JP2019155907A - 積層体、複合偏光板および画像表示装置 - Google Patents

積層体、複合偏光板および画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】本発明の目的は、高温高湿環境下でも透明導電層の抵抗変化率が小さい積層体を提供することにある。さらに、本発明では、当該積層体を用いた複合偏光板および画像表示装置を提供することも目的とする。【解決手段】透明導電層と温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m2・day)以下の粘接着剤層とが互いに接して積層されていることを特徴とする積層体。粘接着剤層は、ゴム系粘着剤やポリオレフィン系粘着剤であることが好ましい。【選択図】なし

Description

本発明は、積層体、複合偏光板および画像表示装置に関するものである。
近年、携帯電話やタブレット端末などの普及が進み、画像表示装置として液晶表示装置や有機EL表示装置(OLED)が広く用いられるようになってきた。そうした中で、特に、タッチパネル機能を有する画像表示装置が増えてきている。このような画像表示装置では、粘着剤層がタッチパネルの有する透明導電層に直接接触するように配置されることが多く、透明導電層と粘着剤層との間の密着性や耐久性が特に重要とされている。
この問題を解決するため、特許文献1には、シランカップリング剤として、エポキシ基を有するシラン化合物のみが配合された粘着剤組成物から形成される粘着剤層を使用することが開示されている。また、特許文献2には、シランカップリング剤として、分子内に2個のアルコキシシリル基を有するシラン化合物が配合された粘着剤組成物から形成される粘着剤層を使用することが開示されている。
特許文献2において、透明導電層の腐食性についても検討され改善が確認されているが、高温高湿環境下での透明導電層の腐食に対する対策はなされていなかった。
特開平4−223403号公報 特開2016−101716号公報
本発明の目的は、高温高湿環境下でも透明導電層の抵抗変化率が小さい積層体を提供することにある。さらに、本発明では、それを用いた複合偏光板および画像表示装置を提供することも目的とする。
すなわち、本発明は、以下の積層体、複合偏光板及び画像表示装置を提供する。
[1] 透明導電層と温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の粘接着剤層とが互いに接して積層されていることを特徴とする積層体。
[2] 前記粘接着剤層が、ポリイソブチレン、及び水素引抜型光重合開始剤を含むゴム系粘着剤組成物から形成された粘着剤層であることを特徴とする[1]に記載の積層体。
[3] 前記粘接着剤層が、ポリオレフィン系樹脂を含む粘着剤層であることを特徴とする[1]に記載の積層体。
[4] 前記ポリオレフィン系樹脂が非晶質ポリプロピレン系樹脂を含むことを特徴とする[3]に記載の積層体。
[5] 偏光フィルムと、[1]〜[4]のいずれかに記載の積層体とを含むことを特徴とする複合偏光板。
[6] 前記偏光フィルムの厚みが、15μm以下である[5]に記載の複合偏光板。
[7] [1]〜[4]のいずれかに記載の積層体、又は[5]〜[6]に記載の複合偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
本発明によれば、高温高湿環境下でも透明導電層の抵抗変化率が小さい積層体を提供することができる。さらに、本発明では、高温高湿環境下でも透明導電層の抵抗値変化の少ない複合偏光板および画像表示装置を提供することもできる。
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
(透明導電層)
本発明において、透明導電層は、特に制限は無いが、例えば結晶質の金属層あるいは結晶質の金属化合物層を挙げることができる。結晶質とは、単結晶だけでなく、多数の結晶粒が集合した多結晶も含むことができる。透明導電層を構成する成分としては、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等の金属酸化物、アルミニウム、金、銀、銅、チタン、パラジウム、クロム、ニッケル、タングステン、白金、鉄、インジウム、スズ、イリジウム、ロジウム、ネオジウム、モリブデン等の金属およびこれらの混合物が挙げられる。これらのうち酸化インジウムを主成分とした結晶質の層であることが好ましく、特に結晶質のITO(Indium Tin Oxide)からなる層が好ましく用いられる。透明導電層は、積層体主面の全面にわたって形成された膜であってもよいし、メタルメッシュで構成される金属配線層であってもよい。
透明とは、透光性を有するという意味であり、半透明を含むものである。透明導電層は、可視光波長領域(例えば)400〜800nmにおける全光線透過率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることが好ましい。透明導電層がメタルメッシュである場合、配線が観察者に視認されなければよい。
また、透明導電層が結晶質の材料から作られている場合、結晶粒径は、特に上限を設ける必要はないが3000nm以下であることが好ましい。結晶粒径が3000nmを超えると筆記耐久性が悪くなることがある。ここで結晶粒径とは、透過型電子顕微鏡(TEM)下で観察される多角形状又は長円状の各領域における対角線又は直径の中で最大のものと定義される。
透明導電層が結晶質の膜でない場合には、例えば、タッチパネルに要求される摺動耐久性や環境信頼性が低下することがある。
透明導電層は、公知の手法にて形成することが可能である。透明導電層を形成する方法としては、例えばDCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法等の物理的形成法(Physical Vapor Deposition(以下では「PVD」とする))等を用いることができる。大面積に対して均一な膜厚の透明導電層を形成するという工業生産性の観点からは、透明導電層を形成する方法は、DCマグネトロンスパッタリング法が望ましい。なお、上記物理的形成法(PVD)のほかに、化学気相堆積法(Chemical Vapor Deposition(以下では「CVD」とする))、ゾルゲル法などの化学的形成法を用いることもできるが、膜厚制御の観点からはやはりスパッタリング法が望ましい。
透明導電層の膜厚は、透明性と導電性の点から5〜50nmであることが好ましい。更に好ましくは5〜30nmである。透明導電層の膜厚が5nm未満では抵抗値の経時安定性に劣る傾向が有り、また50nmを超えると表面抵抗値が低下するためタッチパネルとして好ましくない。
透明導電層がメタルメッシュで構成される金属配線層である場合、その線幅は通常、10μm以下、好ましくは5μm以下、さらに好ましくは3μm以下であり、通常は0.5μm以上である。このような線幅の狭い金属配線層であっても、本発明の積層体は透明導電層の腐食を抑えることができる。
本発明の透明導電層をタッチパネルに用いる場合、すなわちタッチパネルが透明導電層を有する場合、タッチパネルの消費電力の低減と回路処理上の必要等から、膜厚10〜30nmにおいて透明導電層の表面抵抗値は好ましくは100〜2000Ω/□(Ω/sq)の範囲、より好ましくは140〜1000Ω/□(Ω/sq)の範囲を示すことが好ましい。
本発明で用いる透明導電層は、ガラス基板や透明有機高分子基板の面上に形成されているものを用いてもよい。その場合、透明導電層は、基板の片面に形成されてもよいし、両面に形成されてもよい。透明導電層は、基板主面の全面に形成されてもよいし、基板の一部に形成されてもよい。またガラス基板や透明有機高分子基板の一方の面に透明導電層を形成した後、本発明で用いる温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の粘接着剤層に透明導電層を転写させて使用してもよい。
例えば、透明有機高分子基板は、任意の透明有機高分子基板、特に光学分野で使用されている耐熱性、透明性等に優れた透明有機高分子基板であってよい。
透明有機高分子基板としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなる基板が挙げられる。また、本発明の透明導電性積層体に用いる透明有機高分子基板としては、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドに代表されるアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなる基板も挙げられる。またさらに、本発明の透明導電性積層体に用いる透明有機高分子基板としては、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや上記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなる基板なども挙げられる。
本発明では、これら透明有機高分子基板のうち、光学的に複屈折の少ないもの、複屈折をλ/4やλ/2に制御したもの、又は複屈折をまったく制御していないものを、用途に応じて適宜選択することができる。ここで言うように用途に応じて適宜選択を行う場合としては、例えば液晶ディスプレイに使用する偏光板や位相差フィルム、インナー型のタッチパネルのように、直線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光によって機能を発現するディスプレイ部材、有機ELディスプレイに使用する反射防止用円偏光板として用いる場合を挙げることができる。
透明有機高分子基板の膜厚は適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性などの点より10〜500μm程度であり、特に20〜300μmが好ましく、30〜200μmがより好ましい。
<粘接着剤層>
粘接着剤層は、透明導電層上に形成され、粘接着剤層と透明導電層とが互いに接して積層される。本発明で使用する粘接着剤層は、温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が、100g/(m・day)以下である。本発明者らの検討により、高温高湿環境下における透明導電層の腐食は、偏光板に含まれる水分が原因であることが明らかになった。このような粘接着剤層を備える積層体は、粘接着剤層と透明導電層とが互いに接して積層されているときに、高温高湿環境下において、透明導電層が腐食されにくいものとなる。本明細書において、接着剤層又は粘着剤層をまとめて「粘接着剤層」ということがある。
前記粘接着剤層の透湿度は、100g/(m・day)以下であり、50g/(m・day)以下であることが好ましく、30g/(m・day)以下であることがより好ましく、20g/(m・day)以下であることがさらに好ましい。また、透湿度の下限値は特に限定されるものではないが、理想的には、水蒸気を全く透過させないこと(すなわち、0g/(m・day))が好ましい。前記透湿度は、粘接着剤層の厚みを50μmとした場合の温度40℃、相対湿度92%R.H.条件下での水蒸気透過率(透湿度)であって、その測定方法は実施例に記載の方法に従うことができる。
<接着剤層>
接着剤層は、透明導電層と後述の偏光板とを接着するための層であることができる。接着剤層としては、温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が、100g/(m・day)以下であればよい。接着剤層を形成する接着剤の組成は特に限定されるものではなく、任意の適切な接着剤からなる層を採用し得る。このような接着剤としては、例えば、天然ゴム接着剤、α−オレフィン系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂エマルション接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、塩化ビニル樹脂溶剤系接着剤、クロロプレンゴム系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、シリコーン系接着剤、スチレン−ブタジエンゴム溶剤系接着剤、ニトリルゴム系接着剤、ニトロセルロース系接着剤、反応性ホットメルト接着剤、フェノール樹脂系接着剤、変性シリコーン系接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリイミド系接着剤、ポリウレタン樹脂ホットメルト接着剤、ポリオレフィン樹脂ホットメルト接着剤、ポリ酢酸ビニル樹脂溶剤系接着剤、ポリスチレン樹脂溶剤系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリビニルピロリドン樹脂系接着剤、ポリビニルブチラール系接着剤、ポリベンズイミダゾール接着剤、ポリメタクリレート樹脂溶剤系接着剤、メラミン樹脂系接着剤、ユリア樹脂系接着剤、レゾルシノール系接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、1種単独又は2種以上を混合して使用することができる。
接着剤としては、接着形態で分類すると、例えば、熱硬化型接着剤、ホットメルト接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
熱硬化型接着剤は、加熱により熱硬化して固化することにより接着力を発現する。熱硬化型接着剤としては、例えば、エポキシ系熱硬化型接着剤、ウレタン系熱硬化型接着剤、アクリル系熱硬化型接着剤等が挙げられる。熱硬化型接着剤の硬化温度は、例えば、100〜200℃である。
ホットメルト接着剤は、加熱により溶融又は軟化して、被着体に熱融着し、その後の冷却によって、固化することにより、被着体に接着する。ホットメルト接着剤としては、例えば、ゴム系ホットメルト接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリオレフィン系ホットメルト接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリウレタン樹脂ホットメルト接着剤等が挙げられる。ホットメルト接着剤の軟化温度(環球法)は、例えば、100〜200℃である。また、ホットメルト接着剤の溶融粘度は、180℃で、例えば、100〜30000mPa・sである。
接着剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、0.01〜10μm程度であることが好ましく、0.05〜8μm程度であることがより好ましい。
<粘着剤層>
粘着剤層は、透明導電層と後述の偏光板とを接着するための層であることができる。粘着剤層としては、温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が、100g/(m・day)以下であればよい。粘着剤層を形成する粘着剤の組成は特に限定されるものではなく、任意の適切な粘着剤からなる層を採用し得る。粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、ポリオレフィン系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等を挙げることができるが、これらの中でも、透湿度の観点から、ゴム系粘着剤やポリオレフィン系粘着剤であることが好ましい。
ゴム系粘着剤としては、ゴム系ポリマーを含むものであればよく、その組成は特に限定されるものではない。
本発明で用いるゴム系ポリマーは、室温付近の温度域においてゴム弾性を示すポリマーである。具体的には、スチレン系熱可塑性エラストマー、イソブチレン系ポリマー等を挙げることができることができるが、本発明においては、耐候性の観点から、イソブチレンの単独重合体であるポリイソブチレン(PIB)を用いることが好ましい。これは、ポリイソブチレンは、主鎖の中に二重結合を含まないため、耐光性が優れるものである。
前記ポリイソブチレンとしては、例えば、BASF社製のOPPANOL等の市販品を用いることができる。
前記ポリイソブチレンの重量平均分子量(Mw)は、10万以上であることが好ましく、30万以上であることがより好ましく、60万以上であることがさらに好ましく、70万以上であることが特に好ましい。また、重量平均分子量の上限値は特に限定されるものではないが、500万以下が好ましく、300万以下がより好ましく、200万以下がさらに好ましい。前記ポリイソブチレンの重量平均分子量を10万以上とすることで高温保管時の耐久性がより優れるゴム系粘着剤とすることができる。
前記ポリイソブチレンの含有量は、特に限定されるものではないが、ゴム系粘着剤の全固形分中、50重量%以上であることが好ましく、60重量%以上であることがより好ましく、70重量%以上であることがさらに好ましく、80重量%以上であることがさらに好ましく、85重量%以上であることがさらに好ましく、90重量%以上であることが特に好ましい。ポリイソブチレンの含有量の上限は特に限定されるものではなく、99重量%以下であることが好ましく、98重量%以下であることがより好ましい。ポリイソブチレンを前記範囲で含むことで、低透湿性に優れるため好ましい。
また、本発明で使用するゴム系粘着剤においては、前記ポリイソブチレン以外のポリマーやエラストマー等を含むこともできる。具体的には、イソブチレンとノルマルブチレンとの共重合体、イソブチレンとイソプレンとの共重合体(例えば、レギュラーブチルゴム、塩素化ブチルゴム、臭素化ブチルゴム、部分架橋ブチルゴム等のブチルゴム類)、これらの加硫物や変性物(例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の官能基で変性したもの)等のイソブチレン系ポリマー;スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SIS)、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEPS、SISの水添物)、スチレン−エチレン−プロピレンブロック共重合体(SEP、スチレン−イソプレンブロック共重合体の水添物)、スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体(SIBS)、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)等のスチレン系ブロックコポリマー等のスチレン系熱可塑性エラストマー;ブチルゴム(IIR)、ブタジエンゴム(BR)、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、EPR(二元系エチレン−プロピレンゴム)、EPT(三元系エチレン−プロピレンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー;ポリエステル系熱可塑性エラストマー;ポリプロピレンとEPT(三元系エチレン−プロピレンゴム)とのポリマーブレンド等のブレンド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。これらは、本発明の効果を損なわない範囲で添加することができるが、前記ポリイソブチレン100重量部に対して10重量部程度以下であることが好ましく、耐久性の観点からは、含まないことが好ましい。
また、本発明で使用するゴム系粘着剤は、前記ポリイソブチレンと水素引抜型光重合開始剤を含むことが特に好ましい。
前記水素引抜型光重合開始剤とは、活性エネルギー線を照射することで、開始剤自身は開裂することなく、前記ポリイソブチレンより水素を引き抜き、ポリイソブチレンに反応点を作ることができるものである。当該反応点形成により、ポリイソブチレンの架橋反応を開始することができるものである。
光重合開始剤としては、本発明で用いる水素引抜型光重合開始剤の他に、活性エネルギー線の照射により、光重合開始剤自身が開裂分解してラジカルを発生させる開裂型光重合開始剤も知られている。しかしながら、本発明で用いるポリイソブチレンに、開裂型光重合開始剤を用いると、ラジカルが発生した光重合開始剤によりポリイソブチレンの主鎖が切断されてしまい、架橋することができないものである。本発明においては、水素引抜型光重合開始剤を用いることで、前述の通りポリイソブチレンの架橋をすることができるものである。
水素引抜型光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル−4−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジクロルベンゾフェノン、4,4’−ジメチルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物;4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物;10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアンスラキノン、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン等;アセトナフトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の芳香族ケトン化合物;テレフタルアルデヒド等の芳香族アルデヒド、メチルアントラキノン等のキノン系芳香族化合物が挙げられる。これらは1種単独で、又は、2種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、反応性の点から、ベンゾフェノン系化合物が好ましく、ベンゾフェノンがより好ましい。
前記水素引抜型光重合開始剤の含有量は、前記ポリイソブチレン100重量部に対して、0.001〜10重量部であることが好ましく、0.005〜10重量部であることがより好ましく、0.01〜10重量部であることがさらに好ましい。水素引抜型光重合開始剤を前記範囲で含むことで、架橋反応を目的の密度まで進行させることができるため好ましい。
また、本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲で、開裂型光重合開始剤を前記水素引抜型光重合開始剤と伴に用いてもよいが、前述の理由により用いないことが好ましい。
本発明で使用するゴム系粘着剤は、さらに多官能ラジカル重合性化合物を含むことができる。本発明において、多官能ラジカル重合性化合物はポリイソブチレンの架橋剤として機能するものである。
前記多官能ラジカル重合性化合物は、(メタ)アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有するラジカル重合性の官能基を少なくも2つ有する化合物である。多官能ラジカル重合性化合物の具体的としては、例えば、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、2−エチル−2−ブチルプロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリート、ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、EO変性ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物、9,9−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等を挙げることができる。これらを1種単独で、又は2種以上の混合物として用いることができる。これらの中でも、ポリイソブチレンに対する相溶性の観点から、(メタ)アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物が好ましく、(メタ)アクリロイル基を2つ有する2官能(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイル基を3つ以上有する3官能(メタ)アクリレートがより好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートが特に好ましい。
前記多官能ラジカル重合性化合物の含有量は、前記ポリイソブチレン100重量部に対して20重量部以下であることが好ましく、15重量以下であることがより好ましく、10重量部以下であることがさらに好ましい。また、多官能ラジカル重合性化合物の含有量の下限値は特に限定されるものではないが、例えば、前記ポリイソブチレン100重量部に対して0.1重量部以上であることが好ましく、0.5重量部以上であることがより好ましく、1重量部以上であることがさらに好ましい。多官能ラジカル重合性化合物の含有量が前記範囲にあることで、得られたゴム系粘着剤層の耐久性の観点から好ましい。
多官能ラジカル重合性化合物の分子量は、特に限定されないが、例えば、1000以下程度であることが好ましく、500以下程度であることがより好ましい。
本発明で使用するゴム系粘着剤は、テルペン骨格を含む粘着付与剤、ロジン骨格を含む粘着付与剤、及びこれらの水添物からなる群から選択される少なくとも1種の粘着付与剤を含むことができる。ゴム系粘着剤に粘着付与剤を含むことで、各種被着体に対して高い接着性を有し、かつ、高温環境下においても高い耐久性を有するゴム系粘着剤層を形成することができるため、好ましい。
前記テルペン骨格を含む粘着付与剤としては、例えば、α−ピネン重合体、β−ピネン重合体、ジペンテン重合体等のテルペン重合体や、前記テルペン重合体を変性(フェノール変性、スチレン変性、芳香族変性、水素添加変性、炭化水素変性等)した変性テルペン樹脂等が挙げられる。上記変性テルペン樹脂の例には、テルペンフェノール樹脂、スチレン変性テルペン樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水素添加テルペン樹脂(水素化テルペン樹脂)等が含まれる。ここでいう水素添加テルペン樹脂の例には、テルペン重合体の水素化物及び他の変性テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂の水素添加物が含まれる。これらの中でも、ゴム系粘着剤への相溶性や粘着特性の観点から、テルペンフェノール樹脂の水素添加物が好ましい。
前記ロジン骨格を含む粘着付与剤としては、ロジン樹脂、重合ロジン樹脂、水添ロジン樹脂、ロジンエステル樹脂、水添ロジンエステル樹脂、ロジンフェノール樹脂等が挙げられ、具体的には、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン等の未変性ロジン(生ロジン)や、これらを水添化、不均化、重合、その他の化学的に修飾された変性ロジン、これらの誘導体を使用することができる。
前記粘着付与剤としては、例えば、ヤスハラケミカル(株)製のクリアロンシリーズ、ポリスターシリーズ、荒川化学工業(株)製のスーパーエステルシリーズ、ペンセルシリーズ、パインクリスタルシリーズ等の市販品を使用することができる。
前記粘着付与剤が水素添加物である場合、水素添加は、部分的に水素添加されている部分水素添加物であってもよく、化合物中の全ての二重結合に水素添加がされている完全水素添加物であってもよい。本発明においては、粘着特性、耐候性や色相の観点から完全水素添加物であることが好ましい。
前記粘着付与剤が、シクロヘキサノール骨格を含むことが粘着特性の観点から好ましい。これは詳細な原理は不明であるが、フェノール骨格よりシクロヘキサノール骨格の方が、ベースポリマーであるポリイソブチレンとの相溶性のバランスがとれるためと考えられる。シクロヘキサノール骨格を含む粘着付与剤としては、例えば、テルペンフェノール樹脂、ロジンフェノール樹脂等の水添物が好ましく、テルペンフェノール樹脂、ロジンフェノール樹脂等の完全水素添加物がより好ましい。
前記粘着付与剤の軟化点(軟化温度)は、特に限定されないが、例えば、80℃以上程度であることが好ましく、100℃以上程度であることがより好ましい。粘着付与剤の軟化点が80℃以上であることで、高温においても粘着付与剤が軟化せずに粘着特性を保つことができるため好ましい。粘着付与剤の軟化点の上限値は、特に限定されないが、軟化点が高くなり過ぎると、分子量がより高くなり、相溶性が悪化し、白化等の不具合を生じてしまう場合があるため、例えば、200℃以下程度であることが好ましく、180℃以下程度であることが好ましい。なお、ここでいう粘着付与樹脂の軟化点は、JIS K5902及びJIS K2207のいずれかに規定する軟化点試験方法(環球法)によって測定された値として定義される。
前記粘着付与剤の重量平均分子量(Mw)は、特に限定されるものではないが、5万以下であることが好ましく、3万以下であることが好ましく、1万以下であることがより好ましく、8000以下であることがさらに好ましく、5000以下であることが特に好ましい。また、前記粘着付与剤の重量平均分子量の下限値は特に限定されるものではないが、500以上であることが好ましく、1000以上であることがより好ましく、2000以上であることがさらに好ましい。前記粘着付与剤の重量平均分子量が前記範囲にあることで、ポリイソブチレンとの相溶性が良く、白化等の不具合を生じないため好ましい。
前記粘着付与剤の添加量は、前記ポリイソブチレン100重量部に対して、40重量部以下であることが好ましく、30重量部以下であることがより好ましく、20重量部以下であることがさらに好ましい。また、粘着付与剤の添加量の下限値は特に限定されるものではないが、0.1重量部以上であることが好ましく、1重量部以上であることがより好ましく、5重量部以上であることがさらに好ましい。粘着付与剤の使用量を前記範囲にすることで、粘着特性を向上できるため好ましい。また、粘着付与剤の使用量が前記範囲を超えて多量添加となると、粘着剤の凝集力が低下してしまう傾向があり、好ましくない。
また、本発明で使用するゴム系粘着剤には、前記テルペン骨格を含む粘着付与剤、ロジン骨格を含む粘着付与剤以外の粘着付与剤を添加することもできる。当該粘着付与剤としては、石油樹脂系粘着付与剤を挙げることできる。前記石油系粘着付与剤としては、例えば、芳香族系石油樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂(脂肪族環状石油樹脂)、脂肪族・芳香族系石油樹脂、脂肪族・脂環族系石油樹脂、水素添加石油樹脂、クマロン系樹脂、クマロンインデン系樹脂等が挙げられる。
前記石油樹脂系粘着付与剤は、本発明の効果を損なわない範囲で用いることができるが、例えば、前記ポリイソブチレン100重量部に対して、30重量部以下程度で用いることができる。
前記ゴム系粘着剤には、希釈剤として有機溶媒を添加することができる。希釈剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、トルエン、キシレン、n−ヘプタン、ジメチルエーテル等を挙げることができ、これらを1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。これらの中でも、トルエンが好ましい。
希釈剤の添加量は、特に限定されるものではないが、ゴム系粘着剤中に50〜95重量%程度で添加することが好ましく、70〜90重量%程度であることがより好ましい。希釈剤の添加量が前記範囲であることにより、支持体等へ塗工性の観点から好ましい。
本発明で使用するゴム系粘着剤には、本発明の効果を損なわない範囲で、前記以外の添加剤を添加することもできる。添加剤の具体例としては、軟化剤、架橋剤(例えば、ポリイソシアネート、エポキシ化合物、アルキルエーテル化メラミン化合物等)、充填剤、老化防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。ゴム系粘着剤に添加される添加剤の種類、組み合わせ、添加量等は、目的に応じて適切に設定され得る。ゴム系粘着剤における前記添加剤の含有量(総量)は、30重量%以下であることが好ましく、20重量%以下であることがより好ましく、10重量%以下であることがさらに好ましい。
本発明で用いるゴム系粘着剤層は、前記粘着剤から形成することができ、その製造方法は特に限定されないが、各種支持体等に粘着剤を塗布し、加熱乾燥や活性エネルギー線の照射等により、粘着剤層を形成することができる。
前記ゴム系粘着剤として、ポリイソブチレンを含む場合は、粘着剤に、活性エネルギー線を照射して、前記ポリイソブチレンを架橋することが好ましい。活性エネルギー線の照射は、通常、前記ゴム系粘着剤を各種支持体等に塗布し、得られた塗布層に照射される。
また、前記活性エネルギー線の照射は、塗布層に(他部材等を貼り合せることなく)直接照射してもよく、塗布層にセパレータ等の光学フィルムやガラス等の各種部材を貼り合せた後に照射してもよい。前記光学フィルムや各種部材に貼り合せた後に照射する場合は、当該光学フィルムや各種部材越しに活性エネルギー線を照射してもよく、当該光学フィルムや各種部材を剥離して、当該剥離した面から活性エネルギー線を照射してもよい。
前記粘着剤の塗布方法としては、各種方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等による押出しコート法等の方法が挙げられる。
前記粘着剤の塗布層を加熱乾燥する場合、加熱乾燥温度は、30℃〜200℃程度が好ましく、40℃〜180℃がより好ましく、80℃〜150℃がさらに好ましい。加熱温度を上記の範囲とすることによって、優れた粘着特性を有する粘着剤層を得ることができる。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、5秒〜20分程度が好ましく、30秒〜10分がより好ましく、1分〜8分がさらに好ましい。
また、前記粘着剤の塗布層に活性エネルギー線を照射する場合においても、前記接着剤又は粘着剤が、希釈剤として有機溶媒を含有する場合は、塗布後、活性エネルギー線照射前に、加熱乾燥等により溶媒等を除去することが好ましい。
前記加熱乾燥温度は、特に限定されないが、残存溶媒を少なくする観点から、30℃〜90℃程度が好ましく、60℃〜80℃程度がより好ましい。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、5秒〜20分程度が好ましく、30秒〜10分がより好ましく、1分〜8分がさらに好ましい。
前記活性エネルギー線としては、例えば、可視光線、紫外線、電子線等を挙げることができるが、これらの中でも、紫外線が好ましい。
紫外線の照射条件は、特に限定されるものではなく、架橋させるゴム系粘着剤組成の組成に応じて、任意の適切な条件に設定することができるが、例えば、照射積算光量が100mJ/cm〜2000mJ/cmが好ましい。
前記支持体としては、例えば、剥離処理したシート(セパレータ)を用いることができる。
前記セパレータの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等のプラスチックフィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。
前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。
前記セパレータの厚みは、通常5〜200μm、好ましくは5〜100μm程度である。前記セパレータには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型、及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理もすることもできる。特に、前記セパレータの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。
前記粘接着剤層を、剥離処理したシート(セパレータ)上に形成した場合、当該粘着剤層を透明導電層上に転写して、本発明の積層体を形成することができる。
前記粘着剤層の厚みは、特に限定されるものではなく、その用途に応じて適宜設定することができるが、250μm以下であることが好ましく、100μm以下であることがより好ましく、55μm以下であることがさらに好ましい。また、粘着剤層の厚みの下限値は、特に限定されるものではないが、耐久性の観点からは、1μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましく、15μmを超えることがさらに好ましい。
また、本発明で用いる粘着剤層のゲル分率は、特に限定されないが、10〜98%程度が好ましく、25〜98%程度がより好ましく、45〜90%程度であることがさらに好ましい。ゲル分率が前記範囲にあることで、耐久性と粘着力を両立できるため好ましい。
ポリオレフィン系粘着剤としては、ポリオレフィン系樹脂を含むものであればよく、その組成は特に限定されるものではない。
ポリオレフィン系樹脂の具体例としては、低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、低結晶ポリプロピレン、非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−メタクリル酸グリシジル共重合体などのエチレン共重合体やポリオレフィン変性ポリマー等が挙げられる。該粘着剤層は、より好ましくは非晶質ポリプロピレン系樹脂を含み、さらに好ましくは非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体を含む。このような粘着剤層であれば、さらに段差追従性に優れる粘着シートを得ることができる。なお、本明細書において、「非晶質」とは、結晶質のように明確な融点を有さない性質をいう。
粘着剤に含まれる非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体の含有割合は、粘着剤層の弾性値が0.7N/mm以下となるよう適宜調整され得る。粘着剤に含まれる非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体の含有割合は、重量比で、好ましくは10重量%〜100重量%であり、より好ましくは10重量%〜95重量%である。
上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は、好ましくはメタロセン触媒を用いて、プロピレンと1−ブテンとを重合することにより得ることができる。より詳細には、非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は、例えば、メタロセン触媒を用いてプロピレンと1−ブテンとを重合させる重合工程を行い、当該重合工程の後、触媒残さ除去工程、異物除去工程等の後処理工程を行うことにより、得ることができる。非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は、このような工程を経て、例えば、パウダー状、ペレット状等の形状で得られる。メタロセン触媒としては、例えば、メタロセン化合物とアルミノキサンとを含むメタロセン均一混合触媒、微粒子状の担体上にメタロセン化合物が担持されたメタロセン担持型触媒等が挙げられる。
上記のようにメタロセン触媒を用いて重合された非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は、狭い分子量分布を示す。上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体の分子量分布(Mw/Mn)は好ましくは3以下であり、より好ましくは2以下であり、さらに好ましくは1.1〜2であり、特に好ましくは1.2〜1.9である。分子量分布が狭い非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は低分子量成分が少ないので、このような非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体を用いれば、低分子量成分のブリードによる被着体の汚染を防止し得る粘着剤層を得ることができる。
上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体における、プロピレン由来の構成単位の含有割合は、好ましくは80モル%〜99モル%、より好ましくは85モル%〜99モル%であり、さらに好ましくは90モル%〜99モル%である。
上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体における、1−ブテン由来の構成単位の含有割合は、好ましくは1モル%〜20モル%、より好ましくは1モル%〜15モル%、さらに好ましくは1モル%〜10モル%である。このような範囲であれば、靭性と柔軟性とのバランスに優れた粘着剤層を得ることができる。
上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は、ブロック共重合体であってもよく、ランダム共重合体であってもよい。
上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体の重量平均分子量(Mw)は好ましくは200,000以上であり、より好ましくは200,000〜500,000であり、さらに好ましくは200,000〜300,000である。非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体の重量平均分子量(Mw)がこのような範囲であれば、一般的なスチレン系熱可塑性樹脂、アクリル系熱可塑性樹脂(Mwが100,000以下)と比較して、低分子量成分が少なく、被着体の汚染を防止し得る粘着剤層を得ることができる。
上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体の230℃、2.16kgfにおけるメルトフローレートは、好ましくは1g/10min〜50g/10minであり、より好ましくは5g/10min〜30g/10minであり、さらに好ましくは5g/10min〜20g/10minである。非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体のメルトフローレートがこのような範囲であれば、共押し出し成形により、加工不良なく厚みの均一な粘着剤層を形成することができる。メルトフローレートは、JISK7210に準じた方法により測定することができる。
上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他のモノマー由来の構成単位を含んでいてもよい。その他のモノマーとしては、例えば、エチレン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、4−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン等のα−オレフィン等が挙げられる。
上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他のモノマー由来の構成単位を含んでいてもよい。その他のモノマーとしては、例えば、エチレン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、4−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン等のα−オレフィン等が挙げられる。
上記粘着剤層は、好ましくは結晶性ポリプロピレン系樹脂をさらに含む。結晶性ポリプロピレン系樹脂を含有することにより、粘着剤層の70℃の弾性率E’を所望の値に調整し得る。結晶性ポリプロピレン系樹脂の含有割合は、所望とする弾性率E’に応じて任意の適切な割合に設定され得る。結晶性ポリプロピレン系樹脂の含有割合は、上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体と当該結晶性ポリプロピレン系樹脂との合計重量に対して、好ましくは0重量%〜90重量%であり、より好ましくは5重量%〜90重量%である。
上記結晶性ポリプロピレン系樹脂は、ホモポリプロピレンであってもよく、プロピレンとプロピレンに共重合可能なモノマーとにより得られる共重合体であってもよい。プロピレンに共重合可能なモノマーとしては、例えば、エチレン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、4−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン等のα−オレフィン等が挙げられる。上記結晶性ポリプロピレン系樹脂がプロピレンとプロピレンに共重合可能なモノマーとにより得られる共重合体である場合、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。
上記結晶性ポリプロピレン系樹脂は、好ましくは上記非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体同様、メタロセン触媒を用いて重合することにより得られる。このようにして得られた結晶性ポリプロピレン系樹脂を用いれば、低分子量成分のブリードによる被着体の汚染を防止することができる。
上記結晶性ポリプロピレン系樹脂の結晶化度は、好ましくは10%以上、より好ましくは20%以上である。結晶化度は、代表的には示差走査熱量分析(DSC)またはX線回折により求められる。
好ましくは、上記粘着剤層は、F、Cl、Br、NO 、NO 、SO 2−、Li、Na、K、Mg2+、Ca2+、NH を実質的に含まない。被着体を当該イオンで汚染することを防止することができるからである。上記イオンを含まない粘着剤層は、例えば、当該粘着剤層に含まれる非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体を上記のようにメタロセン触媒を用いて溶液重合することにより得ることができる。
当該メタロセン触媒を用いた溶液重合においては、非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体は、重合溶媒とは異なる貧溶媒を用いて析出単離(再沈殿法)を繰り返して、精製することができるので、上記イオンを含まない粘着剤層を得ることができる。なお、本明細書において、「F、Cl、Br、NO 、NO 、SO 2−、Li、Na、K、Mg2+、Ca2+、NH を実質的に含まない」とは、標準的なイオンクロマトグラフ分析(例えば、ダイオネクス社製、商品名「DX−320」、「DX−500」を用いたイオンクロマトグラフ分析)において検出限界未満であることをいう。具体的には、粘着剤層1gに対して、
、Cl、Br、NO 、NO 、SO 2−およびKがそれぞれ0.49μg以下、LiおよびNaがそれぞれ0.20μg以下、Mg2+およびCa2+がそれぞれ0.97μg以下、NH が0.5μg以下である場合をいう。
上記粘着剤層は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他の成分を含んでいてもよい。当該その他の成分としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、耐熱安定剤、帯電防止剤等が挙げられる。その他の成分の種類および使用量は、目的に応じて適切に選択され得る。
本発明で用いるポリオレフィン系粘着剤層は、前記粘着剤から形成することができ、その製造方法は特に限定されないが、各種支持体等に粘着剤を押し出し成形し、加熱乾燥や活性エネルギー線の照射等により、粘着剤層を形成することができる。
上記押し出し成形における成形温度は、好ましくは160℃〜220℃であり、より
好ましくは170℃〜200℃である。このような範囲であれば、成形安定性に優れる。
前記支持体としては、例えば、剥離処理したシート(セパレータ)を用いることができる。
前記セパレータの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等のプラスチックフィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。
前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。
前記セパレータの厚みは、通常5〜200μm、好ましくは5〜100μm程度である。前記セパレータには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型、及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理もすることもできる。特に、前記セパレータの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。
前記粘接着剤層を、剥離処理したシート(セパレータ)上に形成した場合、当該粘着剤層を透明導電層上に転写して、本発明の積層体を形成することができる。
前記粘着剤層の厚みは、特に限定されるものではなく、その用途に応じて適宜設定することができるが、250μm以下であることが好ましく、100μm以下であることがより好ましく、55μm以下であることがさらに好ましい。また、粘着剤層の厚みの下限値は、特に限定されるものではないが、耐久性の観点からは、1μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましく、15μmを超えることがさらに好ましい。
(積層体)
本発明の積層体において、透明導電層と温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の粘接着剤層とが互いに接して積層されている。透明導電層の片面に温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の粘接着剤層が配置されていてもよいし両面に配置されていてもよい。積層体の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により行うことができる。
(偏光フィルム)
偏光フィルムは、特に限定されず、各種のものを使用できる。偏光フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素等の二色性物質からなる偏光フィルムが好適である。これらの偏光フィルムの厚さは特に制限されないが、一般的に3〜80μm程度である。
ポリビニルアルコール系フィルムとしては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他に、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、およびアンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常、85〜100mol%程度であり、98mol%以上が好ましい。このポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等も用いることができる。またポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常、1,000〜10,000程度であり、1,500〜5,000程度が好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、得られる偏光フィルムの厚みを15μm以下とすることを考慮すると、5〜35μm程度であるのが好ましく、5〜20μmであるのがより好ましい。原反フィルムの膜厚が35μm以上であると、偏光フィルムを製造する際の延伸倍率を高くする必要があり、また得られる偏光フィルムの寸法収縮が大きくなる傾向にある。一方、原反フィルムの膜厚が5μm以下であると、延伸を施す際のハンドリング性が低下し、製造中に切断などの不具合が発生しやすくなる傾向にある。
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素の染色前、染色と同時、または染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合には、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前またはホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行ってもよい。
一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常、3〜8倍程度である。
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素が含有された水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性染料が用いられる。なお、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。
二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、通常、ヨウ素およびヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、通常、水100重量部あたり 0.01〜1重量部程度である。また、ヨウ化カリウムの含有量は、通常、水100重量部あたり 0.5〜20重量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常、20〜40℃程度である。
また、この水溶液への浸漬時間(染色時間)は、通常、20〜1,800秒程度である。
一方、二色性色素として二色性染料を用いる場合は、通常、水溶性二色性染料を含む水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液における二色性染料の含有量は、通常、水100重量部あたり1×10-4〜10重量部程度であり、1×10-3〜1重量部程度が好ましい。この水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含有していてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常、20〜80℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間(染色時間)は、通常、10〜1,800秒程度である。
二色性色素による染色後のホウ酸処理は、通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬することにより行うことができる。
ホウ酸含有水溶液におけるホウ酸の量は、通常、水100重量部あたり、2〜15重量部程度であり、5〜12重量部が好ましい。二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、このホウ酸含有水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましい。ホウ酸含有水溶液におけるヨウ化カリウムの量は、通常、水100重量部あたり、0.1〜15重量部程度であり、5〜12重量部程度が好ましい。ホウ酸含有水溶液への浸漬時間は、通常、60〜1,200秒程度であり、150〜600秒程度が好ましく、200〜400秒程度がより好ましい。ホウ酸含有水溶液の温度は、通常、50℃以上であり、50〜85℃が好ましく、60〜80℃がより好ましい。
ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬することにより行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常、5〜40℃程度である。また、浸漬時間は、通常、1〜120秒程度である。
水洗後は乾燥処理が施されて、偏光フィルムが得られる。乾燥処理は、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常、30〜100℃程度であり、50〜80℃が好ましい。乾燥処理の時間は、通常、60〜600秒程度であり、120〜600秒が好ましい。
乾燥処理によって、偏光フィルムの水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常、5〜20重量%であり、8〜15重量%が好ましい。水分率が5重量%を下回ると、偏光フィルムの可撓性が失われ、偏光フィルムがその乾燥後に損傷したり、破断したりする場合がある。また、水分率が20重量%を上回ると、偏光フィルムの熱安定性に劣る場合がある。
また、偏光フィルムの製造工程におけるポリビニルアルコール系樹脂フィルムの延伸、染色、ホウ酸処理、水洗工程、乾燥工程は、例えば、特開2012−159778号に記載されている方法に準じて行ってもよい。この文献記載の方法では、基材フィルムへのポリビニルアルコール系樹脂のコーティングにより、偏光子となるポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。
偏光フィルムの厚みは、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは3〜10μmである。
また、前記偏光フィルムは、当該偏光フィルムの片面のみに保護フィルムを有する片面保護偏光板として使用することができる。
(保護フィルム)
前記偏光フィルムの片面又は両面に設けられる保護フィルムを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)等のスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。
また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂、イミド系樹脂、スルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ビニルブチラール系樹脂、アリレート系樹脂、ポリオキシメチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、又は、前記樹脂のブレンド物等も前記保護フィルムを形成する樹脂の例として挙げられる。保護フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。偏光フィルムの両側に保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じ樹脂材料からなる保護フィルムを用いてもよく、異なる樹脂材料等からなる保護フィルムを用いてもよい。
保護フィルムの厚みは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄膜性等の点より1〜500μm程度である。
前記偏光フィルムと保護フィルムとは通常、水系接着剤等を介して積層される。水系接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。上記の他、偏光フィルムと保護フィルムとの接着剤としては、紫外硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型偏光フィルム用接着剤は、上記各種の保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。保護フィルムは、偏光フィルムとの貼合に先立って、ケン化処理、コロナ処理、およびプラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
前記保護フィルムの偏光フィルムを接着させない面には、ハードコート層や反射防止処理、帯電防止層やスティッキング防止層、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであっても良い。
また、偏光板に位相差フィルムを積層することも有用である。例えば、λ/4板の位相差フィルムを積層することで、円偏光板の機能性を持たせることもできる。このような場合には、保護フィルムに位相差フィルムの機能を持たせてもよいし、偏光フィルムの両面保護フィルムが積層された偏光板にさらに位相差フィルムを積層した構成としてもよい。
前記λ/4板の位相差フィルムとしては、特に限定されず公知のものを用いることができる。例えば、特開2014−123134公報や特開2015−187717公報に記載されている液晶化合物からなるフィルムや特許第3325560号公報に記載されているような延伸フィルムなどを用いることができる。
(複合偏光板)
本発明の複合偏光板は、前記偏光フィルムもしくは前記偏光板と前記積層体とを積層した構成である。
複合偏光板としては、前記偏光フィルムもしくは前記偏光板と前記積層体とを、温度40℃、応対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の前記粘接着剤層を介して積層したものとすることができる。温度40℃、応対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の粘接着剤層は、偏光板が備えているものを用いてもよいし、積層体が備えているものを用いてもよい。
また、本発明の複合偏光板には、前記以外の接着剤層や粘着剤層、下塗り層(プライマー層)等の介在層や、易接着層を含んでいてもよい。例えば、前記偏光フィルムもしくは前記偏光板と前記積層体とを、温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の前記粘接着剤層以外の粘接着剤層を介して積層したものでもよい。前記粘接着剤層以外の粘接着剤層としては、温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)超のものが挙げられる。前記粘接着剤層以外の粘接着剤層としては、例えば、アクリル系粘着剤等が挙げられる。
また、本発明の複合偏光板には、機能層を設けることができる。機能層を設けることで、偏光フィルムに生じる貫通クラック及びナノスリット等の欠陥の発生を抑制することができるため、好ましい。機能層は、各種の形成材から形成することができる。機能層は、例えば、樹脂材料を偏光フィルムに塗布することにより形成することができる。
前記機能層を形成する樹脂材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、PVA系樹脂、アクリル系樹脂等を挙げることができる。これら樹脂材料は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができるが、これらの中でも、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)系樹脂からなる群から選択される1種以上が好ましく、PVA系樹脂がより好ましい。また、前記樹脂の形態は、水系、溶剤系のいずれでもよい。前記樹脂の形態は、水系樹脂が好ましく、PVA系樹脂が好ましい。また、水系樹脂としては、アクリル樹脂水溶液やウレタン樹脂水溶液を用いることができる。
前記機能層は、厚くなりすぎると光学信頼性と耐水性が低下するため、機能層の厚みは15μm以下であるのが好ましく、10μm以下であるのがより好ましく、8μm以下がさらに好ましく、6μm以下がさらに好ましく、5μm以下がさらに好ましく、3μm以下が特に好ましい。一方、機能層の厚みは0.2μm以上であることが好ましく、0.5μm以上であるのがより好ましく、0.7μm以上であるのがさらに好ましい。当該厚みの機能層により、クラックの発生を抑制することができるため、好ましい。
また、複合偏光板を他の部材と積層するために、複合偏光板の片面もしくは両面に粘着剤層を形成することもできる。粘着剤層は、例えば、複合偏光板において偏光フィルムを基準に透明導電層側とは反対側に形成することもできる。
用いる粘着剤層は、特に限定されるものではなく、公知のものを用いることができる。
この粘着剤層としては、温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の粘着剤であってもよいし、前記粘着剤とは異なる、透湿度が100g/(m・day)超の粘着剤であってもよい。
前記粘着剤と異なる粘着剤としては、例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。粘着剤としては、特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましい。
この粘着剤層としては、光学透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性、および接着性等の粘着特性を示すものであればよいが、耐久性等に優れるものが好ましく用いられる。具体的に粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂からなる感圧性接着剤(アクリル系粘着剤ともいう)が挙げられる。
前記アクリル系粘着剤から形成される粘着剤層は、特に限定されるものではないが、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、および(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルのような(メタ)アクリル酸エステル系樹脂や、これらの(メタ)アクリル酸エステルを2種類以上用いた共重合樹脂が好ましく用いられる。また、これらの樹脂には、極性モノマーが共重合されている。極性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリルアミド、2−N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、およびグリシジル(メタ)アクリレートといったカルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基,およびエポキシ基等の極性官能基を有するモノマーが挙げられる。また、粘着剤には、通常、アクリル系樹脂とともに架橋剤が配合されている。
粘着剤にはこの他、各種の添加剤が配合されていてもよい。好適な添加剤として、シランカップリング剤や帯電防止剤がある。シランカップリング剤は、ガラスとの接着力を高めるうえで有効である。帯電防止剤は、静電気の発生を低減または防止するうえで有効である。すなわち、粘着剤層を介して偏光板を液晶セルに貼る際、それまで粘着剤層を覆って仮着保護していた表面保護フィルム(セパレータ)を剥がしてから液晶セルに貼り合わされるが、その表面保護フィルムを剥がすときに発生する静電気によって、セル内の液晶に配向不良を生じ、これが液晶表示装置の表示不良をもたらすことがある。このような静電気の発生を低減または防止するうえで、帯電防止剤の配合が有効である。
少なくとも一方の粘着剤の厚みは、3〜50μmとすることが好ましい。さらに好ましくは、3〜30μmである。
粘着剤層に導電性を持たせる場合には、その抵抗値は適宜選択されればよいが、例えば1×10〜1×1011Ω/□の範囲であることが好ましい。
本発明の積層体にさらに積層されることができる他の部材としては、例えば、カバーガラスやウィンドウフィルムなどの前面板、液晶表示素子や有機EL表示素子などの表示素子が挙げられる。
<画像表示装置>
本発明の画像表示装置は、本発明の積層体または複合偏光板を有することを特徴とする。
本発明の複合偏光板は、画像表示装置としての種類は問わず公知のものに適用される。例えば、タッチパネルを実装した液晶表示装置や有機EL表示装置に本発明の複合偏光板を好適に用いることができる。
画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置であってもよい。フレキシブル画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置用積層体と、有機EL表示パネルとからなり、有機EL表示パネルに対して視認側にフレキシブル画像表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用積層体としては、ウインドウ、円偏光板、本発明の積層体を備えるタッチパネルを含有していてもよく、それらの積層順任意であるが、視認側からウインドウ、円偏光板、本発明の積層体を備えるタッチパネル、またはウインドウ、本発明の積層体を備えるタッチパネル、円偏光板の順に積層されていることが好ましい。また、フレキシブル画像表示装置用積層体としては、ウインドウ、本発明の複合偏光板を含むものも例示できる。タッチパネルの視認側に円偏光板が存在すると、タッチパネルのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、ウインドウ、円偏光板、タッチパネルのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
[ウインドウ]
ウインドウは、フレキシブル画像表示装置の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃または温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。従来このような保護層としてはガラスが使用されてきたが、フレキシブル画像表示装置におけるウインドウはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する。前記ウインドウは、フレキシブルな透明基材からなり、少なくとも一面にハードコート層を含んでいてもよい。
(透明基材)
透明基材は、可視光線の透過率が70%以上、好ましくは80%以上である。前記透明基材は、透明性のある高分子フィルムなら、どのようなものでも使用可能である。具体的に、透明基材は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネンまたはシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の(変性)セルロース類、メチルメタクリレート(共)重合体等のアクリル類、スチレン(共)重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などの高分子で形成されたフィルムであってもよい。これらの高分子はそれぞれ単独または2種以上混合して使用することができる。好ましくは、前記記載の透明基材の中でも透明性及び耐熱性に優れたポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルムまたはポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルムが好ましい。高分子フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。前記透明基材の厚さは5〜200μm、好ましくは、20〜100μmである。透明基材は、未延伸フィルム、1軸延伸フィルムまたは2軸延伸フィルムであってもよい。
(ハードコート)
前記ウインドウには透明基材の少なくとも一面にハードコート層が設けられていてもよい。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、2〜100μmであってもよい。ハードコート層の厚さが2μm未満の場合、十分な耐衝撃性耐擦傷性を確保することが難しく、100μmを超えると、耐屈曲性が低下し、硬化収縮によるカール発生の問題が発生することがある。
ハードコート層は、活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化層であることができる。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。紫外線が特に好ましい。ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する。ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。ハードコート組成物はさらに溶剤、添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。添加剤としては、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などが挙げられる。
[接着層]
フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層(ウインドウ、円偏光板、タッチパネル)並びに各層を構成するフィルム部材(直線偏光板、λ/4位相差板等)は接着剤によって積層することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤(粘着剤)、再湿型接着剤等汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、0.01μm〜500μm、好ましくは0.1μm〜300μmである。フレキシブル画像表示装置用積層体が複数の接着層を備える場合、それぞれの厚みや種類は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
[遮光パターン]
遮光パターンはフレキシブル画像表示装置のベゼルまたはハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンがフレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線を遮蔽し、視認されにくくする。遮光パターンは単層または複層の形態であってもよい。遮光パターンの色は特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などが挙げられる。遮光パターンは顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子とで形成することができる。遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは1μm〜100μmであってもよく、好ましくは2μm〜50μmでる。また、遮光パターンの厚み方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す部及び%は、特記ないかぎり重量基準である。なお、以下の例における各物性の測定は、次の方法で行った。
(1)厚さの測定:
株式会社ニコン製のデジタルマイクロメーター“MH-15M”を用いて測定した。
(2)粘着剤層の透湿度の測定
実施例で用いた粘着シート(粘着剤層の厚み:50μm)の粘着面に、トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム、厚み:25μm、コニカミノルタ(株)製)に貼り合わせた。その後、粘着シートの剥離フィルムを剥がして、測定用サンプルを得た。次に、この測定用サンプルを用いて、下記条件で、透湿度試験方法(カップ法、JIS Z 0208に準じる)により、透湿度(水蒸気透過率)を測定した。
測定温度:40℃
相対湿度:92%R.H.
測定時間:24時間
測定の際には、恒温恒湿槽を使用した。
[製造例1]偏光フィルムの作製
厚み30μmのポリビニルアルコールフィルム(平均重合度約2400、ケン化度99.9モル%以上)を、乾式延伸により約4倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、40℃の純水に40秒間浸漬した後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の重量比が0.052/5.7/100の水溶液に28℃で30秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の重量比が11.0/6.2/100の水溶液に70℃で120秒間浸漬した。引き続き、8℃の純水で15秒間洗浄した後、300Nの張力で保持した状態で、60℃で50秒間、次いで75℃で20秒間乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚み12μmの偏光フィルムを得た。
[製造例2]ゴム系粘着剤1の作製
ポリイソブチレン(商品名:OPPANOL B80、Mw:約75万、BASF社製)100重量部と、多官能ラジカル重合性化合物としてのトリシクロデカンジメタノールジアクリレート(商品名:NKエステルA−DCP、2官能アクリレート、分子量:304、新中村化学工業(株)製)10重量部、水素引抜型光重合開始剤であるベンゾフェノン(和光純薬工業(株)製)0.5部、及び完全水添テルペンフェノール10重量部を配合したトルエン溶液(粘着剤溶液)を固形分が15重量%になるように調整し、ゴム系粘着剤1(溶液)を調製した。
[製造例3]ゴム系粘着シート1の作製
製造例2で得られたゴム系粘着剤1(溶液)を、片面をシリコーンで剥離処理した厚み38μmのポリエステルフィルム(商品名:ダイアホイルMRF、三菱樹脂(株)製)の剥離処理面に塗布して塗布層を形成した。次いで、塗布層を80℃で3分乾燥させて、粘着剤層を形成し、粘着剤層の厚みが20μmの粘着シートを作製した。また、粘着シートの粘着面には、片面をシリコーンで剥離処理した厚み38μmのポリエステルフィルム(商品名:ダイアホイルMRF、三菱樹脂(株)製)を、剥離処理面と前記粘着剤層が接するように貼り合せた。粘着剤層の両面に被覆されたポリエステルフィルムは、剥離フィルム(セパレータ)として機能する。
一方のセパレータを剥離し、セパレータを剥離した側から、室温で紫外線を照射し、ゴム系粘着剤層1/セパレータからなる粘着シートを得た。前記紫外線照射は、UVA領域にて、光量1000mJ/cmであった。別途同様に塗布厚みを調整し作製した50μmの厚みの粘着剤層を備える粘着シートを用いて透湿度を測定したところ、粘着剤層の層湿度は、10g/(m・day)であった。
[製造例4]オレフィン系粘着シートの作製
粘着剤層形成材料として、メタロセン触媒により重合した非晶質プロピレン−(1−ブテン)共重合体(住友化学株式会社製、商品名「タフセレンH5002」:プロピレン由来の構成単位90モル%/1−ブテン由来の構成単位10モル%、Mw=230,000、Mw/Mn=1.8)60部とメタロセン触媒により重合した結晶性ポリプロピレン系樹脂(日本ポリプロ(株)製、商品名「WINTEC WFX4」)40部とを混合して用いた。上記粘着剤層形成材料100部を押し出し機に投入し、Tダイ溶融押し出し(押出温度180℃)を行い、厚みが20μmの粘着剤層を得た。また、粘着剤層の粘着面には、片面をシリコーンで剥離処理した厚み38μmのポリエステルフィルム(商品名:ダイアホイルMRF、三菱樹脂(株)製)を、剥離処理面と前記粘着剤層が接するように貼り合せた。粘着剤層の両面に被覆されたポリエステルフィルムは、剥離フィルム(セパレータ)として機能する。
別途押し出し条件を調整して作製した50μmの厚みの粘着剤層を備える粘着シートを用いて透湿度を測定したところ、粘着剤層の透湿度は12g/(m・day)であった。
[製造例5]ゴム系粘着剤2の作製
スチレン系熱可塑性エラストマーとしてスチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEPS、商品名:SEPTON 2063、スチレン含有量:13%、(株)クラレ製)100重量部と、粘着付与剤として水添テルペンフェノール(商品名:YSポリスターTH130、軟化点:130℃、水酸基価:60、ヤスハラケミカル(株)製)40.4重量部、石油系粘着付与剤(商品名:ピコラスチックA5、ビニルトルエン系粘着付与剤、軟化点:5℃、イーストマンコダック社製)61.7部、軟化剤としてポリブテン(商品名:HV−300、重量平均分子量:3000、JX日鉱日石エネルギー(株)製)21.3部を配合したトルエン溶液を固形分が30重量%になるように調整し、ゴム系粘着剤2(溶液)を調製した。
[製造例6]ゴム系粘着剤シート2の作製
製造例5で得られたゴム系粘着剤2(溶液)を、片面をシリコーンで剥離処理した厚み38μmのポリエステルフィルム(商品名:ダイアホイルMRF、三菱樹脂(株)製)の剥離処理面に塗布して塗布層を形成した。次いで、塗布層を80℃で3分乾燥させて、粘着剤層を形成し、粘着剤層の厚みが20μmの粘着シートを作製した。また、粘着シートの粘着面には、片面をシリコーンで剥離処理した厚み38μmのポリエステルフィルム(商品名:ダイアホイルMRF、三菱樹脂(株)製)を、剥離処理面と前記粘着剤層が接するように貼り合せた。粘着剤層の両面に被覆されたポリエステルフィルムは、剥離フィルム(セパレータ)として機能する。
一方のセパレータを剥離し、セパレータを剥離した側から、室温で紫外線を照射し、ゴム系粘着剤層2/セパレータからなる粘着シートを得た。前記紫外線照射は、UVA領域にて、光量1000mJ/cmであった。別途同様に塗布厚みを調整し作製した50μmの厚みの粘着剤層を備える粘着シートを用いて透湿度を測定したところ、粘着剤層の透湿度は40g/(m・day)であった。
透明導電層として、下記の2種類を準備した。
透明導電層A:コーニング社製の無アルカリガラス[商品名“Eagle XG”]基板の表面に、厚み30nmのITO層が形成されたものを用意した。
透明導電層B:コーニング社製の無アルカリガラス[商品名“Eagle XG”]基板の表面に、厚み500nmのアルミニウム層が形成されたものを用意した。
[実施例1]
(積層体の作製)
透明導電層AのITO層が形成されている面に、製造例3で作製したゴム系粘着剤層1を貼りあわせて積層体を作製した。
(複合偏光板の作製)
製造例1で得られた偏光フィルムの両面に、接着剤層の厚さが0.1μmになるようにポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、保護フィルム(トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(商品名:KC2UAW、厚み:25μm、コニカミノルタ株式会社製)を貼合せたのち、80℃で2分間の乾燥を行い、両面保護フィルム付き偏光板を作製した。
得られた積層体と両面保護フィルム付き偏光板とを、積層体が有する前記ゴム系粘着剤層1を介して貼りあわせ複合偏光板を得た。
[複合偏光板のITO腐食性評価]
透明導電層AのITO層の表面の表面抵抗値は、低抵抗率計〔株式会社三菱化学アナリテック製の商品名“ロレスタ―AX”〕を用いて、温度23℃、相対湿度50%R.H.の雰囲気下で測定した。
評価方法としては、まず前記ゴム系粘着剤1を貼りあわせる前のITO層の表面抵抗値(試験前表面抵抗値)を測定した。次に、上記で作製した複合偏光板を、40mm×40mmの大きさの試験片に裁断した。裁断した複合偏光板を、温度60℃、相対湿度90%R.H.のオーブン中で72時間保管した後、温度23℃、相対湿度50%R.H.の雰囲気下で、複合偏光板から偏光板と粘着剤とを剥離除去し、透明導電層Aを露出させた。こうして、試験後のITO層の表面抵抗値(試験後表面抵抗値)を測定した。試験前後の抵抗変化率を、下記式により算出し、ITO腐食性を以下の基準で評価した。抵抗変化率が小さいほど、ITOが腐食されていないことを意味する。
抵抗変化率(%)=[(試験後表面抵抗値)−(試験前表面抵抗値)]/[試験前表面抵抗値]×100
〈ITO腐食性の評価基準〉
○:抵抗変化率が30%未満であり、ITO腐食性が良好な複合偏光板である。
△:抵抗変化率が30%以上且つ100%未満であり、複合偏光板のITO腐食性は不良である。
×:抵抗変化率が100%以上であり、複合偏光板のITO腐食性は極めて不良である。
ITO腐食性評価の結果は○であった。また、ITO層の腐食を目視にて確認したが、ITO層の表面に白濁又は孔食は発生していなかった。
[実施例2]
実施例1における粘着剤をゴム系粘着剤1から製造例4のオレフィン系粘着剤に変更した以外は実施例1と同様に積層体および複合偏光板を作製した。
次いで、実施例1と同様にITO層の腐食性評価を実施した。ITO腐食性評価の結果は○であった。また、ITO層の腐食を目視にて確認したところ、ITO層の表面に白濁又は孔食は発生していなかった。
[実施例5]
実施例1における粘着剤をゴム系粘着剤1から製造例6のゴム系粘着剤2に変更した以外は同様に積層体および複合偏光板を作製した。
次いで、実施例1と同様にITO層の腐食性評価を実施した。ITO腐食性評価の結果は○であった。また、ITO層の腐食を目視にて確認したところ、ITO層の表面に白濁又は孔食は発生していなかった。
[実施例3]
実施例1における透明導電層Aを透明導電層Bに変更した以外は実施例1と同様に積層体及び複合偏光板を作製した。
[複合偏光板のアルミニウム腐食性評価]
透明導電層Bのアルミニウム層の表面の表面抵抗値は、高抵抗率計〔株式会社三菱化学アナリテック製の商品名”ハイレスタ−UP” MCP−HT450〕を用いて、温度23℃、相対湿度50%R.H.の雰囲気下で測定した。
評価方法としては、まずゴム系粘着剤1を貼りあわせる前のアルミニウム層の表面抵抗値(試験前表面抵抗値)を測定した。次に、上記で作製した複合偏光板を、40mm×40mmの大きさの試験片に裁断した。裁断した複合偏光板を、温度80℃、相対湿度90%R.H.のオーブン中で72時間保管した後、温度23℃、相対湿度50%R.H.の雰囲気下で、複合偏光板から偏光板と粘着剤とを剥離除去し、透明導電層Bを露出させた。
こうして、試験後のアルミニウム層の表面抵抗値(試験後表面抵抗値)を測定した。試験前後の抵抗変化率を、下記式により算出し、アルミニウム腐食性以下の基準で評価した。
抵抗変化率が小さいほど、アルミニウムが腐食されていないことを意味する。
抵抗変化率(%)=[(試験後表面抵抗値)−(試験前表面抵抗値)]/[試験前表面抵抗値]×100
〈アルミニウム腐食性の評価基準〉
○:抵抗変化率が30%未満であり、アルミニウム腐食性が良好な複合偏光板である。
△:抵抗変化率が30%以上且つ100%未満であり、複合偏光板のアルミニウム腐食性は不良である。
×:抵抗変化率が100%以上であり、複合偏光板のアルミニウム腐食性は極めて不良である。
アルミニウム腐食性評価の結果は○であった。また、アルミニウム層の腐食を目視にて確認したところ、アルミニウム層の表面に白濁又は孔食は発生していなかった。
[実施例4]
実施例3における粘着剤をゴム系粘着剤1から製造例4のオレフィン系粘着剤に変更した以外は実施例3と同様に積層体および複合偏光板を作製した。
次いで、実施例3と同様にアルミニウム層の腐食性評価を実施した。アルミニウム腐食性評価の結果は○であった。また、アルミニウム層の腐食を目視にて確認したが、アルミニウム層の表面に白濁又は孔食は発生していなかった。
[実施例6]
実施例3における粘着剤をゴム系粘着剤1から製造例6のゴム系粘着剤2に変更した以外は実施例3と同様に積層体および複合偏光板を作製した。
次いで、実施例3と同様にアルミニウム層の腐食性評価を実施した。アルミニウム腐食性評価の結果は○であった。また、アルミニウム層の腐食を目視にて確認したが、アルミニウム層の表面に白濁又は孔食は発生していなかった。
本発明によれば、高温高湿環境下でも透明導電層の抵抗変化率が小さい積層体を提供することができるので有用である。さらに、本発明では、高温高湿環境下でも透明導電層の抵抗値変化の少ない複合偏光板および画像表示装置を提供することもできるので有用である。

Claims (7)

  1. 透明導電層と温度40℃、相対湿度92%R.H.における透湿度が100g/(m・day)以下の粘接着剤層とが互いに接して積層されていることを特徴とする積層体。
  2. 前記粘接着剤層が、ポリイソブチレン、及び水素引抜型光重合開始剤を含むゴム系粘着剤組成物から形成された粘着剤層であることを特徴とする請求項1に記載の積層体。
  3. 前記粘接着剤層が、ポリオレフィン系樹脂を含む粘着剤層であることを特徴とする請求項1に記載の積層体。
  4. 前記ポリオレフィン系樹脂が非晶質ポリプロピレン系樹脂を含むことを特徴とする請求項3に記載の積層体。
  5. 偏光フィルムと、請求項1〜4のいずれかに記載の積層体とを含むことを特徴とする複合偏光板。
  6. 前記偏光フィルムの厚みが、15μm以下である請求項5に記載の複合偏光板。
  7. 請求項1〜4のいずれかに記載の積層体、又は請求項5〜6に記載の複合偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
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