JP2019135204A - 霧化過酸化水素水生成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】過酸化水素（水）自体を予め準備することなく、霧化された過酸化水素水を容易に製造することのできる装置を実現する。【解決手段】霧化過酸化水素水生成装置は、水蒸気生成ユニットと、波長２００ｎｍ以下の紫外線を放射する光源と、水蒸気生成ユニットで生成された水蒸気を、紫外線の照射領域である空間内に導く通流管とを備える。空間内に導かれた水蒸気は、紫外線が照射されることで、少なくとも一部が過酸化水素に変換される。【選択図】 図１

Description

本発明は、霧化された過酸化水素水を生成する装置に関する。

従来、霧化された過酸化水素水を殺菌などに供する技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特許文献１には、貯留部に貯留された過酸化水素水が超音波振動により霧化された後、キャリアガスと共に噴霧される技術が開示されている。

特開２０１２−０７５５７８号公報

しかし、上記特許文献１の方法によれば、過酸化水素水そのものを予め準備する必要がある。原料となる過酸化水素は、安定性が低く、また人体に接触すると危険であるため、取扱いに十分気をつける必要がある。

本発明は、上記の課題に鑑み、過酸化水素（水）自体を予め準備することなく、霧化された過酸化水素水を容易に製造することのできる装置を実現することを目的とする。

本発明に係る霧化過酸化水素水生成装置は、
水蒸気生成ユニットと、
波長２００ｎｍ以下の紫外線を放射する光源と、
前記水蒸気生成ユニットで生成された水蒸気を、前記紫外線の照射領域である空間内に導く通流管とを備え、
前記空間内に導かれた前記水蒸気は、前記紫外線が照射されることで、少なくとも一部が過酸化水素に変換されることを特徴とする。

なお、本明細書において、「霧化」状態とは、微小な液体の微粒子が気体内に浮遊する状態を指す。

上記構成によれば、紫外線の照射領域内に導かれた水蒸気が波長２００ｎｍ以下の紫外線が照射されることで、過酸化水素が生成される。

すなわち、上記構成によれば、予め過酸化水素（水）を準備することなく、霧化された過酸化水素水が生成される。得られた霧化過酸化水素水を、例えば殺菌対象となる被処理物に噴霧することで、殺菌処理が可能となる。

ところで、上記特許文献１の方法では、予め準備された過酸化水素水に対して超音波を供給し、過酸化水素水を霧化している。過酸化水素水に対して超音波を供給すると、この超音波に由来するエネルギーによって、過酸化水素（水）の一部が分解される。このため、例えば、殺菌処理に必要な霧化過酸化水素水を生成するに際し、多量の過酸化水素（水）を予め準備する必要が生じることが想定される。

しかし、本発明に係る装置によれば、水蒸気に対して紫外線が照射されることで霧化された過酸化水素（水）が生成されるため、特許文献１の方法と比較して、過酸化水素（水）の生成効率が向上するという別の効果も有する。

前記水蒸気生成ユニットは、種々の構成が採用され得る。一例として、前記水蒸気生成ユニットは、水が貯えられた貯水槽と、前記貯水槽に貯えられている水の中に気体を供給するバブリング装置とを含む構成とすることができる。

上記構成において、前記気体は、前記紫外線に対して不活性であるものとするのが好ましい。例えば、前記気体としては、窒素、アルゴン、ネオンなどが利用可能である。

別の例として、前記水蒸気生成ユニットは、水が貯えられた貯水槽と、前記貯水槽に貯えられている水に対して超音波を供給する超音波発生装置とを含む構成とすることができる。

なお、この方法は、あくまで水を水蒸気（霧化された水）に変換するために、水に対して超音波を供給するものであり、特許文献１のように、過酸化水素（水）に対して超音波を供給して過酸化水素（水）を霧化する技術とは根本的に異なる。

前記光源は、筒状の第一管と、前記第一管を周方向に取り囲むように設けられた第二管とを含み、前記第一管と前記第二管との間に形成された発光空間内に所定の放電用ガスが封入されてなる、エキシマランプで構成されることができる。この場合において、前記通流管は、前記第一管に接続されているものとすることができる。更に、この場合において、前記第二管の内側面又は外側面に、前記発光空間で生成されて前記第二管側に進行する前記紫外線を前記第一管側に反射させる反射層を備えるものとしても構わない。

本発明に係る霧化過酸化水素水生成装置によれば、過酸化水素（水）自体を予め準備することなく、霧化された過酸化水素水を容易に製造することが可能となる。

霧化過酸化水素水生成装置の第一実施形態の構成を模式的に示す図面である。 光源の一実施形態であるエキシマランプの構成を模式的に示す断面図である。 図２Ａに示すエキシマランプの構成を模式的に示す別の断面図である。 Ｘｅエキシマ光のスペクトルを模式的に示す図面である。 霧化過酸化水素水生成装置の第一実施形態の別構成を模式的に示す図面である。 霧化過酸化水素水生成装置の第二実施形態の構成を模式的に示す図面である。 霧化過酸化水素水生成装置の第三実施形態の構成を模式的に示す図面である。 第三実施形態の霧化過酸化水素水生成装置が備える光源の構成を模式的に示す断面図である。 霧化過酸化水素水生成装置の第四実施形態の構成を模式的に示す図面である。

本発明に係る霧化過酸化水素水生成装置の各実施形態につき、以下において図面を参照して説明する。なお、以下の各図面は模式的に示されたものであり、図面上の寸法比は、実際の寸法比と必ずしも一致していない。また、図面間においても、各寸法比は必ずしも一致していない。

［第一実施形態］
第一実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置について、各図面を参照して説明する。

＜構造＞
図１は、第一実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置の構成を模式的に示す図面である。霧化過酸化水素水生成装置１は、水蒸気生成ユニット３と、波長２００ｎｍ以下の紫外線Ｌ１を放射する光源５と、水蒸気生成ユニット３で生成された水蒸気Ｖ１を、紫外線Ｌ１の照射領域である空間内に導く通流管７とを備えている。なお、図１において、光源５が有する電極などの図示は省略されている。

（光源５）
光源５は、紫外線を生成する光源で構成され、例えば図２Ａ及び図２Ｂに示す構造が採用される。図２Ｂは、図２Ａ内のＡ１−Ａ１線で光源５を切断したときの断面を模式的に図示したものである。なお、以下では、図２Ａ及び図２Ｂに図示されたＸＹＺ座標系を適宜参照して説明される。光源５（を含む筐体）内に流入された水蒸気Ｖ１の流路方向をＸ方向とし、Ｘ方向に直交する平面をＹＺ平面とする。

図２Ａ及び図２Ｂに図示されている光源５は、筒状の第一管５１と、第一管５１を周方向に取り囲むように設けられた第二管５２とを含み、第一管５１と第二管５２との間に形成された発光空間５０内に放電用ガスＧｄが封入されている。第一管５１及び第二管５２は、紫外線Ｌ１を透過する材料からなり、例えば石英ガラスで構成される。

図２Ａ及び図２Ｂに図示される構成では、光源５は、第二管５２を取り囲むように設けられた筐体１０を備えている。このとき、第二管５２の外側面と筐体１０の内側面との間は、実質的に近接しているものとしても構わない。

なお、光源５が筐体１０を備えるか否かは任意である。

放電用ガスＧｄは、キセノン（Ｘｅ）を含んで構成されている。放電用ガスＧｄのより詳細な一例としては、キセノン（Ｘｅ）とネオン（Ｎｅ）を所定の比率（例えば３：７）で混在させたガスで構成される。放電用ガスＧｄとして、キセノン（Ｘｅ）とネオン（Ｎｅ）以外に、酸素や水素を微量に含むものとしても構わない。

本実施形態において、光源５は、第一管５１の内側面（内壁）に形成された第一電極６１と、第二管５２の外側面（外壁）に形成された第二電極６２とを有する。本実施形態では、第一電極６１は網目形状又は線形状を有している。これは、第一管５１の内側面に形成されている第一電極６１が、前記内側面のほぼ全面を覆うように形成されていると、発光空間５０で生成された紫外線Ｌ１を第一管５１の内側に導く際の妨げになるためである。

第一電極６１と第二電極６２との間に電圧が印加されると、発光空間５０内に電圧が印加され、放電プラズマが発生する。このプラズマにより発光空間５０内のＸｅ原子が励起され、エキシマ励起分子Ｘｅ₂ ^*が生成される。この励起分子Ｘｅ₂ ^*が基底状態に戻るときにＸｅエキシマ光を発生する。図３に、Ｘｅエキシマ光のスペクトルを模式的に示す。図３に示すように、Ｘｅエキシマ光は、１７２ｎｍにピークを有するスペクトルを示す。本実施形態では、Ｘｅエキシマ光が「紫外線Ｌ１」に対応する。

本実施形態において、光源５は、第二管５２の内側面に反射層６３を設けている。この反射層６３は、紫外線Ｌ１に対して反射率の高い材料で構成されており、例えば、アルミナ、ＳｉＯ₂、ステアタイトなどからなる。これにより、発光空間５０内にて生成された紫外線Ｌ１が、外側（第二管５２の側面側）に進行すると、反射層６３で反射されて内側（第一管５１側）に進行方向が変更される。

後述されるように、本実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置１では、第一管５１の内側を水蒸気Ｖ１が通流する。この水蒸気Ｖ１に対して発光空間５０内で生成された紫外線Ｌ１が照射される。上記のように、光源５が反射層６３を設けることで、紫外線Ｌ１を第一管５１の内側に効率よく導くことができる。

なお、第二電極６２自体を、紫外線Ｌ１に対して高い反射率を有する材料で構成することも可能である。この場合、第二電極６２は、例えば、高輝度アルミニウムで構成することができる。

（水蒸気生成ユニット３）
再び図１に戻り、水蒸気生成ユニット３は、貯水槽３０、バブリング装置３１、キャリアガス供給装置３３、及びキャリアガス流入管３５を備えている。貯水層３０には、水Ｗ１が貯えられている。バブリング装置３１は、キャリアガス供給装置３３からキャリアガス流入管３５を通じて流入されるキャリアガスＧｃを、貯水槽３０内に貯えられている水Ｗ１に供給することで、水Ｗ１を水蒸気Ｖ１に変換する。なお、本明細書において、水蒸気Ｖ１とは、微小な水の微粒子が気体内に浮遊する状態も含む概念である。

キャリアガスＧｃは、紫外線Ｌ１に対して不活性である、言い換えれば、紫外線Ｌ１に対する吸光度の低い材料からなる。キャリがガスＧｃとしては、窒素、アルゴン、ネオンなどが利用可能であり、入手及び取扱の容易性の観点からは、窒素が好ましい。

バブリング装置３１によって生成された水蒸気Ｖ１は、キャリアガスＧｃと共に通流管７を通じて光源５の第一管５１内に流入する。すなわち、光源５が備える第一管５１と、通流管７とが連絡されている。なお、流入管７を通じて通流する水蒸気Ｖ１とキャリアガスＧｃの混合流体の流量比は、キャリアガス供給装置３３から供給されるキャリアガスＧｃの流量や、流入管７の温度を調製することで制御可能である。一例として、流入管７を通じて通流する水蒸気Ｖ１の流量は、水蒸気Ｖ１とキャリアガスＧｃの混合流体の流量に対して、８％以下である。

＜作用＞
上述した霧化過酸化水素水生成装置１において、発光空間５０で生成された紫外線Ｌ１は、第一管５１の内側に導かれ、同箇所を通流する水蒸気Ｖ１及びキャリアガスＧｃの混合流体に照射される。上述したように、キャリアガスＧｃは紫外線Ｌ１に対して不活性である。一方、水蒸気Ｖ１に含まれる水分子が紫外線Ｌ１によって励起され、下記（１）式に従って、過酸化水素が生成される。

上記（１）式の反応が生じることで、第一管５１の内側において、水蒸気Ｖ１の一部が過酸化水素に変換される。この結果、筐体１０からは、過酸化水素を含む水蒸気、すなわち霧化過酸化水素水Ｖ２がキャリアガスＧｃと共に排出される。よってこの気体（又はミスト）Ｖ２を被処理物（殺菌対象物）に照射することで、殺菌処理を行うことができる。すなわち、この構成によれば、過酸化水素（水）自体を予め準備することなく、霧化された過酸化水素水が生成できる。

ところで、殺菌処理をする方法として、オゾン（Ｏ₃）を用いる方法が従来知られている。しかし、被処理物によっては、オゾン（Ｏ₃）による殺菌処理を行うことで、色が変化してしまう場合がある。このような事象は、被処理物がクロロフィルを含む場合に起こることが確認された。クロロフィルを含む被処理物としては、例えば緑茶や抹茶などが挙げられる。

しかし、本発明に係る霧化過酸化水素水生成装置１を用いてこのような被処理物に対して殺菌処理を行った場合、オゾン（Ｏ₃）と同等の殺菌能力を示しながらも、被処理物の色の変化が抑制されることが確認された。この内容は、実施例を参照して後述される。

なお、光源５は、水に吸収されて、水を励起するエネルギーを有する波長帯の紫外光Ｌ１を発生できる構成であればよい。この波長は、２００ｎｍ以下であり、好ましくは１８９ｎｍ以下である。

＜別構成＞
図４に示すように、水蒸気Ｖ１を第二管５２の外側にも通流させるものとしても構わない。この場合には、光源５で発生された紫外線Ｌ１を第二管５２の外側にも導く必要があるため、光源５は反射層６３を設けないものとすることができる。なお、図４において、光源５が有する電極などの図示は省略されている。

また、図２Ａでは、第一電極６１が第一管５１の内側面に配置されているものとしたが、第一管５１の外側面に配置されるものとしても構わない。同様に、第二電極６２が第二管５２の外側面に配置されるものとしたが、第二管５２の内側面に配置されるものとしても構わない。

［第二実施形態］
第二実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置について、第一実施形態と異なる箇所を説明する。

図５は、第二実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置の構成を模式的に示す図面である。本実施形態の霧化過酸化水素水生成装置１は、第一実施形態と比較して水蒸気生成ユニット３の構成が異なる。すなわち、本実施形態において、水蒸気生成ユニット３は、バブリング装置３１に代えて超音波発生装置３６を備えている。

超音波発生装置３６は、貯水槽３０に貯えられた水Ｗ１に対して超音波を供給する構成である。一例として、超音波発生装置３６は、貯水槽３０の底面及び側面に設置された圧電セラミックスの振動子と、同振動子に対して高周波の交流電圧を印加する電力供給部とを備えて構成される。圧電セラミックスの振動子に高周波の交流電圧が印加されることで、超音波の振動エネルギーが生じる。

この超音波の振動エネルギーが貯水槽３０内に貯えられた水Ｗ１に伝達されることで、水Ｗ１が水蒸気化（霧化）されて、水蒸気Ｖ１が生成される。この水蒸気Ｖ１は、第一実施形態と同様に、キャリアガスＧｃと共に通流管７を通じて、光源５で生成された紫外線Ｌ１の照射空間内に導かれる。図５の例では、図１と同様に、紫外線Ｌ１の照射空間が第一管５１の内側である場合が図示されている。他は第一実施形態と共通するため、説明を割愛する。

なお、超音波発生装置３６は、貯水槽３０の底面にのみ設けられていても構わないし、側面にのみ設けられていても構わない。また、本実施形態においても、図４に示す構造と同様に、水蒸気Ｖ１を第二管５２の外側にも通流させるものとしても構わない。

［第三実施形態］
第三実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置について、第一実施形態と異なる箇所を説明する。図６は、第三実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置の構成を模式的に示す図面である。本実施形態は、第一実施形態と比較して、光源５の構成が異なっている。なお、図７は、光源５を、図６内のＡ２−Ａ２線で切断したきの断面を模式的に図示したものである。光源５は、第一実施形態とは異なり、いわゆる「一重管構造」を示す。すなわち、光源５は、両端に封止部（６５，６５）が形成された円筒状の発光管６６を備え、この発光管６６内には放電用ガスＧｄが封入されている。

発光管６６内には、コイル状の第一電極６１が、発光管６６の管軸に沿って延伸するように配設されている。この第一電極６１は、封止部（６５，６５）に埋設された金属箔（６５ａ，６５ａ）と電気的に接続されると共に、各金属箔６５ａと外部リードとが電気的に接続されている。また、発光管６６の外側面には、網状の第二電極６２が設けられている。これは、発光管６６の外側面に形成されている第二電極６２が、前記外側面のほぼ全面を覆うように形成されていると、発光空間５０で生成された紫外線Ｌ１を発光管６６の外側に導く際の妨げになるためである。

上記構成の光源５は筐体１０内に配置される。筐体１０内に導かれた水蒸気Ｖ１は、発光管６６の外側を通じて流れ、発光管６６から外側に向かって進行する紫外線Ｌ１が照射されることで、水蒸気Ｖ１の一部が過酸化水素に変換される。これにより、筐体１０からは、霧化過酸化水素水Ｖ２が排出される。他は第一実施形態と共通するため、説明を割愛する。

［第四実施形態］
第四実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置について、第一実施形態と異なる箇所を説明する。図８は、第四実施形態に係る霧化過酸化水素水生成装置１の構成を模式的に示す図面である。

本実施形態の霧化過酸化水素水生成装置１は、光源５が内蔵された筐体１０とは別に、被処理物２１が設置される処理空間２０を含む。キャリアガスＧｃと共に水蒸気Ｖ１が通流する通流管７は、この処理空間２０に連絡されている。

光源５から出射される紫外線Ｌ１は、処理空間２０側へと進行する。このとき、光源５が収容されている筐体１０のうち、処理空間２０とは反対側の面は、紫外線Ｌ１を反射する反射層が設けられているものとすることができる。また、筐体１０のうち、処理空間２０側の面、及び処理空間２０を構成する面のうち光源５に近い側の面は、いずれも紫外線Ｌ１を透過する材料で構成されることができる。なお、光源５が筐体１０で覆われていないものとしても構わない。

このような構成によれば、処理空間２０内に流入した水蒸気Ｖ１に対して、光源５から出射される紫外線Ｌ１が照射されて、水蒸気Ｖ１の一部が過酸化水素に変換されることで、霧化過酸化水素水Ｖ２が生成され、処理空間２０内で被処理物２１に対して噴霧される。これにより、処理空間２０内における被処理物２１に対する殺菌処理が行える。

本発明に係る霧化過酸化水素水生成装置１を用いて被処理物に対して殺菌処理を行った場合、オゾン（Ｏ₃）と同等の殺菌能力を示しながらも、色の変化が抑制されることにつき、実施例を参照して説明する。

［検証１：色変化に関する検証］
滅菌されたプラスチックシャーレ（φ９０ｍｍ）に１ｇの緑茶粉末（製造元：株式会社菱和園）を入れ、シャーレ全面に分布するよう均一に均した８つのサンプル（Ａ１〜Ｈ１）を準備した。

（実施例１）
第三実施形態の霧化過酸化水素水生成装置１を用いてサンプルＡ１に対して処理（Ｉ）を施した後、サンプルＡ１を取り出し、カラーリーダ（コニカミノルタ社製、ＣＲ−１０）によって色差を測定した。処理（Ｉ）の条件は、以下の通りである。

＜処理（Ｉ）の条件＞
光源５は、キセノン（Ｘｅ）ガスが封入されてなるエキシマランプ（主たる発光波長１７２ｎｍ）であり、発光管６６の寸法は外径１６ｍｍ、発光長８０ｍｍであった。光源５は、大気中において、発光管６６の表面から距離１ｃｍ離した箇所における波長１７２ｎｍの光の照度が５．４ｍＷ／ｃｍ^２となる強度で発光された。光源５が備える筐体１０は、円筒形状を示し、軸方向に係る全長は１８５ｍｍ、内径は２７ｍｍであった。

水蒸気生成ユニット３が備える貯水槽３０には、水温２０℃の水Ｗ１が貯水されていた。水蒸気生成ユニット３において利用されるキャリアガスＧｃは大気であり、流量は５Ｌ／分であった。水蒸気生成ユニット３から供給される水蒸気Ｖ１とキャリアガスＧｃとの混合気体における水蒸気Ｖ１の流量は、水蒸気Ｖ１とキャリアガスＧｃとの混合気体の流量に対して２％であった。

上記の条件の下、霧化過酸化水素水生成装置１から供給されるガス（ここでは、霧化過酸化水素水Ｖ２とキャリアガスＧｃとの混合流体）を、シャーレ全域に３時間照射させた。

（実施例２）
キャリアガスを窒素ガスに代えた以外は、処理（Ｉ）と同様の処理をサンプルＢ１に対して施した後、サンプルＢ１を取り出して色差を測定した。

（比較例１）
バブリング装置３１を駆動せずに（言い換えれば、図６において貯水槽３０には水Ｗ１を貯水していない状態で）、光源５に対してキャリアガスＧｃとしての大気を流しながら、発光管６６を点灯させた点以外は、処理（Ｉ）と同様の処理をサンプルＣ１に対して施した後、サンプルＣ１を取り出して色差を測定した。

（参考例１）
発光管６６を不点灯とした以外は、処理（Ｉ）と同様の処理をサンプルＤ１に対して施した後、サンプルＤ１を取り出して色差を測定した。この場合、筐体１０内には、キャリアガスＧｃとしての大気と水蒸気Ｖ１とが流入され、これがそのまま排出される。

（参考例２）
キャリアガスを窒素ガスとした点以外は、参考例１と同様の処理をサンプルＥ１に対して施した後、サンプルＥ１を取り出して色差を測定した。この場合、筐体１０内には、キャリアガスＧｃとしての窒素ガスと水蒸気Ｖ１とが流入され、これがそのまま排出される。

（参考例３）
バブリング装置３１を駆動しない（言い換えれば、図６において貯水槽３０には水Ｗ１を貯水していない）点以外は、参考例１と同様の処理をサンプルＦ１に対して施した後、サンプルＦ１を取り出して色差を測定した。この場合、筐体１０内には、キャリアガスＧｃとしての大気が流入され、これがそのまま排出される。

（参考例４）
バブリング装置３１を駆動しない（言い換えれば、図６において貯水槽３０には水Ｗ１を貯水していない）点以外は、参考例２と同様の処理をサンプルＧ１に対して施した後、サンプルＧ１を取り出して色差を測定した。この場合、筐体１０内には、キャリアガスＧｃとしての窒素ガスが流入され、これがそのまま排出される。

（参考例５）
何も処理をしていないサンプルＨ１の色差を測定した。

各サンプル（Ａ１〜Ｈ１）の色差の結果を表１に示す。なお、表１において総合色差ΔＥは、ΔＥ＝√（ΔＬ²＋Δａ²＋Δｂ²）によって算定された値である。

表１によれば、実施例１及び２（サンプルＡ１及びＢ１）の色差の、参考例５（サンプルＨ１）の色差からの変化の程度（総合色差ΔＥ）が、バブリング装置３１を駆動しなかった比較例１（サンプルＣ１）の色差の、参考例５（サンプルＨ１）の色差からの変化の程度（総合色差ΔＥ）よりも抑制されていることが分かる。

なお、表１において、参考例１及び２（サンプルＤ１及びＥ１）において、参考例５（サンプルＨ１）から色差が変化しているのは、霧化された水蒸気がサンプルの緑茶粉末に噴霧されたことで、色味が多少変化したことに起因するものと考えられる。この観点でいうと、実施例１及び２では、いずれも水蒸気を含むガスが緑茶粉末に噴霧されるため、大きく色味が変化しそうであるが、実際には、水蒸気が含まれない比較例１よりも色味の変化が抑制されていることが確認される。

［検証２：色変化に関する検証］
検証１で用いた緑茶粉末に代えて、「寒天培地に撒いた黄色ブドウ球菌」をプラスチックシャーレ（φ９０ｍｍ）に入れた８つのサンプル（Ａ２〜Ｈ２）を準備した。具体的には、シャーレ内の寒天培地上に、黄色ブドウ球菌を含有する水を滴下することで、８つのサンプル（Ａ２〜Ｈ２）を準備した。

（実施例１）
処理前のサンプルＡ２内の菌数を食品衛生検査指針に準拠した方法で測定した。次に、検証１の実施例１と同様の方法でサンプルＡ２に対して処理（Ｉ）を施した後（処理時間３時間）、サンプルＡ２を取り出して、同様の方法で菌数を測定した。そして、処理前後における殺菌能力を、殺菌率により評価した。殺菌率は、以下の式で算定された。
殺菌率＝log｛（処理後生菌数）／（処理前生菌数）｝

殺菌率の値が小さい、すなわち絶対値が大きいほど、殺菌能力が高いことを示す。

（実施例２、比較例１、参考例１〜５）
各サンプル（Ｂ２〜Ｈ２）に対して検証１と同様の方法で処理をし、処理前後における殺菌能力を、殺菌率により評価した。

各サンプル（Ａ２〜Ｈ２）の殺菌率の結果を表２に示す。

表２によれば、実施例１及び２（サンプルＡ２，Ｂ２）の処理において、比較例１（オゾン殺菌）と同等以上の殺菌能力が実現されていることが確認された。すなわち、検証１及び２によれば、本発明の構成によって、オゾン殺菌と同等又は同等以上の殺菌能力を示しながらも、被処理物の色の変化が抑制されることが確認された。

なお、表２によれば、参考例１及び２のように、発光管６６を点灯させずにバブリング装置３１を駆動しただけでは、すなわち単に水蒸気Ｖ１とキャリアガスＧｃの混合気体を照射しただけでは、殺菌能力が発現しないことも確認された。

１ ： 霧化過酸化水素水生成装置
３ ： 水蒸気生成ユニット
５ ： 光源
７ ： 通流管
１０ ： 筐体
２０ ： 処理空間
２１ ： 被処理物
３０ ： 貯水槽
３１ ： バブリング装置
３３ ： キャリアガス供給装置
３５ ： キャリアガス流入管
３６ ： 超音波発生装置
５０ ： 発光空間
５１ ： 第一管
５２ ： 第二管
６１ ： 第一電極
６２ ： 第二電極
６３ ： 反射層
６５ ： 封止部
６５ａ ： 金属箔
６６ ： 発光管
Ｇｃ ： キャリアガス
Ｇｄ ： 放電用ガス
Ｌ１ ： 紫外線
Ｖ１ ： 水蒸気
Ｖ２ ： 霧化過酸化水素水

Claims (7)

1. 水蒸気生成ユニットと、
   波長２００ｎｍ以下の紫外線を放射する光源と、
   前記水蒸気生成ユニットで生成された水蒸気を、前記紫外線の照射領域である空間内に導く通流管とを備え、
   前記空間内に導かれた前記水蒸気は、前記紫外線が照射されることで、少なくとも一部が過酸化水素に変換されることを特徴とする、霧化過酸化水素水生成装置。
2. 前記水蒸気生成ユニットは、
   水が貯えられた貯水槽と、
   前記貯水槽に貯えられている水の中に気体を供給するバブリング装置とを含むことを特徴とする、請求項１に記載の霧化過酸化水素水生成装置。
3. 前記気体は、前記紫外線に対して不活性であることを特徴とする、請求項２に記載の霧化過酸化水素水生成装置。
4. 前記気体は窒素であることを特徴とする、請求項３に記載の霧化過酸化水素水生成装置。
5. 前記水蒸気生成ユニットは、
   水が貯えられた貯水槽と、
   前記貯水槽に貯えられている水に対して超音波を供給する超音波発生装置とを含むことを特徴とする、請求項１に記載の霧化過酸化水素水生成装置。
6. 前記光源は、筒状の第一管と、前記第一管を周方向に取り囲むように設けられた第二管とを含み、前記第一管と前記第二管との間に形成された発光空間内に所定の放電用ガスが封入されてなる、エキシマランプで構成され、
   前記通流管は、前記第一管に接続されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の、霧化過酸化水素水生成装置。
7. 前記第二管の内側面又は外側面に、前記発光空間で生成されて前記第二管側に進行する前記紫外線を前記第一管側に反射させる反射層を備えたことを特徴とする、請求項６に記載の霧化過酸化水素水生成装置。
   
   

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