JP2019140012A - ウィーンフィルタ、電子光学装置 - Google Patents
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Abstract
Description
磁性材料からなる鏡筒の内側に配置されるウィーンフィルタであって、
前記鏡筒の中心軸線を中心として等角度間隔で配置される複数の電磁極と、
前記複数の電磁極の周囲を覆うように配置される第1磁気シールドと、
前記第1磁気シールドの周囲を覆うように配置される第2磁気シールドと、
を備え、
前記第1磁気シールドは、前記第2磁気シールドの内面に設けられた非磁性材料からなる第1支持材により支持されており、
前記第2磁気シールドは、前記鏡筒の内面に設けられた磁性材料からなる第2支持材により支持されている。
前記第1磁気シールドおよび前記第2磁気シールドには、それぞれ、前記鏡筒の中心軸線を中心とする電子ビーム通過孔が形成されており、
前記第2磁気シールドの電子ビーム通過孔の径は、前記第1磁気シールドの電子ビーム通過孔の径より小さい。
前記第1磁気シールドは、入れ子状に多重に配置された複数のシールド要素部材を有し、
隣り合うシールド要素部材のうち内側のシールド要素部材は、外側のシールド要素部材の内面に設けられた非磁性材料からなる支持材により支持されている。
各シールド要素部材には、それぞれ、真空引き用の穴が形成されており、
隣り合うシールド要素部材のうち内側のシールド要素部材の真空引き用の穴と、外側のシールド要素部材の真空引き用の穴とは、前記鏡筒の中心軸線を中心として、互いに異なる角度方向に形成されている。
前記第2支持材は、前記鏡筒の内面を周方向に延びるように設けられている。
前記電磁極の数は、8個以上である。
第1〜6のいずれかの態様に係るウィーンフィルタと、
前記ウィーンフィルタに対して軸線方向に隣接して配置された磁界レンズと、
を備える。
図1は、一実施の形態に係る電子光学装置70の構成を示す図である。なお、以下の説明では、電子光学装置70の一例として電子線検査装置の構成を説明するが、電子光学装置70は電子線検査装置に限られるものではなく、電子線照射装置または電子顕微鏡であってもよい。
次に、一実施の形態に係るウィーンフィルタ726の構成について詳しく説明する。図2は、図1に示す電子光学装置70においてウィーンフィルタ726の近傍を拡大して示す図である。図3は、図2に示すウィーンフィルタ726をA−A線で切断した断面を示す図である。
図4は、一実施の形態の一変形例に係るウィーンフィルタ726の構成を示す図である。
10a ポールピース
10b コイル
10c リターンヨーク
11 第1磁気シールド
111、112、113 シールド要素部材
11a 電子ビーム通過孔
12 第2磁気シールド
12a 電子ビーム通過孔
13 第1支持材
14 第2支持材
151、152 支持材
20 鏡筒
30 試料室
50 ステージ装置
70 電子光学装置
72 一次光学系
721 電子銃
726 ウィーンフィルタ
727 対物レンズ(磁界レンズ)
74 二次光学系
761 検出器
763 画像処理部
W 試料
Claims (7)
- 磁性材料からなる鏡筒の内側に配置されるウィーンフィルタであって、
前記鏡筒の中心軸線を中心として等角度間隔で配置される複数の電磁極と、
前記複数の電磁極の周囲を覆うように配置される第1磁気シールドと、
前記第1磁気シールドの周囲を覆うように配置される第2磁気シールドと、
を備え、
前記第1磁気シールドは、前記第2磁気シールドの内面に設けられた非磁性材料からなる第1支持材により支持されており、
前記第2磁気シールドは、前記鏡筒の内面に設けられた磁性材料からなる第2支持材により支持されている
ことを特徴とするウィーンフィルタ。 - 前記第1磁気シールドおよび前記第2磁気シールドには、それぞれ、前記鏡筒の中心軸線を中心とする電子ビーム通過孔が形成されており、
前記第2磁気シールドの電子ビーム通過孔の径は、前記第1磁気シールドの電子ビーム通過孔の径より小さい
ことを特徴とする請求項1に記載のウィーンフィルタ。 - 前記第1磁気シールドは、入れ子状に多重に配置された複数のシールド要素部材を有し、
隣り合うシールド要素部材のうち内側のシールド要素部材は、外側のシールド要素部材の内面に設けられた非磁性材料からなる支持材により支持されている
ことを特徴とする請求項1または2に記載のウィーンフィルタ。 - 各シールド要素部材には、それぞれ、真空引き用の穴が形成されており、
隣り合うシールド要素部材のうち内側のシールド要素部材の真空引き用の穴と、外側のシールド要素部材の真空引き用の穴とは、前記鏡筒の中心軸線を中心として、互いに異なる角度方向に形成されている
ことを特徴とする請求項3に記載のウィーンフィルタ。 - 前記第2支持材は、前記鏡筒の内面を周方向に延びるように設けられている
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のウィーンフィルタ。 - 前記電磁極の数は、8個以上である
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のウィーンフィルタ。 - 請求項1〜6のいずれかに記載のウィーンフィルタと、
前記ウィーンフィルタに対して軸線方向に隣接して配置された磁界レンズと、
を備えた電子光学装置。
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---|---|---|---|---|
JPS5419644A (en) * | 1977-07-12 | 1979-02-14 | Siemens Ag | Magnetic lens device |
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JP2002214396A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-07-31 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | 荷電粒子用モノクロメータ |
JP2005294128A (ja) * | 2004-04-02 | 2005-10-20 | Jeol Ltd | エネルギーフィルタおよび電子顕微鏡ならびにスリット移動機構 |
JP2015115239A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-06-22 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 電子線装置、試料観察方法 |
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