JP2019197129A - 光源装置、光源装置を用いたプロジェクター、光源装置の制御方法およびプログラム - Google Patents

光源装置、光源装置を用いたプロジェクター、光源装置の制御方法およびプログラム Download PDF

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Abstract

【課題】光集塵効果による影響を十分に抑制する。【解決手段】レーザー光を射出する複数の光源を備え、各光源の射出光が平行光束として射出される光源部150と、光源部150から射出された平行光束の径を縮小する、複数のレンズからなる光学系400と、複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる回転部300と、を備える。【選択図】図1

Description

本発明は、光源装置、光源装置を用いたプロジェクター、光源装置の制御方法およびプログラムに関するものである。
今日、パーソナルコンピュータの画面に表示される映像や画像、さらにカメラなどの撮像機器で撮像された画像等をスクリーン上に投写する画像投写装置の一例としてプロジェクターが用いられている。このプロジェクターは、光源、レンズ、および特定の波長の光を反射し、その他の波長の光を透過するダイクロイックミラーなどの光学素子を含む光源装置を内蔵する。
そして、プロジェクターは、光源装置の光源から射出された光をDMD(Digital Micromirror Device)と呼ばれるマイクロミラー・デバイスを表示素子として使用し、スクリーン上にカラー画像を投写するものである。
プロジェクターは、近年、レーザーダイオード(LD:Laser Diode)等の固体発光素子を用いる開発がなされており、多くの提案がなされている。
レーザーダイオードをプロジェクターの光源として使用する場合、レーザーダイオード単体では発光量が少ないため、所望の輝度を得ることができない。そこで、光源として複数のレーザーダイオードを配置し、複数のレーザーダイオードが射出するレーザー光を合成して使用する場合がある。
ところで、表示素子へ光を投写する照明光学系においては、光源の発光面積と放射角とで決まるエテンデューという制限を考慮する必要がある。すなわち、複数のレーザーダイオードが射出するレーザー光を合成して使用する場合、光束の空間的な広がりが増大し、発光面積が増加するため、エテンデューの値が大きくなる。その結果、不要光が増加し、光の利用効率が低下するため、高輝度な画像表示を実現することができなくなる。
そのため、高輝度が求められているプロジェクターでは、上記したエテンデューの値を小さくするため、各レーザーダイオードから射出されたレーザー光の合成方法を工夫している。すなわち、光源の発光面積(光束)を小さくし、平行度を高めて(放射角を小さくして)レンズ等の光学部材に射出することとしている。
特開2015−090490号公報
発光面積が小さく、平行度の高いレーザーダイオードから射出される光は、エネルギー密度が非常に高い光である。このため、当該光が射出する光源装置内の光路に配置される各種の光学部材の表面に、周囲の塵埃が付着する光集塵効果と呼ばれる現象が生じ易くなる。特に、エネルギー密度が高いレーザーダイオードから射出される光では、この光集塵効果が大きく作用する。
レーザー光を合成することで、発光面積(光束)を小さくする構成においては、エネルギー密度がより高いものとなり、光集塵効果がより一層生じ易くなる。そのため、レンズ等の光学部材に、周囲の塵埃がより多く付着することになる。例えば、レンズにおいて光が透過する有効領域内に塵埃が付着すると、レンズの透過率が低下する。その結果、光源装置から照射される光の照度が低下し、スクリーン上に投写される画像の輝度が低下してしまうという問題が生じる。
特許文献1には、照明装置を構成する光源ユニットにおいて、前段シリンドリカルレンズと、シリンドリカルレンズとの少なくとも一方を、所定の方向に移動させる光源装置が開示されている。そして、特許文献1に開示された光源装置では、各シリンドリカルレンズに対する光の入射位置を変化させることで、光の光軸上に光集塵の影響を受けていない、汚れていないレンズ部分を配置している。これにより、レーザーダイオード(光源部)の射出光を平行光にするために用いられるシリンドリカルレンズに付着する塵埃に伴って発生する照度低下を抑制することとしている。
しかしながら、シリンドリカルレンズの後段に配置される光学部材(例えば、光束径を縮小する光学系など)も、光集塵の影響を受ける。このため、特許文献1に開示された技術では、光集塵効果による照度低下を十分に抑制することは困難である。
本発明の目的は、光集塵効果による影響を十分に抑制することが可能な光源装置、光源装置を用いたプロジェクター、光源装置の制御方法およびプログラムを提供することである。
本発明の光源装置は、レーザー光を射出する複数の光源を備え、各光源の射出光が平行光束として射出される光源部と、前記光源部から射出された平行光束の径を縮小する、複数のレンズからなる光学系と、前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる回転手段と、を有する。
また、本発明の光源装置の制御方法は、レーザー光を射出する複数の光源を備え、各光源の射出光が平行光束として射出される光源部と、前記光源部から射出された平行光束の径を縮小する、複数のレンズからなる光学系と、前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる回転手段と、前記レンズに対して前記平行光束が射出されてから所定時間が経過したことを計時する計時手段と、を備えた光源装置の制御方法であって、前記所定時間が経過する度に、前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる。
さらに、本発明の光源装置に実行させるためのプログラムは、レーザー光を射出する複数の光源を備え、各光源の射出光が平行光束として射出される光源部と、前記光源部から射出された平行光束の径を縮小する、複数のレンズからなる光学系と、前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる回転手段と、前記レンズに対して前記平行光束が射出されてから所定時間が経過したことを計時する計時手段と、を備えた光源装置のコンピュータに、前記所定時間が経過する度に、前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる処理を実行させる。
本発明によれば、光集塵効果による影響を十分に抑制することが可能な光源装置、光源装置を用いたプロジェクター、光源装置の制御方法およびプログラムを得ることができる。
本発明の第1実施形態による光源装置の概略構成を説明する模式図である。 第2実施形態による光源装置の概略構成を説明する模式図である。 第2実施形態の光源装置を構成する蛍光体ホイールの構成について説明する模式図である。 第2実施形態の光源装置を構成するカラーホイールの構成について説明する模式図である。 第2実施形態の光源装置において、レンズの出射面から見た複数のレーザー光の照射位置を説明するための模式図である。 第2実施形態の光源装置において、レンズに塵埃が付着した場合、レンズを回転することでレンズに塵埃が付着していない位置にレーザー光の照射位置を合わせることを説明する模式図である。 第2実施形態の光源装置の動作について説明するフローチャートである。
次に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
(第1実施形態)
初めに、本発明の第1実施形態による光源装置の概略構成を説明する。図1は、第1実施形態による光源装置の概略構成を説明する模式図である。
図1に示すように、本実施形態の光源装置200は、光源部150と、光学系400と、回転部300とを有する。
光源部150は、レーザー光を射出するものである。光源部150は、具体的には、レーザーダイオードと、レーザーダイオードから出力される青色レーザー光を平行光に変換するコリメートレンズとから構成される。
光学系400は、レーザー光が平行光に変換されて射出すると、平行光の光束の各々の径を縮小して複数の平行光束に変換する。光学系400は、具体的には、複数のレンズを有する縮小光学系で構成される。
回転部300は、光学系400の少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる。レンズの光軸を回転軸として回転することで、レンズ上における複数の平行光束の各々の照射位置を変えている。
このような構成を採用することで、光源部150から射出されるレーザー光が、光学系400上に塵埃が付着していない箇所に射出されることになる。その結果、光集塵効果に基づく照度低下を抑制することができるのである。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態による光源装置の概略構成を説明する。図2は、第2実施形態による光源装置の概略構成を説明する模式図である。
図2に示すように、本実施形態の光源装置250は、レーザーダイオード10、20と、ストライプミラー30と、縮小光学系40と、ミラー50と、拡散板60と、偏光ダイクロックミラー90と、1/4波長板70とを有する。また、光源装置250は、蛍光体ホイール80と、カラーホイール85と、ライトトンネル95と、レンズ4、5、6、7とを有する。さらに、光源装置250は、回転機構41、42、43と、制御部44と、タイマー45とを有する。そして、縮小光学系40は、レンズ1、2、3を有する。
レーザーダイオード10、20は、青色の波長域にピーク波長を有し、青色光を出力する半導体素子の青色レーザーダイオード(以下、青色LDともいう。)が光源として用いられる。各青色LDからは、例えばS偏光の青色レーザー光が出力される。そして、各青色LDから出力された青色レーザー光を平行光に変換するコリメートレンズが、青色LD毎に設けられている。
レンズ1、2、3は、平行光に変換されて入射する複数の青色レーザー光(入射光束)の各々を、光束径(発光面積)を縮小した複数の平行光束に変換する。レンズ1、2を順次透過することで、レンズ3から出射する光束の径をレンズ1に入射する光束の径よりも小さくすることで、縮小光学系40以降に配置される光学部材のサイズを小さくすることができる。なお、図1では、縮小光学系40として、3つのレンズ1、2、3を用いる例を示しているが、レンズの数は3つに限定されるものではなく、必要に応じて増減してもよい。また、各青色レーザー光の光軸は、レンズ1、2、3の中心(光軸)と一致しないことが望ましい。また、各青色レーザー光を統合した光束の中心を通る直線を光軸と見做すと、この光軸は、レンズ1、2、3の中心(光軸)と一致していることが望ましい。
本実施形態において、縮小光学系40のレンズの数を3つにしたのは、以下に述べる理由によるものである。レンズの数が少ない方が、レンズにおける光の反射などを要因とする光量の損失を防ぐことができるという利点がある。他方、レンズの数が少な過ぎると、光束を小さくするためにレンズ間の距離を大きくしなければならないという欠点がある。したがって、レンズの数は、光源装置250を使用する条件に応じて任意とすることができる。例えば、レンズの数を2個または4個以上とすることも可能である。しかしながら、レンズの数を1個とすることはできない。
本実施形態における縮小光学系40では、アフォーカル光学系を採用している。アフォーカル光学系とは、光軸上で第1のレンズの後側の焦点と、第2のレンズの前側の焦点とを一致させた構成であり、平行光束がこれらのレンズを通った後、再び平行光束となる光学系である。
本実施形態では、レーザーダイオード10、20からそれぞれ射出される平行光をレンズ1とレンズ2とを用いて集光し、さらに、集光した光束を、レンズ3を用いて平行光束に変換している。このような構成において、レンズ1〜3の各々の入射面上での光密度は、レンズ1<レンズ2<レンズ3の関係にある。
本実施形態の光源装置250は、青色レーザー光を射出する複数のレーザーダイオード10、20を備えている。そして、レーザーダイオード10とレーザーダイオード20とから射出する各青色レーザー光のレンズ1、2、3における入射位置は、後述するようにレンズ1、2、3の中心を軸として回転させたときに、各レンズ上において、各青色レーザー光の入射位置が重ならないように配置することが好ましい。この点については後述する。
本実施形態では、レーザーダイオード10、20から射出される各青色レーザー光の射出方向が直交するように、レーザーダイオード10とレーザーダイオード20とを配置している。ストライプミラー30は、青色レーザー光を透過させる複数のストライプ状の透過面と青色レーザー光を反射する複数のストライプ状の反射面とを有する。ストライプ状の透過面とストライプ状の反射面とは交互に配置されている。
ストライプミラー30の反射面にレーザーダイオード10から射出する青色レーザー光が入射する。ストライプミラー30の透過面にレーザーダイオード20から射出する青色レーザー光が入射する。ストライプミラー30は、レーザーダイオード10から射出する青色レーザー光を、レンズ1の方向へ反射し、レーザーダイオード20から射出する青色レーザー光を、レンズ1の方向へ透過する。これにより、ストライプミラー30は、レーザーダイオード10とレーザーダイオード20とから出力された各青色レーザー光を合成する。ストライプミラー30で合成された青色レーザー光は、レンズ1に入射する。
縮小光学系40は、レーザーダイオード10、20が射出する青色レーザー光の光束径を縮小させるレンズ1〜3から構成されている。回転機構41は、レンズ1の中心を通る直線(光軸)を軸としてレンズ1を回転させる機構である。回転機構42は、レンズ2の中心を通る直線(光軸)を軸としてレンズ2を回転させる機構である。回転機構43は、レンズ3の中心を通る直線(光軸)を軸としてレンズ3を回転させる機構である。これらの回転機構41〜43については後述する。
レンズ1〜3は、レーザーダイオード10、20からストライプミラー30を介して入射され各青色レーザー光(入射光束)の光束径を縮小し、平行光束に変換する。縮小光学系40から出射する光束の径は、縮小光学系40に入射する入射光束の径よりも小さい。
レンズ1〜3を用いて変換された平行光は、ミラー50を用いて光路が変更されて拡散板60に入射する。ミラー50を用いて光路が変更された平行光は、拡散板60を用いて拡散される。拡散板60を用いて拡散された平行光は、偏光ダイクロイックミラー90に入射する。
偏光ダイクロイックミラー90は、S偏光の光を反射し、P偏光の光を透過する特性と、偏光成分を有しない光に対して、少なくとも緑色波長域以上の光を透過する特性とを有する。偏光ダイクロイックミラー90は、拡散板60を用いて拡散されて入射したS偏光の青色レーザー光を蛍光体ホイール80の方向へ反射する。偏光ダイクロイックミラー90と蛍光体ホイール80との間の光路上には、レンズ4、1/4波長板70、およびレンズ5が配置されている。
ここで、本実施形態の光源装置を構成する蛍光体ホイールの構成について説明する。図3は、本実施形態の光源装置を構成する蛍光体ホイールの構成について説明する模式図である。
蛍光体ホイール80は、円形状の基板の円周上に、青色レーザー光を励起光として黄色の蛍光を発光する蛍光体が設けられた蛍光体部81と、青色レーザー光を反射する反射膜(鏡)が設けられたミラー部82とを有している。蛍光体部81およびミラー部82は、蛍光体ホイール80の円周方向に沿って並ぶように配置されている。蛍光体部81およびミラー部82の円周方向における面積の割合(円周方向の分割比)は、光源装置250の出力光に含まれる黄色光、赤色光、緑色光および青色光の光強度のバランスに応じて適宜設定される。蛍光体ホイール80は、図示しないモータなどの駆動手段を用いて円周方向に回転する。
図2に戻り、1/4波長板70は、入射光の2つの偏光成分にλ/4(90°)の位相差を与えるものであって、直線偏光を円偏光に変換し、円偏光を直線偏光に変換する。そのため、偏光ダイクロイックミラー90で反射されたS偏光で入射する青色レーザー光は、レンズ4を透過し、1/4波長板70を透過することで円偏光に変換される。レンズ5は、1/4波長板70を透過した青色レーザー光(円偏光)を蛍光体ホイール80の蛍光体部81上に集光する。
このとき、図示しないモータなどの駆動手段を用いて蛍光体ホイール80を円周方向に回転することで、レンズ5を透過した青色レーザー光(円偏光)が、図3に示す蛍光体ホイール80の蛍光体部81およびミラー部82に順次入射する。蛍光体部81は、青色レーザー光(円偏光)を用いて励起され、黄色の蛍光(非偏光)を発光する。ミラー部82は、入射した青色レーザー光(円偏光)を、レンズ5の方向へ反射する。
蛍光体部81から発光される黄色の蛍光(非偏光)と、ミラー部82で反射される青色レーザー光(円偏光)とは、レンズ5および1/4波長板70並びにレンズ4を順次透過して偏光ダイクロイックミラー90に入射する。レンズ5およびレンズ4は、蛍光体ホイール80から発光される光が平行光となるレンズ構成であればよく、必要に応じて増減してもよい。
ここで、蛍光体ホイール80のミラー部82で反射される青色レーザー光(円偏光)は、1/4波長板70を通過することで、直線偏光(P偏光)に変換される。P偏光に変換された青色レーザー光は、偏光ダイクロイックミラー90に入射する。蛍光体ホイール80の蛍光体部81で発光される黄色の蛍光は、振動方向がランダムな偏光(非偏光)であるため、1/4波長板70を通過する。
偏光ダイクロイックミラー90は、黄色の蛍光を透過させ、偏光方向がP偏光で入射する青色レーザー光を透過させる。したがって、1/4波長板70を通過した黄色の蛍光(非偏光)と青色レーザー光(P偏光)とは、偏光ダイクロイックミラー90を透過し、レンズ6、7を用いて集光され、カラーホイール85に入射する。
偏光ダイクロイックミラー90を透過したP偏光の青色レーザー光と、蛍光体ホイールの蛍光体部81で発光した黄色の蛍光とは、レンズ6、レンズ7、カラーホイール85、およびライトトンネル95を経て、光源装置250の外部に出力される。
ここで、本実施形態の光源装置を構成するカラーホイールの構成について説明する。図4は、本実施形態の光源装置を構成するカラーホイールの構成について説明する模式図である。カラーホイール85は、円形状の基板の円周上に、照射光を色分離する各セグメント(フィルター)と、青色透過用拡散板89と、カラーホイール85を円周方向に回転させる図示しないモータなどの駆動手段とを有している。図5に示すように、カラーホイール85は、黄色透過フィルター88と、赤色透過フィルター87と、緑色透過フィルター86と、青色透過用拡散板89とを有する。緑色透過フィルター86、赤色透過フィルター87、黄色透過フィルター88および青色透過用拡散板89は、カラーホイール85の円周に沿って並ぶように配置されている。
カラーホイール85の緑色透過フィルター86、赤色透過フィルター87および黄色透過フィルター88の領域は、図3に示した蛍光体ホイール80の蛍光体部81に対応する。カラーホイール85の青色透過用拡散板89の領域は、図3に示した蛍光体ホイール80のミラー部82に対応する。蛍光体ホイール80およびカラーホイール85は、互いに同期して回転するように制御される。蛍光体ホイール80の蛍光体部81が発する黄色の蛍光は、緑色成分および赤色成分、並びにこれらを混色した黄色成分の光を含む。そのため、緑色成分の光がカラーホイール85の緑色透過フィルター86を透過し、赤色成分の光が赤色透過フィルター87を透過し、黄色成分の光が黄色透過フィルター88を透過する。蛍光体ホイール80のミラー部82で反射される青色レーザー光は、カラーホイール85の青色透過用拡散板89を用いて拡散され出力される。青色透過用拡散板89を用いた青色レーザー光の拡散角は、必要に応じて適宜変更可能である。
図2に戻り、光源装置250が備えるカラーホイール85を通過した黄色光、赤色光、緑色光および青色光は、ライトトンネル95に入射する。ライトトンネル95は、内部が中空のトンネル形状であり、内部の円筒面にミラーを有している。ライトトンネル95は、カラーホイール85から入射した光線を複数回内部の円筒面で繰り返し全反射させることで輝度分布が均一化された照度分布の光線を出射することができる。
上記したように、本実施形態の光源装置250は、レンズ1の中心を軸としてレンズ1を回転させる回転機構41と、レンズ2の中心を軸として回転させる回転機構42と、レンズ3の中心を軸として回転させる回転機構43とを有している。そして、回転機構41〜43のうち、どの回転機構を用いてレンズ1〜3を回転するかを制御する制御部44と、回転機構41〜43を回転させるタイミング(周期)を計時するタイマー45とを有している。なお、図2では、レンズ1を回転する回転機構41、レンズ2を回転する回転機構2、およびレンズ3を回転する回転機構43をすべて備えた構成を示しているが、回転機構は、回転を必要とするレンズに対してのみ設けることとし、回転を必要としないレンズに対しては設けないこととすることも可能である。
そして、回転機構41〜43の一例として、レンズ1〜3の外周部を固定する固定部と、該固定部を回転させるモータとからなる構成が挙げられるが、レンズ1〜3の中心を軸として回転させる機構であれば、どのような構成であってもよい。
本実施形態の光源装置250は、縮小光学系40を構成するレンズ1、レンズ2、およびレンズ3を使用してレーザーダイオード10、20が射出する青色レーザー光の光束(発光面積)を、段階的に小さくなるようにしている。この場合、光束が小さくなることに伴い、エネルギー密度がより高くなるため、光集塵効果がより一層生じ易くなる。そして、この光集塵効果は、レンズ1〜3のうち、青色レーザー光が通過する部分に集中して発生し、塵埃も集中して付着する。換言すれば、レンズ1〜3のうち、青色レーザー光が通過しない部分には、光集塵効果は発生しないのである。このため、光源装置250を起動し、青色レーザー光が一定時間、レンズ1〜3に入射すると、レンズ1〜3上の青色レーザー光の照射位置に塵埃が付着することになる。
そこで、本実施形態では、青色レーザー光が所定時間、レンズ1〜3に入射した時点で、レンズ1〜3を所定角度回転させることとしている。これにより、レンズ1〜3において塵埃が付着した位置に青色レーザー光が入射し続けることを避け、レンズ1〜3において塵埃が付着していない位置に青色レーザー光を入射することとしている。
次に、本実施形態の光源装置において、レンズの出射面から見た複数のレーザー光の照射位置について説明する。図5は、本実施形態の光源装置において、レンズの出射面から見た複数のレーザー光の照射位置を説明するための模式図である。
本実施形態では、レーザーダイオード10、20からそれぞれ射出される青色レーザー光のレンズ上の照射位置が、レーザーダイオード10とレーザーダイオード20との間で重ならないように配置することとしている。これは以下の理由に基づくものである。
第1の理由は、レーザーダイオード10、20からそれぞれ射出される青色レーザー光が、レンズ1〜3上の同一位置に入射すると、当該位置にエネルギー密度が集中する。その結果、より多くの塵埃が短時間に付着してしまうことになり、これを防止するためである。
第2の理由は、レーザーダイオード10、20からそれぞれ射出される青色レーザー光が、レンズ1〜3上の同一位置に入射すると、当該位置により多くの塵埃が付着する。その後、レンズを回転させることで、青色レーザー光のレンズ1〜3上の照射位置を、レンズに塵埃が付着していない位置に移動させた場合、レンズの回転前後で照度変化が大きくなることになり、これを防止するためである。
本実施形態では、図5に示すように、レンズ1〜3の出射面から見たとき、レーザーダイオード10から射出される青色レーザー光のレンズ上の格子状の照射位置(◆印)101の四隅の中心に、レーザーダイオード20から射出される青色レーザー光のレンズ上の格子状の照射位置(●印)201の一点が位置するように配置する。なお、図5に示すレーザーダイオード10、20から射出されるレンズ1〜3の出射面から見た照射位置は一例であって、両レーザーダイオード10、20から射出される照射位置が重ならなければ、どのような配置であってもよい。
次に、本実施形態の光源装置において、レンズに塵埃が付着した場合、レンズを回転することでレンズに塵埃が付着していない位置にレーザー光の照射位置を合わせることについて説明する。図6は、第2実施形態の光源装置において、レンズに塵埃が付着した場合、レンズを回転することでレンズに塵埃が付着していない位置にレーザー光の照射位置を合わせることを説明する模式図である。
図6において、レンズ1〜3の出射面から見たとき、レーザーダイオード10の青色レーザー光がレンズ上の照射位置(◆印)110に照射され、レーザーダイオード20の青色レーザー光がレンズ上の照射位置(●印)210に照射されているものとする。
所定時間経過すると、照射位置(◆印)110と、照射位置(●印)210とにおいてエネルギー密度が集中する。これにより光集塵効果が働き、レンズ1〜3上のこれらの位置に塵埃が付着する。
レンズ上に塵埃が付着することに伴い発生する照度低下を防止するため、タイマー45が計測した所定時間経過後、制御部44が、回転機構41〜43を制御する。回転機構41〜43は、制御部44から指示された角度分だけ、レンズ1〜3を、矢印L1、L2方向に回転させる。
レンズが回転することで、レーザーダイオード10の青色レーザー光が射出したレンズ上の照射位置(◆印)110に付着していた塵埃は、矢印A1方向に移動する。すなわち、レンズ回転前に塵埃が付着していた位置は、位置120(◇印)に移動する。同様に、レーザーダイオード20の青色レーザー光が射出したレンズの照射位置(●印)210に付着していた塵埃は、矢印B1方向に移動する。すなわち、レンズ回転前に塵埃が付着していた位置は、位置220(○印)に移動する。この動作を所定時間ごとに実行する。その結果、レーザーダイオード10から射出される青色レーザー光と、レーザーダイオード20から射出される青色レーザー光とが、レンズ上に塵埃が付着していない箇所に照射されることになり、照度を一定の範囲に維持することができる。これにより、光集塵効果に基づく照度低下を抑制することができるのである。
光集塵効果は、青色レーザー光が照射されているレンズ上のエネルギー密度が集中している位置に発生し、塵埃が集中して付着する。換言すれば、青色レーザー光が照射されていないレンズ上のエネルギー密度が集中していない位置には光集塵効果は発生せず、塵埃も付着しない。したがって、レンズに青色レーザー光を照射してから一定時間が経過すると、青色レーザー光のレンズ上の照射位置に塵埃が付着する。そこで、所定時間ごとにレンズを回転制御することで、塵埃が付着していないレンズ上の位置に青色レーザー光を照射することで照度を一定の範囲内に保持することとしている。この回転制御を、光源装置250が搭載されているプロジェクターが寿命に到達するまで繰り返し実行することで光集塵効果による照度低下の影響を抑制することができる。
以下、レンズを回転させる制御方法(回転対象とするレンズ、レンズの回転周期)の具体例について説明する。
(具体例1)
例えば、光源装置250が搭載されているプロジェクターの製品寿命を2万時間と仮定する。この場合、回転機構43を使用して、タイマー45が計測する110時間毎に1°、レンズ3を回転させる制御を制御部44が実行する。そして、製品寿命の2万時間を使ってレンズ3を180°回転させるように制御する(20000/110≒180)。この制御方法を実行することで、レンズ3が回転する都度、塵埃の付着していないレンズ位置に青色レーザー光を射出することができ、プロジェクターの製品寿命末期まで照度を一定の範囲内に維持することができる。
(具体例2)
例えば、光源装置250が搭載されているプロジェクターの製品寿命を2万時間と仮定する。この場合、回転機構43を使用して、タイマー45が計測する55時間毎に1°、レンズ3を回転させる制御を制御部44が実行する。そして、製品寿命の2万時間を使ってレンズ3を360°回転させるようにする(20000/55≒360)。この制御方法を実行することで、レンズ3が回転する都度、塵埃の付着していないレンズ位置に青色レーザー光を射出することができ、プロジェクターの製品寿命末期まで照度を一定の範囲内に維持することができる。さらに、具体例1の場合と比較して、回転周期が1/2であるので、具体例1の場合よりも、青色レーザー光が射出している間にレンズ3に塵埃が付着する量が少なくて済む。そのため、具体例1の場合と比較してレンズ3の回転前後における照度変化を小さく抑えることができる。
光集塵効果が作用してレンズ3に塵埃が付着した場合であっても、具体例1および具体例2に示したような制御を実行することで、レンズ3上に塵埃が付着していない位置に青色レーザー光を照射することができる。これにより、照度低下を抑制し、照度を一定の範囲内に維持することができる。
また、レンズ3の回転制御と同様に、回転機構41、42を使用して、タイマー45が計測する所定時間毎に、レンズ1、レンズ2を所定角度だけ回転させる制御を制御部44が実行する。これにより、照度低下の抑制効果をさらに高めることができる。
なお、回転制御を行わないレンズに対しては、回転機構を設けないようにすることも可能である。
(具体例3)
レンズ2とレンズ3とを同一方向、同一周期で回転させる。この回転制御を実行すると、レンズ3のみを回転制御する場合と比較して、レンズ2に付着する塵埃も照度変化に影響する。そのため、レンズの回転前後における照度変化が大きくなってしまう。そこで、レンズの回転前後における照度変化を小さくするため、具体例1よりもレンズに塵埃が付着する量が少なくて済む具体例2と同様の周期でレンズ2とレンズ3とを回転させる制御を制御部44が実行する。
(具体例4)
レンズ1、レンズ2、およびレンズ3を同一方向、同一周期で回転させる。この回転制御を実行することで、照度低下の抑制効果を最大限得ることができるが、すべてのレンズに付着する塵埃が照度変化に影響する。そのため、レンズの回転前後における照度変化も大きくなってしまう。レンズの回転前後における照度変化を小さくするため、具体例1よりもレンズに塵埃が付着する量が少なくて済む具体例2と同様のタイミングでレンズ1、レンズ2およびレンズ3を回転させる制御を制御部44が実行する。
なお、上記した具体例は一例であって、レンズの回転速度を速めたり、遅らせたりしてもよい。要するに、レンズの塵埃が付着している位置に青色レーザー光が長時間射出しないようにレンズを回転させる制御を実行すればよい。
また、光集塵効果はレンズ上の光密度が高い位置ほど大きく作用する。上記したように、レンズ上での光密度は、レンズ1<レンズ2<レンズ3の関係にある。したがって、レンズ3が光集塵効果の影響を最も受け易い。したがって、少なくともレンズ3を回転させる制御を実行することが好ましい。なお、レンズ1のみ、レンズ1とレンズ2、レンズ1とレンズ3、レンズ2とレンズ3、レンズ1〜3すべてのレンズを回転させる制御を実行するようにしてもよい。より多くのレンズを回転させる制御を実行した方が、照度低下の抑制効果が大きくなる。
次に、本実施形態の光源装置の動作について説明する。図7は、本実施形態の光源装置の動作について説明するフローチャートである。
まず、ステップS71の処理において、レーザーダイオード10、20の各青色LDから出力された青色レーザー光が、図示しないコリメートレンズを用いて平行光に変換される。この平行光は、縮小光学系40を構成するレンズ1〜3に照射する。
ステップS72の処理において、縮小光学系40を構成するレンズ1〜3における複数の平行光束の照射位置(図5の照射位置(◆印)101、(●印)201)に対して、平行光が縮小光学系40に照射されてからの経過時間を、タイマー45が計時する。
ステップS73の処理において、タイマー45が計時した時間が予め定められた所定時間を経過したか否かを、制御部44が判断する。
制御部44が、所定時間を経過した(ステップS73:Yes)と判断すると、ステップS74の処理へ移行する。制御部44が、所定時間を経過していない(ステップS73:No)と判断すると、所定時間を経過するまで待機する。
ステップS74の処理において、回転機構41〜43は、レンズ1〜3の中心を軸として、レンズ1〜3を所定の角度だけ回転させる。これにより、縮小光学系40を構成するレンズ1〜3における複数の平行光束の照射位置が変わる(照射位置が図6の位置120(◇印)から照射位置(◆印)110に、位置220(○印)から照射位置(●印)210に変わる。)そして処理を終了する。
(他の具体例)
上記具体例では、制御部44が、回転機構41〜43を制御することでタイマー45が計時する所定時間毎にレンズ1〜3の回転制御を行っていた。これに対して、制御部44が、予め定められた所定の周期でレンズ1〜3を連続的に回転させるよう、回転機構41〜43を制御するようにしてもよい。この場合、タイマー45を設ける必要がなくなる。また、レンズ1〜3が連続的に回転するので、レンズ1〜3上の特定の位置に青色レーザー光が射出されることに伴い発生するエネルギー密度の集中を避けることができる。これにより、光集塵効果が作用し難くなるため、レンズ上の特定の位置に塵埃が付着することを防ぐことができるという効果が得られる。
このように、本実施形態では、レーザーダイオード10、20から出力された青色レーザー光を平行光に変換し、縮小光学系40を構成するレンズ1〜3に照射している。レンズ1〜3では、平行光の各々の径を縮小して複数の平行光束に変換している。そして、レンズ1〜3における複数の平行光束の照射位置に対して平行光が照射されてからの経過時間をタイマー45が計時する。制御部44が、タイマー45が計時した経過時間が予め定められた所定の時間を経過したと判断すると、制御部44は、回転機構41〜43に対して、レンズ1〜3の中心を軸として、レンズ1〜3を所定の角度だけ回転させることとしている。
このような構成を採用することで、レーザーダイオード10、20から射出されるレーザーが、レンズ1〜3上の塵埃が付着していない箇所に射出されることになる。その結果、照度を一定の範囲に維持することができ、光集塵効果に基づく照度低下を抑制することができるのである。
なお、制御部44の図示しない記憶部に格納されているプログラムは、記録媒体で提供されてもよく、また、インターネット等のネットワークを介して提供されてもよい。記録媒体は、コンピュータ使用可能媒体又はコンピュータ可読媒体であって、磁気、光、電子、電磁気、赤外線などを用いて情報の記録又は読み取りが可能な媒体を含む。そのような媒体として、例えば、半導体メモリ、半導体または固体の記憶装置、磁気テープ、取外し可能なコンピュータディスケット、ランダムアクセスメモリ(RAM(Random Access Memory))、読出し専用メモリ(ROM(Read Only Memory))、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスクなどがある。
以上、実施形態を参照して本願発明を説明したが、本願発明は上記実施形態に限定されるものではない。本願発明の構成や詳細には、本願発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。
1、2、3、4、5 レンズ
10、20 レーザーダイオード
30 ストライプミラー
40 縮小光学系
41、42、43 回転機構
44 制御部
45 タイマー
50 ミラー
60 拡散板
70 1/4波長板
80 蛍光体ホイール
81 蛍光体部
82 ミラー部
85 カラーホイール
86 緑色透過フィルター
87 赤色透過フィルター
88 黄色透過フィルター
89 青色透過用拡散板
90 偏光ダイクロイックミラー
95 ライトトンネル
101、110、201、210 照射位置
120、220 位置
150 光源部
200、250 光源装置
300 回転部
400 光学系

Claims (9)

  1. レーザー光を射出する複数の光源を備え、各光源の射出光が平行光束として射出される光源部と、
    前記光源部から射出された平行光束の径を縮小する、複数のレンズからなる光学系と、
    前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる回転手段と、を有する、光源装置。
  2. 前記レンズに対して前記平行光束が射出されてから所定時間が経過したことを計時する計時手段を有し、前記回転手段は、前記所定時間が経過する度に、前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる、請求項1に記載の光源装置。
  3. 前記複数の光源のうち、一の光源の射出光が前記レンズに対して射出した前記レンズ上の照射位置と、他の光源の射出光が前記レンズに対して射出した前記レンズ上の照射位置とは異なる、請求項1または2に記載の光源装置。
  4. 前記回転手段は、前記複数のレンズのうち、前記光学系の射出側に配置されたレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる、請求項1から3のいずれか1項に記載の光源装置。
  5. 前記回転手段は、予め定められた所定の角度だけ、前記レンズの光軸を回転軸として回転させる、請求項1から4のいずれか1項に記載の光源装置。
  6. 前記回転手段は、予め定められた所定の周期で、前記レンズの光軸を回転軸として連続的に回転させる、請求項1から4のいずれか1項に記載の光源装置。
  7. 請求項1から6のいずれか1項に記載の光源装置を備えたプロジェクター。
  8. レーザー光を射出する複数の光源を備え、各光源の射出光が平行光束として射出される光源部と、
    前記光源部から射出された平行光束の径を縮小する、複数のレンズからなる光学系と、
    前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる回転手段と、
    前記レンズに対して前記平行光束が射出されてから所定時間が経過したことを計時する計時手段と、を備えた光源装置の制御方法であって、
    前記所定時間が経過する度に、前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる、光源装置の制御方法。
  9. レーザー光を射出する複数の光源を備え、各光源の射出光が平行光束として射出される光源部と、
    前記光源部から射出された平行光束の径を縮小する、複数のレンズからなる光学系と、
    前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる回転手段と、
    前記レンズに対して前記平行光束が射出されてから所定時間が経過したことを計時する計時手段と、を備えた光源装置のコンピュータに、
    前記所定時間が経過する度に、前記複数のレンズの少なくとも1つのレンズを、該レンズの光軸を回転軸として回転させる処理を実行させるためのプログラム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN111258163A (zh) * 2020-03-19 2020-06-09 无锡视美乐激光显示科技有限公司 光源装置、光路结构设计方法及投影系统

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