延びるフィルム形状を有する。透明基材2は、厚み方向に互いに間隔を隔てて対向配置される一方面および他方面を有する。透明基材2の一方面および他方面は、互いに平行する平坦面である。透明基材2の厚み方向他方面は、厚み方向他方側に露出する。   The transparent substrate 2 forms the other surface of the hard coat film 1. Specifically, the transparent base material 2 is a support material for securing the mechanical strength of the hard coat film 1. The transparent substrate 2 has a film shape extending in the plane direction. The transparent substrate 2 has one surface and the other surface that are arranged to face each other at an interval in the thickness direction. One surface and the other surface of the transparent substrate 2 are flat surfaces parallel to each other. The other surface in the thickness direction of the transparent substrate 2 is exposed to the other side in the thickness direction.

透明基材2の材料は、透明であれば、特に限定されない。透明基材2の材料としては、例えば、樹脂(ポリマーを含む)が挙げられる。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの(メタ)アクリル樹脂(アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂)、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー(COP)などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、例えば、ポリエーテルスルフォン樹脂、例えば、ポリアリレート樹脂、例えば、メラミン樹脂、例えば、ポリアミド樹脂、例えば、ポリイミド樹脂、例えば、セルロース樹脂、例えば、ポリスチレン樹脂、例えば、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら樹脂は、単独使用または2種以上併用することができる。優れた光学特性(透明性を含む)を確保する観点から、好ましくは、オレフィン樹脂が挙げられ、より好ましくは、COPが挙げられる。   The material of the transparent substrate 2 is not particularly limited as long as it is transparent. Examples of the material of the transparent substrate 2 include a resin (including a polymer). Examples of the resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; for example, (meth) acrylic resins such as polymethacrylate (acrylic resin and / or methacrylic resin); for example, polyethylene, polypropylene, and cycloolefin Olefin resin such as polymer (COP), for example, polycarbonate resin, for example, polyether sulfone resin, for example, polyarylate resin, for example, melamine resin, for example, polyamide resin, for example, polyimide resin, for example, cellulose resin, for example, polystyrene Resins, for example, norbornene resins and the like. These resins can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of securing excellent optical characteristics (including transparency), preferably, an olefin resin is used, and more preferably, COP is used.

COPは、ポリエステル樹脂に比べて、光学特性(等方性)に優れる。他方、COPは、ポリエステル樹脂に比べて、機械強度が低い(割れ易い)。しかし、このハードコートフィルム1は、所望の硬さおよび鉛筆硬度を有するハードコート層3を備えるので、透明基材2の機械強度がたとえ低くても、ハードコートフィルム1は、機械強度の大きな低下(割れの発生)を抑制できる。   COP is superior in optical characteristics (isotropic) as compared with polyester resin. On the other hand, COP has lower mechanical strength (easy to crack) than polyester resin. However, since the hard coat film 1 includes the hard coat layer 3 having desired hardness and pencil hardness, even if the mechanical strength of the transparent substrate 2 is low, the hard coat film 1 has a large decrease in mechanical strength. (Cracking) can be suppressed.

透明基材2の全光線透過率(JIS K 7375−2008)は、例えば、80%以上、好ましくは、85%以上である。   The total light transmittance (JIS K 7375-2008) of the transparent substrate 2 is, for example, 80% or more, and preferably 85% or more.

透明基材2の厚みは、一方面および他方面間の長さ(以下の各層においても同様)であり、具体的には、例えば、2μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、200μm以下である。   The thickness of the transparent substrate 2 is a length between one surface and the other surface (the same applies to each of the following layers), specifically, for example, 2 μm or more, preferably 20 μm or more. It is 300 μm or less, preferably 200 μm or less.

ハードコート層3は、ハードコートフィルム1の一方面を形成する。具体的には、ハードコート層3は、ハードコートフィルム1に優れた耐屈曲性を付与しつつ、優れた耐擦傷性を確保するハード層である。また、ハードコート層3は、ハードコートフィルム1に耐ブロッキング性を付与するアンチブロッキング層でもある。ハードコート層3は、面方向に延びるフィルム形状を有する。ハードコート層3は、厚み方向に互いに間隔を隔てて対向配置される一方面および他方面を有する。ハードコート層3の他方面は、透明基材2の一方面に接触している。ハードコート層3の一方面は、例えば、ハードコートフィルム1の厚み方向一方側に露出しており、微細な凹凸形状(図1では図示されない)を有する。   The hard coat layer 3 forms one surface of the hard coat film 1. Specifically, the hard coat layer 3 is a hard layer that secures excellent scratch resistance while imparting excellent flex resistance to the hard coat film 1. Further, the hard coat layer 3 is also an anti-blocking layer that provides the hard coat film 1 with blocking resistance. The hard coat layer 3 has a film shape extending in the plane direction. The hard coat layer 3 has one surface and the other surface which are opposed to each other at an interval in the thickness direction. The other surface of the hard coat layer 3 is in contact with one surface of the transparent substrate 2. One surface of the hard coat layer 3 is, for example, exposed on one side in the thickness direction of the hard coat film 1 and has a fine uneven shape (not shown in FIG. 1).

ハードコート層3は、樹脂および粒子を含む。ハードコート層3は、好ましくは、樹脂および粒子のみを含む。具体的には、ハードコート層3の材料は、樹脂および粒子を含む組成物である。   Hard coat layer 3 includes a resin and particles. Hard coat layer 3 preferably contains only resin and particles. Specifically, the material of the hard coat layer 3 is a composition containing a resin and particles.

樹脂としては、透明樹脂であれば、特に限定されず、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂、より好ましくは、光硬化性樹脂が挙げられる。光硬化性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられ、好ましくは、優れた光学特性および優れた機械強度を確保する観点から、アクリル樹脂が挙げられる。これら樹脂は、単独使用または2種以上併用することができる。   The resin is not particularly limited as long as it is a transparent resin, and includes, for example, a curable resin and a thermoplastic resin, preferably a curable resin, and more preferably a photocurable resin. Examples of the photocurable resin include an acrylic resin, an epoxy resin, and a silicone resin, and preferably, an acrylic resin from the viewpoint of ensuring excellent optical characteristics and excellent mechanical strength. These resins can be used alone or in combination of two or more.

粒子の材料としては、特に限定されず、透明であれば特に限定されず、例えば、有機材料、無機材料が挙げられる。有機材料としては、例えば、アクリルポリマー、ポリスチレンなどのポリマーが挙げられ、好ましくは、アクリルポリマーが挙げられる。無機材料としては、例えば、シリカ、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫などからなる金属酸化物、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩などが挙げられる。好ましくは、シリカが挙げられる。これら材料は、単独使用または2種以上併用することができる。   The material of the particles is not particularly limited, and is not particularly limited as long as it is transparent, and examples thereof include an organic material and an inorganic material. Examples of the organic material include polymers such as an acrylic polymer and polystyrene, and preferably include an acrylic polymer. Examples of the inorganic material include metal oxides composed of silica, for example, zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, and the like, for example, carbonates such as calcium carbonate. Preferably, silica is used. These materials can be used alone or in combination of two or more.

粒子の形状は、特に限定されず、例えば、略球形状、略針形状、略板形状、不定形状などが挙げられ、好ましくは、略球形状が挙げられる。   The shape of the particles is not particularly limited, and examples thereof include a substantially spherical shape, a substantially needle shape, a substantially plate shape, and an irregular shape, and preferably a substantially spherical shape.

粒子の最大長さの平均値(略球形状であれば、平均粒子径)は、好ましくは、比較的小さく、より好ましくは、ナノサイズである。具体的には、粒子の最大長さの平均値は、例えば、100nm以下、好ましくは、80nm以下、より好ましくは、60nm以下であり、また、例えば、1nm以上、好ましくは、5nm以上、より好ましくは、10nm以上である。   The average value of the maximum length of the particles (the average particle diameter in the case of a substantially spherical shape) is preferably relatively small, and more preferably nano-sized. Specifically, the average value of the maximum length of the particles is, for example, 100 nm or less, preferably 80 nm or less, more preferably 60 nm or less, and, for example, 1 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably Is 10 nm or more.

粒子の最大長さの平均値が上記した上限以下であれば、後述するハードコート層3の一方面の算術平均粗さRaを所望の範囲に容易かつ確実に設定することができる。   When the average value of the maximum length of the particles is equal to or less than the above upper limit, the arithmetic average roughness Ra of one surface of the hard coat layer 3 described later can be easily and reliably set in a desired range.

粒子の最大長さの平均値が上記した下限以上であれば、優れたアンチブロッキング性をハードコートフィルム1に付与することができる。   When the average value of the maximum length of the particles is equal to or more than the above lower limit, excellent antiblocking properties can be imparted to the hard coat film 1.

なお、上記した組成物からハードコート層3を形成して、樹脂マトリクスと、それに分散する粒子とをハードコート層3に備える。   The hard coat layer 3 is formed from the above-described composition, and a resin matrix and particles dispersed therein are provided in the hard coat layer 3.

粒子の質量部数は、樹脂100質量部に対して、例えば、0.1質量部以上、好ましくは、1質量部以上であり、また、例えば、75質量部以下、好ましくは、55質量部以下である。   The number of parts by mass of the particles is, for example, 0.1 part by mass or more, preferably 1 part by mass or more, and, for example, 75 parts by mass or less, preferably 55 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin. is there.

ハードコート層3の硬さは、0.320GPa以上、好ましくは、0.350GPa以上、より好ましくは、0.360GPa以上である。ハードコート層3の硬さが上記した下限を下回ると、ハードコートフィルム1が優れた耐擦傷性を確保することができない。   Hard coat layer 3 has a hardness of 0.320 GPa or more, preferably 0.350 GPa or more, and more preferably 0.360 GPa or more. If the hardness of the hard coat layer 3 is lower than the lower limit described above, the hard coat film 1 cannot secure excellent scratch resistance.

また、ハードコート層3の硬さは、0.520GPa以下、好ましくは、0.500GPa以下、より好ましくは、0.450GPa以下、さらに好ましくは、0.400GPa以下、とりわけ好ましくは、0.370GPa以下である。ハードコート層3の硬さが上記した上限を上回ると、ハードコートフィルム1が優れた耐屈曲性を確保することができない。   The hardness of the hard coat layer 3 is 0.520 GPa or less, preferably 0.500 GPa or less, more preferably 0.450 GPa or less, still more preferably 0.400 GPa or less, and particularly preferably 0.370 GPa or less. It is. If the hardness of the hard coat layer 3 exceeds the upper limit described above, the hard coat film 1 cannot secure excellent flex resistance.

ハードコート層3の硬さは、ナノインデンテーション法で測定される23℃の押込み硬さであり、具体的には、ナノインデンター(圧子)をハードコート層3に23℃で押し込んで得られる押込み硬さである。硬さの測定方法の詳細は、後の実施例で記載する。   The hardness of the hard coat layer 3 is an indentation hardness of 23 ° C. measured by a nanoindentation method, and specifically, is obtained by pushing a nano indenter (indenter) into the hard coat layer 3 at 23 ° C. Indentation hardness. The details of the method for measuring the hardness will be described in Examples below.

また、ハードコート層3の鉛筆硬度は、B以下、好ましくは、2B以下、より好ましくは、3B以下、さらに好ましくは、4B以下、とりわけ好ましくは、5B以下である。
なお、ハードコート層3の鉛筆硬度は、例えば、10B以上、さらには、9B以上である。
Further, the pencil hardness of the hard coat layer 3 is B or less, preferably 2B or less, more preferably 3B or less, further preferably 4B or less, particularly preferably 5B or less.
In addition, the pencil hardness of the hard coat layer 3 is, for example, 10B or more, and further 9B or more.

ハードコート層3の鉛筆硬度が上記した上限(B)を上回る(B超過)場合には、ハードコート層3の優れた柔軟性を確保することができない。   If the pencil hardness of the hard coat layer 3 exceeds the above upper limit (B) (exceeds B), excellent flexibility of the hard coat layer 3 cannot be secured.

ハードコート層3の鉛筆硬度は、JIS K5600−5−4「ひっかき硬度(鉛筆法)」(1999)に従って、測定される。   The pencil hardness of the hard coat layer 3 is measured according to JIS K5600-5-4 "Scratch hardness (pencil method)" (1999).

ハードコート層3の一方面の算術平均粗さRaは、例えば、1nm以上、好ましくは、3nm以上、より好ましくは、5nm以上であり、また、例えば、20nm以下、好ましくは、14nm以下、より好ましくは、12nm以下である。   Arithmetic average roughness Ra of one surface of hard coat layer 3 is, for example, 1 nm or more, preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, and, for example, 20 nm or less, preferably 14 nm or less, more preferably Is 12 nm or less.

ハードコート層3の一方面の算術平均粗さRaが上記した下限以上であれば、優れたアンチブロッキング性をハードコートフィルム1に付与することができる。   If the arithmetic average roughness Ra of one surface of the hard coat layer 3 is equal to or more than the lower limit, excellent anti-blocking properties can be imparted to the hard coat film 1.

ハードコート層3の一方面の算術平均粗さRaが上記した上限以下であれば、ハードコートフィルム1のヘイズの上昇を抑制し、優れた透明性を確保することができる。   When the arithmetic average roughness Ra of one surface of the hard coat layer 3 is equal to or less than the above upper limit, an increase in haze of the hard coat film 1 can be suppressed, and excellent transparency can be secured.

ハードコート層3の算術平均粗さRaは、JIS B 0601(2013)に従って、測定される。   The arithmetic average roughness Ra of the hard coat layer 3 is measured according to JIS B0601 (2013).

ハードコート層3は、好ましくは、比較的薄い。具体的には、ハードコート層3の厚みは、例えば、10μm未満、好ましくは、9μm以下、より好ましくは、7μm以下、さらに好ましくは、5μm以下、とりわけ好ましくは、3μm以下、もっとも好ましくは、2μm以下である。ハードコート層3の厚みが上記した上限以下であれば、優れた耐屈曲性を確保することができる。   The hard coat layer 3 is preferably relatively thin. Specifically, the thickness of the hard coat layer 3 is, for example, less than 10 μm, preferably 9 μm or less, more preferably 7 μm or less, further preferably 5 μm or less, particularly preferably 3 μm or less, and most preferably 2 μm or less. It is as follows. When the thickness of the hard coat layer 3 is equal to or less than the above upper limit, excellent bending resistance can be ensured.

また、ハードコート層3の厚みは、例えば、0.001μm以上、好ましくは、0.01μm以上、より好ましくは、0.1μm以上、さらに好ましくは、0.5μm以上である。ハードコート層3の厚みが上記した下限以上であれば、ハードコート層3の耐擦傷性を向上させることができる。   The thickness of the hard coat layer 3 is, for example, 0.001 μm or more, preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, and further preferably 0.5 μm or more. When the thickness of the hard coat layer 3 is at least the lower limit described above, the scratch resistance of the hard coat layer 3 can be improved.

ハードコート層3の厚みは、大塚電子社製の瞬間マルチ測光システム「MCPD2000」(商品名)を用いて測定される。   The thickness of the hard coat layer 3 is measured using an instantaneous multi-photometry system “MCPD2000” (trade name) manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.

ハードコートフィルム1のヘイズは、厚み101μmの場合において、例えば、0.5未満、好ましくは、0.40以下、より好ましくは、0.30以下、さらに好ましくは、0.20以下、とりわけ好ましくは、0.15以下であり、通常、0.01以上である。   The haze of the hard coat film 1 is, for example, less than 0.5, preferably 0.40 or less, more preferably 0.30 or less, further preferably 0.20 or less, particularly preferably 0.20 or less in the case of a thickness of 101 μm. , 0.15 or less, and usually 0.01 or more.

ハードコートフィルム1のヘイズが上記した上限を下回れば、ハードコートフィルム1は、透明性に優れる。   If the haze of the hard coat film 1 is less than the above-mentioned upper limit, the hard coat film 1 will be excellent in transparency.

ハードコートフィルム1の厚みは、例えば、150μm以下、好ましくは、125μm以下であり、また、例えば、5μm以上、好ましくは、10μm以上である。   The thickness of the hard coat film 1 is, for example, 150 μm or less, preferably 125 μm or less, and is, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more.

このハードコートフィルム1を製造するには、例えば、まず、透明基材2を用意し、その後、組成物を透明基材2の厚み方向一方面に、例えば、湿式により、配置する。   In order to manufacture the hard coat film 1, for example, first, a transparent substrate 2 is prepared, and then, the composition is disposed on one surface in the thickness direction of the transparent substrate 2 by, for example, a wet method.

具体的には、まず、組成物を溶媒で希釈した塗布液(ワニス)を調製する。予め粒子が樹脂に分散された混合物(市販品)をそのまま塗布液として調製(準備)することができ、あるいは、粒子と樹脂とを混合して、粒子を樹脂中に分散させて調製することもできる。なお、塗布液には、必要により、開始剤を添加することができ、あるいは、予め開始剤が添加された樹脂を用いることもできる。   Specifically, first, a coating solution (varnish) prepared by diluting the composition with a solvent is prepared. A mixture (commercially available) in which particles are dispersed in a resin in advance can be prepared (prepared) as it is as a coating solution, or it can be prepared by mixing particles and a resin and dispersing the particles in the resin. it can. In addition, an initiator can be added to the coating liquid, if necessary, or a resin to which an initiator has been added in advance can be used.

続いて、塗布液(ワニス)を、透明基材2の厚み方向一方面に塗布する。その後、加熱により、溶剤を除去し、続いて、組成物が硬化性樹脂を含む場合には、硬化性樹脂を硬化させる。これにより、粒子が樹脂マトリクスに分散するハードコート層3を形成する。   Subsequently, a coating liquid (varnish) is applied to one surface in the thickness direction of the transparent substrate 2. Thereafter, the solvent is removed by heating, and subsequently, when the composition contains a curable resin, the curable resin is cured. Thereby, the hard coat layer 3 in which the particles are dispersed in the resin matrix is formed.

これによって、ハードコート層3を透明基材2の厚み方向一方面に形成する。   Thereby, the hard coat layer 3 is formed on one surface in the thickness direction of the transparent substrate 2.

これによって、透明基材2およびハードコート層3を備えるハードコートフィルム1を製造する。   Thus, the hard coat film 1 including the transparent substrate 2 and the hard coat layer 3 is manufactured.

このハードコートフィルム1は、各産業用途に用いられ、例えば、透明導電性フィルム、調光フィルムなどの光学用途、さらには、電磁シールド用途などに用いられる。好ましくは、光学用途、より好ましくは、透明導電性フィルムに用いられる。   The hard coat film 1 is used for various industrial uses, for example, for optical uses such as a transparent conductive film and a light control film, and further for electromagnetic shielding. Preferably, it is used for optical applications, and more preferably for transparent conductive films.

次に、ハードコートフィルム1を備える透明導電性フィルム6について図2を参照して説明する。   Next, the transparent conductive film 6 including the hard coat film 1 will be described with reference to FIG.

透明導電性フィルム6は、厚み方向に互いに間隔を隔てて対向配置される一方面および他方面(2つの主面)を有する。透明導電性フィルム6の一方面および他方面は、互いに平行する平坦面である。透明導電性フィルム6は、面方向に延びる略フィルム形状を有する。透明導電性フィルム6は、例えば、光学装置(例えば、画像表示装置、調光装置)に備えられるタッチパネル用基材や調光パネルなどの一部品であり、つまり、光学装置ではない。すなわち、透明導電性フィルム6は、光学装置などを作製するための部品であり、LCDモジュールなどの画像表示素子や、LEDなどの光源を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。   The transparent conductive film 6 has one surface and the other surface (two main surfaces) that face each other at an interval in the thickness direction. One surface and the other surface of the transparent conductive film 6 are flat surfaces parallel to each other. The transparent conductive film 6 has a substantially film shape extending in the plane direction. The transparent conductive film 6 is, for example, one component such as a base material for a touch panel or a light control panel provided in an optical device (for example, an image display device or a light control device), that is, it is not an optical device. That is, the transparent conductive film 6 is a component for producing an optical device or the like, does not include an image display element such as an LCD module, or a light source such as an LED, is distributed as a component alone, and is an industrially usable device. It is.

この透明導電性フィルム6は、ハードコートフィルム1と、光学調整層4と、透明導電層5とを厚み方向一方側に向かって順に備える。具体的には、透明導電性フィルム6は、透明基材2と、ハードコート層3と、光学調整層4と、透明導電層5とを厚み方向一方側に向かって順に備える。好ましくは、透明導電性フィルム6は、透明基材2と、ハードコート層3と、光学調整層4と、透明導電層5とのみからなる。   The transparent conductive film 6 includes the hard coat film 1, the optical adjustment layer 4, and the transparent conductive layer 5 sequentially in the thickness direction. Specifically, the transparent conductive film 6 includes the transparent base material 2, the hard coat layer 3, the optical adjustment layer 4, and the transparent conductive layer 5 sequentially in the thickness direction. Preferably, the transparent conductive film 6 includes only the transparent base material 2, the hard coat layer 3, the optical adjustment layer 4, and the transparent conductive layer 5.

光学調整層4は、透明導電層5が後の工程で配線パターンに形成された後に、非パターン部とパターン部との相違が認識されないように(すなわち、配線パターンの視認を抑制するように)、透明導電性フィルム6の光学物性を調整する層(インデックスマッチング層)である。光学調整層4は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、厚み方向に互いに間隔を隔てて対向配置される一方面および他方面を有する。光学調整層4の材料は、例えば、上記した樹脂(粒子を含有しない)、上記した組成物(粒子を含有する)などが挙げられる。光学調整層4の厚みは、例えば、30nm以上、好ましくは、80nm以上であり、また、例えば、150nm以下、好ましくは、130nm以下である。   After the transparent conductive layer 5 is formed on the wiring pattern in a later step, the optical adjustment layer 4 is formed so that the difference between the non-pattern part and the pattern part is not recognized (that is, the visual recognition of the wiring pattern is suppressed). And a layer (index matching layer) for adjusting the optical properties of the transparent conductive film 6. The optical adjustment layer 4 has a film shape extending in the plane direction, and has one surface and the other surface that are opposed to each other at an interval in the thickness direction. Examples of the material of the optical adjustment layer 4 include the above-described resin (containing no particles) and the above-described composition (containing particles). The thickness of the optical adjustment layer 4 is, for example, 30 nm or more, preferably 80 nm or more, and for example, 150 nm or less, preferably 130 nm or less.

透明導電層5は、後の工程で配線パターンに形成して、パターン部を形成するための導電層である。透明導電層5は、透明導電性フィルム6の厚み方向一方面を形成する。透明導電層5は、面方向に延びるフィルム形状(シート形状を含む)を有しており、厚み方向に互いに間隔を隔てて対向配置される一方面および他方面を有する。   The transparent conductive layer 5 is a conductive layer for forming a wiring pattern in a later step to form a pattern portion. The transparent conductive layer 5 forms one surface in the thickness direction of the transparent conductive film 6. The transparent conductive layer 5 has a film shape (including a sheet shape) extending in the surface direction, and has one surface and the other surface arranged to face each other at an interval in the thickness direction.

透明導電層5の材料としては、例えば、In、Sn、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Cu、Pd、Wからなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープすることができる。材料としては、好ましくは、インジウムスズ複合酸化物(ITO)、アンチモンスズ複合酸化物(ATO)などが挙げられる。   As the material of the transparent conductive layer 5, for example, at least one selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, and W Metal oxide containing the metal of the formula The metal oxide can be further doped with a metal atom shown in the above group, if necessary. Preferably, the material includes indium tin composite oxide (ITO), antimony tin composite oxide (ATO), and the like.

透明導電層5の厚みは、例えば、10nm以上、好ましくは、20nm以上であり、また、例えば、35nm以下、好ましくは、30nm以下である。   The thickness of the transparent conductive layer 5 is, for example, 10 nm or more, preferably 20 nm or more, and is, for example, 35 nm or less, preferably 30 nm or less.

透明導電性フィルム6の厚みは、例えば、150μm以下、好ましくは、125μm以下であり、また、例えば、5μm以上、好ましくは、10μm以上である。   The thickness of the transparent conductive film 6 is, for example, 150 μm or less, preferably 125 μm or less, and is, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more.

透明導電性フィルム6を製造するには、上記したハードコートフィルム1のハードコート層3の厚み方向一方面に、光学調整層4および透明導電層5を公知の方法により順に配置する。   In order to manufacture the transparent conductive film 6, the optical adjustment layer 4 and the transparent conductive layer 5 are sequentially arranged on one surface in the thickness direction of the hard coat layer 3 of the hard coat film 1 by a known method.

そして、このハードコートフィルム1および透明導電性フィルム6では、ハードコート層3の硬さが、0.320GPa以上であるので、優れた耐擦傷性を確保することができる。   In the hard coat film 1 and the transparent conductive film 6, the hardness of the hard coat layer 3 is 0.320 GPa or more, so that excellent scratch resistance can be secured.

また、ハードコート層3の硬さが、0.520GPa以下であるので、優れた耐屈曲性を確保することができる。   Further, since the hardness of the hard coat layer 3 is 0.520 GPa or less, excellent bending resistance can be secured.

さらに、ハードコート層3の鉛筆硬度は、B以下であるので、優れた耐屈曲性および耐擦傷性を有しながら、柔軟性を確保することができる。   Furthermore, since the pencil hardness of the hard coat layer 3 is B or less, flexibility can be secured while having excellent bending resistance and scratch resistance.

また、ハードコート層3の厚みが、3μm以下であれば、優れた耐屈曲性を確保することができる。   If the thickness of the hard coat layer 3 is 3 μm or less, excellent bending resistance can be ensured.

また、ハードコート層3の算術平均粗さRaが、3nm以上、14nm以下であれば、優れたアンチブロッキング性をハードコートフィルム1に付与できながら、ハードコートフィルム1の優れた透明性を確保することができる。   When the arithmetic average roughness Ra of the hard coat layer 3 is 3 nm or more and 14 nm or less, excellent anti-blocking properties can be imparted to the hard coat film 1 while ensuring excellent transparency of the hard coat film 1. be able to.

透明基材2の材料が、COPであれば、透明基材2は、光学特性に優れる一方、機械強度が低くなる(割れ易くなる)が、このハードコートフィルム1は、上記した硬さおよび鉛筆硬度を有するハードコート層3を備えるので、ハードコートフィルム1におけるハードコート層3の機械強度の大きな低下(割れの発生)を抑制できる。   When the material of the transparent substrate 2 is COP, the transparent substrate 2 has excellent optical properties, but has low mechanical strength (easy to be cracked). Since the hard coat layer 3 having hardness is provided, it is possible to suppress a large decrease in the mechanical strength of the hard coat layer 3 (the occurrence of cracks) in the hard coat film 1.

変形例
以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、一実施形態および変形例を適宜組み合わせることができる。
Modified Examples In the following modified examples, the same members and steps as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In addition, each modified example can achieve the same operation and effect as those of the embodiment except for special mention. Further, one embodiment and a modified example can be appropriately combined.

図1に示す一実施形態では、ハードコートフィルム1は、透明基材2の一方面のみに配置されたハードコート層3を備える。しかし、ハードコート層3の配置は上記に限定されず、例えば、図示しないが、透明基材2の一方面および他方面(2つの主面)の両面に配置されるハードコート層3を備えることもできる。   In one embodiment shown in FIG. 1, the hard coat film 1 includes a hard coat layer 3 disposed on only one surface of the transparent substrate 2. However, the arrangement of the hard coat layer 3 is not limited to the above. For example, although not shown, the hard coat layer 3 includes the hard coat layer 3 disposed on both one surface and the other surface (two main surfaces) of the transparent substrate 2. You can also.

図2に示す一実施形態では、透明導電性フィルム6は、透明基材2の厚み方向一方側のみに配置されたハードコート層3、光学調整層4および透明導電層5を備えるが、ハードコート層3、光学調整層4および透明導電層5の配置は上記に限定されず、例えば、透明基材2の厚み方向一方側および他方側の両側に、それぞれ順に配置されるハードコート層3、光学調整層4および透明導電層5を備えることもできる。   In one embodiment shown in FIG. 2, the transparent conductive film 6 includes the hard coat layer 3, the optical adjustment layer 4, and the transparent conductive layer 5 disposed only on one side in the thickness direction of the transparent substrate 2. The arrangement of the layer 3, the optical adjustment layer 4, and the transparent conductive layer 5 is not limited to the above. For example, the hard coat layer 3 and the optical An adjustment layer 4 and a transparent conductive layer 5 can also be provided.

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合(割合)、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合(割合)、物性値、パラメータなど該当記載の上限(「以下」、「未満」として定義されている数値)または下限(「以上」、「超過」として定義されている数値)に代替することができる。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. In addition, this invention is not limited to an Example and a comparative example at all. Specific numerical values such as the mixing ratio (ratio), physical property values, and parameters used in the following description are the mixing ratios (ratio) corresponding to those described in the above “Embodiment of the Invention”. ), Physical properties, parameters, etc., can be replaced by the upper limit (numerical values defined as “less than” or “less than”) or the lower limit (numerical values defined as “more than” or “exceeding”).

実施例1
透明基材2として100μmの厚さのCOPフィルム(ZEONOR ZF−16、日本ゼオン社製)を用意した。
Example 1
A COP film (ZEONOR ZF-16, manufactured by Zeon Corporation) having a thickness of 100 μm was prepared as the transparent substrate 2.

続いて、表1に記載の処方に従って調製した塗布液(組成物)を、ワイヤーバー#6を用いて、透明基材2の一方面に塗布し、その後、80℃1分の加熱で溶媒を除去した後、230mJ/cmの積算光量で光硬化させて、ハードコート層3を形成した。なお、表1に記載の各成分の詳細を、表2に記載する。 Subsequently, a coating solution (composition) prepared according to the formulation shown in Table 1 was applied to one surface of the transparent substrate 2 using a wire bar # 6, and then the solvent was heated at 80 ° C. for 1 minute. After the removal, photo-curing was performed with an integrated light amount of 230 mJ / cm 2 to form a hard coat layer 3. In addition, the details of each component described in Table 1 are described in Table 2.

これにより、透明基材2およびハードコート層3を備えるハードコートフィルム1を製造した。   Thus, a hard coat film 1 including the transparent substrate 2 and the hard coat layer 3 was manufactured.

実施例2〜比較例2
表1に記載の処方に従って塗布液(組成物)を変更した以外は、実施例1と同様にして、ハードコート層3を形成した。
Example 2 to Comparative Example 2
The hard coat layer 3 was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating solution (composition) was changed according to the formulation shown in Table 1.

<評価>
下記の項目を評価し、その結果、表3に記載する。
<Evaluation>
The following items were evaluated and the results are shown in Table 3.

厚み
ハードコート層3の厚みを、MCPD2000(大塚電子(株)製)を用いて測定した。
Thickness The thickness of the hard coat layer 3 was measured using MCPD2000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).

硬さ
ナノインデンテーション法によって、ハードコート層3の硬さを測定した。
Hardness The hardness of the hard coat layer 3 was measured by a nanoindentation method.

ナノインデンテーション法では、ナノインデンター(探針、圧子)をハードコート層3の一方面に押し込み、これにより得られる変位―荷重ヒステリシス曲線を、測定装置付帯のソフトウェア(triboscan)で数値処理することで押込み硬さを得た。   In the nanoindentation method, a nanoindenter (probe, indenter) is pushed into one surface of the hard coat layer 3, and a displacement-load hysteresis curve obtained by this is numerically processed by software (triboscan) attached to the measuring device. To obtain indentation hardness.

ナノインデンター装置および測定条件は下記の通りである。
ナノインデンター装置:「Tribo Indenter」、Hysitron Inc社製
測定方法:単一押込み法
押込み速度:60μN/秒
最大押込み力:300μN
最大押込み力保持時間:2秒
探針:三角錐型(バーコビッチ型)
温度:23℃
押し込み深さ:ハードコート層3の厚みの1/10
鉛筆硬度
ハードコート層3の鉛筆硬度を、JIS K5600−5−4「ひっかき硬度(鉛筆法)」(1999)に従って、測定した。
The nano indenter device and measurement conditions are as follows.
Nano indenter device: "Tribo Indenter", manufactured by Hysitron Inc. Measurement method: Single indentation method Indentation speed: 60 μN / sec Maximum indentation force: 300 μN
Maximum pushing force holding time: 2 seconds Tip: triangular pyramid type (Birkovich type)
Temperature: 23 ° C
Indentation depth: 1/10 of the thickness of the hard coat layer 3
Pencil hardness The pencil hardness of the hard coat layer 3 was measured according to JIS K5600-5-4 "Scratch hardness (pencil method)" (1999).

算術平均粗さRa
ハードコート層3の算術平均粗さRaを、JIS B 0601(2013)に従って、測定した。
Arithmetic mean roughness Ra
The arithmetic average roughness Ra of the hard coat layer 3 was measured according to JIS B0601 (2013).

アンチブロッキング性
ハードコート層3の表面に、別の透明基材(ZEONOR ZF−16、日本ゼオン社製)を指圧で圧着させ、別の透明基材のハードコート層3に対する張り付き(アンチブロッキング性)を以下の通りに、評価した。
○: 別の透明基材のハードコート層3に対する張り付きが起こらなかった。
△: 別の透明基材は、ハードコート層3に一旦貼りつくが、10秒経過するとハードコート層3から離れた。
×: 別の透明基材は、ハードコート層3に対して張り付き、その後、10秒経過しても、ハードコート層3から離れなかった。
Anti-blocking property Another transparent substrate (ZEONOR ZF-16, manufactured by Zeon Corporation) is pressed on the surface of the hard coat layer 3 by finger pressure, and another transparent substrate is stuck to the hard coat layer 3 (anti-blocking property). Was evaluated as follows.
:: No sticking of another transparent substrate to the hard coat layer 3 occurred.
Δ: Another transparent substrate once adhered to the hard coat layer 3, but separated from the hard coat layer 3 after 10 seconds.
×: Another transparent substrate was stuck to the hard coat layer 3 and did not separate from the hard coat layer 3 even after 10 seconds.

ヘイズ
ハードコートフィルム1(厚み101μm)のヘイズをヘイズメータ(HM−150、村上色彩技術研究所社製)により測定した。
Haze The haze of the hard coat film 1 (thickness: 101 μm) was measured by a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory).

耐屈曲性
ハードコートフィルム1の耐屈曲性を180度折り曲げ試験により評価した。評価基準は、以下の通りである。
○:ハードコートフィルム1を180度折り曲げても破断しなかった
×:ハードコートフィルム1を180度折り曲げると破断した
耐擦傷性
ハードコートフィルム1の厚み方向一方面を、100gのスチールウールで10往復摺擦するこによって、ハードコートフィルム1の耐擦傷性を評価した。
評価基準は、以下の通りである。
○:傷10本未満しか観察されなかった
×:傷10本以上観察された
Flex resistance The flex resistance of the hard coat film 1 was evaluated by a 180-degree bending test. The evaluation criteria are as follows.
:: Hard coat film 1 was not broken even when bent at 180 degrees. X: Hard coat film 1 was broken when bent at 180 degrees. Scratch resistance One side in the thickness direction of hard coat film 1 was reciprocated 10 times with 100 g of steel wool. The abrasion resistance of the hard coat film 1 was evaluated by rubbing.
The evaluation criteria are as follows.
:: Less than 10 scratches observed ×: 10 or more scratches observed

Figure 2019215408
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Figure 2019215408
Figure 2019215408

Figure 2019215408
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1 ハードコートフィルム
2 透明基材
3 ハードコート層
4 光学調整層
5 透明導電層
6 透明導電性フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hard-coat film 2 Transparent base material 3 Hard-coat layer 4 Optical adjustment layer 5 Transparent conductive layer 6 Transparent conductive film

Claims (5)

透明基材と、ハードコート層とを厚み方向に順に備え、
前記ハードコート層は、樹脂マトリックスおよび粒子を含み、
ナノインデンテーション法で測定される前記ハードコート層の硬さが、0.320GPa以上、0.520GPa以下であり、
前記ハードコート層の鉛筆硬度が、B以下であることを特徴とする、ハードコートフィルム。
A transparent substrate and a hard coat layer are sequentially provided in the thickness direction,
The hard coat layer includes a resin matrix and particles,
The hardness of the hard coat layer measured by a nanoindentation method is 0.320 GPa or more and 0.520 GPa or less,
A hard coat film, wherein the hard coat layer has a pencil hardness of B or less.
前記ハードコート層の厚みが、3μm以下であることを特徴とする、請求項1に記載のハードコートフィルム。   The hard coat film according to claim 1, wherein the thickness of the hard coat layer is 3 µm or less. 前記ハードコート層の算術平均粗さRaが、3nm以上、14nm以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載のハードコートフィルム。   The hard coat film according to claim 1, wherein the arithmetic average roughness Ra of the hard coat layer is 3 nm or more and 14 nm or less. 前記透明基材の材料が、シクロオレフィンポリマーであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のハードコートフィルム。   The hard coat film according to any one of claims 1 to 3, wherein the material of the transparent substrate is a cycloolefin polymer. 請求項1〜4のいずれか一項に記載のハードコートフィルムと、光学調整層と、透明導電層とを厚み方向に順に備えることを特徴とする、透明導電性フィルム。
A transparent conductive film, comprising: the hard coat film according to claim 1, an optical adjustment layer, and a transparent conductive layer in the thickness direction.
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