JP2019192779A - パドル方式の現像装置 - Google Patents
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Abstract
Description
ディップ方式は、露光後の感光性レジスト膜付基板を現像槽内の現像液中に浸漬し、搖動させることにより現像を行う方式である。
スプレー方式は、露光後の感光性レジスト膜付基板に対して現像液をスプレーノズルから噴出して吹き付けることにより現像を行う方式である。通常は、現像処理の均一化のため、基板を回転させながら現像処理を実施する。
パドル方式は、スキャン型の現像装置であり、露光後の感光性レジスト膜付基板に対して、スリット状の現像液吐出口を備えたノズルヘッドから現像液を吐出しながら基板表面に沿ってノズルヘッドをスキャンすることにより、現像液の液盛りを行う現像方式である。液盛りとは、露光後の感光性レジスト膜付基板の上に、現像液の端部が表面張力で大きな接触角となるように現像液の層を形成することを指す。
スピンチャック12は、連結部4と、連結部4の上に被現像基板9をその端部で支持する複数の基板保持部3を備えている。
基板保持部3はガイド部17に連接して支持されている。ガイド部17はガイド支持部16によって、連接部4によって支持されている。連接部4は駆動部8からの駆動力をシ
ャフト7と連接して、スピンチャック12を回転可能としている。
駆動部8は図示していない制御装置に電気的に接続されており、制御装置の制御信号に従って回転するモーターを備えている。
スピンチャック収納部18は、スピンチャック12の周縁部に備えられた円形状ガイド6と、円形状ガイド6の内側に形成された空間である凹部5を備えている。
凹部5は、スピンチャック12を収納可能な外形寸法と深さを備えている。凹部5の底面はスピンチャックステージ11となってスピンチャック12を支持する平面となっている。スピンチャックステージ11と円形状ガイド6の間には、起立した壁面15が備えられており、その壁面15とスピンチャックステージ11により凹部5が形成されている。凹部5の深さは、被現像基板9が基板保持部3に装着した状態で、被現像基板9の上面の高さと、円形状ガイド6の上面が面一となるように設定されている。
スピンチャックの外側に設けられ、対象基板全体に亘って液盛りさせる円形状ガイドと、
液盛り状態にある現像液を攪拌する攪拌ユニットと、を有するパドル方式の現像装置である。
本発明の第一の態様では、液盛りされた現像液を攪拌する攪拌ユニットを備えているため、スピンチャックの回転とは独立して、液盛りされた現像液が積極的に攪拌可能であるため、現像液が局所的に留まることによる現像速度の低下した部分や低下していない部分が形成されなくなり、現像の均一処理が可能となる。
このローターの代わりに、導電性の液体である現像液を回転磁界の中に置くと、回転磁界によって現像液を回転させることができ、攪拌可能である。
図1は、本発明のパドル方式の現像装置の第一の実施形態を例示した断面説明図である。
本発明のパドル方式の現像装置10は、被現像基板9を回転可能に保持するスピンチャック12(図4参照)と、スピンチャック12を回転可能に支持するシャフト7と、シャフト7を回転する駆動部8と、を備えたパドル方式の現像ユニット50と、液盛りされた現像液を攪拌する攪拌ユニット1−1と、を備えている。スピンチャック12は、被現像基板9を保持する基板保持部3と、被現像基板9の4つの辺から外側に、被現像基板9の各辺の側面を支持する形で弓形状部材が円形をなすように備えられたガイド部17と、基板保持部3とガイド部17を支持するガイド支持部16と、を備えている。
この様にして、より均一な現像処理を実現することができる。スキャン攪拌部2−1が移動する仕方は、均一な現像処理が可能となる現像液の攪拌が可能な仕方であれば特に限定されない。直線的に移動しても良いし、回転することでも良い。それらを組み合わせた動きをする事でも良い。
図2は、本発明のパドル方式の現像装置の第二の実施形態を例示した断面説明図である。
第二の実施形態においては、攪拌ユニット1−3が、液盛りされた現像液の液面に接触または液中に埋没させた超音波モーターのステータ2−3−2であることが特徴である。現像ユニット50は第一の実施形態と同様である。
例えばステータ2−3−2が長方形であり、長方形の長手方向に圧電素子が等間隔に配置された構成である場合、個々の圧電素子に印加する電圧によってステータ2−3−2にうねりを形成し、そのうねりが長手方向に進む進行波を形成することができる。ステータ2−3−2が円形である場合も、同様に、円周方向に圧電素子を等角度間隔に配置することにより、円周方向に進む進行波を形成することができる。
図3は、本発明のパドル方式の現像装置の第三の実施形態を例示した断面説明図である。
第三の実施形態においては、攪拌ユニット1−4が、液盛りされた現像液に、被現像基板の表面に平行な回転磁界を形成する手段であることが特徴である。現像ユニット50は第一の実施形態と同様である。
現像ユニット50の被現像基板9の上に形成された液盛りされた現像液が、被現像基板
9の表面内で回転する様に力を受ける様に回転磁界を形成する。具体的には、図3に示すステータAとステータBを、被現像基板9の表面に平行な平面内で、空間的に90°の角度をなす位置に配置する。更にステータAとステータBのコイルに流す電流の位相を90°ずらすことにより、被現像基板9の表面に平行な面内で回転する回転磁界を形成することができる。ステータは、2個に限定する必要はない。3個以上を互いに空間的に等角度間隔に配置し、各ステータのコイルに流す電流の位相を、空間的な角度と同じ位相のずれを持つ電流を流すことにより、回転磁界を形成することができる。
なお、ステータAおよびBとは、高透磁率材料からなる鉄心にコイルを巻くことによって作製した電磁石が例示される。
2−1・・・スキャン攪拌部
2−3−1・・・圧電素子
2−3−2・・・ステータ
3・・・基板保持部
4・・・連結部
5・・・凹部
6・・・円形状ガイド
7・・・シャフト
8・・・駆動部
9・・・被現像基板
10、30、40・・・(パドル方式の)現像装置
11・・・スピンチャックステージ
12・・・スピンチャック
13・・・円板
14・・・シャフト
15・・・壁面
16・・・ガイド支持部
17・・・ガイド部
18・・・スピンチャック収納部
50・・・現像ユニット
Claims (4)
- 被現像基板を回転可能に保持するスピンチャックと、
液盛り状態にある現像液を攪拌する攪拌ユニットと、を有するパドル方式の現像装置。 - 前記攪拌ユニットは、現像液中をスキャン自在に構成された短冊状の板を有することを特徴とする請求項1に記載のパドル方式の現像装置。
- 前記攪拌ユニットは、前記液盛りされた現像液の液面に接触または液中に埋没させた超音波モーターのステータであることを特徴とする請求項1に記載のパドル方式の現像装置。
- 前記攪拌ユニットは、前記液盛りされた現像液に、前記被現像基板の表面に平行な回転磁界を形成する手段であることを特徴とする請求項1に記載のパドル方式の現像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018083959A JP7129204B2 (ja) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | パドル方式の現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018083959A JP7129204B2 (ja) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | パドル方式の現像装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2019192779A true JP2019192779A (ja) | 2019-10-31 |
JP7129204B2 JP7129204B2 (ja) | 2022-09-01 |
Family
ID=68387811
Family Applications (1)
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-
2018
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