JP2019124194A - 真空バルブ - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の一実施形態による真空バルブ1の外観を示す斜視図である。
真空バルブ1は、バルブ本体11と駆動部12とを備えている。バルブ本体11には、開口部15が形成されていると共に、フランジ18と、開閉弁の一形態としてのスライド駆動されるバルブプレート16とを備えている。図示は省略するが、バルブ本体11のフランジ18とは反対側の図中下方側に、別のフランジを備えている。同じく図示は省略するが、駆動部12には、バルブプレート16を駆動するモータが設けられ、モータは制御装置13から伝達される制御信号により駆動される。バルブプレート16は、バルブプレート16の面と平行な方向にバルブ本体11内の回転中心17を中心として回転移動するように構成されている。
制御装置13は、モータの駆動を通してバルブプレート16の位置を制御し、すなわち、開口部15の開口面積を制御する。
また、開口部15を完全に遮蔽する際のバルブプレート16の中心位置16aを回転中心17と接続した直線と、開口部15から退避するバルブプレート16の中心位置16cを回転中心17と接続した直線との開き角、すなわち、バルブプレート16の回転角度を、角度位置θとする。
真空チャンバ2には、真空チャンバ2を粗排気するための配管6も接続され、配管6はバルブ9を介して配管7に接続され、配管7は、粗排気用のバックポンプ8に接続されている。
真空チャンバ2には圧力計10が設けられており、真空チャンバ2内の気体の圧力を計測する。圧力計10による圧力の計測値は電気信号Spに変換され、真空バルブ1の入力装置14に入力される。
なお、真空チャンバ2をメンテナンス等のために大気開放する際には、メンテナンス担当者は、事前にバルブ9を閉じ、真空バルブ1のバルブプレート16を有効開口部19が最小または全閉(開口面積が0)としておくことが好ましい。このように設定することで、メンテナンス後の真空への復帰時間を短縮できる。
従来の真空バルブと同様に、本例の真空バルブ1も、バルブプレート16を駆動(開閉)して有効開口部19の開口面積を可変とすることで、真空チャンバ2内の圧力を制御する。半導体製造装置としての生産性を挙げるためには、プロセスガスの導入時やプロセスガスの排気時に真空チャンバ2内の圧力を高速に変化させる必要があるため、一般にバルブプレート16は高速で開閉動作することが好ましい。
ただし、本例の真空バルブ1は、接続されるターボ分子ポンプ4を保護するために、真空チャンバ2内の圧力が高い場合には、制御装置13がバルブプレート16の最大開閉速度を抑制する。
バルブプレート16の開閉制御が許可されると、設定フローはステップS11に進み、制御装置13は、入力装置14に入力された真空チャンバ2内の圧力の計測値を読み込む。
真空チャンバ2内の圧力計測値が所定の第1圧力以上の場合には、真空チャンバ2内の圧力がまだ高く、有効開口部19の開口面積が急激に増大するとターボ分子ポンプ4を破損する恐れがある。そこで、ステップS12に進み、バルブプレート16の開閉動作の最大開閉速度を比較的低速な第1速度に制限する。その後、設定フローはステップS11に戻り、ステップ12とステップ11の間のループを繰り返す。
その結果、バルブプレート16の開閉動作は高速化され有効開口部19の開口面積が比較的短時間で増大し、真空チャンバ2はターボ分子ポンプ4の高い排気能力により排気される。その後、メンテナンス担当者がバルブ9を閉じ粗排気系(配管6およびバルブ9)を閉鎖することで、真空チャンバ2内が高真空化される。
第2速度は、例えば、バルブプレート16やモータの構造上から実現できる機械的な最大開閉速度とするが、機械的な最大開閉速度に対してある程度の安全係数(0.5以上、かつ1以下)を掛けた速度としても良い。
なお、現在市販されている真空バルブにおいては、開閉弁の全閉から全開に要する時間は1秒程度のものが一般的であるので、本例においても第2速度は、有効開口部19が全閉から全開するまでの所要時間が1秒程度となる速度に定めてもよい。
図5は、制御装置13による開閉弁(バルブプレート16)の最大開閉速度の設定フローの変形例を示したフローチャートを表す。
本変形例においても、バルブプレート16の開閉制御が許可されると、設定フローはステップS21に進み、制御装置13は、入力装置14に入力された真空チャンバ2内の圧力の計測値を読み込む。本変形例においては、真空チャンバ2内の圧力が所定の第1圧力以上の場合には、設定フローはステップS22に進み、バルブプレート16を全閉(開口面積=0)に制御してターボ分子ポンプ4を保護する点が、上述の第1実施形態と異なっている。
また、バルブプレート16の開閉速度として、上述の有効開口部19の開口面積の単位時間あたりの変化量のみでなく、回転中心17に対するバルブプレート16の角度位置θの単位時間あたりの変化量を使用しても良い。
また、真空ポンプもターボ分子ポンプ4に限らず、他の高真空用のポンプであってもよい。
以上の実施形態(制御フローの第1実施形態および変形例を含む)の真空バルブ1は、開閉弁(バルブプレート)16を開閉制御する制御装置13とを備える。制御装置13は真空装置内の圧力が第1圧力以上か否かを判断し、真空装置内の圧力が第1圧力以上であると判断した場合には、開閉弁を全閉に制御するか、または、開閉弁の最大開閉速度を第1速度に設定し、真空装置内の圧力が第1圧力よりも低いと判断した場合には、開閉弁の最大開閉速度を第1速度より速い第2速度に設定する。
このような構成としたので、接続される真空チャンバ2内が比較的高圧であっても真空ポンプ(ターボ分子ポンプ)4の破損を防止することができる。
また、真空チャンバ2の高真空化を短時間で実現すると共に、従来は必要であった開閉弁16の開閉に関するメンテナンス担当者の作業を最小限に留めることができ、真空装置100を低コストで運転することができる。
図6は、制御装置13による開閉弁(バルブプレート16)の最大開閉速度の設定フローの第2実施形態を示したフローチャートを表す。
設定フローの本第2実施形態においても、真空バルブ1自体は図1から図3に示した実施形態の真空バルブ1と同様である。ただし、開閉弁(バルブプレート16)の最大開閉速度が3段階に設定される点が、上述の設定フローの第1実施形態とは異なっている。
制御装置13は、真空チャンバ2内の圧力が所定の第1圧力以上の場合には、第1のステップS32に進み、上述の制御フローの第1実施形態と同様に、バルブプレート16の開閉動作の最大開閉速度を比較的低速な第1速度に制限する。そして、ステップS31に戻る。
その後、メンテナンス担当者がバルブ9を閉じ粗排気系を閉鎖することで、真空チャンバ2内が高真空化される。
ステップS33の判断の基準となる第2圧力は、使用するプロセスガスの分子量や使用するターボ分子ポンプ4によっても異なるが、300〜1000Pa程度の圧力に設定することが望ましい。
第1圧力および第2圧力がこれより高いとターボ分子ポンプ4を破損する恐れがあり、これより低いと真空チャンバ2の真空引きに要する時間が長時間化し処理能力が低下する。
以上の制御フローの第2実施形態では、制御装置13は、上述の制御フローの第1実施形態および変形例に比べ、さらに、入力装置14から入力された圧力計測値が第1圧力より低い第2圧力よりもさらに低い場合には、開閉弁(バルブプレート16)の最大開閉速度を第2速度より速い第3速度とする。
このような構成としたので、接続される真空チャンバ2内が比較的高圧であっても真空ポンプ(ターボ分子ポンプ)4の破損を防止することができる。
また、真空チャンバ2の高真空化を、上述の実施形態に比べてさらに短時間で実現することができる。
Claims (6)
- 真空装置と真空ポンプとの間に接続される真空バルブであって、
バルブ開口と、
前記バルブ開口を開閉する開閉弁と、
前記開閉弁を開閉制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、
前記真空装置内の圧力が第1圧力以上か否かを判断し、
前記真空装置内の圧力が前記第1圧力以上であると判断した場合には、前記開閉弁を全閉に制御するか、または、前記開閉弁の最大開閉速度を第1速度に設定し、
前記真空装置内の圧力が前記第1圧力よりも低いと判断した場合には、前記開閉弁の最大開閉速度を前記第1速度より速い第2速度に設定する真空バルブ。 - 請求項1に記載の真空バルブであって、
前記第1圧力が、前記開閉弁の最大開閉速度を前記第2速度とした場合に、前記真空ポンプが破損する圧力であり、
前記第1速度が、前記真空装置内の圧力が前記第1圧力以上であっても、前記真空ポンプが破損しない速度であり、
前記第2速度が、前記開閉弁を駆動するモータの構造上から実現できる最大開閉速度、又は、前記開閉弁を駆動するモータの構造上から実現できる最大開閉速度に所定の安全係数を乗算した速度である、真空バルブ。 - 請求項1または請求項2に記載の真空バルブであって、
前記第1圧力が、100〜1000Paの範囲内のいずれかである真空バルブ。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の真空バルブであって、
前記第1速度は、前記第2速度の5%から25%の速度である真空バルブ。 - 請求項1に記載の真空バルブであって、
前記制御装置は、
前記真空装置内の圧力が前記第1圧力より低い第2圧力よりもさらに低い場合には、前記開閉弁の最大開閉速度を前記第2速度より速い第3速度とする真空バルブ。 - 請求項1から請求項5のいずれかに記載の真空バルブであって、
前記真空装置内の圧力計測値が入力される入力装置をさらに備え、
前記真空装置内の圧力が、前記入力装置に入力される圧力計測値である、真空バルブ。
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CN114450514A (zh) * | 2019-09-25 | 2022-05-06 | 芝浦机械株式会社 | 流量调整阀、泵单元以及表面处理装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010153737A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 真空処理装置 |
JP2014052062A (ja) * | 2012-09-10 | 2014-03-20 | Progressio Kk | 真空用ゲートバルブ |
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CN114450514B (zh) * | 2019-09-25 | 2024-03-29 | 芝浦机械株式会社 | 流量调整阀、泵单元以及表面处理装置 |
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