JP2019171861A - Laminate and packaging material composed of the laminate - Google Patents
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- 239000005022 packaging material Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 title 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims abstract description 160
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 98
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims abstract description 96
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims abstract description 95
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 61
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 claims description 126
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 claims description 126
- 229920001179 medium density polyethylene Polymers 0.000 claims description 121
- 239000004701 medium-density polyethylene Substances 0.000 claims description 121
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 82
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 claims description 49
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 claims description 49
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- 229920001862 ultra low molecular weight polyethylene Polymers 0.000 claims description 23
- 229920010126 Linear Low Density Polyethylene (LLDPE) Polymers 0.000 claims description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229920000092 linear low density polyethylene Polymers 0.000 claims description 12
- 239000004707 linear low-density polyethylene Substances 0.000 claims description 12
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 50
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004064 recycling Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 274
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 30
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 29
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 27
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 21
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 20
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 20
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 19
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 19
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 17
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 17
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 17
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 17
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 15
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 13
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 12
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 11
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 10
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 10
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 10
- 239000002028 Biomass Substances 0.000 description 9
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical group [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N glycerol group Chemical group OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 9
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 9
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 7
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 7
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 7
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 7
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 5
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 5
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 5
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005543 phthalimide group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 5
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 5
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 5
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920001450 Alpha-Cyclodextrin Polymers 0.000 description 4
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229940043377 alpha-cyclodextrin Drugs 0.000 description 4
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002791 glucosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229940080345 gamma-cyclodextrin Drugs 0.000 description 3
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUNKPLGAVXZFGZ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxypropyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(O)CN1C(=O)N(CC(C)O)C(=O)N(CC(C)O)C1=O TUNKPLGAVXZFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 1-Heptene Chemical compound CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBWJHIXSVFDERH-UHFFFAOYSA-N 1-isothiocyanato-2-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1N=C=S CBWJHIXSVFDERH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 1-tetradecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=C HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUZMHNASXCXMBO-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-2,2-diol Chemical compound CCC(C)C(C)(O)O TUZMHNASXCXMBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 2
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 2
- 239000001116 FEMA 4028 Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004853 betadex Drugs 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 2
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SAMYCKUDTNLASP-UHFFFAOYSA-N hexane-2,2-diol Chemical compound CCCCC(C)(O)O SAMYCKUDTNLASP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005684 linear copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 239000012968 metallocene catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 2
- YZOUYRAONFXZSI-SBHWVFSVSA-N (1S,3R,5R,6R,8R,10R,11R,13R,15R,16R,18R,20R,21R,23R,25R,26R,28R,30R,31S,33R,35R,36R,37S,38R,39S,40R,41S,42R,43S,44R,45S,46R,47S,48R,49S)-5,10,15,20,25,30,35-heptakis(hydroxymethyl)-37,39,40,41,42,43,44,45,46,47,48,49-dodecamethoxy-2,4,7,9,12,14,17,19,22,24,27,29,32,34-tetradecaoxaoctacyclo[31.2.2.23,6.28,11.213,16.218,21.223,26.228,31]nonatetracontane-36,38-diol Chemical compound O([C@@H]([C@H]([C@@H]1OC)OC)O[C@H]2[C@@H](O)[C@@H]([C@@H](O[C@@H]3[C@@H](CO)O[C@@H]([C@H]([C@@H]3O)OC)O[C@@H]3[C@@H](CO)O[C@@H]([C@H]([C@@H]3OC)OC)O[C@@H]3[C@@H](CO)O[C@@H]([C@H]([C@@H]3OC)OC)O[C@@H]3[C@@H](CO)O[C@@H]([C@H]([C@@H]3OC)OC)O3)O[C@@H]2CO)OC)[C@H](CO)[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@H]3[C@@H](CO)O1 YZOUYRAONFXZSI-SBHWVFSVSA-N 0.000 description 1
- HGTUJZTUQFXBIH-UHFFFAOYSA-N (2,3-dimethyl-3-phenylbutan-2-yl)benzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C(C)(C)C1=CC=CC=C1 HGTUJZTUQFXBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical class O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;2-methylprop-2-enoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCYAJCGCGWQKJT-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethyl)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC(CCO)=C1 QCYAJCGCGWQKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBZZJNPUANNABV-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(CCO)C=C1 LBZZJNPUANNABV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJKDOMVGKKPJBH-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(O)=O LJKDOMVGKKPJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N Adipamide Chemical compound NC(=O)CCCCC(N)=O GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- CMCTWNKBDTVMGR-UHFFFAOYSA-K C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-].[Al+3].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-] Chemical compound C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-].[Al+3].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-] CMCTWNKBDTVMGR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- SRORDPCXIPXEAX-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC.CCCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC.CCCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC SRORDPCXIPXEAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWWKWCKMSTDDG-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC.CCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC Chemical compound CCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC.CCCCCCCCCCCCP(CCCCCCCCCCCC)(O)(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC UIWWKWCKMSTDDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N Dibutyl phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(=O)OCCCC JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 101000576320 Homo sapiens Max-binding protein MNT Proteins 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920006121 Polyxylylene adipamide Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011954 Ziegler–Natta catalyst Substances 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVFGXECLSQXABC-UHFFFAOYSA-N ac1l3obq Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(O)C2O)C(COCC(O)C)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2COCC(C)O JVFGXECLSQXABC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N alpha-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N 0.000 description 1
- HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N aluminum;trihydroxy(trihydroxysilyloxy)silane;hydrate Chemical compound O.[Al].[Al].O[Si](O)(O)O[Si](O)(O)O HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- HIFVAOIJYDXIJG-UHFFFAOYSA-N benzylbenzene;isocyanic acid Chemical class N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 HIFVAOIJYDXIJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N beta-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N 0.000 description 1
- 235000011175 beta-cyclodextrine Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FJTUUPVRIANHEX-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;phosphoric acid Chemical compound CCCCO.OP(O)(O)=O FJTUUPVRIANHEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-N carbonoperoxoic acid Chemical class OOC(O)=O MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 229910052620 chrysotile Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002944 cyanoaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229940097362 cyclodextrins Drugs 0.000 description 1
- LNGJOYPCXLOTKL-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)C1 LNGJOYPCXLOTKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- MQVULIBSPNZEFI-UHFFFAOYSA-M di(propan-2-yloxy)alumanylium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O.CC(C)O[Al+]OC(C)C MQVULIBSPNZEFI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N di-(2-ethylhexyl)phosphoric acid Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(=O)OCC(CC)CCCC SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910001649 dickite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000002803 fossil fuel Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- GDSRMADSINPKSL-HSEONFRVSA-N gamma-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO GDSRMADSINPKSL-HSEONFRVSA-N 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052621 halloysite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002463 lignoceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1 ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAWFFNJAPKXVPH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 VAWFFNJAPKXVPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006284 nylon film Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKGFBYXUGQXYKX-UHFFFAOYSA-N phenyl ethaneperoxoate Chemical compound CC(=O)OOC1=CC=CC=C1 FKGFBYXUGQXYKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004838 phosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 125000005544 phthalimido group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- JTBKFHQUYVNHSR-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxyalumane Chemical compound CC(C)O[AlH2] JTBKFHQUYVNHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052903 pyrophyllite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- ODLHGICHYURWBS-LKONHMLTSA-N trappsol cyclo Chemical compound CC(O)COC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)COCC(O)C)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1COCC(C)O ODLHGICHYURWBS-LKONHMLTSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWBIFDGMOSWLRQ-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;hydroxy(trioxido)silane;hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].O[Si]([O-])([O-])[O-].O[Si]([O-])([O-])[O-] CWBIFDGMOSWLRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N triphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940048102 triphosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical compound NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Wrappers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
本発明は、積層体および該積層体からなる包装材料に関する。 The present invention relates to a laminate and a packaging material comprising the laminate.
ポリエチレンフィルムは、適度な柔軟性をもち、透明性、防湿性、耐薬品性等に優れるとともに、安価であることから、各種の包装材料に使用されている。特に、ポリエチレンの融点は、種類によっても多少異なるが概ね100〜140℃程度であるため、包装材料分野ではヒートシール性フィルムとして使用されるのが一般的である。 Polyethylene films have moderate flexibility, are excellent in transparency, moisture resistance, chemical resistance, and the like, and are inexpensive, so they are used in various packaging materials. In particular, polyethylene has a melting point of about 100 to 140 ° C., although it varies somewhat depending on the type, so that it is generally used as a heat-sealable film in the packaging material field.
一方、他の熱可塑性樹脂フィルムと比較して、ポリエチレンフィルムは、剛性が劣るため、印刷適性が低く、その表面に鮮明な画像を形成することができなかった。また、ポリエチレンフィルムは、高い強度を有しておらず、包装材料の外装として要求される耐久性を満たすことができていなかった。そのため、ポリエステルフィルムやナイロンフィルム等の剛性および強度に優れる樹脂フィルムと、ポリエチレンフィルムとをラミネートすることで積層体とし、この積層体のポリエチレンフィルム側が内側となるように、積層体端部をヒートシールすることにより包装材料を作製することが行われている(例えば、特開2005−104525号公報)。 On the other hand, since the polyethylene film is inferior in rigidity as compared with other thermoplastic resin films, the printability is low, and a clear image could not be formed on the surface. In addition, the polyethylene film does not have high strength and cannot satisfy the durability required as an outer packaging material. Therefore, a laminate is made by laminating a resin film with excellent rigidity and strength, such as polyester film and nylon film, and a polyethylene film, and the end of the laminate is heat sealed so that the polyethylene film side of this laminate is inside. Thus, a packaging material is produced (for example, JP-A-2005-104525).
ところで、近年、循環型社会の構築を求める声の高まりとともに、包装材料をリサイクルして使用することが試みられている。しかしながら、上記のような異種の樹脂フィルムを貼り合わせた場合、樹脂フィルム同士を分離することが難しく、リサイクルに適しておらず、より環境負荷の少ない包装材料を使用したいという要求もあった。 By the way, in recent years, with the increasing demand for the construction of a recycling society, attempts have been made to recycle and use packaging materials. However, when different types of resin films as described above are bonded together, it is difficult to separate the resin films from each other, which is not suitable for recycling, and there is a demand for using a packaging material with less environmental load.
また、内包する内容物の種類によっては、包装材料には高いガスバリア性を有していることが要求される。 Further, depending on the type of contents to be included, the packaging material is required to have a high gas barrier property.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、高いリサイクル適性、印刷適性、強度およびガスバリア性を有する、積層体を提供することをその解決しようとする課題とするものである。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a laminate having high recyclability, printability, strength, and gas barrier properties.
第1の態様において、本発明の積層体は、基材と、ヒートシール性ポリエチレン層ヒートシール層とを少なくとも備え、基材と、ヒートシール層とが同一の材料により構成され、基材は延伸処理が施されており、延伸ポリエチレンフィルム基材が、その少なくとも一方の面に蒸着膜を備え、同一材料が、ポリエチレンであることを特徴とする。 1st aspect WHEREIN: The laminated body of this invention is equipped with a base material and a heat-sealable polyethylene layer heat seal layer at least, a base material and a heat seal layer are comprised with the same material, and a base material is extended | stretched. The stretched polyethylene film base material has been subjected to treatment, and has a vapor deposition film on at least one surface thereof, and the same material is polyethylene.
一実施形態において、基材が備える蒸着膜は、酸化アルミニウムを含む。 In one Embodiment, the vapor deposition film with which a base material is provided contains aluminum oxide.
一実施形態において、積層体は、基材と、ヒートシール層との間に、ポリエチレンにより構成される、少なくとも一方の面に蒸着膜を備える中間層をさらに備える。 In one embodiment, a layered product is further provided with an intermediate layer provided with a vapor deposition film on at least one side constituted by polyethylene between a substrate and a heat seal layer.
一実施形態において、蒸着膜を備える中間層は、延伸されたポリエチレンフィルムおよび蒸着膜からなる。 In one embodiment, the intermediate layer comprising a vapor deposition film consists of a stretched polyethylene film and a vapor deposition film.
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン(HDPE)および中密度ポリエチレン(MDPE)のうち少なくとも1つを含む。 In one embodiment, the substrate comprises at least one of high density polyethylene (HDPE) and medium density polyethylene (MDPE).
一実施形態において、基材の長手方向(MD)の延伸倍率は、2倍以上、10倍以下である。 In one embodiment, the draw ratio in the longitudinal direction (MD) of the substrate is 2 times or more and 10 times or less.
一実施形態において、基材の厚さは、9μm以上、50μm以下である。 In one Embodiment, the thickness of a base material is 9 micrometers or more and 50 micrometers or less.
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレン層とからなる構成を有する。 In one embodiment, the substrate has a configuration including a high-density polyethylene layer, a medium-density polyethylene layer, and a high-density polyethylene layer.
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレン層からなる五層共押フィルムである。 In one embodiment, the substrate comprises a high density polyethylene layer, a medium density polyethylene layer, a low density polyethylene layer, a linear low density polyethylene layer or an ultra low density polyethylene layer, a medium density polyethylene layer, and a high density polyethylene. It is a five-layer co-pressed film consisting of layers.
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンのブレンド樹脂層と、中密度ポリエチレン層と、低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンのブレンド樹脂層と、高密度ポリエチレン層とからなる七層共押フィルムである。 In one embodiment, the substrate comprises a high density polyethylene layer, a blend resin layer of high density polyethylene and medium density polyethylene, a medium density polyethylene layer, a low density polyethylene layer, a linear low density polyethylene layer, or an ultra low density. A seven-layer co-pressed film comprising a polyethylene layer, a medium density polyethylene layer, a blend resin layer of high density polyethylene and medium density polyethylene, and a high density polyethylene layer.
一実施形態において、ヒートシール層は、低密度ポリエチレン(LDPE)および直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)のうち少なくとも1つを含む。 In one embodiment, the heat seal layer comprises at least one of low density polyethylene (LDPE) and linear low density polyethylene (LLDPE).
第2の態様において、本発明の積層体は、基材と、少なくとも一方の面に蒸着膜を備えるポリエチレン中間層と、ヒートシール性ポリエチレン層ヒートシール層とを備え、記基材、中間層およびヒートシール層が同一の材料により構成され、中間層が、少なくとも一方の面に蒸着膜を備え、基材は延伸処理が施されており、同一材料がポリエチレンであることを特徴とする。 2nd aspect WHEREIN: The laminated body of this invention is equipped with a base material, a polyethylene intermediate layer provided with a vapor deposition film on at least one surface, a heat-sealable polyethylene layer, a heat seal layer, The heat seal layer is made of the same material, the intermediate layer is provided with a vapor deposition film on at least one surface, the base material is stretched, and the same material is polyethylene.
一実施形態において、蒸着膜を備える中間層が備える蒸着膜は、アルミニウムを含む。 In one embodiment, the vapor deposition film included in the intermediate layer including the vapor deposition film includes aluminum.
一実施形態において、蒸着膜を備える中間層は、延伸されたポリエチレンフィルムおよび蒸着膜からなる。 In one embodiment, the intermediate layer comprising a vapor deposition film consists of a stretched polyethylene film and a vapor deposition film.
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン(HDPE)および中密度ポリエチレン(MDPE)のうち少なくとも1つを含む。 In one embodiment, the substrate comprises at least one of high density polyethylene (HDPE) and medium density polyethylene (MDPE).
一実施形態において、基材の長手方向(MD)の延伸倍率は、2倍以上、10倍以下である。 In one embodiment, the draw ratio in the longitudinal direction (MD) of the substrate is 2 times or more and 10 times or less.
一実施形態において、基材の厚さは、9μm以上、50μm以下である。 In one Embodiment, the thickness of a base material is 9 micrometers or more and 50 micrometers or less.
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレン層とからなる構成を有する。 In one embodiment, the substrate has a configuration including a high-density polyethylene layer, a medium-density polyethylene layer, and a high-density polyethylene layer.
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレン層からなる五層共押フィルムである。 In one embodiment, the substrate comprises a high density polyethylene layer, a medium density polyethylene layer, a low density polyethylene layer, a linear low density polyethylene layer or an ultra low density polyethylene layer, a medium density polyethylene layer, and a high density polyethylene. It is a five-layer co-pressed film consisting of layers.
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンのブレンド樹脂層と、中密度ポリエチレン層と、低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンのブレンド樹脂層と、高密度ポリエチレン層とからなる七層共押フィルムである。 In one embodiment, the substrate comprises a high density polyethylene layer, a blend resin layer of high density polyethylene and medium density polyethylene, a medium density polyethylene layer, a low density polyethylene layer, a linear low density polyethylene layer, or an ultra low density. A seven-layer co-pressed film comprising a polyethylene layer, a medium density polyethylene layer, a blend resin layer of high density polyethylene and medium density polyethylene, and a high density polyethylene layer.
一実施形態において、ヒートシール層は、低密度ポリエチレン(LDPE)および直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)のうち少なくとも1つを含む。 In one embodiment, the heat seal layer comprises at least one of low density polyethylene (LDPE) and linear low density polyethylene (LLDPE).
本発明の包装材料は、上記積層体から構成されることを特徴とする。 The packaging material of this invention is comprised from the said laminated body.
本発明によれば、高いリサイクル適性、印刷適性、強度およびガスバリア性を有する積層体を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a laminate having high recyclability, printability, strength, and gas barrier properties.
<第1の態様の積層体>
本発明による積層体を図面を参照しながら説明する。
図1に示すように、第1の態様の積層体10は、基材20と、ヒートシール層30とを少なくとも備え、基材20の少なくとも一方の面に蒸着膜40を備える。
また、第1の態様の積層体10は、図2に示すように、基材20と、ヒートシール層30との間に、少なくとも一方の面に蒸着膜40を備える中間層50を備えていてもよい。
以下、積層体が備える各層について説明する。
<Laminated body of the first aspect>
The laminate according to the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the laminate 10 of the first aspect includes at least a base material 20 and a heat seal layer 30, and includes a deposited film 40 on at least one surface of the base material 20.
Moreover, the laminated body 10 of the 1st aspect is equipped with the intermediate | middle layer 50 provided with the vapor deposition film 40 on at least one surface between the base material 20 and the heat seal layer 30, as shown in FIG. Also good.
Hereinafter, each layer provided in the laminate will be described.
<基材>
基材は、延伸処理が施されたものであり、一軸延伸されたものであっても、二軸延伸されたものであってもよいが、強度という観点からは、二軸延伸されたものが好ましい。
<Base material>
The base material has been subjected to stretching treatment, and may be uniaxially stretched or biaxially stretched, but from the viewpoint of strength, the biaxially stretched one is preferable.
基材長手方向(MD)の延伸倍率は、2倍以上、10倍以下であることが好ましく、3倍以上、7倍以下であることが好ましい。これにより、積層体の印刷適性および強度をより向上することができる。また、これにより、基材の透明性を向上することができる。
また、横手方向(TD)の延伸倍率は、2倍以上、10倍以下であることが好ましく、3倍以上、7倍以下であることが好ましい。これにより、積層体の印刷適性および強度をより向上することができると共に、その透明性を向上することができる。
The draw ratio in the substrate longitudinal direction (MD) is preferably 2 times or more and 10 times or less, and preferably 3 times or more and 7 times or less. Thereby, the printability and strength of the laminate can be further improved. Thereby, the transparency of the substrate can be improved.
The stretching ratio in the transverse direction (TD) is preferably 2 times or more and 10 times or less, and more preferably 3 times or more and 7 times or less. Thereby, while being able to improve the printability and intensity | strength of a laminated body, the transparency can be improved.
基材は、ポリエチレンにより構成され、ポリエチレンとしては、高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)および直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)が挙げられる。また、基材は、これらを2種以上含むことができる。
これらの中でも、積層体の印刷適性、強度および耐熱性という観点から、高密度ポリエチレン(HDPE)および中密度ポリエチレン(MDPE)が好ましく、延伸適正という観点から、中密度ポリエチレンがより好ましい。
なお、本発明において、高密度ポリエチレンは密度が0.945g/cm3以上のものを、中密度ポリエチレンは密度が0.925〜0.944g/cm3のものを、低密度ポリエチレンは密度が0.900g/cm3以上0.925g/cm3未満のもの、超低密度ポリエチレンは密度が0.900g/cm3未満のものをいう。
The substrate is composed of polyethylene, and examples of the polyethylene include high density polyethylene (HDPE), medium density polyethylene (MDPE), low density polyethylene (LDPE), and linear low density polyethylene (LLDPE). Moreover, the base material can contain 2 or more types of these.
Among these, high-density polyethylene (HDPE) and medium-density polyethylene (MDPE) are preferable from the viewpoint of printability, strength, and heat resistance of the laminate, and medium-density polyethylene is more preferable from the viewpoint of stretching suitability.
In the present invention, high density polyethylene has a density of 0.945 g / cm 3 or more, medium density polyethylene has a density of 0.925 to 0.944 g / cm 3 , and low density polyethylene has a density of 0. .900 g / cm 3 or more and less than 0.925 g / cm 3 , ultra-low density polyethylene means a density of less than 0.900 g / cm 3 .
上記したような密度や分岐の違うポリエチレンは、重合方法を適宜選択することによって得ることができる。例えば、重合触媒として、チーグラー・ナッタ触媒等のマルチサイト触媒や、メタロセン系触媒等のシングルサイト触媒を用いて、気相重合、スラリー重合、溶液重合、および高圧イオン重合のいずれかの方法により、1段または2段以上の多段で行うことが好ましい。 The above-described polyethylene having different density and branching can be obtained by appropriately selecting the polymerization method. For example, as a polymerization catalyst, using a multi-site catalyst such as a Ziegler-Natta catalyst or a single site catalyst such as a metallocene catalyst, by any of gas phase polymerization, slurry polymerization, solution polymerization, and high-pressure ion polymerization, It is preferable to carry out by one stage or two or more stages.
上記のシングルサイト触媒とは、均一な活性種を形成しうる触媒であり、通常、メタロセン系遷移金属化合物や非メタロセン系遷移金属化合物と活性化用助触媒とを接触させることにより、調整される。シングルサイト触媒は、マルチサイト触媒に比べて、活性点構造が均一であるため、高分子量かつ均一度の高い構造の重合体を重合することができるため好ましい。シングルサイト触媒としては、特に、メタロセン系触媒を用いることが好ましい。メタロセン系触媒は、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物と、助触媒と、必要により有機金属化合物と、担体の各触媒成分とを含む触媒である。 The above single-site catalyst is a catalyst that can form a uniform active species, and is usually adjusted by bringing a metallocene transition metal compound or a nonmetallocene transition metal compound into contact with an activation cocatalyst. . The single site catalyst is preferable because the active site structure is uniform as compared with the multisite catalyst, and a polymer having a high molecular weight and a high degree of uniformity can be polymerized. As the single site catalyst, it is particularly preferable to use a metallocene catalyst. The metallocene-based catalyst is a catalyst containing a transition metal compound of Group IV of the periodic table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, a cocatalyst, and if necessary, an organometallic compound, and each catalyst component of the support. is there.
上記のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物において、そのシクロペンタジエニル骨格とは、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基等である。置換シクロペンタジエニル基としては、炭素数1〜30の炭化水素基、シリル基、シリル置換アルキル基、シリル置換アリール基、シアノ基、シアノアルキル基、シアノアリール基、ハロゲン基、ハロアルキル基、ハロシリル基等から選ばれた少なくとも一種の置換基を有するものである。その置換シクロペンタジエニル基の置換基は2個以上有していてもよく、また置換基同士が互いに結合して環を形成し、インデニル環、フルオレニル環、アズレニル環、その水添体等を形成してもよい。置換基同士が互いに結合し形成された環がさらに互いに置換基を有していてもよい。 In the group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, the cyclopentadienyl skeleton is a cyclopentadienyl group, a substituted cyclopentadienyl group, or the like. . Examples of substituted cyclopentadienyl groups include hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms, silyl groups, silyl substituted alkyl groups, silyl substituted aryl groups, cyano groups, cyanoalkyl groups, cyanoaryl groups, halogen groups, haloalkyl groups, halosilyl groups. It has at least one kind of substituent selected from a group and the like. The substituted cyclopentadienyl group may have two or more substituents, and the substituents are bonded to each other to form a ring, and an indenyl ring, a fluorenyl ring, an azulenyl ring, a hydrogenated product thereof, etc. It may be formed. Rings formed by bonding substituents to each other may further have substituents.
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物において、その遷移金属としては、ジルコニウム、チタン、ハフニウム等が挙げられ、特にジルコニウム、ハフニウムが好ましい。該遷移金属化合物は、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子としては通常2個を有し、各々のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子は架橋基により互いに結合しているものが好ましい。なお、架橋基としては炭素数1〜4のアルキレン基、シリレン基、ジアルキルシリレン基、ジアリールシリレン基等の置換シリレン基、ジアルキルゲルミレン基、ジアリールゲルミレン基等の置換ゲルミレン基等が挙げられる。好ましくは、置換シリレン基である。上記のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物は、一種または二種以上の混合物を触媒成分とすることができる。 In the group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, examples of the transition metal include zirconium, titanium, hafnium, and zirconium and hafnium are particularly preferable. The transition metal compound usually has two ligands having a cyclopentadienyl skeleton, and each ligand having a cyclopentadienyl skeleton is preferably bonded to each other via a bridging group. Examples of the crosslinking group include substituted alkylene groups such as C1-C4 alkylene groups, silylene groups, dialkylsilylene groups, and diarylsilylene groups, dialkylgermylene groups, and diarylgermylene groups. Preferably, it is a substituted silylene group. The transition metal compound of Group IV of the Periodic Table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton can use one or a mixture of two or more as a catalyst component.
助触媒としては、上記の周期律表第IV族の遷移金属化合物を重合触媒として有効になしうる、または触媒的に活性化された状態のイオン性電荷を均衝させうるものをいう。助触媒としては、有機アルミニウムオキシ化合物のベンゼン可溶のアルミノキサンやベンゼン不溶の有機アルミニウムオキシ化合物、イオン交換性層状珪酸塩、ホウ素化合物、活性水素基含有あるいは非含有のカチオンと非配位性アニオンからなるイオン性化合物、酸化ランタン等のランタノイド塩、酸化スズ、フルオロ基を含有するフェノキシ化合物等が挙げられる。 The co-catalyst is one that can effectively make the above-mentioned group IV transition metal compound as a polymerization catalyst, or can neutralize ionic charges in a catalytically activated state. Co-catalysts include benzene-soluble aluminoxanes of organoaluminum oxy compounds, benzene-insoluble organoaluminum oxy compounds, ion-exchange layered silicates, boron compounds, active hydrogen group-containing or non-containing cations and non-coordinating anions. Ionic compounds, lanthanoid salts such as lanthanum oxide, tin oxide, phenoxy compounds containing a fluoro group, and the like.
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物は、無機または有機化合物の担体に担持して使用されてもよい。該担体としては無機または有機化合物の多孔質酸化物が好ましく、具体的には、モンモリロナイト等のイオン交換性層状珪酸塩、SiO2、Al2O3、MgO、ZrO2、TiO2、B2O3、CaO、ZnO、BaO、ThO2等またはこれらの混合物が挙げられる。また更に必要により使用される有機金属化合物としては、有機アルミニウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物等が例示される。このうち有機アルミニウムが好適に使用される。 The group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton may be used by being supported on an inorganic or organic compound carrier. The support is preferably a porous oxide of an inorganic or organic compound. Specifically, an ion-exchange layered silicate such as montmorillonite, SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , B 2 O 3 , CaO, ZnO, BaO, ThO 2 and the like, or a mixture thereof. Furthermore, examples of the organometallic compound used as necessary include organoaluminum compounds, organomagnesium compounds, and organozinc compounds. Of these, organic aluminum is preferably used.
また、本発明の特性を損なわない範囲において、エチレンと他のモノマーとの共重合体を使用することもできる。エチレン共重合体としては、エチレンと炭素数3〜20のα−オレフィンとからなる共重合体が挙げられ、炭素数3〜20のα−オレフィンとしては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、3ーメチルー1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、6−メチル−1−ヘプテンなどが挙げられる。また、本発明の目的を損なわない範囲であれば、酢酸ビニル、アクリル酸エステル等との共重合体であってもよい。 In addition, a copolymer of ethylene and another monomer can be used as long as the characteristics of the present invention are not impaired. Examples of the ethylene copolymer include a copolymer composed of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the α-olefin having 3 to 20 carbon atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicocene, 3-methyl-1-butene, 4-methyl-1-pentene, 6-methyl- Examples include 1-heptene. Moreover, as long as the objective of this invention is not impaired, a copolymer with vinyl acetate, an acrylic ester, etc. may be sufficient.
また、本発明においては、上記高密度ポリエチレン等を得るための原料として、化石燃料から得られるエチレンに代えて、バイオマス由来のエチレンを用いてもよい。このようなバイオマス由来のポリエチレンはカーボニュートラルな材料であるため、より一層、環境負荷の少ない包装材料とすることができる。このようなバイオマス由来のポリエチレンは、例えば、特開2013−177531号公報に記載されているような方法にて製造することができる。また、市販されているバイオマス由来のポリエチレン(例えば。ブラスケム社から市販されているグリーンPE等)を使用してもよい。 In the present invention, biomass-derived ethylene may be used as a raw material for obtaining the high-density polyethylene or the like, instead of ethylene obtained from fossil fuel. Since such biomass-derived polyethylene is a carbon-neutral material, it can be made into a packaging material with even less environmental impact. Such polyethylene derived from biomass can be produced, for example, by a method described in JP2013-177531A. Moreover, you may use the biomass-derived polyethylene (For example, green PE etc. which are marketed from a Braschem company) marketed.
基材におけるポリエチレンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。 The content of polyethylene in the substrate is preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.
基材は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等が挙げられる。 The base material can contain an additive as long as the properties of the present invention are not impaired. For example, the cross-linking agent, the antioxidant, the ultraviolet absorber, the light stabilizer, the filler, the reinforcing agent, the antistatic agent, and the pigment. And a modifying resin.
一実施形態において、基材は、多層構造を有する。
一実施形態において、基材として、高密度ポリエチレンから構成される層(以下、高密度ポリエチレン層という)および中密度ポリエチレンから構成される層(以下、中密度ポリエチレン層という)を備える構成のものを使用することができる。
基材の外側に高密度ポリエチレン層を備えることにより、本発明の積層体の強度および耐熱性をより向上することができる。また、中密度ポリエチレン層を備えることにより、基材の延伸適性をより向上することができる。
In one embodiment, the substrate has a multilayer structure.
In one embodiment, the base material includes a layer composed of high-density polyethylene (hereinafter referred to as a high-density polyethylene layer) and a layer composed of medium-density polyethylene (hereinafter referred to as a medium-density polyethylene layer). Can be used.
By providing a high density polyethylene layer on the outside of the substrate, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be further improved. Moreover, the stretching aptitude of a base material can be improved more by providing a medium density polyethylene layer.
例えば、外側から、高密度ポリエチレン層と中密度ポリエチレン層との共押フィルムからなる構成を有する。
このような構成とすることにより、基材の延伸適性を向上することができる。また、本発明の積層体の強度および耐熱性を向上することができる。
このとき、高密度ポリエチレン層の厚さは、中密度ポリエチレン層の厚さよりも薄いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比は、1/10以上1/1以下であることが好ましく、1/5以上1/2以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/10以上とすることにより、本発明の積層体の強度および耐熱性をより向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/1以下とすることにより、基材の延伸適性をより向上することができる。
For example, it has the structure which consists of a co-pressing film of a high density polyethylene layer and a medium density polyethylene layer from the outside.
By setting it as such a structure, the extending | stretching aptitude of a base material can be improved. Moreover, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be improved.
At this time, the thickness of the high-density polyethylene layer is preferably thinner than the thickness of the medium-density polyethylene layer.
The ratio between the thickness of the high-density polyethylene layer and the thickness of the medium-density polyethylene layer is preferably 1/10 or more and 1/1 or less, and more preferably 1/5 or more and 1/2 or less.
By setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer and the thickness of the medium-density polyethylene layer to 1/10 or more, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be further improved. Moreover, the drawability of a base material can be improved more by making ratio of the thickness of a high density polyethylene layer and the thickness of a medium density polyethylene layer into 1/1 or less.
また、例えば、外側から、高密度ポリエチレン層と中密度ポリエチレン層と高密度ポリエチレン層との三層共押フィルムからなる構成とすることもできる。
このような構成とすることにより、基材の延伸適性をより向上することができる。また、本発明の積層体の強度および耐熱性をより向上することができる。さらに、基材におけるカールの発生を防止することができる。
このとき、高密度ポリエチレン層の厚さは、中密度ポリエチレン層の厚さよりも薄いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比は、1/10以上1/1以下であることが好ましく、1/5以上1/2以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/10以上とすることにより、本発明の積層体の強度および耐熱性をより向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/1以下とすることにより、基材の延伸適性をより向上することができる。
For example, it can also be set as the structure which consists of a three-layer co-pressing film of a high density polyethylene layer, a medium density polyethylene layer, and a high density polyethylene layer from the outside.
By setting it as such a structure, the extending | stretching aptitude of a base material can be improved more. Moreover, the intensity | strength and heat resistance of the laminated body of this invention can be improved more. Furthermore, the occurrence of curling in the substrate can be prevented.
At this time, the thickness of the high-density polyethylene layer is preferably thinner than the thickness of the medium-density polyethylene layer.
The ratio between the thickness of the high-density polyethylene layer and the thickness of the medium-density polyethylene layer is preferably 1/10 or more and 1/1 or less, and more preferably 1/5 or more and 1/2 or less.
By setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer and the thickness of the medium-density polyethylene layer to 1/10 or more, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be further improved. Moreover, the drawability of a base material can be improved more by making ratio of the thickness of a high density polyethylene layer and the thickness of a medium density polyethylene layer into 1/1 or less.
また、例えば、外側から、高密度ポリエチレン層と中密度ポリエチレン層と低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層(該段落においては、記載簡略化のため、まとめて低密度ポリエチレン層と記載する。)と中密度ポリエチレン層と高密度ポリエチレン層からなる五層共押フィルムの構成とすることもできる。
このような構成とすることにより、基材の延伸適性を向上することができる。また、本発明の積層体の強度および耐熱性を向上することができる。また、基材におけるカールの発生を防止することができる。
さらに、下記するように基材の生産効率を向上することができる。
このとき、高密度ポリエチレン層の厚さは、中密度ポリエチレン層の厚さよりも薄いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比は、1/10以上1/1以下であることが好ましく、1/5以上1/2以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/10以上とすることにより、本発明の積層体の強度および耐熱性を向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/1以下とすることにより、基材の延伸適性を向上することができる。
また、高密度ポリエチレン層の厚さは、低密度ポリエチレン層の厚さと同じまたは低密度ポリエチレンの厚さよりも厚いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比は、1/0.25以上1/2以下であることが好ましく、1/0.5以上1/1以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/0.25以上とすることにより、耐熱性を向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/1以下とすることにより、中密度ポリエチレン層間の密着性を向上することができる。
各高密度ポリエチレン層の厚さは、1μm以上、20μm以下であることが好ましく、2μm以上、10μm以下であることがより好ましい。高密度ポリエチレン層の厚さを、1μm以上とすることにより、本発明の積層体の強度および耐熱性をより向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さを、20μm以下とすることにより、本発明の積層体の加工適性をより向上することができる。
中密度ポリエチレン層の厚さは、1μm以上、30μm以下であることが好ましく、5μm以上、20μm以下であることがより好ましい。中密度ポリエチレン層の厚さを、1μm以上とすることにより、基材の延伸適性をより向上することができる。また、中密度ポリエチレン層の厚さを、30μm以下とすることにより、本発明の積層体の加工適性をより向上することができる。
低密度ポリエチレン層の厚さは、1μm以上、10μm以下であることが好ましく、2μm以上、5μm以下であることがより好ましい。
低密度ポリエチレン層の厚さを、1μm以上とすることにより、高密度ポリエチレン層と中密度ポリエチレン層との密着性をより向上することができる。また低密度ポリエチレン層の厚さを、5μm以下とすることにより、本発明の積層体の加工適性をより向上することができる。
一実施形態において、このような構成の基材は、例えば、インフレーション法により作製することができる。
具体的には、外側から、高密度ポリエチレンと、中密度ポリエチレン層と、および低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層とをチューブ状に共押出し、次いで、対向する低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層同士を、これをゴムロールなどにより、圧着することによって作製することができる。
このような方法により作製することにより、製造における欠陥品数を顕著に低減することができ、最終的には、生産効率を向上することができる。
また、インフレーション製膜機において、延伸も合わせて行うことができ、これにより、生産効率をより向上することができる。
In addition, for example, from the outside, a high-density polyethylene layer, a medium-density polyethylene layer, a low-density polyethylene layer, a linear low-density polyethylene layer, or an ultra-low-density polyethylene layer ( It is also described as a density polyethylene layer.), A five-layer co-pressed film composed of a medium density polyethylene layer and a high density polyethylene layer.
By setting it as such a structure, the extending | stretching aptitude of a base material can be improved. Moreover, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be improved. In addition, the occurrence of curling in the substrate can be prevented.
Furthermore, the production efficiency of the substrate can be improved as described below.
At this time, the thickness of the high-density polyethylene layer is preferably thinner than the thickness of the medium-density polyethylene layer.
The ratio between the thickness of the high-density polyethylene layer and the thickness of the medium-density polyethylene layer is preferably 1/10 or more and 1/1 or less, and more preferably 1/5 or more and 1/2 or less.
By setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the medium-density polyethylene layer to 1/10 or more, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be improved. Moreover, the drawability of a base material can be improved by making ratio of the thickness of a high density polyethylene layer and the thickness of a medium density polyethylene layer into 1/1 or less.
Further, the thickness of the high density polyethylene layer is preferably the same as the thickness of the low density polyethylene layer or thicker than the thickness of the low density polyethylene.
The ratio of the thickness of the high density polyethylene layer to the thickness of the low density polyethylene layer is preferably 1 / 0.25 or more and 1/2 or less, more preferably 1 / 0.5 or more and 1/1 or less. preferable.
Heat resistance can be improved by making ratio of the thickness of a high density polyethylene layer and the thickness of a low density polyethylene layer into 1 / 0.25 or more. Moreover, the adhesiveness between middle density polyethylene layers can be improved by making ratio of the thickness of a high density polyethylene layer and the thickness of a low density polyethylene layer into 1/1 or less.
The thickness of each high-density polyethylene layer is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 10 μm or less. By setting the thickness of the high-density polyethylene layer to 1 μm or more, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be further improved. Moreover, the processability of the laminated body of this invention can be improved more by making the thickness of a high-density polyethylene layer into 20 micrometers or less.
The thickness of the medium density polyethylene layer is preferably 1 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 20 μm or less. By setting the thickness of the medium density polyethylene layer to 1 μm or more, the stretchability of the substrate can be further improved. Moreover, the processability of the laminated body of this invention can be improved more by making the thickness of a medium density polyethylene layer into 30 micrometers or less.
The thickness of the low density polyethylene layer is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 5 μm or less.
By setting the thickness of the low density polyethylene layer to 1 μm or more, the adhesion between the high density polyethylene layer and the medium density polyethylene layer can be further improved. Moreover, the processability of the laminated body of this invention can be improved more by making the thickness of a low density polyethylene layer into 5 micrometers or less.
In one embodiment, the substrate having such a configuration can be produced by, for example, an inflation method.
Specifically, from the outside, a high-density polyethylene, a medium-density polyethylene layer, and a low-density polyethylene layer, a linear low-density polyethylene layer, or an ultra-low-density polyethylene layer are coextruded in a tube shape, and then face each other. A low-density polyethylene layer, a linear low-density polyethylene layer, or an ultra-low-density polyethylene layer can be produced by pressure-bonding them with a rubber roll or the like.
By producing by such a method, the number of defective products in the production can be remarkably reduced, and finally the production efficiency can be improved.
Further, in the inflation film forming machine, stretching can be performed together, and thereby production efficiency can be further improved.
一実施形態において、外側から、高密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンのブレンド樹脂層と、中密度ポリエチレン層と、低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層(該段落においては、記載簡略化のため、まとめて低密度ポリエチレン層と記載する。)と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンのブレンド樹脂層と、高密度ポリエチレン層からなる七層共押フィルムの構成とすることもできる。
このような構成とすることにより、高密度ポリエチレン層と中密度ポリエチレン層との密着性を向上することができる。また、本発明の積層体の加工適性を向上することができる。
各高密度ポリエチレン層の厚さは、1μm以上、20μm以下であることが好ましく、2μm以上、10μm以下であることがより好ましい。高密度ポリエチレン層の厚さを、1μm以上とすることにより、本発明の積層体の強度および耐熱性をより向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さを、20μm以下とすることにより、本発明の積層体の加工適性をより向上することができる。
各高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンのブレンド樹脂層の厚さは、1μm以上、20μm以下であることが好ましく、2μm以上、10μm以下であることがより好ましい。これにより、高密度ポリエチレン層と中密度ポリエチレン層との密着が向上することができる。また、本発明の積層体の加工適性を向上することができる。
ブレンド樹脂層における高密度ポリエチレンと、中密度ポリエチレンの配合比は、質量基準で、1:9〜9:1であることが好ましく、3:7〜7:3であることがより好ましい。これにより、高密度ポリエチレン層と中密度ポリエチレン層との密着が向上することができる。また、本発明の積層体の加工適性を向上することができる。
中密度ポリエチレン層の厚さは、1μm以上、30μm以下であることが好ましく、5μm以上、20μm以下であることがより好ましい。中密度ポリエチレン層の厚さを、1μm以上とすることにより、基材の延伸適性をより向上することができる。また、中密度ポリエチレン層の厚さを、30μm以下とすることにより、本発明の積層体の加工適性をより向上することができる。
低密度ポリエチレン層の厚さは、1μm以上、10μm以下であることが好ましく、2μm以上、5μm以下であることがより好ましい。
低密度ポリエチレン層の厚さを、1μm以上とすることにより、高密度ポリエチレン層と中密度ポリエチレン層との密着性をより向上することができる。また低密度ポリエチレン層の厚さを、5μm以下とすることにより、本発明の積層体の加工適性をより向上することができる。
一実施形態において、このような構成の基材は、上記したインフレーション法により作製することができる。
このような方法により作製することにより、製造における欠陥品数を顕著に低減することができ、最終的には、生産効率を向上することができる。
また、インフレーション製膜機において、延伸も合わせて行うことができ、これにより、生産効率をより向上することができる。
In one embodiment, from the outside, a high-density polyethylene layer, a blend resin layer of high-density polyethylene and medium-density polyethylene, a medium-density polyethylene layer, a low-density polyethylene layer, a linear low-density polyethylene layer, or an ultra-low-density polyethylene. A layer (in the paragraph, for simplicity of description, collectively referred to as a low density polyethylene layer), a medium density polyethylene layer, a high density polyethylene and a blend resin layer of medium density polyethylene, and a high density polyethylene layer. It can also be set as the structure of the seven layer co-pressing film which becomes.
By setting it as such a structure, the adhesiveness of a high density polyethylene layer and a medium density polyethylene layer can be improved. Moreover, the workability of the laminate of the present invention can be improved.
The thickness of each high-density polyethylene layer is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 10 μm or less. By setting the thickness of the high-density polyethylene layer to 1 μm or more, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be further improved. Moreover, the processability of the laminated body of this invention can be improved more by making the thickness of a high-density polyethylene layer into 20 micrometers or less.
The thickness of the blend resin layer of each high-density polyethylene and medium-density polyethylene is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 10 μm or less. Thereby, the adhesion between the high-density polyethylene layer and the medium-density polyethylene layer can be improved. Moreover, the workability of the laminate of the present invention can be improved.
The blending ratio of the high density polyethylene and the medium density polyethylene in the blend resin layer is preferably 1: 9 to 9: 1 and more preferably 3: 7 to 7: 3 on a mass basis. Thereby, the adhesion between the high-density polyethylene layer and the medium-density polyethylene layer can be improved. Moreover, the workability of the laminate of the present invention can be improved.
The thickness of the medium density polyethylene layer is preferably 1 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 20 μm or less. By setting the thickness of the medium density polyethylene layer to 1 μm or more, the stretchability of the substrate can be further improved. Moreover, the processability of the laminated body of this invention can be improved more by making the thickness of a medium density polyethylene layer into 30 micrometers or less.
The thickness of the low density polyethylene layer is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 5 μm or less.
By setting the thickness of the low density polyethylene layer to 1 μm or more, the adhesion between the high density polyethylene layer and the medium density polyethylene layer can be further improved. Moreover, the processability of the laminated body of this invention can be improved more by making the thickness of a low density polyethylene layer into 5 micrometers or less.
In one embodiment, the base material having such a configuration can be manufactured by the inflation method described above.
By producing by such a method, the number of defective products in the production can be remarkably reduced, and finally the production efficiency can be improved.
Further, in the inflation film forming machine, stretching can be performed together, and thereby production efficiency can be further improved.
基材の厚さは、9μm以上、50μm以下であることが好ましく、12μm以上、30μm以下であることがより好ましい。基材の厚さを上記数値範囲内とすることにより、積層体の印刷適性、強度および耐熱性をより向上することができる。 The thickness of the substrate is preferably 9 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 12 μm or more and 30 μm or less. By setting the thickness of the substrate within the above numerical range, the printability, strength, and heat resistance of the laminate can be further improved.
第1の態様において、基材は、少なくともその一方の面に、蒸着膜を備える。ヒートシール層との密着性の観点からは、基材のヒートシール層が設けられた側とは反対の側に蒸着膜を備えていることが好ましい。 In the first aspect, the substrate includes a deposited film on at least one surface thereof. From the viewpoint of adhesion to the heat seal layer, it is preferable that a vapor deposition film is provided on the side of the substrate opposite to the side where the heat seal layer is provided.
蒸着膜を構成する材料としては、例えば、アルミニウム等の金属や酸化アルミニウム、並びに酸化ケイ素、酸化マグシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウムおよび酸化バリウム等の無機酸化物等が挙げられる。
上記した中でも、透明性が高く、基材に形成される画像の視認性を低下させることがなく、ガスバリア性にも優れるため、酸化アルミニウムにより蒸着膜を形成することが好ましい。
Examples of the material constituting the deposited film include metals such as aluminum, aluminum oxide, and inorganic oxides such as silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, boron oxide, hafnium oxide, and barium oxide. Can be mentioned.
Among the above, it is preferable to form a deposited film with aluminum oxide because it has high transparency, does not deteriorate the visibility of an image formed on the substrate, and has excellent gas barrier properties.
また、蒸着膜の膜厚は、0.002μm以上、0.4μm以下であることが好ましく、0.005μm以上、0.1μm以下であることがより好ましい。蒸着膜の厚みを上記数値範囲内とすることにより、ガスバリア性を維持しつつ、蒸着膜におけるクラックなどの発生を防止することができる。 Further, the thickness of the deposited film is preferably 0.002 μm or more and 0.4 μm or less, and more preferably 0.005 μm or more and 0.1 μm or less. By setting the thickness of the vapor deposition film within the above numerical range, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the vapor deposition film while maintaining gas barrier properties.
基材は、その表面に、文字、柄、記号等の画像が形成されていてもよい。画像の経時的な劣化を防止することができるため、基材のヒートシール層を積層する側に画像を形成することが好ましい。
画像の形成方法は、特に限定されるものではなく、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法等の従来公知の印刷法を挙げることができる。これらの中でも、環境負荷の観点から、フレキソ印刷法が好ましい。
The substrate may have images of characters, patterns, symbols, etc. formed on its surface. Since deterioration of the image over time can be prevented, it is preferable to form the image on the side of the base material where the heat seal layer is laminated.
The image forming method is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known printing methods such as gravure printing, offset printing, and flexographic printing. Among these, the flexographic printing method is preferable from the viewpoint of environmental load.
基材は、ポリエチレンを含む樹脂材料を溶融し、これをインフレーション成形法またはT−ダイ成形法等の溶融押出成形法によって製膜した後、延伸することによって得ることができる。延伸処理をより容易に行うことができるため、インフレーション成形法により作製することが好ましい。多層構造を有する基材は、複数の樹脂材料を溶融共押出することにより作製することができる。 The base material can be obtained by melting a resin material containing polyethylene, forming the film by a melt extrusion method such as an inflation molding method or a T-die molding method, and then stretching. Since the stretching process can be performed more easily, it is preferable to produce the film by an inflation molding method. A substrate having a multilayer structure can be produced by melt coextrusion of a plurality of resin materials.
樹脂材料のメルトフローレート(MFR)は、0.5g/10分以上、20g/10分以下であることが好ましく、0.8g/10分以上、5g/10分以下であることがより好ましい。樹脂材料のMFRを上記数値範囲内とすることにより、延伸処理をより容易に行うことができる。 The melt flow rate (MFR) of the resin material is preferably 0.5 g / 10 min or more and 20 g / 10 min or less, and more preferably 0.8 g / 10 min or more and 5 g / 10 min or less. By setting the MFR of the resin material within the above numerical range, the stretching process can be performed more easily.
蒸着膜を形成する方法としては、従来公知の方法を採用でき、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等を挙げることができる。 As a method for forming a vapor deposition film, a conventionally known method can be adopted. For example, a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a plasma chemistry method. Examples thereof include a chemical vapor deposition method (chemical vapor deposition method, CVD method) such as a vapor deposition method, a thermal chemical vapor deposition method, and a photochemical vapor deposition method.
また、例えば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜を形成して使用することもできる。蒸着チャンバーの真空度としては、酸素導入前においては、10−2〜10−8mbar程度、特に、10−3〜10−7mbar程度が好ましく、酸素導入後においては、10−1〜10−6mbar程度、特に10−2〜10−5mbar程度が好ましい。なお、酸素導入量等は、蒸着機の大きさ等によって異なる。導入する酸素には、キャリヤーガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガス等の不活性ガスを支障のない範囲で使用してもよい。フィルムの搬送速度としては、10〜800m/分程度、特に50〜600m/分程度が好ましい。 In addition, for example, a composite film composed of two or more vapor-deposited films of different kinds of inorganic oxides can be formed by using both physical vapor deposition and chemical vapor deposition. The degree of vacuum in the vapor deposition chamber is preferably about 10-2 to 10-8 mbar, particularly about 10-3 to 10-7 mbar before introducing oxygen, and about 10-1 to 10-6 mbar after introducing oxygen. In particular, about 10-2 to 10-5 mbar is preferable. The amount of oxygen introduced varies depending on the size of the vapor deposition machine. For the oxygen to be introduced, an inert gas such as argon gas, helium gas, nitrogen gas or the like may be used as a carrier gas within a range where there is no problem. As a conveyance speed of a film, about 10-800 m / min, especially about 50-600 m / min are preferable.
一実施形態において、基材は、バリアコート層を備えることができ、これにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。
基材が、蒸着膜を備える場合、該バリアコート層は、上記蒸着膜上に設けられていても、蒸着膜下に設けられていてもよい。
In one embodiment, the substrate can comprise a barrier coat layer, which can improve oxygen barrier properties and water vapor barrier properties.
When a base material is provided with a vapor deposition film, this barrier coat layer may be provided on the said vapor deposition film, or may be provided under the vapor deposition film.
一実施形態において、バリアコート層は、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ナイロン6、ナイロン6,6およびポリメタキシリレンアジパミド(MXD6)などのポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、並びに(メタ)アクリル樹脂などのガスバリア性樹脂を含む。これらの中でも、酸素バリア性および水蒸気バリア性という観点から、ポリビニルアルコールが好ましい。
また、基材が、無機酸化物から構成される蒸着膜を備える場合、バリアコート層にポリビニルアルコールを含有させることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止することができる。
In one embodiment, the barrier coat layer comprises a polyamide, polyester, such as ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, nylon 6, nylon 6,6 and polymethaxylylene adipamide (MXD6), Gas barrier resin such as polyurethane and (meth) acrylic resin is included. Among these, polyvinyl alcohol is preferable from the viewpoint of oxygen barrier properties and water vapor barrier properties.
Moreover, when a base material is provided with the vapor deposition film comprised from an inorganic oxide, generation | occurrence | production of the crack in a vapor deposition film can be effectively prevented by making a barrier coat layer contain polyvinyl alcohol.
バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量は、50質量%以上95質量%以下であることが好ましく、75質量%以上90質量%以下であることがより好ましい。バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量を50質量%以上とすることにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。 The content of the gas barrier resin in the barrier coat layer is preferably 50% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 75% by mass or more and 90% by mass or less. By setting the content of the gas barrier resin in the barrier coat layer to 50% by mass or more, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property can be further improved.
バリアコート層は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができる。 The barrier coat layer can contain an additive as long as the characteristics of the present invention are not impaired.
バリアコート層の厚さは、0.01μm以上10μm以下であることが好ましく、0.1μm以上5μm以下であることがより好ましい。
バリアコート層の厚さを0.01μm以上とすることにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。バリアコート層の厚さを10μm以下とすることにより、リサイクル性を維持することができる。
The thickness of the barrier coat layer is preferably 0.01 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less.
By setting the thickness of the barrier coat layer to 0.01 μm or more, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property can be further improved. Recyclability can be maintained by setting the thickness of the barrier coat layer to 10 μm or less.
バリアコート層は、上記材料を水または適当な溶剤に、溶解または分散させ、塗布、乾燥することにより形成することができる。また、市販されるバリアコート剤を塗布、乾燥することによってもバリアコート層を形成することができる。 The barrier coat layer can be formed by dissolving or dispersing the above material in water or a suitable solvent, coating and drying. The barrier coat layer can also be formed by applying and drying a commercially available barrier coat agent.
また、他の実施形態において、バリアコート層は、金属アルコキシドと水溶性高分子との混合物を、ゾルゲル法触媒、水および有機溶剤などの存在下で、ゾルゲル法によって重縮合して得られる金属アルコキシドの加水分解物または金属アルコキシドの加水分解縮合物などの樹脂組成物を少なくとも1種含むガスバリア性塗布膜である。
基材が、無機酸化物から構成される蒸着膜を備える場合、該形態のバリアコート層を、蒸着膜と隣接するように設けることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止することができる。
In another embodiment, the barrier coat layer comprises a metal alkoxide obtained by polycondensation of a mixture of a metal alkoxide and a water-soluble polymer by a sol-gel method in the presence of a sol-gel method catalyst, water, an organic solvent, or the like. It is a gas barrier coating film containing at least one resin composition such as a hydrolyzate or a hydrolyzed condensate of a metal alkoxide.
When the substrate includes a vapor deposition film composed of an inorganic oxide, it is possible to effectively prevent the occurrence of cracks in the vapor deposition film by providing the barrier coat layer of this form adjacent to the vapor deposition film. it can.
一実施形態において、金属アルコキシドは、下記一般式で表される。
R1 nM(OR2)m
(ただし、式中、R1、R2は、それぞれ、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは金属原子を表し、nは0以上の整数を表し、mは1以上の整数を表し、n+mはMの原子価を表す。)
In one embodiment, the metal alkoxide is represented by the general formula:
R 1 n M (OR 2 ) m
(In the formula, R 1 and R 2 each represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, and m represents an integer of 1 or more. N + m represents the valence of M.)
金属原子Mとしては、例えば、珪素、ジルコニウム、チタンおよびアルミニウムなどを使用することができる。
また、R1およびR2で表される有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基およびi−ブチル基などのアルキル基を挙げることができる。
As the metal atom M, for example, silicon, zirconium, titanium and aluminum can be used.
Examples of the organic group represented by R 1 and R 2 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group and i-butyl group. Can do.
上記一般式を満たす金属アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン(Si(OCH3)4)、テトラエトキシシラン(質量%)Si(OC2H5)4)、テトラプロポキシシラン(Si(OC3H7)4)、テトラブトキシシラン(Si(OC4H9)4)などが挙げられる。 Examples of the metal alkoxide satisfying the above general formula include tetramethoxysilane (Si (OCH 3 ) 4 ), tetraethoxysilane (mass%) Si (OC 2 H 5 ) 4 ), and tetrapropoxysilane (Si (OC 3 H). 7 ) 4 ), tetrabutoxysilane (Si (OC 4 H 9 ) 4 ) and the like.
また、上記金属アルコキシドと共に、シランカップリング剤が使用されることが好ましい。
シランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを用いることができるが、特に、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好ましい。エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランとしては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランおよびβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
Moreover, it is preferable that a silane coupling agent is used with the said metal alkoxide.
As the silane coupling agent, a known organic reactive group-containing organoalkoxysilane can be used, and an organoalkoxysilane having an epoxy group is particularly preferable. Examples of the organoalkoxysilane having an epoxy group include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. It is done.
上記のようなシランカップリング剤は、2種以上を使用してもよく、シランカップリング剤は、上記アルコキシドの合計量100質量部に対して、1〜20質量部程度の範囲内で使用することが好ましい。 Two or more silane coupling agents as described above may be used, and the silane coupling agent is used within a range of about 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the alkoxide. It is preferable.
水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましく、酸素バリア性、水蒸気バリア性、耐水性および耐候性という観点からは、これらを併用することが好ましい。 As the water-soluble polymer, polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer are preferable. From the viewpoint of oxygen barrier property, water vapor barrier property, water resistance and weather resistance, it is preferable to use these in combination.
ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量は、金属アルコキシド100質量部に対して5質量部以上500質量部以下であることが好ましい。
ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド100質量部に対して5質量部以上とすることにより、基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。また、ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド100質量部に対して500質量部以下とすることにより、ガスバリア性塗布膜の製膜性を向上することができる。
The content of the water-soluble polymer in the gas barrier coating film is preferably 5 parts by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the metal alkoxide.
By setting the content of the water-soluble polymer in the gas barrier coating film to 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the metal alkoxide, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the substrate can be further improved. Moreover, the film-formability of a gas barrier coating film can be improved by making content of the water-soluble polymer in a gas barrier coating film into 500 mass parts or less with respect to 100 mass parts of metal alkoxides.
ガスバリア性塗布膜の厚さは、0.01μm以上100μm以下であることが好ましく、0.1μm以上50μm以下であることがより好ましい。これにより、リサイクル性を維持しつつ、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。
ガスバリア性塗布膜の厚さを0.01μm以上とすることにより、基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、無機酸化物から構成される蒸着膜と隣接するように設けた場合に、蒸着膜におけるクラックの発生を防止することができる。
The thickness of the gas barrier coating film is preferably 0.01 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 50 μm or less. Thereby, oxygen barrier property and water vapor | steam barrier property can be improved more, maintaining recyclability.
By setting the thickness of the gas barrier coating film to 0.01 μm or more, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the substrate can be improved. Moreover, when it provides so that it may adjoin with the vapor deposition film comprised from an inorganic oxide, generation | occurrence | production of the crack in a vapor deposition film can be prevented.
ガスバリア性塗布膜は、上記材料を含む組成物を、グラビアロールコーターなどのロールコート、スプレーコート、スピンコート、ディッピング、刷毛、バーコード、アプリケータなどの従来公知の手段により、塗布し、その組成物をゾルゲル法により重縮合することにより形成させることができる。
ゾルゲル法触媒としては、酸またはアミン系化合物が好適である。アミン系化合物としては、水に実質的に不溶であり、且つ有機溶媒に可溶な第3級アミンが好適であり、例えば、N,N−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミンなどが挙げられる。これらの中でも、N,N−ジメチルべンジルアミンが好ましい。
ゾルゲル法触媒は、金属アルコキシド100質量部当り、0.01質量部以上1.0質量部以下の範囲で使用することが好ましく、0.03質量部以上0.3質量部以下の範囲で使用することがより好ましい。
ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド100質量部当り、0.01質量部以上とすることにより、その触媒効果を向上することができる。また、ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド100質量部当り、1.0質量部以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にすることができる。
The gas barrier coating film is formed by applying a composition containing the above materials by a conventionally known means such as a roll coat such as a gravure roll coater, spray coat, spin coat, dipping, brush, bar code, applicator, etc. The product can be formed by polycondensation by a sol-gel method.
As the sol-gel method catalyst, an acid or an amine compound is suitable. As the amine compound, a tertiary amine that is substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent is preferable. For example, N, N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, and tripentyl. An amine etc. are mentioned. Among these, N, N-dimethylbenzylamine is preferable.
The sol-gel method catalyst is preferably used in the range of 0.01 parts by mass or more and 1.0 parts by mass or less, and in the range of 0.03 parts by mass or more and 0.3 parts by mass or less per 100 parts by mass of the metal alkoxide. It is more preferable.
By setting the amount of the sol-gel method catalyst used to 0.01 parts by mass or more per 100 parts by mass of the metal alkoxide, the catalytic effect can be improved. Moreover, the thickness of the gas-barrier coating film formed can be made uniform by making the usage-amount of a sol-gel method catalyst into 1.0 mass part or less per 100 mass parts of metal alkoxides.
上記組成物は、さらに酸を含んでいてもよい。酸は、ゾル−ゲル法の触媒、主としてアルコキシドやシランカップリング剤などの加水分解のための触媒として用いられる。
酸としては、硫酸、塩酸、硝酸などの鉱酸、ならびに酢酸、酒石酸などの有機酸が用いられる。酸の使用量は、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.001モル以上0.05モル以下であることが好ましい。
酸の使用量をアルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.001モル以上とすることにより、触媒効果を向上することができる。また、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.05モル以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にすることができる。
The composition may further contain an acid. The acid is used as a sol-gel catalyst, mainly as a catalyst for hydrolysis of alkoxides, silane coupling agents and the like.
As the acid, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and nitric acid, and organic acids such as acetic acid and tartaric acid are used. The amount of the acid used is preferably 0.001 mol or more and 0.05 mol or less with respect to the total molar amount of the alkoxide and the alkoxide content of the silane coupling agent (for example, silicate moiety).
The catalyst effect can be improved by setting the amount of the acid used to be 0.001 mol or more with respect to the total molar amount of the alkoxide and the alkoxide content of the silane coupling agent (for example, silicate moiety). Further, the thickness of the formed gas barrier coating film can be made uniform by setting it to 0.05 mol or less with respect to the total molar amount of the alkoxide and the alkoxide content of the silane coupling agent (for example, silicate portion). it can.
また、上記組成物は、アルコキシドの合計モル量1モルに対して、好ましくは0.1モル以上100モル以下、より好ましくは0.8モル以上2モル以下の割合の水を含んでなることが好ましい。
水の含有量をアルコキシドの合計モル量1モルに対して、0.1モル以上とすることにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、水の含有量をアルコキシドの合計モル量1モルに対して、100モル以上とすることにより、加水分解反応を速やかに行うことができる。
The composition may contain water in a proportion of preferably 0.1 mol or more and 100 mol or less, more preferably 0.8 mol or more and 2 mol or less, with respect to 1 mol of the total molar amount of alkoxide. preferable.
By setting the water content to 0.1 mol or more with respect to 1 mol of the total molar amount of alkoxide, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property can be improved. Moreover, a hydrolysis reaction can be rapidly performed by making content of water into 100 mol or more with respect to 1 mol of total molar amounts of an alkoxide.
また、上記組成物は、有機溶剤を含んでいてもよい。有機溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノールなどを用いることができる。 Moreover, the said composition may contain the organic solvent. As the organic solvent, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol and the like can be used.
以下、ガスバリア性塗布膜の形成方法の一実施形態について以下に説明する。
まず、金属アルコキシド、水溶性高分子、ゾルゲル法触媒、水、有機溶媒および必要に応じてシランカップリング剤などを混合し、組成物を調製する。該組成物中では次第に重縮合反応が進行する。
次いで、上記従来公知の方法により、該組成物を塗布、乾燥する。この乾燥により、アルコキシドおよび水溶性高分子(組成物が、シランカップリング剤を含む場合は、シランカップリング剤も)の重縮合反応がさらに進行し、複合ポリマーの層が形成される。
最後に、該組成物を20〜250℃、好ましくは50〜220℃の温度で、1秒〜10分間加熱することにより、ガスバリア性塗布膜を形成することができる。
Hereinafter, an embodiment of a method for forming a gas barrier coating film will be described below.
First, a metal alkoxide, a water-soluble polymer, a sol-gel method catalyst, water, an organic solvent, and a silane coupling agent as necessary are mixed to prepare a composition. The polycondensation reaction gradually proceeds in the composition.
Next, the composition is applied and dried by the conventionally known method. By this drying, the polycondensation reaction of the alkoxide and the water-soluble polymer (and the silane coupling agent when the composition contains a silane coupling agent) further proceeds to form a composite polymer layer.
Finally, the gas barrier coating film can be formed by heating the composition at a temperature of 20 to 250 ° C., preferably 50 to 220 ° C., for 1 second to 10 minutes.
バリアコート層は、その表面に画像が形成されていてもよい。画像の形成方法などについては上記した通りである。 The barrier coat layer may have an image formed on the surface thereof. The image forming method is as described above.
<ヒートシール層>
ヒートシール層は、基材と同一の材料、すなわち、ポリエチレンにより構成されている。このような構成とすることにより、積層体のリサイクル性を向上できる。
ヒートシール層は、高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)およびエチレンとその他のモノマーとの共重合体の少なくとも1つを含む。これらの中でも、ヒートシール性という観点からは、低密度ポリエチレン(LDPE)および直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)が好ましい。環境負荷の観点からは、これらポリエチレンは、バイオマス由来のものであることが好ましい。
<Heat seal layer>
The heat seal layer is made of the same material as the base material, that is, polyethylene. By setting it as such a structure, the recyclability of a laminated body can be improved.
The heat seal layer is at least one of high density polyethylene (HDPE), medium density polyethylene (MDPE), low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), and a copolymer of ethylene and other monomers. including. Among these, low density polyethylene (LDPE) and linear low density polyethylene (LLDPE) are preferable from the viewpoint of heat sealability. From the viewpoint of environmental load, these polyethylenes are preferably derived from biomass.
ヒートシール層におけるポリエチレンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。 The polyethylene content in the heat seal layer is preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.
ヒートシール層は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等が挙げられる。 The heat seal layer can contain additives as long as the properties of the present invention are not impaired, such as a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, an antistatic agent, Examples thereof include pigments and modifying resins.
ヒートシール層の厚さは、20μm以上、200μm以下であることが好ましく、30μm以上、150μm以下であることがより好ましい。ヒートシール層の厚さを上記数値範囲内とすることにより、そのヒートシール性を向上することができる。 The thickness of the heat seal layer is preferably 20 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 30 μm or more and 150 μm or less. By setting the thickness of the heat seal layer within the above numerical range, the heat sealability can be improved.
ヒートシール層は、ポリエチレンを含む樹脂材料を、インフレーション成形またはT−ダイ成形等の溶融押出成形法によって製膜することによりポリエチレンフィルムを作製し、これを接着層を介して、基材または蒸着膜を備えるポリエチレン層上に積層することにより、形成することができる。
接着層は、接着剤を含み、この接着剤は、
接着剤としては、1液硬化型若しくは2液硬化型、または非硬化型のいずれも接着剤であってもよい。また、接着剤は、無溶剤型の接着剤であっても、溶剤型の接着剤であってもよいが、環境負荷の観点からは、無溶剤型の接着剤が好ましく使用できる。
無溶剤型接着剤としては、例えば、ポリエーテル系接着剤、ポリエステル系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤およびウレタン系接着剤などが挙げられ、これらのなかでも2液硬化型のウレタン系接着剤を好ましく使用することができる。
溶剤型接着剤としては、例えば、ゴム系接着剤、ビニル系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤、フェノール系接着剤およびオレフィン系接着剤などが挙げられる。
The heat seal layer is formed by forming a polyethylene film by forming a resin material containing polyethylene by a melt extrusion molding method such as inflation molding or T-die molding. It can form by laminating | stacking on a polyethylene layer provided with.
The adhesive layer includes an adhesive, which is
As the adhesive, either a one-component curable type, a two-component curable type, or a non-curable type may be an adhesive. The adhesive may be a solvent-free adhesive or a solvent-type adhesive, but a solvent-free adhesive can be preferably used from the viewpoint of environmental load.
Examples of solventless adhesives include polyether adhesives, polyester adhesives, silicone adhesives, epoxy adhesives, and urethane adhesives. Among these, two-component curable urethanes are used. A system adhesive can be preferably used.
Examples of the solvent-type adhesive include rubber adhesives, vinyl adhesives, silicone adhesives, epoxy adhesives, phenol adhesives, and olefin adhesives.
また、基材が、アルミニウム蒸着膜を備え、これ蒸着膜と隣接するように接着層を設ける場合には、接着層を、ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物とリン酸変性化合物を含む樹脂組成物の硬化物により構成することが好ましい。
蒸着膜を備えた積層体を包装材料に適用する際には、成形機などにより積層体に屈曲負荷がかかるため、アルミニウム蒸着膜に亀裂などが生じる恐れがある。上記したような特定の接着剤を使用することで、アルミニウム蒸着膜に亀裂が生じた場合であっても、酸素バリア性および水蒸気バリア性の低下を抑制することができる。
Moreover, when a base material is provided with an aluminum vapor deposition film and an adhesive layer is provided so as to be adjacent to the aluminum vapor deposition film, the adhesive layer is a cured product of a resin composition containing a polyester polyol, an isocyanate compound, and a phosphoric acid-modified compound. It is preferable to comprise.
When a laminated body provided with a vapor deposition film is applied to a packaging material, a bending load is applied to the laminated body by a molding machine or the like, so that there is a possibility that a crack or the like may occur in the aluminum vapor deposition film. By using the specific adhesive as described above, it is possible to suppress a decrease in oxygen barrier property and water vapor barrier property even when a crack is generated in the aluminum deposited film.
ポリエステルポリオールは、官能基として1分子中に水酸基を2個以上有する。また、イソシアネート化合物は、官能基として1分子中にイソシアネート基を2個以上有する。ポリエステルポリオールは、主骨格として、例えばポリエステル構造、またはポリエステルポリウレタン構造を有する。 The polyester polyol has two or more hydroxyl groups in one molecule as a functional group. Moreover, an isocyanate compound has two or more isocyanate groups in 1 molecule as a functional group. The polyester polyol has, for example, a polyester structure or a polyester polyurethane structure as a main skeleton.
ポリエステルポリオール、イソシアネート化合物およびリン酸変性化合物を含有する樹脂組成物の具体例としては、DIC株式会社から販売されている、パスリム(PASLIM)のシリーズが使用できる。 As a specific example of a resin composition containing a polyester polyol, an isocyanate compound, and a phosphoric acid-modified compound, a series of PASLIM sold by DIC Corporation can be used.
該樹脂組成物は、板状無機化合物、カップリング剤、シクロデキストリンおよび/またはその誘導体などをさらに含んでいてもよい。 The resin composition may further contain a plate-like inorganic compound, a coupling agent, cyclodextrin and / or a derivative thereof.
官能基として1分子中に水酸基を2個以上有するポリエステルポリオールとしては、例えば下記の〔第1例〕〜〔第3例〕を用いることができる。
〔第1例〕オルト配向多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコールとを重縮合して得られるポリエステルポリオール
〔第2例〕グリセロール骨格を有するポリエステルポリオール
〔第3例〕イソシアヌル環を有するポリエステルポリオール
以下、各ポリエステルポリオールについて説明する。
As the polyester polyol having two or more hydroxyl groups in one molecule as a functional group, for example, the following [First Example] to [Third Example] can be used.
[First Example] Polyester polyol obtained by polycondensation of ortho-oriented polyvalent carboxylic acid or anhydride and polyhydric alcohol [Second Example] Polyester polyol having glycerol skeleton [Third Example] Having an isocyanuric ring Hereinafter, each polyester polyol will be described.
第1例に係るポリエステルポリオールは、オルトフタル酸およびその無水物を少なくとも1種以上含む多価カルボン酸成分と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、およびシクロヘキサンジメタノールからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む多価アルコール成分とを重縮合して得られる重縮合体である。
特に、オルトフタル酸およびその無水物の、多価カルボン酸全成分に対する含有率が70〜100質量%であるポリエステルポリオールが好ましい。
The polyester polyol according to the first example is selected from the group consisting of a polyvalent carboxylic acid component containing at least one or more of orthophthalic acid and its anhydride, ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, and cyclohexanedimethanol. It is a polycondensate obtained by polycondensation with a polyhydric alcohol component containing at least one kind.
In particular, a polyester polyol in which the content of orthophthalic acid and its anhydride with respect to all the components of the polyvalent carboxylic acid is 70 to 100% by mass is preferable.
第1例に係るポリエステルポリオールは、多価カルボン酸成分としてオルトフタル酸およびその無水物を必須とするが、本実施の形態の効果を損なわない範囲において、他の多価カルボン酸成分を共重合させてもよい。
具体的には、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸およびドデカンジカルボン酸など脂肪族多価カルボン酸、無水マレイン酸、マレイン酸およびフマル酸などの不飽和結合含有多価カルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸および1,4−シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族多価カルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ナフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、1,2−ビス(フェノキシ)エタン−p,p’−ジカルボン酸、これらジカルボン酸の無水物およびこれらジカルボン酸のエステル形成性誘導体などの芳香族多価カルボン酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−(2−ヒドロキシエトキシ)安息香酸およびこれらのジヒドロキシカルボン酸のエステル形成性誘導体などの多塩基酸などが挙げられる。これらの中でも、コハク酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、イソフタル酸が好ましい。
なお、上記その他の多価カルボン酸を2種以上使用してもよい。
The polyester polyol according to the first example essentially requires orthophthalic acid and its anhydride as the polyvalent carboxylic acid component, but is copolymerized with other polyvalent carboxylic acid components as long as the effects of the present embodiment are not impaired. May be.
Specifically, aliphatic polycarboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid and dodecanedicarboxylic acid, unsaturated bond-containing polyvalent carboxylic acids such as maleic anhydride, maleic acid and fumaric acid, Alicyclic polycarboxylic acids such as 3-cyclopentanedicarboxylic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,5- Naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, naphthalic acid, biphenyldicarboxylic acid, 1,2-bis (phenoxy) ethane-p, p'-dicarboxylic acid, anhydrides of these dicarboxylic acids and ester formation of these dicarboxylic acids Aromatic polycarboxylic acids such as ionic derivatives, p-hydroxybenzoic acid, p- ( And 2-basic acid such as 2-hydroxyethoxy) benzoic acid and ester-forming derivatives of these dihydroxycarboxylic acids. Among these, succinic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, and isophthalic acid are preferable.
Two or more kinds of the other polyvalent carboxylic acids may be used.
第2例に係るポリエステルポリオールとして、一般式(1)で表されるグリセロール骨格を有するポリエステルポリオールを挙げることができる。
式(2)において、nは1〜5の整数を表し、Xは、置換基を有してもよい1,2−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,3−アントラキノンジイル基、および2,3−アントラセンジイル基から成る群から選ばれるアリーレン基を表し、Yは炭素原子数2〜6のアルキレン基を表す)で表される基を表す。
但し、R1、R2、R3のうち少なくとも一つは、一般式(2)で表される基を表す。
In the formula (2), n represents an integer of 1 to 5, and X represents a 1,2-phenylene group, 1,2-naphthylene group, 2,3-naphthylene group, 2, Represents an arylene group selected from the group consisting of a 3-anthraquinonediyl group and a 2,3-anthracenediyl group, and Y represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
However, at least one of R1, R2, and R3 represents a group represented by the general formula (2).
一般式(1)において、R1、R2、R3の少なくとも1つは一般式(2)で表される基である必要がある。中でも、R1、R2、R3全てが一般式(2)で表される基であることが好ましい。 In the general formula (1), at least one of R1, R2, and R3 needs to be a group represented by the general formula (2). Especially, it is preferable that all of R1, R2, and R3 are groups represented by General formula (2).
また、R1、R2、R3のいずれか1つが一般式(2)で表される基である化合物と、R1、R2、R3のいずれか2つが一般式(2)で表される基である化合物と、R1、R2、R3の全てが一般式(2)で表される基である化合物の、いずれか2つ以上の化合物が混合物となっていてもよい。 In addition, a compound in which any one of R1, R2, and R3 is a group represented by the general formula (2) and a compound in which any two of R1, R2, and R3 are groups represented by the general formula (2) And any two or more of the compounds in which R1, R2, and R3 are all groups represented by the general formula (2) may be a mixture.
Xは、1,2−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,3−アントラキノンジイル基および2,3−アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
Xが置換基によって置換されている場合、1または複数の置換基で置換されていてもよく、該置換基は、X上の、遊離基とは異なる任意の炭素原子に結合している。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
X is selected from the group consisting of 1,2-phenylene group, 1,2-naphthylene group, 2,3-naphthylene group, 2,3-anthraquinonediyl group and 2,3-anthracenediyl group, and has a substituent. Represents an arylene group which may be substituted.
When X is substituted with a substituent, it may be substituted with one or more substituents, which are attached to any carbon atom on X that is different from the free radical. Examples of the substituent include chloro group, bromo group, methyl group, ethyl group, i-propyl group, hydroxyl group, methoxy group, ethoxy group, phenoxy group, methylthio group, phenylthio group, cyano group, nitro group, amino group, Examples thereof include a phthalimide group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group, and a naphthyl group.
一般式(2)において、Yは、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ネオペンチレン基、1,5−ペンチレン基、3−メチル−1,5−ペンチレン基、1,6−ヘキシレン基、メチルペンチレン基およびジメチルブチレン基などの炭素原子数2〜6のアルキレン基を表す。Yは、中でも、プロピレン基およびエチレン基が好ましくエチレン基が最も好ましい。 In the general formula (2), Y represents ethylene group, propylene group, butylene group, neopentylene group, 1,5-pentylene group, 3-methyl-1,5-pentylene group, 1,6-hexylene group, methylpentylene. And an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms such as a dimethylbutylene group. Among them, Y is preferably a propylene group or an ethylene group, and most preferably an ethylene group.
一般式(1)で表されるグリセロール骨格を有するポリエステル樹脂化合物は、グリセロールと、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコール成分とを必須成分として反応させることにより合成することができる。 The polyester resin compound having a glycerol skeleton represented by the general formula (1) is an essential component comprising glycerol, an aromatic polyvalent carboxylic acid in which the carboxylic acid is substituted in the ortho position, or an anhydride thereof, and a polyhydric alcohol component. It can synthesize | combine by making it react.
カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としては、オルトフタル酸またはその無水物、ナフタレン2,3−ジカルボン酸またはその無水物、ナフタレン1,2−ジカルボン酸またはその無水物、アントラキノン2,3−ジカルボン酸またはその無水物、および2,3−アントラセンカルボン酸またはその無水物などが挙げられる。
これらの化合物は、芳香環の任意の炭素原子に置換基を有していても良い。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
The aromatic polyvalent carboxylic acid in which the carboxylic acid is substituted in the ortho position or its anhydride include orthophthalic acid or its anhydride, naphthalene 2,3-dicarboxylic acid or its anhydride, naphthalene 1,2-dicarboxylic acid or its An anhydride, anthraquinone 2,3-dicarboxylic acid or its anhydride, 2,3-anthracene carboxylic acid or its anhydride, etc. are mentioned.
These compounds may have a substituent on any carbon atom of the aromatic ring. Examples of the substituent include chloro group, bromo group, methyl group, ethyl group, i-propyl group, hydroxyl group, methoxy group, ethoxy group, phenoxy group, methylthio group, phenylthio group, cyano group, nitro group, amino group, Examples thereof include a phthalimide group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group, and a naphthyl group.
また、多価アルコール成分としては炭素原子数2〜6のアルキレンジオールが挙げられる。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、メチルペンタンジオールおよびジメチルブタンジオールなどのジオールを例示することができる。 Examples of the polyhydric alcohol component include alkylene diols having 2 to 6 carbon atoms. For example, diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, methylpentanediol and dimethylbutanediol Can be illustrated.
第3例に係るポリエステルポリオールは、下記一般式(3)で表されるイソシアヌル環を有するポリエステルポリオールである。
一般式(4)中、n2は2〜4の整数を表し、n3は1〜5の整数を表し、Xは1,2−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,3−アントラキノンジイル基および2,3−アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、Yは炭素原子数2〜6のアルキレン基を表す)で表される基を表す。但しR1、R2、R3の少なくとも1つは一般式(4)で表される基である。 In general formula (4), n2 represents an integer of 2 to 4, n3 represents an integer of 1 to 5, X represents a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, (Selected from the group consisting of 2,3-anthraquinonediyl group and 2,3-anthracenediyl group, and represents an arylene group which may have a substituent, and Y represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms) Represents a group represented by However, at least one of R1, R2, and R3 is a group represented by the general formula (4).
一般式(3)において、−(CH2)n1−で表されるアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状でもよい。n1は、中でも2または3が好ましく、2が最も好ましい。 In general formula (3), the alkylene group represented by-(CH2) n1- may be linear or branched. n1 is preferably 2 or 3, and most preferably 2.
一般式(4)において、n2は2〜4の整数を表し、n3は1〜5の整数を表す。
Xは1,2−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,3−アントラキノンジイル基、および2,3−アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
In General formula (4), n2 represents the integer of 2-4, n3 represents the integer of 1-5.
X is selected from the group consisting of 1,2-phenylene group, 1,2-naphthylene group, 2,3-naphthylene group, 2,3-anthraquinonediyl group, and 2,3-anthracenediyl group, and has a substituent. Represents an arylene group which may be substituted.
Xが置換基によって置換されている場合、1または複数の置換基で置換されていてもよく、該置換基は、X上の、遊離基とは異なる任意の炭素原子に結合している。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
Xの置換基は、中でもヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基およびフェニル基が好ましくヒドロキシル基、フェノキシ基、シアノ基、ニトロ基、フタルイミド基およびフェニル基が最も好ましい。
When X is substituted with a substituent, it may be substituted with one or more substituents, which are attached to any carbon atom on X that is different from the free radical. Examples of the substituent include chloro group, bromo group, methyl group, ethyl group, i-propyl group, hydroxyl group, methoxy group, ethoxy group, phenoxy group, methylthio group, phenylthio group, cyano group, nitro group, amino group, Examples thereof include a phthalimide group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group, and a naphthyl group.
The substituent of X is preferably a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a phthalimido group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group and a phenyl group, preferably a hydroxyl group, a phenoxy group, a cyano group, a nitro group, a phthalimide group and A phenyl group is most preferred.
一般式(4)において、Yは、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ネオペンチレン基、1,5−ペンチレン基、3−メチル−1,5−ペンチレン基、1,6−ヘキシレン基、メチルペンチレン基およびジメチルブチレン基などの炭素原子数2〜6のアルキレン基を表す。Yは、中でも、プロピレン基およびエチレン基が好ましくエチレン基が最も好ましい。 In the general formula (4), Y represents an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a neopentylene group, a 1,5-pentylene group, a 3-methyl-1,5-pentylene group, a 1,6-hexylene group, and a methylpentylene. And an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms such as a dimethylbutylene group. Among them, Y is preferably a propylene group or an ethylene group, and most preferably an ethylene group.
一般式(3)において、R1、R2、R3の少なくとも1つは一般式(4)で表される基である。中でも、R1、R2、R3全てが一般式(4)で表される基であることが好ましい。 In the general formula (3), at least one of R1, R2, and R3 is a group represented by the general formula (4). Especially, it is preferable that all of R1, R2, and R3 are groups represented by General formula (4).
また、R1、R2、R3のいずれか1つが一般式(4)で表される基である化合物と、R1、R2、R3のいずれか2つが一般式(4)で表される基である化合物と、R1、R2、R3の全てが一般式(4)で表される基である化合物の、いずれか2つ以上の化合物が混合物となっていてもよい。 In addition, a compound in which any one of R1, R2, and R3 is a group represented by the general formula (4) and a compound in which any two of R1, R2, and R3 are groups represented by the general formula (4) And any two or more of the compounds in which all of R1, R2, and R3 are groups represented by the general formula (4) may be used as a mixture.
一般式(3)で表されるイソシアヌル環を有するポリエステルポリオールは、イソシアヌル環を有するトリオールと、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコール成分とを必須成分として反応させることにより合成することができる The polyester polyol having an isocyanuric ring represented by the general formula (3) includes a triol having an isocyanuric ring, an aromatic polycarboxylic acid in which the carboxylic acid is substituted in the ortho position, or an anhydride thereof, a polyhydric alcohol component, Can be synthesized by reacting as an essential component
イソシアヌル環を有するトリオールとしては、例えば、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸および1,3,5−トリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌル酸などのイソシアヌル酸のアルキレンオキサイド付加物などが挙げられる。 Examples of the triol having an isocyanuric ring include alkylene oxide adducts of isocyanuric acid such as 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanuric acid and 1,3,5-tris (2-hydroxypropyl) isocyanuric acid. Etc.
また、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としては、オルトフタル酸またはその無水物、ナフタレン2,3−ジカルボン酸またはその無水物、ナフタレン1,2−ジカルボン酸またはその無水物、アントラキノン2,3−ジカルボン酸またはその無水物、および2,3−アントラセンカルボン酸またはその無水物などが挙げられる。これらの化合物は、芳香環の任意の炭素原子に置換基を有していても良い。 In addition, aromatic polyvalent carboxylic acids in which the carboxylic acid is substituted in the ortho position or anhydrides thereof include orthophthalic acid or its anhydride, naphthalene 2,3-dicarboxylic acid or its anhydride, naphthalene 1,2-dicarboxylic acid. Or an anhydride thereof, anthraquinone 2,3-dicarboxylic acid or an anhydride thereof, and 2,3-anthracene carboxylic acid or an anhydride thereof. These compounds may have a substituent on any carbon atom of the aromatic ring.
該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。 Examples of the substituent include chloro group, bromo group, methyl group, ethyl group, i-propyl group, hydroxyl group, methoxy group, ethoxy group, phenoxy group, methylthio group, phenylthio group, cyano group, nitro group, amino group, Examples thereof include a phthalimide group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group and a naphthyl group.
また、多価アルコール成分としては炭素原子数2〜6のアルキレンジオールが挙げられる。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、メチルペンタンジオールおよびジメチルブタンジオールなどのジオールが挙げられる。
中でも、イソシアヌル環を有するトリオール化合物として1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸、または1,3,5−トリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌル酸を使用し、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としてオルトフタル酸無水物を使用し、多価アルコールとしてエチレングリコールを使用したイソシアヌル環を有するポリエステルポリオール化合物が、酸素バリア性や接着性に特に優れ好ましい。
Examples of the polyhydric alcohol component include alkylene diols having 2 to 6 carbon atoms. For example, diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, methylpentanediol and dimethylbutanediol Is mentioned.
Among them, 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanuric acid or 1,3,5-tris (2-hydroxypropyl) isocyanuric acid is used as the triol compound having an isocyanuric ring, and the carboxylic acid is in the ortho position. The polyester polyol compound having an isocyanuric ring using orthophthalic anhydride as the polyhydric aromatic polycarboxylic acid or anhydride and ethylene glycol as the polyhydric alcohol is particularly excellent in oxygen barrier properties and adhesiveness. preferable.
イソシアヌル環は高極性であり且つ3官能であり、系全体の極性を高めることができ、且つ、架橋密度を高めることができる。このような観点からイソシアヌル環を接着剤樹脂全固形分に対し5質量%以上含有することが好ましい。 The isocyanuric ring is highly polar and trifunctional, can increase the polarity of the entire system, and can increase the crosslinking density. From such a viewpoint, it is preferable to contain 5 mass% or more of the isocyanuric ring with respect to the total solid content of the adhesive resin.
イソシアネート化合物は、分子内にイソシアネート基を2個以上有する。
また、イソシアネート化合物は、芳香族であっても、脂肪族であってもよく、低分子化合物であっても、高分子化合物であってもよい。
さらに、イソシアネート化合物は、公知のイソシアネートブロック化剤を用いて公知慣用の適宜の方法より付加反応させて得られたブロック化イソシアネート化合物であってもよい。
中でも、接着性や耐レトルト性の観点から、イソシアネート基を3個以上有するポリイソシアネート化合物が好ましく、酸素バリア性および水蒸気バリア性の観点からは、芳香族であることが好ましい。
The isocyanate compound has two or more isocyanate groups in the molecule.
Further, the isocyanate compound may be aromatic, aliphatic, a low molecular compound, or a high molecular compound.
Further, the isocyanate compound may be a blocked isocyanate compound obtained by addition reaction using a known isocyanate blocking agent by a known and appropriate method.
Among them, a polyisocyanate compound having three or more isocyanate groups is preferable from the viewpoint of adhesiveness and retort resistance, and aromatic is preferable from the viewpoint of oxygen barrier properties and water vapor barrier properties.
イソシアネート化合物の具体的な化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、およびこれらのイソシアネート化合物の3量体、並びにこれらのイソシアネート化合物と、低分子活性水素化合物若しくはそのアルキレンオキシド付加物、または高分子活性水素化合物とを反応させて得られるアダクト体、ビュレット体およびアロファネート体などが挙げられる。
低分子活性水素化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、メタキシリレンアルコール、1,3−ビスヒドロキシエチルベンゼン、1,4−ビスヒドロキシエチルベンゼン、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、エリスリトール、ソルビトール、エチレンジアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよびメタキシリレンジアミンなどが挙げられ、分子活性水素化合物としては、各種ポリエステル樹脂、ポリエーテルポリオールおよびポリアミドの高分子活性水素化合物などが挙げられる。
Specific examples of the isocyanate compound include, for example, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, metaxylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and these isocyanate compounds. And adduct bodies, burette bodies, and allophanate bodies obtained by reacting these isocyanate compounds with low molecular active hydrogen compounds or their alkylene oxide adducts, or high molecular active hydrogen compounds.
Examples of the low molecular active hydrogen compound include ethylene glycol, propylene glycol, metaxylylene alcohol, 1,3-bishydroxyethylbenzene, 1,4-bishydroxyethylbenzene, trimethylolpropane, glycerol, pentaerythritol, erythritol, sorbitol, Examples include ethylenediamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, and metaxylylenediamine. Examples of the molecularly active hydrogen compound include various polyester resins, polyether polyols, and polymer active hydrogen compounds of polyamide.
リン酸変性化合物は、例えば下記の一般式(5)または(6)で表される化合物である。
より具体的には、リン酸、ピロリン酸、トリリン酸、メチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ジブチルホスフェート、2−エチルヘキシルアシッドホスフェート、ビス(2-エチルヘキシル)ホスフェート、イソドデシルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、テトラコシルアシッドホスフェート、2−ヒドロキシエチルメタクリレートアシッドホスフェートおよびポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸などが挙げられ、これらの1種または2種以上を用いることができる。 More specifically, phosphoric acid, pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, methyl acid phosphate, ethyl acid phosphate, butyl acid phosphate, dibutyl phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, bis (2-ethylhexyl) phosphate, isododecyl acid phosphate, butoxy Examples include ethyl acid phosphate, oleyl acid phosphate, tetracosyl acid phosphate, 2-hydroxyethyl methacrylate acid phosphate, and polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid. One or more of these can be used.
樹脂組成物におけるリン酸変性化合物の含有量は、0.005質量%以上10質量%以下が好ましく、0.01質量%以上1質量%以下であることがより好ましい。
リン酸変性化合物の含有量を0.005質量%以上とすることにより、本発明の積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、リン酸変性化合物の含有量を10質量%以下とすることにより、接着層の接着性を向上することができる。
0.005 mass% or more and 10 mass% or less are preferable, and, as for content of the phosphoric acid modification compound in a resin composition, it is more preferable that it is 0.01 mass% or more and 1 mass% or less.
By making content of a phosphoric acid modification compound 0.005 mass% or more, the oxygen barrier property and water vapor | steam barrier property of the laminated body of this invention can be improved. Moreover, the adhesiveness of a contact bonding layer can be improved by content of a phosphoric acid modification compound being 10 mass% or less.
ポリエステルポリオール、イソシアネート化合物およびリン酸変性化合物を含有する樹脂組成物は、板状無機化合物を含んでいてもよく、これにより、接着層の接着性を向上することができる。また、本発明の積層体の耐屈曲負荷性を向上させることができる。
板状無機化合物としては、例えば、カオリナイト−蛇紋族粘土鉱物(ハロイサイト、カオリナイト、エンデライト、ディッカイト、ナクライト、アンチゴライト、クリソタイルなど)およびパイロフィライト−タルク族(パイロフィライト、タルク、ケロライなど)などが挙げられる。
The resin composition containing the polyester polyol, the isocyanate compound, and the phosphoric acid-modified compound may contain a plate-like inorganic compound, thereby improving the adhesiveness of the adhesive layer. Further, the bending load resistance of the laminate of the present invention can be improved.
Examples of the plate-like inorganic compound include kaolinite-serpentine clay minerals (halloysite, kaolinite, enderite, dickite, nacrite, antigolite, chrysotile, etc.) and pyrophyllite-talc group (pyrophyllite, talc, Etc.).
カップリング剤としては、例えば、下記一般式(7)であらわされるシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤およびアルミニウム系カップリング剤などが挙げられる。なお、これらのカップリング剤は、単独でも、2種類以上組み合わせてもよい。
シラン系カップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)などが挙げられる。 Examples of the silane coupling agent include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ -Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxytrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxy Propylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (Aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ- Examples include mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene).
また、チタン系カップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テトラオクチルビス(ジドデシルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタイノルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネートおよびジクミルフェニルオキシアセテートチタネートなどが挙げられる。 Examples of titanium coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tris (dioctylpyrophosphate) titanate, tetraoctyl bis (Didodecyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacrylisostearoyl titanate , Isopropylisostearoyl diacryl titanate, diisostearoyl ethyl Nchitaneto, isopropyl tri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate and dicumyl phenyloxy acetate titanate.
また、アルミニウム系カップリング剤の具体例としては、例えば、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノメタクリレート、イソプロポキシアルミニウムアルキルアセトアセテートモノ(ジオクチルホスフェート)、アルミニウム−2−エチルヘキサノエートオキサイドトリマー、アルミニウムステアレートオキサイドトリマーおよびアルキルアセトアセテートアルミニウムオキサイドトリマーなどが挙げられる。 Specific examples of the aluminum coupling agent include, for example, acetoalkoxy aluminum diisopropylate, diisopropoxy aluminum ethyl acetoacetate, diisopropoxy aluminum monomethacrylate, isopropoxy aluminum alkyl acetoacetate mono (dioctyl phosphate), aluminum Examples include 2-ethylhexanoate oxide trimer, aluminum stearate oxide trimer, and alkyl acetoacetate aluminum oxide trimer.
樹脂組成物は、シクロデキストリンおよび/またはその誘導体を含むことができ、これにより、接着層の接着性を向上することができる。また、本発明の積層体の耐屈曲負荷性をより向上できる。
具体的には、例えば、シクロデキストリン、アルキル化シクロデキストリン、アセチル化シクロデキストリンおよびヒドロキシアルキル化シクロデキストリンなどのシクロデキストリンのグルコース単位の水酸基の水素原子を他の官能基で置換したものなどを用いることができる。また、分岐環状デキストリンも用いることができる。
また、シクロデキストリンおよびシクロデキストリン誘導体におけるシクロデキストリン骨格は、6個のグルコース単位からなるα−シクロデキストリン、7個のグルコース単位からなるβ−シクロデキストリン、8個のグルコース単位からなるγ−シクロデキストリンのいずれであってもよい。
これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。また、これらシクロデキストリンおよび/またはその誘導体を以降、デキストリン化合物と総称する場合がある。
The resin composition can contain cyclodextrin and / or a derivative thereof, thereby improving the adhesiveness of the adhesive layer. In addition, the bending load resistance of the laminate of the present invention can be further improved.
Specifically, for example, those in which the hydrogen atom of the hydroxyl group of the glucose unit of cyclodextrin such as cyclodextrin, alkylated cyclodextrin, acetylated cyclodextrin and hydroxyalkylated cyclodextrin is substituted with other functional groups Can do. A branched cyclic dextrin can also be used.
The cyclodextrin skeleton in cyclodextrin and cyclodextrin derivatives is composed of α-cyclodextrin composed of 6 glucose units, β-cyclodextrin composed of 7 glucose units, and γ-cyclodextrin composed of 8 glucose units. Either may be sufficient.
These compounds may be used alone or in combination of two or more. Further, these cyclodextrins and / or their derivatives are sometimes collectively referred to as dextrin compounds hereinafter.
樹脂組成物への相溶性および分散性の観点から、シクロデキストリン化合物としては、シクロデキストリン誘導体を用いることが好ましい。 From the viewpoint of compatibility with the resin composition and dispersibility, it is preferable to use a cyclodextrin derivative as the cyclodextrin compound.
アルキル化シクロデキストリンとしては、例えば、メチル−α−シクロデキストリン、メチル−β−シクロデキストリンおよびメチル−γ−シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Examples of the alkylated cyclodextrin include methyl-α-cyclodextrin, methyl-β-cyclodextrin and methyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
アセチル化シクロデキストリンとしては、例えば、モノアセチル−α−シクロデキストリン、モノアセチル−β−シクロデキストリンおよびモノアセチル−γ−シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Examples of the acetylated cyclodextrin include monoacetyl-α-cyclodextrin, monoacetyl-β-cyclodextrin and monoacetyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
ヒドロキシアルキル化シクロデキストリンとしては、例えば、ヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンおよびヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Examples of the hydroxyalkylated cyclodextrin include hydroxypropyl-α-cyclodextrin, hydroxypropyl-β-cyclodextrin, and hydroxypropyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
接着層の厚さは、0.5μm以上6μm以下であることが好ましく、0.8μm以上5μm以下であることがより好ましく、1μm以上4.5μm以下であることがさらに好ましい。
接着層の厚さを0.5μm以上とすることにより、接着層の接着性を向上することができる。また、ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物とリン酸変性化合物を含む樹脂組成物の硬化物からなる接着層を、アルミニウム蒸着膜と隣接するように設けた場合には、積層体の耐屈曲負荷性を向上することができる。
接着層の厚さを6μm以下とすることにより、積層体の加工適性を向上することができる。
The thickness of the adhesive layer is preferably from 0.5 μm to 6 μm, more preferably from 0.8 μm to 5 μm, and still more preferably from 1 μm to 4.5 μm.
By setting the thickness of the adhesive layer to 0.5 μm or more, the adhesiveness of the adhesive layer can be improved. Further, when an adhesive layer made of a cured product of a resin composition containing a polyester polyol, an isocyanate compound, and a phosphoric acid-modified compound is provided adjacent to the aluminum vapor deposition film, the bending load resistance of the laminate is improved. be able to.
By setting the thickness of the adhesive layer to 6 μm or less, the processability of the laminate can be improved.
また、ポリエチレンを含む樹脂材料を基材または蒸着膜を備える中間層上に押出し、これを乾燥させることによっても、ヒートシール層を形成することができる。 The heat seal layer can also be formed by extruding a resin material containing polyethylene onto a base material or an intermediate layer provided with a vapor deposition film and drying it.
<蒸着膜を備える中間層>
第1の態様において、積層体は、基材と、ヒートシール層との間に、少なくとも一方の面に蒸着膜を備える中間層を備えることができる。中間層は、基材およびヒートシール層と同様にポリエチレンにより構成されており、これにより、積層体のリサイクル性を向上することができる。また、これにより、本発明による積層体のガスバリア性をさらに向上することができる。
<Intermediate layer with a deposited film>
1st aspect WHEREIN: A laminated body can be equipped with the intermediate | middle layer which equips at least one surface with a vapor deposition film between a base material and a heat seal layer. The intermediate layer is made of polyethylene in the same manner as the base material and the heat seal layer, whereby the recyclability of the laminate can be improved. Thereby, the gas barrier property of the laminate according to the present invention can be further improved.
蒸着膜を備える中間層は、延伸フィルムから構成されるものであっても、未延伸フィルムから構成されるものであってもよいが、積層体の印刷適性、強度および耐熱性という観点からは延伸されたものであることが好ましい。また、一軸延伸されたものであっても、二軸延伸されたものであってもよいが、強度という観点からは、二軸延伸されたものが好ましい。 The intermediate layer provided with the vapor deposition film may be composed of a stretched film or an unstretched film, but stretched from the viewpoint of printability, strength, and heat resistance of the laminate. It is preferred that Further, it may be uniaxially stretched or biaxially stretched, but from the viewpoint of strength, it is preferably biaxially stretched.
蒸着膜を備える中間層は、高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)およびエチレンとその他のモノマーとの共重合体の少なくとも1つを含む。これらの中でも、印刷適性、強度および耐熱性という観点から、高密度ポリエチレン(HDPE)および中密度ポリエチレン(MDPE)が好ましく、高密度ポリエチレン(HDPE)がより好ましい。環境負荷の観点からは、これらポリエチレンは、バイオマス由来のものであることが好ましい。 The intermediate layer with the deposited film is made of high-density polyethylene (HDPE), medium-density polyethylene (MDPE), low-density polyethylene (LDPE), linear low-density polyethylene (LLDPE), and copolymers of ethylene and other monomers. Including at least one. Among these, from the viewpoints of printability, strength, and heat resistance, high-density polyethylene (HDPE) and medium-density polyethylene (MDPE) are preferable, and high-density polyethylene (HDPE) is more preferable. From the viewpoint of environmental load, these polyethylenes are preferably derived from biomass.
蒸着膜を備える中間層におけるポリエチレンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。 The polyethylene content in the intermediate layer provided with the deposited film is preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.
蒸着膜を備える中間層は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等が挙げられる。 The intermediate layer provided with the deposited film can contain an additive as long as the characteristics of the present invention are not impaired. For example, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, a charging agent. Examples thereof include an inhibitor, a pigment, and a modifying resin.
蒸着膜を構成する材料としては、上記した金属や金属酸化物を使用することができるが、ガスバリア性およびコストの観点から、アルミニウムにより蒸着膜を形成することが好ましい。また、アルミニウムを使用することにより、光沢を与えることができ、意匠性を向上することもできる。 As the material constituting the vapor deposition film, the above-described metals and metal oxides can be used, but it is preferable to form the vapor deposition film from aluminum from the viewpoint of gas barrier properties and cost. Further, by using aluminum, it is possible to give gloss and to improve the design.
蒸着膜を備える中間層の厚さは、生産性および経済性の観点からは、9μm以上、50μm以下であることが好ましく、12μm以上、30μm以下であることがより好ましい。
また、蒸着膜の厚さは、0.002μm以上、0.4μm以下であることが好ましく、0.005μm以上、0.1μm以下であることがより好ましい。蒸着膜の厚みを上記数値範囲内とすることにより、ガスバリア性を維持しつつ、蒸着膜におけるクラックなどの発生を防止することができる。
The thickness of the intermediate layer provided with the vapor deposition film is preferably 9 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 12 μm or more and 30 μm or less from the viewpoint of productivity and economy.
The thickness of the deposited film is preferably 0.002 μm or more and 0.4 μm or less, and more preferably 0.005 μm or more and 0.1 μm or less. By setting the thickness of the vapor deposition film within the above numerical range, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the vapor deposition film while maintaining gas barrier properties.
蒸着膜を備える中間層は、その表面に画像が形成されていてもよい。画像形成方法については上記した通りである。 The intermediate layer provided with the vapor deposition film may have an image formed on the surface thereof. The image forming method is as described above.
蒸着膜を備える中間層は、ポリエチレンを含む樹脂材料を、インフレーション成形またはT−ダイ成形等の溶融押出成形法によって製膜することによりポリエチレンフィルムを作製し、該ポリエチレンフィルムの少なくとも一方の面に上記した方法により、蒸着膜を形成させた後、接着剤を介して、基材上に積層することにより、形成することができる。この場合、蒸着前、積層前に、ポリエチレンフィルムに対し、延伸処理を施してもよい。
また、ポリエチレンを含む樹脂材料を基材上に押出し、これを乾燥させた後、蒸着膜を形成させることによっても、蒸着膜を備える中間層を形成することができる。
The intermediate layer provided with the vapor deposition film is a polyethylene film formed by forming a resin material containing polyethylene by a melt extrusion molding method such as inflation molding or T-die molding, and the above-mentioned film is formed on at least one surface of the polyethylene film. After forming a vapor deposition film by the above-described method, it can be formed by laminating on a base material via an adhesive. In this case, the polyethylene film may be stretched before vapor deposition and before lamination.
Moreover, the intermediate layer provided with a vapor deposition film can also be formed by forming a vapor deposition film after extruding the resin material containing polyethylene on a base material and drying this.
<第2の態様の積層体>
図3に示すように、第2の態様の積層体10は、基材20と、少なくとも一方の面に蒸着膜40を備える中間層50と、ヒートシール層30とを備える。
以下、積層体が備える各層について説明する。
<Laminated body of the second aspect>
As shown in FIG. 3, the laminate 10 of the second aspect includes a base material 20, an intermediate layer 50 including a deposited film 40 on at least one surface, and a heat seal layer 30.
Hereinafter, each layer provided in the laminate will be described.
<基材>
基材は、延伸処理が施されており、一軸延伸されたものであっても、二軸延伸されたものであってもよいが、強度という観点からは、二軸延伸されたものが好ましい。長手方向および横手方向の好ましい延伸倍率については、第1の態様と同様である。
<Base material>
The substrate is stretched and may be uniaxially stretched or biaxially stretched, but from the viewpoint of strength, a biaxially stretched substrate is preferable. About the preferable draw ratio of a longitudinal direction and a transverse direction, it is the same as that of a 1st aspect.
基材は、高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)およびエチレンとその他のモノマーとの共重合体の少なくとも1つを含む。これらの中でも、印刷適性、強度および耐熱性という観点から、高密度ポリエチレン(HDPE)および中密度ポリエチレン(MDPE)が好ましく、延伸適正という観点から、中密度ポリエチレンがより好ましい。環境負荷の観点からは、これらポリエチレンは、バイオマス由来のものであることが好ましい。 The substrate is made of at least one of high density polyethylene (HDPE), medium density polyethylene (MDPE), low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), and a copolymer of ethylene and other monomers. Including. Among these, high density polyethylene (HDPE) and medium density polyethylene (MDPE) are preferable from the viewpoint of printability, strength, and heat resistance, and medium density polyethylene is more preferable from the viewpoint of appropriate stretching. From the viewpoint of environmental load, these polyethylenes are preferably derived from biomass.
基材におけるポリエチレンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。 The content of polyethylene in the substrate is preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.
基材は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等が挙げられる。 The base material can contain an additive as long as the properties of the present invention are not impaired. For example, the cross-linking agent, the antioxidant, the ultraviolet absorber, the light stabilizer, the filler, the reinforcing agent, the antistatic agent, and the pigment. And a modifying resin.
一実施形態において、基材は、多層構造を有する。多層構造の詳細については上記した通りである。 In one embodiment, the substrate has a multilayer structure. Details of the multilayer structure are as described above.
基材の厚さは、9μm以上、50μm以下であることが好ましく、12μm以上、30μm以下であることがより好ましい。基材の厚さを上記数値範囲内とすることにより、積層体の印刷適性、強度および耐熱性をより向上することができる。 The thickness of the substrate is preferably 9 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 12 μm or more and 30 μm or less. By setting the thickness of the substrate within the above numerical range, the printability, strength, and heat resistance of the laminate can be further improved.
基材は、その表面に画像が形成されていてもよい。画像の経時的な劣化を防止することができるため、基材のヒートシール層を積層する側に画像を形成することが好ましい。
画像の形成方法は、第1の態様において記載した通りであり、環境負荷の観点から、フレキソ印刷法が好ましい。
The substrate may have an image formed on the surface thereof. Since deterioration of the image over time can be prevented, it is preferable to form the image on the side of the base material where the heat seal layer is laminated.
The image forming method is as described in the first embodiment, and the flexographic printing method is preferable from the viewpoint of environmental load.
基材作製方法は、第1の態様において記載した通りである。 The base material preparation method is as described in the first aspect.
<蒸着膜を備える中間層>
第2の態様において、積層体は、基材と、ヒートシール層との間に、少なくとも一方の面に蒸着膜を備える中間層を備える。
この中間層は、基材およびヒートシール層と同様に、ポリエチレンにより構成され、これにより積層体のリサイクル性を向上することができる。
<Intermediate layer with a deposited film>
In the second aspect, the laminate includes an intermediate layer including a deposited film on at least one surface between the base material and the heat seal layer.
This intermediate layer is made of polyethylene in the same manner as the base material and the heat seal layer, whereby the recyclability of the laminate can be improved.
蒸着膜を備える中間層層は、延伸フィルムから構成されるものであっても、未延伸フィルムから構成されるものであってもよいが、積層体の印刷適性、強度および耐熱性という観点からは延伸されたものであることが好ましい。また、一軸延伸されたものであっても、二軸延伸されたものであってもよいが、強度という観点からは、二軸延伸されたものが好ましい。 The intermediate layer provided with a vapor deposition film may be composed of a stretched film or an unstretched film, but from the viewpoint of printability, strength and heat resistance of the laminate. It is preferable that it has been stretched. Further, it may be uniaxially stretched or biaxially stretched, but from the viewpoint of strength, it is preferably biaxially stretched.
蒸着膜を備える中間層は、高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)およびエチレンとその他のモノマーとの共重合体の少なくとも1つを含む。これらの中でも、印刷適性、強度および耐熱性という観点から、高密度ポリエチレン(HDPE)および中密度ポリエチレン(MDPE)が好ましく、延伸適正という観点から、中密度ポリエチレンがより好ましい。環境負荷の観点からは、これらポリエチレンは、バイオマス由来のものであることが好ましい。 The intermediate layer with the deposited film is made of high-density polyethylene (HDPE), medium-density polyethylene (MDPE), low-density polyethylene (LDPE), linear low-density polyethylene (LLDPE), and copolymers of ethylene and other monomers. Including at least one. Among these, high-density polyethylene (HDPE) and medium-density polyethylene (MDPE) are preferable from the viewpoints of printability, strength, and heat resistance, and medium-density polyethylene is more preferable from the viewpoint of stretching suitability. From the viewpoint of environmental load, these polyethylenes are preferably derived from biomass.
蒸着膜を備える中間層におけるポリエチレンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。 The polyethylene content in the intermediate layer provided with the deposited film is preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.
蒸着膜を備える中間層は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等が挙げられる。 The intermediate layer provided with the vapor deposition film can contain an additive as long as the characteristics of the present invention are not impaired. Examples thereof include an inhibitor, a pigment, and a modifying resin.
蒸着膜を構成する材料としては、上記したものを使用することができるが、ガスバリア性という観点から、アルミニウムにより蒸着膜を形成することが好ましい。 As the material constituting the vapor deposition film, the above-described materials can be used, but it is preferable to form the vapor deposition film from aluminum from the viewpoint of gas barrier properties.
蒸着膜を備える中間層の厚さは、生産性および経済性の観点からは、9μm以上、50μm以下であることが好ましく、12μm以上、30μm以下であることがより好ましい。
また、蒸着膜の厚さは、0.002μm以上、0.4μm以下であることが好ましく、0.005μm以上、0.1μm以下であることがより好ましい。蒸着膜の厚みを上記数値範囲内とすることにより、ガスバリア性を維持しつつ、蒸着膜におけるクラックなどの発生を防止することができる。
The thickness of the intermediate layer provided with the vapor deposition film is preferably 9 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 12 μm or more and 30 μm or less from the viewpoint of productivity and economy.
The thickness of the deposited film is preferably 0.002 μm or more and 0.4 μm or less, and more preferably 0.005 μm or more and 0.1 μm or less. By setting the thickness of the vapor deposition film within the above numerical range, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the vapor deposition film while maintaining gas barrier properties.
蒸着膜を備える中間層は、その表面に画像が形成されていてもよい。画像形成方法については、第1の態様において記載した通りである。 The intermediate layer provided with the vapor deposition film may have an image formed on the surface thereof. The image forming method is as described in the first embodiment.
蒸着膜を備える中間層の作製方法については、第1の態様において記載した通りである。 The method for producing the intermediate layer including the deposited film is as described in the first aspect.
<ヒートシール層>
ヒートシール層は、高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)およびエチレンとその他のモノマーとの共重合体の少なくとも1つを含む。これらの中でも、ヒートシール性という観点からは、低密度ポリエチレン(LDPE)および直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)が好ましい。環境負荷の観点からは、これらポリエチレンは、バイオマス由来のものであることが好ましい。
<Heat seal layer>
The heat seal layer comprises at least one of high density polyethylene (HDPE), medium density polyethylene (MDPE), low density polyethylene (LDPE) linear low density polyethylene (LLDPE), and a copolymer of ethylene and other monomers. Including. Among these, low density polyethylene (LDPE) and linear low density polyethylene (LLDPE) are preferable from the viewpoint of heat sealability. From the viewpoint of environmental load, these polyethylenes are preferably derived from biomass.
ヒートシール層におけるポリエチレンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。 The polyethylene content in the heat seal layer is preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.
ヒートシール層は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等が挙げられる。 The heat seal layer can contain additives as long as the properties of the present invention are not impaired, such as a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, an antistatic agent, Examples thereof include pigments and modifying resins.
ヒートシール層の厚さは、20μm以上、200μm以下であることが好ましく、30μm以上、150μm以下であることがより好ましい。ヒートシール層の厚さを上記数値範囲内とすることにより、そのヒートシール性を向上することができる。 The thickness of the heat seal layer is preferably 20 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 30 μm or more and 150 μm or less. By setting the thickness of the heat seal layer within the above numerical range, the heat sealability can be improved.
ヒートシール層の作製方法は、第1の態様において記載した通りである。 The method for producing the heat seal layer is as described in the first embodiment.
<包装材料>
一実施形態において、本発明による包装材料は、上記積層体のヒートシール層が内側となるように、二つ折にして重ね合わせて、その端部をヒートシールすることにより製造することができる。
また、2枚の積層体を、ヒートシール層が向かい合うように重ね合わせ、その端部をヒートシールすることにより製造することができる。
シール方法により、例えば、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型(ピローシール型)、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、ガゼット型、その他等のヒートシール形態によりヒートシールして、種々の形態の包装材料を製造することができる。
その他、例えば、自立性包装用袋(スタンデイングパウチ)等も可能である。ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シール等の公知の方法で行うことができる。
<Packaging materials>
In one embodiment, the packaging material according to the present invention can be produced by folding in two so that the heat seal layer of the laminate is on the inside, and heat-sealing the ends.
Moreover, it can manufacture by superimposing two laminated bodies so that a heat-seal layer may face each other, and heat-sealing the edge part.
Depending on the sealing method, for example, side seal type, two-side seal type, three-side seal type, four-side seal type, envelope-attached seal type, palm-attached seal type (pillow seal type), pleated seal type, flat bottom seal type, square bottom seal Various forms of packaging materials can be manufactured by heat sealing using a heat sealing form such as a mold, a gusset mold, and the like.
In addition, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch) is also possible. As a heat sealing method, for example, a known method such as a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, or an ultrasonic seal can be used.
本発明による積層体は、一種の樹脂(すなわちポリエチレン)のみからなる積層体であっても、基材が包装材料の外側フィルムとして要求される強度や印刷適性を満たし、ヒートシール層が包装化を可能とする。そのため、リサイクル性が求められる包装材料を構成する材料として極めて適している。 Even if the laminate according to the present invention is a laminate composed of only one kind of resin (that is, polyethylene), the base material satisfies the strength and printability required as the outer film of the packaging material, and the heat seal layer is packaged. Make it possible. Therefore, it is extremely suitable as a material constituting a packaging material requiring recyclability.
本発明について実施例を挙げてさらに具体的に説明するが、本発明がこれら実施例によって限定されるものではない。 Examples The present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
<実施例1>
中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)をインフレーション成形法により製膜し、厚さ100μmのポリエチレンフィルムを得た。
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、5倍の延伸倍率で延伸し、厚さ20μmの基材を得た。
<Example 1>
Medium density polyethylene (density: 0.941 g / cm 3 , melting point 129 ° C., MFR: 1.3 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5538G) is formed by an inflation molding method, and a polyethylene film having a thickness of 100 μm Got.
This polyethylene film was stretched in the longitudinal direction (MD) at a stretch ratio of 5 times to obtain a substrate having a thickness of 20 μm.
基材の一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmの酸化アルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。 A vapor deposition film made of aluminum oxide having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of the substrate by vacuum vapor deposition.
基材の蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)を、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 An unstretched linear low-density polyethylene (LLDPE) film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: L6100) having a thickness of 40 μm is applied to the vapor-deposited surface of the base material with a two-component curable urethane adhesive (lock paint ( Co., Ltd., trade name: RU-77T / H-7) to obtain a laminate.
<実施例2>
高密度ポリエチレン(密度:0.961g/cm3、融点135℃、MFR:0.7g/10分、ExxonMobil社製、商品名:HTA108)および中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)を、インフレーション成形法により製膜し、高密度ポリエチレン層/中密度ポリエチレン層/高密度ポリエチレン層からなるポリエチレンフィルムを作製した。高密度ポリエチレン層の厚さは、それぞれ20μm、中密度ポリエチレン層の厚さは、60μmであった。
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、5倍の延伸倍率で延伸し、厚さ20μmの基材を得た。
<Example 2>
High density polyethylene (density: 0.961 g / cm 3 , melting point 135 ° C., MFR: 0.7 g / 10 min, manufactured by ExxonMobil, trade name: HTA108) and medium density polyethylene (density: 0.941 g / cm 3 , melting point) 129 ° C., MFR: 1.3 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5538G) by an inflation molding method to form a polyethylene film comprising a high density polyethylene layer / medium density polyethylene layer / high density polyethylene layer Produced. The thickness of the high density polyethylene layer was 20 μm, and the thickness of the medium density polyethylene layer was 60 μm.
This polyethylene film was stretched in the longitudinal direction (MD) at a stretch ratio of 5 times to obtain a substrate having a thickness of 20 μm.
基材の一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmの酸化アルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。 A vapor deposition film made of aluminum oxide having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of the substrate by vacuum vapor deposition.
基材の非蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)とを、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 A non-stretched linear low density polyethylene (LLDPE) film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: L6100) having a thickness of 40 μm is applied to the non-deposition surface of the base material with a two-component curable urethane adhesive (Lock Laminate was obtained through a paint (trade name: RU-77T / H-7) manufactured by Paint Co., Ltd.
<実施例3>
中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)をインフレーション成形法により製膜し、厚さ100μmのポリエチレンフィルムを2枚得た。
2枚のポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、5倍の延伸倍率で延伸し、厚さ20μmの延伸ポリエチレンフィルムを得た。
<Example 3>
Medium density polyethylene (density: 0.941 g / cm 3 , melting point 129 ° C., MFR: 1.3 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5538G) is formed by an inflation molding method, and a polyethylene film having a thickness of 100 μm Two sheets were obtained.
Two polyethylene films were stretched in the longitudinal direction (MD) at a stretch ratio of 5 times to obtain a stretched polyethylene film having a thickness of 20 μm.
1枚の延伸ポリエチレンフィルムの一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmのアルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。 A vapor deposition film made of aluminum having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of one stretched polyethylene film by vacuum vapor deposition.
次いで、この蒸着膜を備える延伸ポリエチレンフィルムの蒸着面に、もう1枚の延伸ポリエチレンフィルムを、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層した。 Next, another stretched polyethylene film is attached to the vapor-deposited surface of the stretched polyethylene film provided with this deposited film, using a two-component curable urethane adhesive (manufactured by Rock Paint Co., Ltd., trade name: RU-77T / H-7). ).
蒸着膜を備える延伸ポリエチレンフィルムの非蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)を、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 A two-component curable urethane-based non-stretched linear low-density polyethylene (LLDPE) film (product name: L6100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 40 μm is formed on the non-deposited surface of a stretched polyethylene film having a deposited film. It laminated | stacked through the adhesive agent (The Rock Paint Co., Ltd. make, brand name: RU-77T / H-7), and the laminated body was obtained.
<実施例4>
中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)をインフレーション成形法により製膜し、厚さ100μmのポリエチレンフィルムを得た。
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、2.24倍の延伸倍率で延伸し、ぽ幅方向(TD)に、2.24倍の延伸倍率で延伸し、厚さ20μmの基材を得た。
<Example 4>
Medium density polyethylene (density: 0.941 g / cm 3, melting point 129 ° C., MFR: 1.3 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5538G) was formed by an inflation molding method, and a polyethylene film having a thickness of 100 μm was formed. Obtained.
This polyethylene film was stretched in the longitudinal direction (MD) at a stretch ratio of 2.24 times, and stretched in the width direction (TD) at a stretch ratio of 2.24 times to obtain a base material having a thickness of 20 μm. .
基材の一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmの酸化アルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。 A vapor deposition film made of aluminum oxide having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of the substrate by vacuum vapor deposition.
基材の蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)を、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 An unstretched linear low-density polyethylene (LLDPE) film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: L6100) having a thickness of 40 μm is applied to the vapor-deposited surface of the base material with a two-component curable urethane adhesive (lock paint ( Co., Ltd., trade name: RU-77T / H-7) to obtain a laminate.
<実施例5>
高密度ポリエチレン(密度:0.960g/cm3、融点130℃、MFR:0.85g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5960)と、
上記高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレン(密度:0.940g/cm3、融点126℃、MFR:0.85g/10分、Dowchemical社製、商品名Elite5940)のブレンド樹脂(質量比4:6)と、
上記中密度ポリエチレンと、
超低密度ポリエチレン(密度0.870g/cm3、融点55℃、MFR:1.0g/10分、Dowchemical社製、商品名:Affinity EG8100G)と、をインフレーション成形法により、外側から、高密度ポリエチレン層(12.5μm)、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンのブレンド樹脂層(12.5μm)、中密度ポリエチレン層(31.25μm)および超低密度ポリエチレン層(6.25μm)を備えるチューブ状のフィルムとして押し出した後、内側の超低密度ポリエチレン層同士を、ゴムロールにより圧着し、高密度ポリエチレン層(12.5μm)と、ブレンド樹脂層(12.5μm)と、中密度ポリエチレン層(31.25μm)と、超低密度ポリエチレン層(12.5μm)と、中密度ポリエチレン層(31.25μm)と、ブレンド樹脂層(12.5μm)とを備える、厚さ125μmのポリエチレンフィルムを得た。
<Example 5>
High density polyethylene (density: 0.960 g / cm 3 , melting point 130 ° C., MFR: 0.85 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5960);
Blend resin (mass ratio 4: 6) of the above high-density polyethylene and medium-density polyethylene (density: 0.940 g / cm 3 , melting point 126 ° C., MFR: 0.85 g / 10 minutes, trade name Elite 5940, manufactured by Dowchemical) ,
The medium density polyethylene;
Ultra-low density polyethylene (density 0.870 g / cm3, melting point 55 ° C., MFR: 1.0 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Affinity EG8100G), and a high density polyethylene layer from the outside by an inflation molding method (12.5 μm), as a tubular film provided with a blend resin layer (12.5 μm) of high density polyethylene and medium density polyethylene, a medium density polyethylene layer (31.25 μm), and an ultra-low density polyethylene layer (6.25 μm) After extrusion, the inner ultra-low density polyethylene layers are pressure-bonded with a rubber roll, and a high-density polyethylene layer (12.5 μm), a blend resin layer (12.5 μm), and a medium-density polyethylene layer (31.25 μm) , Ultra-low density polyethylene layer (12.5μm) and medium density Ethylene layer (31.25μm), and a blend resin layer (12.5 .mu.m), to obtain a polyethylene film having a thickness of 125 [mu] m.
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に5倍の延伸倍率で延伸し、厚さ25μmの基材を得た。
基材の一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmの酸化アルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。
This polyethylene film was stretched in the longitudinal direction (MD) at a stretch ratio of 5 times to obtain a substrate having a thickness of 25 μm.
A vapor deposition film made of aluminum oxide having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of the substrate by vacuum vapor deposition.
基材の蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)を、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 An unstretched linear low-density polyethylene (LLDPE) film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: L6100) having a thickness of 40 μm is applied to the vapor-deposited surface of the base material with a two-component curable urethane adhesive (lock paint ( Co., Ltd., trade name: RU-77T / H-7) to obtain a laminate.
<実施例6>
高密度ポリエチレン(密度:0.960g/cm3、融点130℃、MFR:0.85g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5960)と、
中密度ポリエチレン(密度:0.940g/cm3、融点126℃、MFR:0.85g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5940)と、
超低密度ポリエチレン(密度:0.870g/cm3、融点55℃、MFR:1.0g/10分、Dowchemical社製、商品名:Affinity EG8100G)と、をインフレーション成形法により、外側から、高密度ポリエチレン層(12.5μm)、中密度ポリエチレン層(43.75μm)および超低密度ポリエチレン層(6.25μm)を備えるチューブ状のフィルムとして押し出した後、内側の超低密度ポリエチレン層同士を、ゴムロールにより、圧着し、高密度ポリエチレン層(12.5μm)と、中密度ポリエチレン層(43.75μm)と、超低密度ポリエチレン層(12.5μm)と、中密度ポリエチレン層(43.75μm)と、高密度ポリエチレン層(12.5μm)とを備える、厚さ125μmのポリエチレンフィルムを得た。
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、5倍の延伸倍率で延伸し、厚さ25μmの基材を得た。
<Example 6>
High-density polyethylene (density: 0.960 g / cm 3, melting point 130 ° C., MFR: 0.85 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5960);
Medium density polyethylene (density: 0.940 g / cm 3, melting point 126 ° C., MFR: 0.85 g / 10 minutes, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5940),
Ultra-low density polyethylene (density: 0.870 g / cm 3, melting point 55 ° C., MFR: 1.0 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Affinity EG8100G), and high density polyethylene from the outside by an inflation molding method After extruding as a tube-shaped film comprising a layer (12.5 μm), a medium density polyethylene layer (43.75 μm) and an ultra-low density polyethylene layer (6.25 μm), the inner ultra-low density polyethylene layers are bonded together by a rubber roll. Pressure bonding, high density polyethylene layer (12.5 μm), medium density polyethylene layer (43.75 μm), ultra-low density polyethylene layer (12.5 μm), medium density polyethylene layer (43.75 μm), high 125 μm thick polyethylene with a density polyethylene layer (12.5 μm) Film was obtained.
This polyethylene film was stretched in the longitudinal direction (MD) at a stretch ratio of 5 times to obtain a substrate having a thickness of 25 μm.
基材の一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmの酸化アルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。 A vapor deposition film made of aluminum oxide having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of the substrate by vacuum vapor deposition.
基材の蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)を、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 An unstretched linear low-density polyethylene (LLDPE) film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: L6100) having a thickness of 40 μm is applied to the vapor-deposited surface of the base material with a two-component curable urethane adhesive (lock paint ( Co., Ltd., trade name: RU-77T / H-7) to obtain a laminate.
<比較例1>
中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)をインフレーション成形法により製膜し、厚さ20μmのポリエチレンフィルムを得た。
<Comparative Example 1>
Medium density polyethylene (density: 0.941 g / cm 3 , melting point 129 ° C., MFR: 1.3 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5538G) is formed by an inflation molding method, and a polyethylene film having a thickness of 20 μm Got.
ポリエチレンフィルムの一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmの酸化アルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。 A vapor deposition film made of aluminum oxide having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of the polyethylene film by vacuum vapor deposition.
ポリエチレンフィルムの非蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)を、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 On the non-deposited surface of the polyethylene film, an unstretched linear low-density polyethylene (LLDPE) film (product name: L6100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 40 μm is a two-component curable urethane adhesive (lock paint). A laminate was obtained by stacking through a product name, RU-77T / H-7).
<比較例2>
高密度ポリエチレン(密度:0.961g/cm3、融点135℃、MFR:0.7g/10分、ExxonMobil社製、商品名:HTA108)および中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)を、インフレーション成形法により製膜し、高密度ポリエチレン層/中密度ポリエチレン層/高密度ポリエチレン層からなるポリエチレンフィルムを作製した。高密度ポリエチレン層の厚さは、それぞれ4μm、中密度ポリエチレン層の厚さは、12μmであった。
<Comparative example 2>
High density polyethylene (density: 0.961 g / cm 3 , melting point 135 ° C., MFR: 0.7 g / 10 min, manufactured by ExxonMobil, trade name: HTA108) and medium density polyethylene (density: 0.941 g / cm 3 , melting point) 129 ° C., MFR: 1.3 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5538G) by an inflation molding method to form a polyethylene film comprising a high density polyethylene layer / medium density polyethylene layer / high density polyethylene layer Produced. The thickness of the high density polyethylene layer was 4 μm, and the thickness of the medium density polyethylene layer was 12 μm.
ポリエチレンフィルムの一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmの酸化アルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。 A vapor deposition film made of aluminum oxide having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of the polyethylene film by vacuum vapor deposition.
ポリエチレンフィルムの非蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)とを、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 A non-stretched linear low-density polyethylene (LLDPE) film (product name: L6100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 40 μm is applied to the non-deposited surface of the polyethylene film with a two-component curable urethane adhesive (Lock Laminate was obtained through a paint (trade name: RU-77T / H-7) manufactured by Paint Co., Ltd.
<比較例3>
中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)をインフレーション成形法により製膜し、厚さ20μmのポリエチレンフィルムを2枚得た。
<Comparative Example 3>
Medium density polyethylene (density: 0.941 g / cm 3 , melting point 129 ° C., MFR: 1.3 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5538G) is formed by an inflation molding method, and a polyethylene film having a thickness of 20 μm Two sheets were obtained.
1枚のポリエチレンフィルムの一方の面に、真空蒸着法により、厚さ0.1μmのアルミニウムからなる蒸着膜を形成させた。 A vapor deposition film made of aluminum having a thickness of 0.1 μm was formed on one surface of one polyethylene film by vacuum vapor deposition.
次いで、この蒸着膜を備えるポリエチレンフィルムの蒸着面に、もう1枚のポリエチレンフィルムを、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層した。 Next, another polyethylene film is applied to the vapor deposition surface of the polyethylene film provided with this vapor deposition film, and a two-component curable urethane adhesive (manufactured by Rock Paint Co., Ltd., trade name: RU-77T / H-7). Laminated.
蒸着膜を備えるポリエチレンフィルムの非蒸着面に、厚さ40μmの、未延伸直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム(東洋紡(株)製、商品名:L6100)を、2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−77T/H−7)を介して積層し、積層体を得た。 A two-component curable urethane-based adhesive is bonded to an unstretched linear low-density polyethylene (LLDPE) film (product name: L6100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 40 μm on the non-deposited surface of a polyethylene film provided with a deposited film. It laminated | stacked through the agent (The Rock Paint Co., Ltd. make, brand name: RU-77T / H-7), and the laminated body was obtained.
<比較例4>
高密度ポリエチレン(密度:0.960g/cm3、融点130℃、MFR:0.85g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5960)と、
中密度ポリエチレン(密度:0.940g/cm3、融点126℃、MFR:0.85g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5940)と、
超低密度ポリエチレン(密度:0.870g/cm3、融点55℃、MFR:1.0g/10分、Dowchemical社製、商品名:Affinity EG8100G)をインフレーション成形法により、外側から、高密度ポリエチレン層、中密度ポリエチレン層および超低密度ポリエチレン層を備えるチューブ状のフィルムとして押し出した後、内側の超低密度ポリエチレン層同士を、ゴムロールにより、圧着し、高密度ポリエチレン層(2.5μm)、中密度ポリエチレン層(8.75μm)、超低密度ポリエチレン層(2.5μm)、中密度ポリエチレン層(8.75μm)および高密度ポリエチレン層(2.5μm)を備える、厚さ25μmのポリエチレンフィルムを得た。
<Comparative Example 4>
High-density polyethylene (density: 0.960 g / cm 3, melting point 130 ° C., MFR: 0.85 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5960);
Medium density polyethylene (density: 0.940 g / cm 3, melting point 126 ° C., MFR: 0.85 g / 10 minutes, manufactured by Dowchemical, trade name: Elite 5940),
Ultra-low density polyethylene (density: 0.870 g / cm 3, melting point 55 ° C., MFR: 1.0 g / 10 min, manufactured by Dowchemical, trade name: Affinity EG8100G) was blown from the outside with a high density polyethylene layer, After extruding as a tubular film having a medium-density polyethylene layer and an ultra-low-density polyethylene layer, the inner ultra-low-density polyethylene layers are pressure-bonded with a rubber roll to form a high-density polyethylene layer (2.5 μm) and medium-density polyethylene. A 25 μm thick polyethylene film comprising a layer (8.75 μm), an ultra-low density polyethylene layer (2.5 μm), a medium density polyethylene layer (8.75 μm) and a high density polyethylene layer (2.5 μm) was obtained.
基材を、上記のようにして作製したポリエチレンフィルムに変更した以外は、実施例6と同様にして、積層体を作製した。 A laminate was produced in the same manner as in Example 6 except that the base material was changed to the polyethylene film produced as described above.
<印刷適性評価>
上記実施例および比較例において作製した基材およびポリエチレンフィルムの一方の面に、水性フレキソインキ(東洋インキ(株)製、商品名:アクワリオナ)を用いて、フレキソ印刷法により、画像を形成した。形成した画像を目視により観察し、基材およびポリエチレンフィルムの印刷適性を以下の評価基準に基づいて、評価した。評価結果を表1にまとめた。
(評価基準)
○:印刷時の寸法安定性が良好であり、擦れ、滲み等が生じていない良好な画像を形成することができていた。
×:印刷時にフィルムの伸び縮みが発生し、形成した画像に擦れや滲みが生じていた。
<Printability evaluation>
An image was formed on one surface of the base material and the polyethylene film prepared in the above Examples and Comparative Examples by a flexographic printing method using water-based flexographic ink (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., trade name: Aquariona). The formed image was visually observed, and the printability of the substrate and the polyethylene film was evaluated based on the following evaluation criteria. The evaluation results are summarized in Table 1.
(Evaluation criteria)
A: The dimensional stability at the time of printing was good, and a good image free from rubbing and bleeding could be formed.
X: Stretching / shrinkage of the film occurred during printing, and the formed image was rubbed or smeared.
<剛性評価>
上記実施例および比較例において作製した基材およびポリエチレンフィルムを、15mm幅の試験片とし、ループスティフネス測定試験器(東洋精機製作所製、商品名:ループステフネステスタ)によりその剛性を測定した。なお、ループの長さは、60mmとした。測定結果を表1にまとめた。
<Rigidity evaluation>
The base material and polyethylene film produced in the above Examples and Comparative Examples were used as test pieces having a width of 15 mm, and the stiffness was measured with a loop stiffness measurement tester (trade name: Loop Stiffness Tester, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho). The loop length was 60 mm. The measurement results are summarized in Table 1.
<強度評価>
上記実施例および比較例において作製した基材およびポリエチレンフィルムを、10mm幅のダンベル型試験片とした。この試験片のMD方向の引っ張り強度を、引っ張り試験機(オリエンテック社製、RTC−1310A)により測定した。なお、チャック間距離は、10mm、引っ張り速度は、300mm/分とした。測定結果を表1にまとめた。
<Strength evaluation>
The base material and polyethylene film produced in the above Examples and Comparative Examples were used as 10 mm-wide dumbbell-type test pieces. The tensile strength in the MD direction of this test piece was measured with a tensile tester (Orientec Co., Ltd., RTC-1310A). The distance between chucks was 10 mm, and the pulling speed was 300 mm / min. The measurement results are summarized in Table 1.
<ガスバリア性評価>
上記実施例および比較例において作製した積層体の水蒸気透過率(g/m2・day)を米国MOCON社製の水蒸気透過率測定装置(PERMATRAN)を使用して測定した。測定結果を表1にまとめた。
<Gas barrier property evaluation>
The water vapor permeability (g / m 2 · day) of the laminates produced in the above Examples and Comparative Examples was measured using a water vapor permeability measuring device (PERMATRAN) manufactured by MOCON, USA. The measurement results are summarized in Table 1.
10:積層体
20:基材
30:ヒートシール層
40:蒸着膜
50:蒸着膜を備える中間層
10: Laminate 20: Base material 30: Heat seal layer 40: Deposition film 50: Intermediate layer provided with a deposition film
Claims (22)
前記基材と、前記ヒートシール層とが同一の材料により構成され、
前記基材は延伸処理が施されており、
前記基材が、その少なくとも一方の面に蒸着膜を備え、
前記同一材料が、ポリエチレンであることを特徴とする、積層体。 Comprising at least a base material and a heat seal layer,
The base material and the heat seal layer are made of the same material,
The base material has been subjected to stretching treatment,
The substrate comprises a deposited film on at least one surface thereof;
The laminate is characterized in that the same material is polyethylene.
前記基材、前記中間層および前記ヒートシール層が同一の材料により構成され、
前記中間層が、少なくとも一方の面に蒸着膜を備え、
前記基材は延伸処理が施されており、
前記同一材料がポリエチレンであることを特徴とする、積層体。 A substrate, an intermediate layer, and a heat seal layer;
The base material, the intermediate layer and the heat seal layer are made of the same material,
The intermediate layer comprises a deposited film on at least one surface,
The base material has been subjected to stretching treatment,
The laminate is characterized in that the same material is polyethylene.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024069346A JP2024091859A (en) | 2018-03-26 | 2024-04-22 | Laminate and packaging material composed of the laminate |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018058416 | 2018-03-26 | ||
JP2018058416 | 2018-03-26 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024069346A Division JP2024091859A (en) | 2018-03-26 | 2024-04-22 | Laminate and packaging material composed of the laminate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019171861A true JP2019171861A (en) | 2019-10-10 |
JP7549788B2 JP7549788B2 (en) | 2024-09-12 |
Family
ID=68168081
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019055546A Active JP7549788B2 (en) | 2018-03-26 | 2019-03-22 | Laminate and packaging material comprising said laminate |
JP2024069346A Pending JP2024091859A (en) | 2018-03-26 | 2024-04-22 | Laminate and packaging material composed of the laminate |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024069346A Pending JP2024091859A (en) | 2018-03-26 | 2024-04-22 | Laminate and packaging material composed of the laminate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7549788B2 (en) |
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EP4360871A4 (en) * | 2021-06-21 | 2024-10-16 | Toppan Inc | Gas barrier film, laminate, and packaging material |
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Publication number | Publication date |
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JP7549788B2 (en) | 2024-09-12 |
JP2024091859A (en) | 2024-07-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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