JP2019168642A - 電気光学装置 - Google Patents

電気光学装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2019168642A
JP2019168642A JP2018058011A JP2018058011A JP2019168642A JP 2019168642 A JP2019168642 A JP 2019168642A JP 2018058011 A JP2018058011 A JP 2018058011A JP 2018058011 A JP2018058011 A JP 2018058011A JP 2019168642 A JP2019168642 A JP 2019168642A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
region
wiring
peripheral region
wirings
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2018058011A
Other languages
English (en)
Inventor
真一郎 岡
Shinichiro Oka
真一郎 岡
青木 良朗
Yoshiaki Aoki
良朗 青木
敏行 日向野
Toshiyuki Hyugano
敏行 日向野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Inc
Original Assignee
Japan Display Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Display Inc filed Critical Japan Display Inc
Priority to JP2018058011A priority Critical patent/JP2019168642A/ja
Priority to PCT/JP2018/048279 priority patent/WO2019187452A1/ja
Publication of JP2019168642A publication Critical patent/JP2019168642A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

【課題】表示装置の性能を向上させる。【解決手段】表示装置は、可撓性の基板10と、シール材SLMを介して基板10に接着された基板20と、基板10と基板20との間にある液晶層LQと、複数のトランジスタ素子に電気的に接続された配線WR1と、を有する。表示装置は、更に、表示領域DAと、表示領域DAの外側にある周辺領域PF1と、表示領域DAに隣接し、周辺領域PF1と表示領域DAとの間にある周辺領域PF2と、周辺領域PF2と周辺領域PF1との間にある屈曲領域BND1と、を備える。配線WR1は、周辺領域PF2、屈曲領域BND1、および周辺領域PF1に亘って形成される。周辺領域PF2、屈曲領域BND1、および周辺領域PF1のそれぞれは、基板10と配線WR1との間に形成された有機膜OF1と、配線WR1の有機膜OF1に接する面と反対側の面に形成された有機膜OF2と、を有する。【選択図】図6

Description

本発明は、液晶層を用いた電気光学装置に関し、例えば、可撓性の基板の周辺領域を屈曲させて用いる表示装置に適用して有効な技術に関する。
表示装置を構成する基板として、可撓性を有する基板を使用する技術がある(特開2015−118373号公報(特許文献1)参照)。
特開2015−118373号公報
可撓性を有する基板を用いた場合、基板を屈曲させることができるので、表示領域の外側にある周辺領域の面積を低減できる。しかし、表示領域にある電極と、周辺領域にある駆動回路とを電気的に接続する配線は、屈曲領域を跨ぐように延びる。このため、可撓性を有する基板を用いる表示装置の信頼性を向上させるためには、屈曲領域を跨ぐように延びる配線の信頼性を向上させる必要がある。例えば、屈曲領域を跨ぐように延びる配線が、屈曲領域の周辺に印加される応力の影響で損傷することを防ぐ必要がある。あるいは、周辺領域に配置される配線が、水分の侵入により腐食することを防ぐ必要がある。
本発明の目的は、液晶層を用いた電気光学装置の性能を向上させる技術を提供することにある。
本発明の一態様である表示装置は、第1面を有する可撓性の第1基板と、前記第1基板の前記第1面上に形成された電気光学層と、前記第1基板と前記電気光学層との間にある複数のトランジスタ素子と、前記第1面側にあり、前記複数のトランジスタ素子に電気的に接続された複数の第1配線と、を有する。前記第1基板は更に、表示領域と、平面視において前記表示領域の外側にある端子部を含む第1周辺領域と、前記表示領域に隣接し、前記第1周辺領域と前記表示領域との間にある第2周辺領域と、前記第2周辺領域と前記第1周辺領域との間にある屈曲領域と、を備える。前記複数の第1配線は、前記第2周辺領域、前記屈曲領域、および前記第1周辺領域に亘って形成される。前記第2周辺領域、前記屈曲領域、および前記第1周辺領域のそれぞれは、前記第1基板と前記複数の第1配線との間に形成された第1有機膜と、前記複数の第1配線の前記第1有機膜に接する面と反対側の面に形成された第2有機膜と、を有する。
一実施の形態である表示装置の一例を示す平面図である。 図1のA−A線に沿った断面図である。 図1の表示領域の一部分の拡大断面図である。 図1に示す表示装置における一つの画素周辺の回路構成例を示す回路図である。 図1に示す表示装置の屈曲領域周辺を拡大して示す拡大平面図である。 図5のA−A線に沿った拡大断面図である。 図5のB−B線に沿った拡大断面図である。 図6に対する検討例である表示装置の拡大断面図である。 図6に示す表示装置の変形例である表示装置の拡大断面図である。 図9に示す表示装置の変形例である表示装置の拡大断面図である。 図6に対する別の変形例である表示装置の拡大断面図である。 図7に示す配線の詳細な構造を示す拡大断面図である。 図12に対する変形例を示す拡大断面図である。 図12に対する別の変形例を示す拡大断面図である。 図1に対する変形例を示す平面図である。 図15のA−A線に沿った断面図である。
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一または関連する符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
以下の実施の形態では、電気光学層である液晶層を備えた電気光学装置の例として、表示領域に種々の画像を表示させる液晶表示装置を取り上げて説明する。なお、電気光学装置としては、車のルームミラーなどに使われる光の透過を制御するためのシャッター液晶素子なども含まれる。
また、液晶表示装置は、液晶層の液晶分子の配向を変化させるための電界の印加方向により、大きくは以下の2通りに分類される。すなわち、第1の分類として、表示装置の厚さ方向(あるいは表示面の面外方向)に電界が印加される、所謂、縦電界モードがある。縦電界モードには、例えばTN(Twisted Nematic)モードや、VA(Vertical Alignment)モードなどがある。また、第2の分類として、表示装置の平面方向(あるいは表示面の面内方向)に電界が印加される、所謂、横電界モードがある。横電界モードには、例えばIPS(In-Plane Switching)モードや、IPSモードの一つであるFFS(Fringe Field Switching)モードなどがある。以下で説明する技術は、縦電界モードおよび横電界モードのいずれにも適用できるが、以下で説明する実施の形態では、一例として、横電界モードの表示装置を取り上げて説明する。
<表示装置の構成>
まず、表示装置の構成について説明する。図1は、本実施の形態の表示装置の一例を示す平面図である。図1では、平面視における表示領域DAと非表示領域NDAの境界を二点鎖線で示している。また、図1では、表示装置DSP1が備える回路のうち、画像を表示する表示部に相当する回路ブロックや配線の一部を実線で模式的に示している。また、図1では、基板SUB1と対向するように配置された基板SUB2(図2参照)およびカバー部材CVM(図2参照)の図示を省略している。また、図1では、平面視において、シール材(接着材)SLMが配置される領域(シール領域)にドットパターンを付している。また、図1では、周辺領域PF1と屈曲領域BND1との境界、および周辺領域PF2と屈曲領域BND1との境界を点線で示している。また、図1に示す基板SUB1は、屈曲領域BND1において屈曲しているため、表示領域DAに対する法線方向から視た平面視において、周辺領域PF1は視認できない。しかし、図1では、配線WR1の延在方向を明示するため、周辺領域PF1を示している。図2は、図1のA−A線に沿った断面図である。図2は断面図であるが、見易さのため、液晶層LQ、シール材SLM、非表示領域NDAの配線WR1および配線板FWB1を除き、ハッチングは省略されている。図3は、図1の表示領域の一部分の拡大断面図である。図3では、基板SUB1の厚さ方向(図1に示すZ方向)におけるゲート線GLとソース線SLとの位置関係の例を示すため、図3とは異なる断面に設けられたゲート線GLを一緒に示している。図4は、図1に示す表示装置における一つの画素周辺の回路構成例を示す回路図である。
図1に示すように、本実施の形態の表示装置DSP1は、外部から供給される入力信号に応じて画像が形成される表示領域DAを有する。また、表示装置DSP1は、平面視において、表示領域DAの周囲にある非表示領域(額縁領域)NDAを有する。なお、図1に示す表示装置DSP1の表示領域DAは四角形であるが、表示領域が多角形や円形など、四角形以外の形状であってもよい。表示領域DAは、表示面を視た平面視において、表示装置DSP1が画像を表示する有効領域である。基板SUB1および基板SUB2(図2参照)のそれぞれは、平面視において表示領域DAと重なる位置にある。言い換えれば、表示領域DAは、基板SUB1および基板SUB2を有する。
また、図2に示すように、表示装置DSP1は、液晶層LQを介して対向するように貼り合せられた基板SUB1および基板SUB2を有している。基板SUB1と基板SUB2とは、表示装置DSP1の厚さ方向であるZ方向に配列される。言い換えれば、基板SUB1と基板SUB2とは、表示装置DSP1の厚さ方向(Z方向)において互いに対向する。基板SUB1は、液晶層LQ(および基板SUB2)と対向する前面(主面、面)BSfを有する。また基板SUB2は、基板SUB1の前面BSf(および液晶層LQ)と対向する背面(主面、面)FSbを有する。基板SUB1は、スイッチング素子(能動素子)としての複数のトランジスタ(トランジスタ素子)Tr1(図4参照)がアレイ状に配置されたアレイ基板である。また、基板SUB2は、表示面側に設けられた基板である。基板SUB2は、アレイ基板に対向配置された基板という意味で、対向基板と言い換えることができる。
また、液晶層LQは、基板SUB1の前面BSfと基板SUB2の背面FSbとの間にある。液晶層LQは、上記した電気光学層であって、上記したスイッチング素子を介して液晶層LQの周辺に形成される電界の状態を制御することにより、そこを通過する光を変調する機能を備えている。基板SUB1および基板SUB2にある表示領域DAは、図2に示すように液晶層LQと重畳する。
また、基板SUB1と基板SUB2とは、シール材(接着材)SLMを介して接着される。図1に示すように、シール材SLMは、表示領域DAの周囲を囲むように、非表示領域NDAに配置される。シール材SLMの内側には、図2に示すように液晶層LQがある。シール材SLMは、基板SUB1と基板SUB2との間に液晶を封入するシールとしての役割を果たす。また、シール材SLMは、基板SUB1と基板SUB2とを接着する、接着材としての役割を果たす。
また、図2に示すように、表示装置DSP1は、光学素子OD1と、光学素子OD2と、を有する。光学素子OD1は、基板SUB1とバックライトユニットBLとの間に配置される。光学素子OD2は、基板SUB2の表示面側、すなわち基板SUB2を挟んで基板SUB1の反対側に配置される。光学素子OD1および光学素子OD2は、それぞれ少なくとも偏光板を含んでおり、必要に応じて位相差板を含んでいてもよい。
また、図2に示すように、表示装置DSP1は、基板SUB2の表示面側を覆う、カバー部材CVMを備えている。カバー部材CVMは、基板SUB2の背面(面)FSbの反対側の前面(面)FSfに対向する。言い換えれば、カバー部材CVMは、基板20(図3参照)の背面(面)20b(図3参照)の反対側の前面(面)20fに対向する。基板SUB2(言い換えれば図3に示す基板20)は、Z方向において、カバー部材CVMと基板SUB1(言い換えれば図3に示す基板10)の間にある。言い換えれば、Z方向において、カバー部材CVMは、基板SUB2(言い換えれば図3に示す基板20)のZ1側に配置されている。カバー部材CVMは、基板SUB1、SUB2や光学素子OD2を保護する保護部材であって、表示装置DSP1の表示面側に配置されている。ただし、本実施の形態に対する変形例としては、カバー部材CVMが無い場合もある。
また、図3に示すように、基板SUB1は、基板(ベース基板、絶縁性基板)10を備えている。また、基板SUB2は、基板(ベース基板、絶縁性基板)20を備えている。基板10および基板20のそれぞれは、可視光が透過する特性を備えている。また、基板10は、可撓性を備えている。図2に例示するように、平面視において、基板SUB1の周辺領域PF1と、基板SUB2の周辺領域PF2とが重畳している。また、基板SUB1は、非表示領域NDAの一部分が折り曲げられている。言い換えれば、基板SUB1の非表示領域NDAのうち、シール材SLMの外側にある周辺領域PF1は湾曲した部分を有している。さらに言い換えれば基板SUB1の前面BSf(詳しくは基板10の前面10f)は、平坦面領域と、厚さ方向(Z方向)に曲がった曲面領域と、を有する。基板SUB1は図2に例示するような曲げ変形が可能な程度の可撓性を備えている。上記した可撓性を基板SUB1に持たせるため、基板10は、可撓性を備えている。可撓性を備える基板10の構成材料として、例えば、基板10は、ポリイミドやポリアミド、ポリカルボナート、あるいは、ポリエステルなどのポリマーを含む樹脂材料を例示することができる。一方、図2に示す例では、基板SUB2の背面FSbは、平坦面であり、曲面領域は有していない。このため、基板20は可撓性を備えていなくても良い。この場合、基板20を構成する材料は、基板10を構成する材料と比較して選択の自由度が高い。ただし、変形例として後述するように、基板SUB2の周辺領域PF2を曲げ変形させる場合には、基板20も可撓性を備えている必要がある。この場合、基板10と基板20とは、例えば同じ材料で構成されている。もちろん、基板SUB2が曲げられていない場合でも、基板10と基板20とが同じ材料で構成されていても良い。
基板10は、液晶層LQ(および基板20)と対向する前面(主面、面)10fを有する。また基板20は、基板10の前面10f(および液晶層LQ)と対向する背面(主面、面)20bを有する。液晶層LQは、基板10の前面10fと基板20の背面20bとの間にある。
また、図3に示すように、基板SUB1は、基板10と液晶層LQとの間にある複数の導体パターンを有する。基板10と液晶層LQとの間にある複数の導体パターンには、複数のゲート線(走査線)GL、複数のソース線(信号線)SL、コモン線CML、共通電極CE、および複数の画素電極PEが含まれる。また、複数の導体パターンのそれぞれの間には絶縁膜が介在している。隣り合う導体パターンの間に配置され、導体パターンを互いに絶縁する絶縁膜には、絶縁膜11、12、13、14、15、および配向膜AL1が含まれる。なお、図3では、ゲート線GL、共通電極CE、およびコモン線CMLについては、それぞれ一個ずつ示している。
上記した複数の導体パターンのそれぞれは、基板10上に積層された複数の配線層の一部分を構成する。図3に示す例では、表示装置DSP1の表示領域DAには、基板10の前面10fから順に、導電層CL1、CL2、CL3、CL4、およびCL5がある。導電層CL1の表示領域DAと重なる部分には、主に、トランジスタTr1(図4参照)のゲート線GLがある。また、導電層CL2の表示領域DAと重なる部分には、主に、ソース線SLがある。また、導電層CL3の表示領域DAと重なる部分には、主に、共通電極CEがある。また、導電層CL4の表示領域DAと重なる部分には、主に、共通電極CEに駆動電位を供給するコモン線CMLがある。また、導電層CL5の表示領域DAと重なる部分には、画素電極PEがある。
導電層CL1、CL2、および導電層CL4のそれぞれは、金属材料を含む。図3に示す例では、導電層CL1の導体パターンは、例えばモリブデン(Mo)やタングステン(W)等の金属またはそれらの合金から成る金属膜を含んでいる。また、導電層CL2や導電層CL4の導体パターンは、例えばアルミニウム(Al)膜がチタン(Ti)膜や窒化チタン(TiN)膜などに挟まれた積層膜など、多層構造の金属膜を含んでいる。また、配線層CL3およびCL5は、主に、ITO(Indium tin oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxide)などの導電性の酸化物材料(透明導電材料)を含む。
基板10から各導電層CL5までの間には、それぞれ絶縁膜が形成される。絶縁膜11、12、14および15のそれぞれは、無機材料から成る無機絶縁膜である。例えば、絶縁膜11および12のそれぞれは、例えば窒化珪素(SiN)膜、酸化珪素(SiO)膜、酸化アルミニウム(AlOx)膜あるいはこれらの積層膜である。
また、絶縁膜11と絶縁膜12の間には、ゲート線GLの他に、図4に示す画素スイッチ素子PSWとしてのトランジスタ(トランジスタ素子)Tr1のゲート電極GEや半導体層などが形成される。図4に示すトランジスタTr1は薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)である。また、ゲート線GLは、画素スイッチ素子PSWとしてのトランジスタTr1のゲート電極GEを含んでいる。
本実施の形態の場合、基板10は、ポリイミドなどの有機材料から成る。また、基板10は可撓性を備えるので、基板10の前面10fは柔らかい。このため、基板10の前面10fに直接的に導電層CL1を形成しようとすると、導電層CL1を構成する導電性材料を製膜し、パターニングする工程において、導電層CL1の導体パターンが基板10と剥離する懸念がある。本実施の形態のように、基板10と導電層CL1との間に、無機絶縁膜である絶縁膜11が配置されている場合、絶縁膜11が無い場合と比較して、導体パターンが剥離し難い。
また、絶縁膜11および12として無機絶縁膜を用いると、トランジスタTr1の特性を制御し易い。このように、無機絶縁膜は、導体パターンを形成し易くする効果、あるいは、トランジスタTr1の電気的特性を制御し易くする効果があるが、膜の表面を平坦化するという観点からは、無機絶縁膜よりも有機絶縁膜の方が厚く積層出来るため好ましい。このため、共通電極CEの平坦化を維持するために、絶縁膜13は、無機絶縁膜である絶縁膜11および12と比較して平坦化し易い有機絶縁膜が用いられる。絶縁膜13の一例としては、例えば、アクリル系の感光性樹脂から成る、有機絶縁膜が例示できる。
なお、図3では、共通電極CEである導電層CL3とコモン信号線CMLである導電層CL4とを絶縁層14で離間して示しているが、変形例として、配線層CL3上に、絶縁膜14を介さずに導電層CL4が直接形成される場合もある。この場合、絶縁膜14は形成される必要はない。
また、更なる変形例として、導電層CL3が画素電極PE、導電層CL5が共通電極CEとなる場合もある。この場合は、絶縁膜15を形成せず、コモン信号線CMLである導電層CL4上に共通電極CEである導電層CL5を直接形成する。
また、図1に示すように、複数のゲート線GLのそれぞれは、X方向に延在している。また、複数のゲート線GLは、Y方向に互いに間隔を空けて配列される。言い換えれば、複数のゲート線GLは、Y方向の一方の側であるY1側から他方の側であるY2側に向かって配列される。複数のゲート線GLのそれぞれは、表示領域DAの外側の非表示領域NDAに引き出され、ゲート駆動回路(走査線駆動回路)GDに接続される。ゲート駆動回路GDは、複数のゲート線GLに入力される走査信号Gsi(図4参照)を出力する走査信号出力回路である。ゲート駆動回路GDは、基板SUB1の非表示領域NDAにある。
信号線駆動回路SD(図4参照)に接続され、複数の画素PXに映像信号を供給する信号伝送経路である映像信号線のうち、表示領域DAにある部分(配線部)をソース線SLと呼ぶ。また、上記映像信号線のうち、表示領域DAの外側にある部分(配線部)を信号用接続配線SCLと呼ぶ。複数のソース線SLのそれぞれは、Y方向に延びている。一方、信号用接続配線SCLは、Y方向に対して交差する方向に延びる部分を有している。図1に示すように、複数のソース線(信号線、映像信号線)SLのそれぞれは、Y方向に延在している。また、複数のソース線SLは、X方向に互いに間隔を空けて配列される。言い換えれば、複数のソース線SLは、X方向の一方の側であるX1側から他方の側であるX2側に向かって配列される。複数のソース線SLのそれぞれは、表示領域DAの外側の非表示領域NDAに引き出される。複数のソース線SLの各々は、図4に示すように、トランジスタTr1を介して画素電極PEに接続される。詳しくは、ソース線SLは、トランジスタTr1のソース電極SEに接続され、画素電極PEは、トランジスタTr1のドレイン電極DEに接続される。トランジスタTr1がオンになっている時、画素電極PEには、ソース線SLから映像信号Spicが供給される。映像信号Spicは、信号線駆動回路SDから供給される。図1に示すように、表示領域DA内のソース線SLは、接続配線(引き出し配線とも呼ぶ)としての信号用接続配線SCLを介して信号線駆動回路SDと電気的に接続される。信号線駆動回路SDは、ソース線SLを介して複数の画素PXのそれぞれが備える画素電極PE(図4参照)に映像信号Spic(図4参照)を供給する。信号線駆動回路SDは、例えば、図1および図2に示す配線板(フレキシブル配線板)FWB1、または、図2に示す回路基板CB1に形成されている。
また、図1に示す例では、ソース線SLと信号用接続配線SCLとの間には、スイッチ回路部SWSがある。スイッチ回路部SWSは、例えばマルチプレクサ回路であって、複数のソース線SLから選択されたソース線SLに対して信号を供給(出力)する。例えば、赤色用、青色用、および緑色用の3種類のソース線SLがある場合、スイッチ回路部SWSは選択された色用のソース線SLに対して信号を供給(出力)する。複数のソース線SLがスイッチ回路SWSに接続されている場合、スイッチ回路SWSと信号線駆動回路SDとを接続する配線の数をソース線SLの数より少なくすることができる。
また、基板SUB1の表示領域DAには、共通電極CEおよび画素電極PE(図3参照)がある。表示装置DSP1が画像を表示する表示期間において、共通電極CEと画素電極PEとの間の電位差に応じて、液晶分子を駆動する電界が形成される。図3に示すように、共通電極CEは、絶縁膜13上に形成される。共通電極CEには、表示期間において、複数の画素PX(図1参照)に対して共通の駆動電位が供給される。共通の駆動電位は、図3に示すコモン線CMLを介して図4に示す共通電極駆動回路CD(図4参照)から供給される。共通電極駆動回路CDは、図2に示す配線板FWB1、または、回路基板CB1に形成される。共通電極CEは、表示領域DAの全体に配置される。表示領域DAに1個の共通電極CEがあっても良いし、表示領域DAに複数の共通電極CEがあっても良い。共通電極CEは、ITO(Indium tin oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxide)など、導電性の酸化物から成る透明導電材料が好ましい。
また、図3に示す例では、複数の画素電極PEは絶縁膜15上に形成される。平面視において、各画素電極PEは、互いに隣り合う2つのソース線SLの間に位置している。また、図3に示す例では、共通電極CEと画素電極PEとは互いに異なる層に形成されている。ただし変形例としては、複数の共通電極CEと複数の画素電極PEとが同一面(例えば絶縁膜13上)に形成され、互いに隣り合うように交互に配列されていても良い。また、共通電極CEが基板SUB2に設けられている場合もある。画素電極PEは、例えば、ITOまたはIZOなどの透明な導電材料または金属材料が好ましい。複数の画素電極PEのそれぞれは、上記したように、図4に示すトランジスタTr1を介してソース線SLおよび信号用接続配線SCLと電気的に接続されている。
また、複数の画素電極PEのそれぞれは、配向膜AL1に覆われる。配向膜AL1は液晶層LQに含まれる液晶分子の初期配向を揃える機能を備える有機絶縁膜であって、例えばポリイミド樹脂から成る。また、配向膜AL1は、液晶層LQに接する。
また、図3に示すように、基板SUB2は、基板20の基板SUB1に対向する背面(主面、面)20bと液晶層LQとの間にある、遮光膜BMと、カラーフィルタCFR、CFGおよびCFBと、絶縁膜OC1と、配向膜AL2と、を有する。
カラーフィルタCFR、CFGおよびCFBは、基板SUB1と対向する背面20b側に形成される。図3に示す例では、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色のカラーフィルタCFR、CFG、CFBが周期的に配列される。カラー表示装置では、例えばこの赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の画素を1組として、カラー画像を表示する。基板SUB2の複数のカラーフィルタCFR、CFG、CFBは、基板SUB1に形成される画素電極PEを有するそれぞれの画素PX(図1参照)と、互いに対向する位置に配置される。なお、カラーフィルタの種類は、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色に限定されるものではない。
また、各色のカラーフィルタCFR、CFG、CFBのそれぞれの境界には、遮光膜BMが配置される。遮光膜BMはブラックマトリクスと呼ばれ、例えば黒色の樹脂や、低反射性の金属から成る。遮光膜BMは、平面視において、例えば格子状に形成される。言い換えれば、遮光膜BMは、X方向およびY方向に延在している。詳しくは、遮光膜BMは、Y方向に延びる複数の部分と、Y方向に交差するX方向に延びる複数の部分を有している。各画素PXをブラックマトリクスで区画することにより、光漏れや混色を抑制することができる。
また、遮光膜BMは、基板SUB2の非表示領域NDAに形成される。非表示領域NDAは、遮光膜BMと重畳する。表示領域DAは、非表示領域NDAよりも内側の領域として規定される。また、非表示領域NDAは、図2に示すバックライトユニット(光源)BLから照射された光を遮光する遮光膜BMと重畳する領域である。遮光膜BMは表示領域DA内にも形成されるが、表示領域DAには、遮光膜BMに複数の開口部が形成される。一般的に、遮光膜BMに形成され、カラーフィルタが露出する開口部のうち、最も周縁部側に形成された開口部の端部が、表示領域DAと非表示領域NDAの境界として規定される。
また、図3に示す絶縁膜OC1は、カラーフィルタCFR、CFG、CFBを覆っている。絶縁膜OC1は、カラーフィルタから液晶層に対して不純物が拡散するのを防止する保護膜として機能する。絶縁膜OC1は、例えばアクリル系の感光性樹脂等から成る、有機絶縁膜である。
<非表示領域の詳細構造>
次に、図1に示す表示装置DSP1の非表示領域NDAの詳細な構造について説明する。図5は、図1に示す表示装置の屈曲領域周辺を拡大して示す拡大平面図である。図6は、図5のA−A線に沿った拡大断面図、図7は、図5のB−B線に沿った拡大断面図である。図8は、図6に対する検討例である表示装置の拡大断面図である。なお、図2に示すように、周辺領域PF1は、表示領域DAの裏側にある。図6では、屈曲領域の範囲を図2に示す例よりも小さくして、周辺領域PF1および周辺領域PF2を一図に示している。以下図6に対する変形例として後述する図9、図10、および図11においても同様に、周辺領域PF1および周辺領域PF2を一図に示している。
図5では、複数の配線WR1および複数の開口部CH1のそれぞれを実線で示し、複数の配線WR2を点線で示している。また、図5では、配線WR2に接続される複数のトランジスタTr1を四角形で模式的に示している。また、図5では、図6に示す絶縁膜11の終端部を二点鎖線で示している。
図1に示すように、表示装置DSP1は、シール材SLMに囲まれた表示領域DAと、表示領域DAの外側(言い換えれば周囲)にある周辺領域PF1と、表示領域DAに隣接し、周辺領域PF1と表示領域DAとの間にある周辺領域PF2と、周辺領域PF2と周辺領域PF1との間にある屈曲領域BND1と、を備える。屈曲領域BND1は、図2に示す基板10および基板10上に配置された各部材が屈曲している部分であり、ある範囲の面積を有する。図1では屈曲領域BND1の曲げ中心の位置を点線で示している。
図2に示すように、基板10を含む基板SUB1を屈曲させることで、Y方向において、Y2側の非表示領域NDAの幅を低減できる。図2に示す例の場合、配線板FWB1は、バックライトユニットBLと重なる位置において、基板10に接続されている。図2に示すZ方向において、表示面側であるZ1側からZ2側を視た時に、視認可能な非表示領域NDAの面積を低減させることができれば、表示装置DSP1の表示領域DAの有効面積率を向上させることができる。したがって、図2に示す例の場合、配線板FWB1と基板10とを接続するために必要なスペース分は、非表示領域NDAから削減できる。また、屈曲領域BND1における曲率半径を小さくする程、非表示領域NDAの面積を低減できる。
基板10を屈曲させて、表示領域DAの背面側に配線板FWB1や回路基板CB1を配置する場合、表示領域DAにあるトランジスタTr1(図4参照)や各種の電極と、表示領域DAの背面側に配置される各種の駆動回路(図4に示す信号線駆動回路SD、共通電極駆動回路CDなど)とを電気的に接続する必要がある。このため、図1や図2に例示的に示すように、トランジスタTr1(図4参照)に電気的に接続された複数の配線(第1配線)WR1は、周辺領域PF2、屈曲領域BND1、および周辺領域PF1を跨ぐように延びる。言い換えれば、複数の配線(第1配線)WR1は、周辺領域PF2、屈曲領域BND1、および周辺領域PF1に亘って形成されている。本願発明者の検討によれば、屈曲領域BND1を跨ぐように延びる配線WR1は、屈曲領域BND1を跨がない配線と比較して損傷し易く、この配線WR1を保護することにより表示装置DSP1の信頼性が向上することが判った。
配線WR1が損傷する要因としては、例えば以下の点が挙げられる。第一に、屈曲領域BND1では、基板10や基板10上に配置された各種の部材が、曲げ中心からの距離に応じて収縮または延伸する。詳しくは、屈曲領域BND1において曲げられる部材のうち、相対的に曲げ中心に近い位置に配置される部分は収縮する。一方、屈曲領域BND1において曲げられる部材のうち、相対的に曲げ中心から遠い位置に配置される部分は延伸する。そして、収縮する部分あるいは延伸する部分に配線WR1があると、曲げによって生じる力(曲げモーメント)に応じて、配線WR1に応力(垂直応力およびせん断応力)が印加される。この応力が大きい場合、配線WR1が応力に起因して損傷する場合がある。例えば、図8に検討例として示す表示装置DSP2の場合、基板10の前面10f上に形成された配線WR1には曲げモーメントによって引っ張られる。
また、配線WR1が損傷する第二の要因として、配線WR1が水分により腐食することが挙げられる。図8に検討例として示す表示装置DSP2のように、周辺領域PF1および周辺領域PF2に配置される配線WR1が露出している場合、大気中に含まれる水分により腐食する場合がある。また、配線WR1が保護膜により覆われていた場合でも、保護膜の隙間から侵入する水分に起因して配線WR1が腐食する場合がある。特に、屈曲領域BND1の周辺では、積層された部材の間に隙間が生じやすい。
本願発明者は、上記した要因に鑑みて、配線WR1の損傷を抑制する技術について検討した。この結果、屈曲領域BND1に印加される曲げモーメントに対する中立面、あるいは中立面の近傍に配線WR1を配置することにより、配線WR1の損傷(詳しくは、曲げモーメントに起因する損傷)を抑制できる事を見出した。図6に示すように、表示装置DSP1の周辺領域PF2、屈曲領域BND1、および周辺領域PF1のそれぞれは、有機膜(有機絶縁膜)OF1と有機膜(有機絶縁膜)OF2とを有する。有機膜OF1は、基板10と配線WR1との間に形成される。また、有機膜OF1は、配線WR1と接する。有機膜OF2は、複数の配線WR1の有機膜OF1に接する面と反対側の面に形成される。有機膜OF2は、配線WR1を覆い、かつ、図7に示すように配線WR1および有機膜OF1と密着する。
図6および図7に示す屈曲領域BND1において、基板10、有機膜OF1、OF2、および配線WR1を一体化された積層膜として考えた場合、積層膜の厚さ方向において、屈曲領域BND1に印加される曲げモーメントに対する中立面は、基板10の背面10b(図2参照)と有機膜OF2の前面OF2fとの間にある。配線WR1が積層膜の中立面に配置されている場合、配線WR1に印加される応力は、理想的には無くなる。また、配線WR1が中立面の近傍に配置されている場合、配線WR1に印加される応力を低減させることができる。中立面の位置は、積層膜を構成する各材料の密度、ヤング率や断面積などの値により変化する。
本実施の形態の場合、図7に示すように、屈曲領域BND1において、複数の配線WR1と基板10との間に有機膜OF1があり、かつ、有機膜OF1と有機膜OF2との間に複数の配線WR1がある。したがって、有機膜OF1および有機膜OF2の密度、ヤング率や厚さ(あるいは断面積)などの値を調整することができる。したがって、単に、基板10の前面10f上に配線WR1が配置されている場合と比較して、曲げに起因して配線WR1に印加される応力を低減することができる。
また、配線WR1の損傷を抑制する観点からは、配線WR1と配線WR1の下地材との密着性を向上させることが好ましい。例えば、図8に示す表示装置DSP2の場合、配線WR1は基板10の前面10f上に直接的に形成されているが、基板10と配線WR1との接着性が低い場合、配線WR1と基板10とが剥離して、この剥離に起因して配線WR1の損傷、あるいは隣り合う配線WR1の短絡、等の現象が発生する懸念がある。本願発明者は、上記現象の対策として、無機絶縁膜である絶縁膜11を周辺領域PF2、屈曲領域BND1、および周辺領域PF1を跨ぐように延在させ、絶縁膜11上に配線WR1を形成する態様について検討した。基板10と配線WR1の間に無機絶縁膜を形成し、配線WR1が無機絶縁膜上に形成されている場合、配線WR1と下地材である無機絶縁膜との接着性は向上する。しかし、窒化珪素膜、酸化珪素膜、あるいは酸化アルミニウム膜などの無機絶縁膜は、曲げモーメントによって割れてしまい、破壊され易い。このため、屈曲領域BND1に絶縁膜11を配置すると、絶縁膜11が割れ、絶縁膜11の割れがその上に積層された配線WR1にも伝播して、配線WR1が損傷する。
図6に示す表示装置DSP1の場合、配線WR1と基板10との間に有機膜OF1が介在し、配線WR1は、有機膜OF1上に形成されている。言い換えれば、有機膜OF1は、基板10および配線WR1のそれぞれに接着されている。有機膜OF1は、有機材料から成る膜なので、有機膜OF1と基板10との接着性は、配線WR1と基板10との接着性より良好である(言い換えれば接着強度が高い)。また、有機膜OF1は、基板10とは異なる材料を用いることができるので、配線WR1との接着性を考慮して材料を選択することができる。
例えば、表示装置DSP1の場合、周辺領域PF2から屈曲領域BND1、周辺領域PF1にかけて形成される有機膜OF1は、表示領域DA中の絶縁膜13と同じ材料である。絶縁膜13は、金属または導電性の酸化物から成る導体パターンを形成する下地材として用いる材料である。したがって、有機膜OF1と配線WR1との接着性は、配線WR1と基板10との接着性より良好である(言い換えれば接着強度が高い)。さらに、有機膜OF1は、無機絶縁膜である絶縁膜11や絶縁膜12より、ヤング率が小さい(すなわち、柔らかい)。したがって、有機膜OF1が屈曲領域BND1に配置されている場合でも、有機膜OF1は破壊され難い。この結果、有機膜OF1上に形成された配線WR1が損傷し難い。
また、図5に示すように、表示領域DAおよび周辺領域PF2のそれぞれは、複数のトランジスタTr1と配線WR1とを電気的に接続する複数の配線WR2を有する。本実施例において、配線WR2は、導電層CL2に形成されたソース線SLである。周辺領域PF2において、有機膜OF1あるいは絶縁膜13には複数の開口部CH1が設けられる。複数の配線WR1のそれぞれは、複数の開口部CH1を介して、複数の配線WR2に接続される。複数の配線WR1のそれぞれは、複数の開口部CH1内において、複数の配線WR2に接続される。図5に示す複数の開口部CH1のそれぞれは、配線WR1と配線WR2とを電気的に接続するコンタクトホールである。図6に示すように、配線WR2の一部分は開口部CH1の底面において、有機膜OF1から露出している。配線WR1は、配線WR2の露出した部分に接合されている。
比較例として示す図8の表示装置DSP2の場合、無機絶縁膜である絶縁膜11および12を、屈曲領域BND1まで延ばすと配線WR1の損傷の原因となるので、絶縁膜11および12は周辺領域PF2で終端している。このため、配線WR1は、絶縁膜11および12の終端部の段差に倣って形成されている。絶縁膜11および12の終端部の段差になっている領域では、平坦な領域と比較して、導体パターンのパターニングが難しい。例えば、導体膜をエッチングすることによりパターニングを行う場合、段差領域における導体膜の除去不足、あるいはエッチングマスクの位置ずれにより、隣り合う導体パターンが短絡する場合がある。また例えば、パターニングされたマスクを用いて導体パターンを成膜する場合、段差領域に正確にマスクを配置することが難しいので、マスクの位置ずれにより、隣り合う導体パターンが短絡する場合がある。
これに対し、本実施の形態の表示装置DSP1の場合、複数の配線WR1のそれぞれに対して一つの開口部CH1が設けられている。このため、隣り合う配線WR1の間は、有機膜OF1により確実に絶縁される。つまり、表示装置DSP1の場合、隣り合う配線WR1の短絡を防止できる。
また、図6に示すように、基板10の前面10f上には、表示領域DA、および周辺領域PF2を跨ぐように延びる無機絶縁膜(図6に示す絶縁膜11および12)がある。有機膜OF1の複数の開口部CH1は、平面視において、上記無機絶縁膜と重なる位置にある。複数の配線WR2は上記無機絶縁膜上にあり、かつ、上記無機絶縁膜上で終端している。言い換えれば、無機絶縁膜である絶縁膜11および12は、周辺領域PF2で終端し、屈曲領域BND1と周辺領域PF1との境界は跨がない。また、複数の配線WR2のそれぞれは、平面視において、絶縁膜11の終端部より表示領域DAに近い位置で終端している。
図6に示す配線WR2が絶縁膜11の終端部を超えて延びている場合、絶縁膜11および12の段差領域において、断線が発生する懸念がある。表示装置DSP1の場合、配線WR2は、上記無機絶縁膜上で終端しているので、無機絶縁膜の終端部において断線することを防止できる。
また、表示装置DSP1の場合、図1に示すスイッチ回路部SWSは、周辺領域PF1にある。スイッチ回路部SWSが表示領域DAの近傍に配置されていれば、スイッチ回路部SWSと配線板FWB1とを電気的に接続する配線WR1の数を低減できる。表示装置DSP1の場合、非表示領域NDAの面積を低減させるため、周辺領域PF2の面積をできる限り小さくしている。このため、スイッチ回路部SWSは周辺領域PF2に配置されない。この結果、屈曲領域BND1を跨ぐように延びる配線WR1の数が増大する。言い換えれば、周辺領域PF2および屈曲領域BND1には、多数の信号用接続配線SCLが高密度で配置される。この多数の信号用接続配線SCLを含む、複数の配線WR1が互いに短絡することを防止する観点から、複数の配線WR1のそれぞれに対して一つの開口部CH1が設けられ、開口部CH1内において、複数の配線WR1と複数の配線WR2とがそれぞれ電気的に接続されている事が好ましい。
また、表示装置DSP1の場合、図6に示すシール材SLMと有機膜OF2とは、互いに異なる材料から成る。有機膜OF2がシール材SLMと異なる材料である場合、有機膜OF2を構成する材料の選択の自由度が増す。したがって、配線WR1が形成される位置が屈曲領域BND1の曲げに対する中立面に近づくように調整し易い。また、有機膜OF2の構成材料として、図7に示す有機膜OF1との接着性が高い材料を選択すれば、隣り合う配線WR1の間において有機膜OF1と有機膜OF2との接着強度が向上する。例えば、有機膜OF1の前面OF1fを構成する材料と、有機膜OF2の背面OF2bを構成する材料とが、互いに同じ有機材料である場合、有機膜OF1と有機膜OF2との接着性は高くなる。
また、図2に示すように、配線WR1は、一方の端部が周辺領域PF2で配線WR2に接続され、他方の端部が周辺領域PF1で配線板FWB1に接続される。詳しくは、配線WR1は、周辺領域PF1において端子TM1に接続される。端子TM1は、配線板FWB1の端子TM2と対向するように配置される。端子TM1と端子TM2とは、異方導電膜ACF1を介して電気的に接続される。異方導電膜ACF1は、複数の導電粒子および複数の導電粒子の周囲にある絶縁膜を含む。言い換えれば、異方導電膜ACF1は、複数の導電粒子を含有する絶縁膜である。端子TM1は、配線WR1と同様に、有機膜OF1の前面OF1f(図6参照)上に形成されている。端子TM1は、有機膜OF2から露出する。ただし、有機膜OF2は、端子TM1が配置される領域の近傍まで延びている。配線WR1の大部分は、有機膜OF2により覆われている。
また、本実施例において、有機絶縁膜OF1は、表示領域DA内の有機絶縁膜である絶縁膜13と同時に形成することができる。また更に、配線WR1は、表示領域DA内で、絶縁膜13より液晶層側の唯一の金属膜である導電層CL4(コモン配線CML)と同時に形成することができる。このように表示領域内外の層の形成を共有化させることで、製造工程を簡略化させることができる。
<変形例1>
次に、上記した表示装置DSP1に対する種々の変形例について、順に説明する。図9は、図6に示す表示装置の変形例である表示装置の拡大断面図である。また、図10は、図9に示す表示装置の変形例である表示装置の拡大断面図である。
図9に示す表示装置DSP3は、基板20が基板10と同様に屈曲している点で図6に示す表示装置DSP1と相違する。詳しくは、表示装置DSP3の基板20は、可撓性を有し、表示領域DA、周辺領域PF2、屈曲領域BND1、および周辺領域PF1を跨ぐように延びる。また、有機膜OF2は、基板20に覆われている。また、基板20は、有機膜OF2の曲げ形状に倣って曲げられている。有機膜OF2の前面OF2fと基板20の背面20bとは接して(密着して)いる。言い換えれば、有機膜OF1、配線WR1、および有機膜OF2を備える積層膜は、基板10と基板20との間に挟まれている。
表示装置DSP3の場合、基板10と基板20とは、互いに同じ材料から成る。この場合、屈曲領域BND1において、基板10と基板20との厚さが同じであれば、中立面の位置は、有機膜OF1、配線WR1、および有機膜OF2を備える積層膜の密度、ヤング率、あるいは断面積を調整することにより、制御できる。
また、表示装置DSP3の場合、有機膜OF1および有機膜OF2が基板10と基板20との間に挟まれているので、有機膜OF1および有機膜OF2に対して水分が侵入し難い。このため、有機膜OF1と有機膜OF2との間に位置する配線WR1が水分の影響により腐食することを抑制できる。
また、図9に示すように、有機膜OF2は、シール材SLMと同じ材料から成り、かつ、シール材SLMと一体に形成されている。基板20を有機膜OF2の形状に倣って曲げるためには、有機膜OF2の前面OF2fと基板20の背面20bとが接着されていることが好ましい。表示装置DSP3のように、有機膜OF2の前面OF2fがシール材SLMである場合、基板20との接着強度を向上させることができる。また、表示装置DSP3のように、有機膜OF2の全体がシール材SLMである場合、図6に示す有機膜OF2を別途で形成する工程が必要ない。このため、表示装置DSP3の製造効率を向上させることができる。
ただし、基板20と有機膜OF2とを接着させる観点からは、少なくとも有機膜OF2のうち、基板20と接触する面がシール材SLMになっていれば良い。したがって、図10に示す表示装置DSP4のように、有機膜OF2が、シール材SLMと異なる材料から成る有機膜OF3と、シール材SLMとの積層膜であっても良い。この場合、有機膜OF3には基板20との接着性が要求されないので、中立面の位置を調整し易い。
図9に示す表示装置DSP3および図10に示す表示装置DSP4は、上記した相違点を除き、図6に示す表示装置DSP1と同様なので、重複する説明は省略する。
<変形例2>
図11は、図6に対する別の変形例である表示装置の拡大断面図である。図6では、絶縁膜11のハッチングを省略したが、図11では、絶縁膜11にハッチングを付している。
図11に示す表示装置DSP5は、無機絶縁膜である絶縁膜11が屈曲領域BND1および周辺領域PF2まで延びている点で図6に示す表示装置DSP1と相違する。詳しくは、表示装置DSP5の基板10の前面10f上には、表示領域DA、周辺領域PF2、屈曲領域BND1、および周辺領域PF1を跨ぐように延びる無機絶縁膜(絶縁膜11)がある。基板10の前面10fは、絶縁膜11に覆われ、有機膜OF1は、絶縁膜11と配線WR1との間にある。
無機絶縁膜である絶縁膜11は、有機膜OF1や基板10と比較して、水分の侵入を防止できる。したがって、基板10の前面10fが無機絶縁膜である絶縁膜11に覆われていれば、有機膜OF1側からの水分の侵入を抑制できる。上記したように、無機絶縁膜である絶縁膜11は、曲げモーメントの影響で破壊され易い。ただし、水分侵入を抑制する効果は、絶縁膜11の一部分が破壊されても損なわれ難い。また、表示装置DSP5の場合、絶縁膜11と配線WR1が有機絶縁膜OF1により離間しているので、配線WR1は、仮に絶縁膜11の一部分割れが生じても、その割れが伝播しづらい。
<変形例3>
図12は、図7に示す配線の詳細な構造を示す拡大断面図である。図13および図14のそれぞれは、図12に対する変形例を示す拡大断面図である。図12に示す例の場合、表示装置DSP1が備える配線WR1は、少なくとも屈曲領域BND1では、金属膜のみにより構成される。なお、上記した「金属膜のみにより構成される」には、一種類の組成の金属膜のみにより構成される場合の他、複数種類の組成の金属膜が積層された積層膜である場合も含まれる。複数種類の組成の金属膜が積層された積層膜の例として、例えばモリブデン(Mo)やタングステン(W)等の金属またはそれらの合金から成る金属膜の積層膜、あるいは、アルミニウム(Al)膜がチタン(Ti)膜や窒化チタン(TiN)膜などに挟まれた積層膜などを例示することができる。
また、図13に示す変形例の場合、配線WR1は、表示領域DAではゲート線GLである導電層CL1と、導電層CL1に接し(密着し)、かつ、表示領域DAではソース線SLである導電層CL2と、を含む。図13の例では、配線WR1は、金属膜のみから成る。金属膜としては、例えば上記したようなモリブデン(Mo)やタングステン(W)等の金属またはそれらの合金から成る金属膜の積層膜、あるいは、アルミニウム(Al)膜がチタン(Ti)膜や窒化チタン(TiN)膜などに挟まれた積層膜などを例示できる。通常、ゲート線GLとソース線SLは異なる材料の金属膜を用いる。曲げに対する強さは、材料によって異なるため、複数種類の金属膜層を用いることで、より曲げの耐性が強い配線WR1を形成することができる。
また、図14に示す変形例の場合、配線WR1は、表示領域DAではゲート線GLである導電層CL1と、導電層CL1に接し(密着し)、かつ、表示領域DAではソース線SLである配線層CL2と、導電層CL2に接し(密着し)、かつ、表示領域DAでは共通電極CEである導電性の酸化物から成る導電層CL3と、を有する。導電層CL3は、例えば、ITOまたはIZOなどの導電性の酸化物材料などから成る。導電層CL1およびCL2は図13の例と同様である。
金属膜から成る導電層CL2と有機膜OF2との間に導電性の酸化物から成る導電層CL3が介在している場合、有機膜OF2側から浸透する水分を多少制限することができるため、配線WR1の金属成分が水分に触れて腐食することを抑制できる。
<変形例4>
図15は、図1に対する変形例を示す平面図である。図16は、図15のA−A線に沿った断面図である。図15および図16に示す表示装置DSP6は、Y方向に交差する(詳しくは直交する)X方向において、X1側およびX2側のそれぞれに屈曲領域BND2を有している点で、図1に示す表示装置DSP1と相違する。
表示装置DSP1(図1参照)および表示装置DSP6は、Y方向において表示領域DAの外側にある周辺領域PF1、PF2、および屈曲領域BND1を有する。表示装置DSP6は、周辺領域PF1、PF2、および屈曲領域BND1に加え、X方向において表示領域DAの外側にある周辺領域PF3、PF4、および屈曲領域BND2を有する。表示装置DSP6は、シール材SLMに囲まれた表示領域DAと、表示領域DAの外側(言い換えれば周囲)にある周辺領域PF3と、表示領域DAに隣接し、周辺領域PF3と表示領域DAとの間にある周辺領域PF4と、周辺領域PF4と周辺領域PF3との間にある屈曲領域BND2と、を備える。屈曲領域BND2は、図16に示す基板10および基板10上に配置された各部材が屈曲している部分であり、ある範囲の面積を有する。図15では周辺領域PF1と屈曲領域BND1との境界、周辺領域PF2と屈曲領域BND1との境界、周辺領域PF3と屈曲領域BND2との境界、および周辺領域PF4と屈曲領域BND2との境界を点線で示している。
また、表示装置DSP6は、ゲート線GLを介して表示領域DAのトランジスタTr1(図4参照)と電気的に接続される複数の配線WR3を有する。複数の配線(第3配線)WR3のそれぞれは、周辺領域PF4、屈曲領域BND2、および周辺領域PF3を跨ぐように延びる。配線WR3は、屈曲領域BND2を跨ぐように延びるので、図5や図6に示す配線WR1と同様に、曲げモーメントによる損傷を抑制する対策を施すことが好ましい。また、配線WR3が水分により腐食することを抑制する対策を施すことが好ましい。重複する説明は省略するが、図1〜図14を用いて説明した配線WR1に対する対策を配線WR3に対して施すことにより、配線WR3の損傷や腐食を抑制できる。
例えば、図16に示すように、表示装置DSP6の周辺領域PF4、屈曲領域BND2、および周辺領域PF3のそれぞれは、有機膜(有機絶縁膜)OF1と有機膜(有機絶縁膜)OF2とを有する。有機膜OF1は、基板10と配線WR1との間にあり、かつ、配線WR3と接する(密着する)。また、有機膜OF2は、配線WR3を覆い、かつ、配線WR1および有機膜OF1と接する(密着する)。
<変形例5>
また、図1〜図16を用いて説明した技術は、外部から入力されたコマンドを信号として検出するタッチセンサを備えた表示装置に適用することもできる。タッチセンサ付きの表示装置の場合、表示用の回路に接続される配線に加え、タッチセンサに接続される配線を備える。このため、例えば図1に示す表示装置DSP1と比較して、さらに、配線の配置密度が高密度になる。
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
本発明は、表示装置や表示装置が組み込まれた電子機器に利用可能である。
10,20 基板(ベース基板、絶縁性基板)
10f,20f,BSf, 前面(主面、面)
20b,FSb 背面(主面、面)
11,12,14,15 絶縁膜(無機絶縁膜)
13 絶縁膜(有機絶縁膜)
ACF1 異方導電膜
AL1,AL2 配向膜
BL バックライトユニット(光源)
BM 遮光膜
BND1,BND2 屈曲領域
CB1 回路基板
CD 共通電極駆動回路
CE 共通電極(表示電極)
CFB,CFG,CFR カラーフィルタ
CH1 開口部
CL1,CL2,CL3,CL4,CL5 導電層
CML コモン線(金属配線)
CVM カバー部材
DA 表示領域
DE ドレイン電極
DSP1,DSP2,DSP3,DSP4,DSP5,DSP6 表示装置
FWB1 配線板(フレキシブル配線板)
GD 走査線駆動回路(ゲート駆動回路)
GE ゲート電極
GL ゲート線(走査線)
Gsi 走査信号
LQ 液晶層
NDA 非表示領域(額縁領域)
OC1 絶縁膜
OD1,OD2 光学素子
OF1、OF2,OF3 有機膜(有機絶縁膜)
OF1f,OF2f 前面
OF2b 背面
PE 画素電極(表示電極)
PF1,PF2,PF3,PF4 周辺領域
PSW 画素スイッチ素子
PX 画素
SCL 信号用接続配線
SD 信号線駆動回路
SE ソース電極
SL ソース線(映像信号線、信号線)
SLM シール材(接着材)
Spic 映像信号
SUB1,SUB2 基板
SWS スイッチ回路部
TM1,TM2 端子
Tr1 トランジスタ
WR1,WR2,WR3 配線

Claims (12)

  1. 第1面を有する可撓性の第1基板と、
    前記第1基板の前記第1面上に形成された電気光学層と、
    前記第1基板と前記電気光学層との間にある複数のトランジスタ素子と、
    前記第1面側にあり、前記複数のトランジスタ素子に電気的に接続された複数の第1配線と、を有し、
    前記第1基板は更に、
    表示領域と、
    平面視において、前記表示領域の外側にある端子部を含む第1周辺領域と、
    前記表示領域に隣接し、前記第1周辺領域と前記表示領域との間にある第2周辺領域と、
    前記第2周辺領域と前記第1周辺領域との間にある屈曲領域と、
    を備え、
    前記複数の第1配線は、前記第2周辺領域、前記屈曲領域、および前記第1周辺領域に亘って形成され、
    前記第2周辺領域、前記屈曲領域、および前記第1周辺領域のそれぞれは、
    前記第1基板と前記複数の第1配線との間に形成された第1有機膜と、
    前記複数の第1配線の前記第1有機膜に接する面と反対側の面に形成された第2有機膜と、
    を有する、電気光学装置。
  2. 請求項1において、
    前記表示領域および前記第2周辺領域のそれぞれは、
    前記複数のトランジスタ素子と前記複数の第1配線とを電気的に接続する複数の第2配線と、
    前記複数の第2配線を覆う第3有機膜と、
    を有し、
    前記第2周辺領域において、前記第1の有機絶縁膜、あるいは前記第3有機膜には、複数の開口部が設けられ、
    前記複数の第1配線は、前記複数の開口部を介して、前記複数の第2配線に接続される、電気光学装置。
  3. 請求項2において、
    前記第1基板の前記第1面上には、前記表示領域、および前記第2周辺領域を跨ぐように形成された無機絶縁膜があり、
    前記複数の開口部は、平面視において、前記無機絶縁膜と重なる位置にあり、
    前記複数の第2配線は前記無機絶縁膜上にあり、かつ、前記無機絶縁膜上で終端している、電気光学装置。
  4. 請求項3において、
    前記複数の第1配線のそれぞれは、前記複数のトランジスタ素子に映像信号を供給する信号用接続配線であって、
    前記複数の第1配線のそれぞれは、前記複数の第2配線から選択された第2配線に対して信号を供給するスイッチ回路部に接続され、
    前記スイッチ回路部は、前記第2周辺領域にある、電気光学装置。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項において、
    前記第1面と対向する第2面を有し、シール材を介して前記第1基板に接着された第2基板を有し、
    前記第2基板は可撓性を有し、前記表示領域、前記第2周辺領域、前記屈曲領域、および前記第1周辺領域に亘って配置され、
    前記第2有機膜は、前記第2基板に覆われ、
    前記電気光学層は、液晶層からなる、電気光学装置。
  6. 請求項5において、
    前記表示領域を囲み、前記第1基板と前記第2基板を接合するシール材を有し、前記第2有機膜は、前記シール材とは異なる材料から成る、電気光学装置。
  7. 請求項5において、
    前記表示領域を囲み、前記第1基板と前記第2基板を接合するシール材を有し、前記第2有機膜は、前記シール材と同じ材料から成り、かつ、前記シール材と一体に形成されている、電気光学装置。
  8. 請求項1または2において、
    前記第1基板の前記第1面上には、前記表示領域、前記第2周辺領域、前記屈曲領域、および前記第1周辺領域に亘って形成された無機絶縁膜があり、
    前記第1基板の前記第1面は、前記無機絶縁膜に覆われ、
    前記第1有機膜は、前記無機絶縁膜と前記複数の第1配線との間にある、電気光学装置。
  9. 請求項1〜8のいずれか1項において、
    前記複数の第1配線のそれぞれは、金属から成る第1導電層と、前記第1導電層に接し、かつ、前記第1導電層と異なる金属から成る第2導電層と、を含む、電気光学装置。
  10. 請求項9において、
    前記複数の第1配線のそれぞれは、前記第1導電層と、前記第2導電層と、前記第2導電層に接し、かつ、導電性の酸化物から成る第3導電層と、を有し、
    前記第2導電層は、前記第1導電層と前記第3導電層との間にある、電気光学装置。
  11. 第1面を有する可撓性の第1基板と、
    前記第1面と対向する第2面を有し、シール材を介して前記第1基板に接着された第2基板と、
    前記第1基板の前記第1面と、前記第2基板の前記第2面との間にある電気光学層と、
    前記第1基板と前記電気光学層との間にある第1電極と、
    前記第1面側にあり、前記第1電極に電気的に接続された第1配線と、
    平面視において前記シール材に囲まれた表示領域と、
    前記表示領域の外側にある第1周辺領域と、
    前記表示領域に隣接し、前記第1周辺領域と前記表示領域との間にある第2周辺領域と、
    前記第2周辺領域と前記第1周辺領域との間にある屈曲領域と、
    を備え、
    第1配線は、前記第2周辺領域、前記屈曲領域、および前記第1周辺領域に亘って形成され、
    前記第2周辺領域、前記屈曲領域、および前記第1周辺領域のそれぞれは、
    前記第1基板と前記第1配線との間にあり、かつ、前記第1配線と接する第1有機膜と、
    前記第1配線を覆い、かつ、前記第1配線および前記第1有機膜と接する第2有機膜と、
    を有する、電気光学装置。
  12. 請求項11において、
    前記電気光学層は、液晶層である、電気光学装置。
JP2018058011A 2018-03-26 2018-03-26 電気光学装置 Pending JP2019168642A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018058011A JP2019168642A (ja) 2018-03-26 2018-03-26 電気光学装置
PCT/JP2018/048279 WO2019187452A1 (ja) 2018-03-26 2018-12-27 電気光学装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018058011A JP2019168642A (ja) 2018-03-26 2018-03-26 電気光学装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2019168642A true JP2019168642A (ja) 2019-10-03

Family

ID=68059775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018058011A Pending JP2019168642A (ja) 2018-03-26 2018-03-26 電気光学装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2019168642A (ja)
WO (1) WO2019187452A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021088037A1 (zh) 2019-11-08 2021-05-14 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法、显示面板、显示装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102405257B1 (ko) * 2015-01-28 2022-06-03 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102381285B1 (ko) * 2015-08-06 2022-03-31 삼성디스플레이 주식회사 가요성 표시 장치 및 이의 제조 방법
TWI740908B (zh) * 2016-03-11 2021-10-01 南韓商三星顯示器有限公司 顯示設備

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019187452A1 (ja) 2019-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11409173B2 (en) Active matrix substrate and display panel
US11686985B2 (en) Display apparatus
JP2016130820A (ja) 表示装置及び照明装置
JP7345617B2 (ja) 表示装置
US20180314098A1 (en) Display board and display device
US20220413327A1 (en) Display device
JP2016126041A (ja) 表示装置
US20210208444A1 (en) Electrooptic apparatus
JP2018205590A (ja) 表示装置
CN211528859U (zh) 电光学装置
JP2019207354A (ja) 表示装置
WO2019187452A1 (ja) 電気光学装置
US11719970B2 (en) Display device and method of manufacturing the same, electronic equipment and method of manufacturing the same, and backlight unit
JP7360268B2 (ja) 表示装置
JP2019028215A (ja) 表示装置
JP2022105016A (ja) 表示装置
JP2023006491A (ja) 表示装置
KR20050068501A (ko) 수평전계 방식 액정표시장치용 어레이 기판